JP6340125B1 - コンピュータプログラム、ゲーム装置 - Google Patents

Abstract

【課題】ゲーム全体の活性化を図り、プレイヤの緊張感や興奮感を高め、興趣性を増大させる。
【解決手段】コンピュータプログラムは、自拠点、味方キャラクタ、及び敵キャラクタの行動を制御する味方キャラクタ行動制御部３８、敵キャラクタ行動制御部３９と、プレイヤの操作に応じて自拠点を移動させる自拠点移動部３２と、自拠点がダメージを受けると変化するパラメータが予め設定された値になると、ゲームにおいてプレイヤ側を敗北状態にする敗北処理部３７と、自拠点に対応づけた領域内の状況を基に、プレイヤに有利な効果を発生させる演出を行う魔法陣演出部３５と、を有する。
【選択図】図５

Description

本発明は、ゲームのコンピュータプログラム、及びゲーム装置に関する。

従来から、「リアルタイムストラテジー」の一種で、プレイヤの拠点を守りつつ、キャラクタを出撃または砲台等を設置することで、プレイヤの拠点に向かってくる敵キャラクタを迎撃し、拠点を守りきることを達成目的とする、所謂「タワーディフェンスゲーム」が知られている。その派生系で敵拠点の陥落を目的とするゲームなどもある（非特許文献１等）。

著者不明、"にゃんこ大戦争"、［online］、掲載日時不明、ポノス株式会社、［平成２９年８月２８日検索］、インターネット〈URL：https://www.ponos.jp/games/thebattlecats/〉

非特許文献１のようなゲームでは、一般的に拠点の位置が固定されており、攻撃手段が出撃するキャラクタの物量とパラメータ強化による力押しの展開になりやすい為に先の展開が予測しやすく、プレイヤの拠点が比較的安全な位置にあることと、キャラクタのマネジメント要素も限られていたために、プレイヤが抱く緊張感や興奮感には、限界があった。

そこで、本発明の目的は、上記の課題を解決し、ゲーム全体の活性化を図り、プレイヤの緊張感や興奮感を高め、興趣性を増大させることである。

前記課題を解決するために、本発明の第１の態様は、プレイヤが守る自拠点を敵キャラクタが攻撃し、味方キャラクタによって前記敵キャラクタを迎撃及び攻撃するゲームをコンピュータに実行させるコンピュータプログラムであって、前記自拠点、前記味方キャラクタ、及び前記敵キャラクタの行動を制御する行動処理手段と、プレイヤの操作に応じて前記自拠点を移動させる移動処理手段と、前記自拠点がダメージを受けると変化する第１パラメータが予め設定された値になると、ゲームにおいてプレイヤ側を敗北状態にするゲーム進行処理手段と、移動する前記自拠点に対応づけた領域内の状況を基に、プレイヤに有利な効果を発生させる演出を行う演出処理手段と、を有し、前記演出処理手段は、前記味方キャラクタが前記領域に入ってから第１の予め設定されている時間が経過すると、前記領域に入った前記味方キャラクタが前記敵キャラクタに与えるダメージを、前記領域にいなかったときの当該味方キャラクタが前記敵キャラクタに与えるダメージよりも大きくするコンピュータプログラムである。

本発明の第２の態様では、前記演出処理手段は、前記味方キャラクタが前記領域の外に出たとき、第２の予め設定されている時間、前記領域に入った前記味方キャラクタが前記敵キャラクタに与えるダメージを、前記領域にいなかったときの当該味方キャラクタが前記敵キャラクタに与えるダメージよりも大きくする状態を維持することが好ましい。

本発明の第３の態様では、前記演出処理手段は、前記領域に入った前記敵キャラクタの攻防で変化する第３パラメータを変更することが好ましい。

本発明の第４の態様では、プレイヤの操作に応じて前記自拠点から前記味方キャラクタを複数出撃させる出撃処理手段をさらに有することが好ましい。

本発明の第５の態様では、前記演出処理手段は、プレイヤの操作に応じて予め設定されている特別の戦闘行動を前記味方キャラクタに発動させることが好ましい。

本発明の第６の態様では、前記行動制御手段は、時間が経過したこと、又は予め設定された条件を満たすことのいずれかで、前記味方キャラクタが出撃可能なことを示す指標を、より出撃可能になる方向に変化させることが好ましい。

前記課題を解決するために、本発明の第７の態様は、プレイヤが守る自拠点を敵キャラクタが攻撃し、味方キャラクタによって前記敵キャラクタを迎撃及び攻撃するゲームを実行するゲーム装置であって、前記自拠点、前記味方キャラクタ、及び前記敵キャラクタの行動を制御する行動処理手段と、プレイヤの操作に応じて前記自拠点を移動させる移動処理手段と、前記自拠点がダメージを受けると変化する第１パラメータが予め設定された値になると、ゲームにおいてプレイヤ側を敗北状態にするゲーム進行処理手段と、移動する前記自拠点に対応づけた領域内の状況を基に、プレイヤに有利な効果を発生させる演出を行う演出処理手段と、を有し、前記演出処理手段は、前記味方キャラクタが前記領域に入ってから予め設定されている時間が経過すると、前記領域に入った前記味方キャラクタが前記敵キャラクタに与えるダメージを、前記領域にいなかったときの当該味方キャラクタが前記敵キャラクタに与えるダメージよりも大きくするゲーム装置である。

本発明の第１，７の態様によれば、防衛目標である自拠点を移動させることで、自拠点への敵キャラクタの攻撃を回避したり敵キャラクタから攻撃されない位置に自拠点を移動させたりしつつ、自拠点に対応づけた領域を移動させて領域内の状況を変えてプレイヤに有利な効果を発生させることができ、自拠点が重要な防衛目標でありながら重要な進攻手段になることを両立できる。これによって、攻防の駆け引きが生まれ、プレイヤの緊張感や興奮感を高め、ゲームの興趣性をより高めることができる。
また、本発明の第１，７の態様によれば、味方キャラクタが自拠点に対応づけた領域に入ってから予め設定されている時間が経過すると、当該領域に入った味方キャラクタが敵キャラクタに与えるダメージを、当該領域にいなかったときの当該味方キャラクタが敵キャラクタに与えるダメージよりも大きくすることで、自拠点に対応づけた領域に入った味方キャラクタの攻防の状況が変わるため、よりゲームの興趣性をより高めることができる。

本発明の第３の態様によれば、自拠点に対応づけた領域に入った敵キャラクタの攻防で変化する第３パラメータを変更することで、自拠点に対応づけた領域に入った敵キャラクタの攻防の状況が変わるため、よりゲームの興趣性をより高めることができる。

本発明の第４の態様によれば、プレイヤの操作に応じて自拠点から味方キャラクタを複数出撃させることができるようになることで、複数の味方キャラクタの出撃と指示がゲームの展開を左右するようになるため、プレイヤの緊張感や興奮感を高め、よりゲームの興趣性をより高めることができる。

本発明の第５の態様によれば、プレイヤの操作に応じて予め設定されている特別の戦闘行動を味方キャラクタに発動させることで、プレイヤは、攻防に有利と思うタイミングで予め設定されている特別の戦闘行動を発動することができる。これによって、攻防の駆け引きが生まれ、プレイヤの緊張感や興奮感を高め、ゲームの興趣性をより高めることができる。

本発明の第６の態様によれば、時間が経過したこと、又は予め設定された条件を満たすことのいずれかで、味方キャラクタが出撃可能なことを示す指標を、より出撃可能になる方向に変化させることで、プレイヤは、画面に表示されている味方キャラクタが出撃可能なことを示す指標をみつつ、攻防に有利と思うタイミングで味方キャラクタを出撃させることができる。これによって、攻防の駆け引きが生まれ、プレイヤの緊張感や興奮感を高め、ゲームの興趣性をより高めることができる。

図１は、ゲーム装置の構成の一例を示す図である。 図２は、ゲーム装置の外観の一例を示す図である。 図３は、ゲーム装置が含まれるオンラインゲームシステムの構成例を示す図である。 図４は、ゲームの画面表示例を示す図である。 図５は、処理部の構成例を示すブロック図である。 図６は、自拠点移動処理の一例を示すフローチャートである。 図７は、自拠点の前側が指でタッチされたときの画面表示例を示す図である。 図８は、自拠点の後側が指でタッチされたときの画面表示例を示す図である。 図９は、出撃演出処理の一例を示すフローチャートである。 図１０は、出撃できる状態になっている味方キャラクタの画面表示例を示す図である。 図１１は、味方地上キャラクタが自拠点から出撃する画面表示例を示す図である 図１２は、発射出撃演出処理の一例を示すフローチャートである。 図１３は、指のタッチ位置を大砲の後方向にスライド移動させたときの大砲及び発射後飛行軌道の画面表示例を示す図である。 図１４は、指のタッチ位置を下方向にスライド移動させたときの大砲及び発射後飛行軌道の画面表示例を示す図である。 図１５は、魔法陣演出処理の一例を示すフローチャートである。 図１６は、必殺技演出処理の一例を示すフローチャートである。 図１７は、必殺技の発動待ちの画面表示例を示す図である。 図１８は、敗北処理の一例を示すフローチャートである。 図１９は、自拠点から離れて配置され自拠点の移動に連動して移動する砲台の画面表示例を示す図である。

本発明の実施形態を図面を参照しつつ説明する。なお、以下の実施形態は、本発明を説明するための例示であり、本発明をその実施の形態のみに限定する意図はない。また、本発明は、その趣旨を逸脱しない範囲で、さまざまな変形が可能である。

本実施形態では、ゲーム装置を挙げている。ゲーム装置は、ビデオゲーム機や携帯ゲーム機、アーケードゲーム機、パーソナルコンピュータ等の様々なコンピュータゲーム機である。以下では、携帯ゲーム機、特に携帯電話がゲームプログラムを実行することでゲーム装置として機能する場合を一例に挙げて説明する。

（構成）
図１は、ゲーム装置１の構成の一例を示す図である。
図１に示すように、ゲーム装置１は、移動体通信部２、インターネット通信部３、タッチパネル１０、スピーカ４、マイク５、カメラ６、音声出力端子等の外部インターフェース７、記憶部２０、及び処理部３０を有している。

図２は、ゲーム装置１の外観の一例を示す図である。
図２に示すように、ゲーム装置１は、矩形の薄形の筐体１ａを有し、筐体１ａの一方の面（正面）１ａ１に全体を占めるようにタッチパネル１０が配置されている。また、筐体１ａでタッチパネル１０が配置されている面１ａ１に、スピーカ４、及びマイク５を有している。また、筐体１ａの図示しない側面や底面に、外部インターフェース７等を有している。また、筐体１ａの図示しない背面に、カメラ６を有している。

以上のような構成において、移動体通信部２は、電話通信を行うものとして機能する。インターネット通信部３は、有線又は無線でインターネット回線を介してサーバ装置等の外部通信装置と通信を行うものとして機能する。
タッチパネル１０は、表示装置及び入力装置の両方の機能を有している。そのため、図１に示すように、タッチパネル１０は、タッチパネル１０における画像表示機能を担う画像表示部（表示画面）１１、及びタッチパネル１０における情報入力機能を担う接触検出部１２を有している。画像表示部１１は、例えば、液晶画像表示部や有機ＥＬ（Electro Luminescence）画像表示部などの一般的な表示デバイスによって構成されている。接触検出部１２は、画像表示部１１の上面に配置され接触操作を検出するための素子及びその上に積層された透明な操作面を有して構成されている。接触検出部１２の接触検出方式としては、静電容量式、抵抗膜式（感圧式）、電磁誘導式など、一般的な方式を採用することができる。

タッチパネル１０は、ゲーム実行時には、ゲーム画像を表示する。また、タッチパネル１０は、操作面に対して接触する接触物（プレイヤの指やタッチペンなどを含む。以下、接触物の代表例を指として説明する。）の動作を検出することで、操作入力を受け付け、その接触位置の情報を処理部３０に送信する。指の動作は、接触点の位置または領域を示す座標情報として検出され、座標情報は、例えば、タッチパネル１０の短辺方向および長辺方向の二軸上の座標値として表される。

記憶部２０は、例えば、ＲＯＭ（Read Only Memory）、ＲＡＭ（Random Access Memory）等である。本実施形態では、記憶部２０にゲームプログラム２１が記憶されている。処理部３０は、ゲーム装置１における各種処理を実行する。処理部３０は、例えば、マイクロコンピュータ及びその周辺回路を備え、例えば、ＣＰＵ、ＲＯＭ、ＲＡＭ等によって構成されている。ＲＯＭには、１又は２以上のプログラムが格納されている。ＣＰＵは、ＲＯＭに格納されている１又は２以上のプログラムに従って各種処理を実行する。そして、処理部３０は、必要に応じて、記憶部２０に記憶されている各種データや各種プログラムに従って各種処理を実行する。

図３は、ゲーム装置１が含まれるオンラインゲームシステム１００の構成例を示す図である。
図３に示すように、ゲーム装置１は、種々のゲームがサーバ装置２００からオンラインで提供されるようになっており、オンラインゲームシステム１００の一部を構成している。ここで、サーバ装置２００は、ゲーム装置１において実行されたゲーム等のプレイデータを、インターネット回線３００等のネットワークを介して収集し、プレイデータを蓄積して管理する等、オンラインゲームシステム１００のハブとなるサーバとして機能する。

オンラインゲームシステム１００では、複数種類のゲームプログラムに対応したプレイデータを管理・提供等することにより、プレイヤに対し、さながらゲームセンターの色々なゲームを遊技しているかのような楽しみを提供することが可能となっている。そのため、本実施形態では、ゲームプログラム２１は、前述のように記憶部２０に記憶されていても良いし、サーバ装置２００からオンラインでゲーム機能が提供されるものであっても良い。以下では、ゲームプログラム２１がゲーム装置１にインストールされている状態で実行する場合を説明する。

（ゲーム概要）
本実施形態に係るゲーム装置１がゲームプログラム２１を実行することにより実現されるゲーム概要は次のようになる。
本実施形態に係るゲームは、プレイヤが行動を操作する味方キャラクタ（プレイキャラクタ又は自キャラクタともいう。）によって敵キャラクタを攻撃するゲームである。

このゲームは、ゲーム空間において、プレイヤが守る自拠点を攻撃してくる複数の敵キャラクタに対して、プレイヤが行動を操作する複数の味方キャラクタによって迎撃及び攻撃する。
本実施形態に係るゲームでは、自拠点が一部に砲台を有して移動できるキャラクタをなし、この自拠点を守る味方キャラクタが、自拠点の大砲から発射されて出撃し敵キャラクタを迎撃、攻撃する味方キャラクタ(以下、味方飛行キャラクタという。)、及び自拠点から出撃し地面を歩いて移動し迎撃、攻撃する複数種類の味方キャラクタ(以下、味方地上キャラクタという。)によって構成されている。

図４は、ゲームの画面表示例を示す図である。
図４に示す画面表示例は、味方飛行キャラクタ１０１０及び味方地上キャラクタ１０２０Ａ，１０２０Ｂ，１０２０Ｃ，１０２０Ｄが、自拠点１０００を攻撃するために移動してくる複数の敵キャラクタ（敵ザコキャラクタ）２０１０Ａ，２０１０Ｂ，・・・を迎撃しつつ、敵ボスキャラクタ２０００を攻撃する。この画面表示例は、味方地上キャラクタ１０２０Ａ，１０２０Ｂ，１０２０Ｃが迎撃している例となる。

なお、以下の説明では、味方地上キャラクタ１０２０Ａ，１０２０Ｂ，１０２０Ｃ，１０２０Ｄのうち特定の味方地上キャラクタを意味しない場合、味方地上キャラクタ１０２０と表記し、一方で、特定の味方地上キャラクタを意味する場合、特定の味方地上キャラクタ１０２０Ａ，１０２０Ｂ，１０２０Ｃ，１０２０Ｄの何れかを表記する。また、味方飛行キャラクタ１０１０、味方地上キャラクタ１０２０Ａ，１０２０Ｂ，１０２０Ｃ，１０２０Ｄのうち特定の味方キャラクタを意味しない場合、味方キャラクタと表記する。また、敵キャラクタ２０１０Ａ，２０１０Ｂ，・・・のうち特定の敵キャラクタを意味しない場合、敵キャラクタ２０１０と表記し、一方で、特定の敵キャラクタを意味する場合、特定の敵キャラクタ２０１０Ａ，２０１０Ｂ，・・・の何れかを表記する。

ここで、図４に示すように、出撃可能な味方キャラクタとして、味方飛行キャラクタ１０１０は、画面下の左端に表示され、味方地上キャラクタ１０２０Ａ，１０２０Ｂ，１０２０Ｃ、１０２０Ｄは、その右側に表示されている。
また、自拠点１０００の耐久値を示す耐久値ゲージ１０６０が設定されている。また、敵ボスキャラクタ２０００の耐久値を示す耐久値ゲージ２０６０も設定されている。耐久値は、相手側の攻撃によってダメージを受けると減少し、それに応じて、耐久値ゲージ１０６０，２０６０の長さが短くなる。本例では、各耐久値ゲージ１０６０，２０６０は、自拠点１０００及び敵ボスキャラクタ２０００それぞれの上に表示されている。

ゲームでは、自拠点１０００に設定されている耐久値ゲージ１０６０の残量が０になると、自拠点１０００は、破壊されたことになり、このゲームステージでは、プレイヤ側が敗北になる。一方、敵ボスキャラクタ２０００に設定されている耐久値ゲージ２０６０の残量が０になると、敵ボスキャラクタ２０００は、破壊されたことになり、このゲームステージでは、敵側が敗北になる。

なお、耐久値といったパラメータでなく、他の類するパラメータを用いても、同様な処理を行うこともできる。
また、自拠点１０００の足元には、パラメータ変更エリア１００６が形成されている。本例では、パラメータ変更エリア１００６は、自拠点１０００を中心とした円形のエリアとして形成され、特定の模様でデザインされた魔法陣として描かれている。以下の説明では、パラメータ変更エリア１００６を魔法陣エリア１００６ともいう。

ゲームでは、魔法陣エリア１００６に味方キャラクタが足を踏み入れると、プレイヤに有利に働く味方キャラクタのパラメータ（攻防で変化するパラメータ）強化の効果が発生する。例えば、魔法陣エリア１００６にいる味方キャラクタが敵キャラクタに攻撃した際のダメージが増加する。
さらに、画面には、味方飛行キャラクタ１０１０、味方地上キャラクタ１０２０Ａ，１０２０Ｂ，１０２０Ｃ，１０２０Ｄそれぞれの出撃にかかる出撃コスト１０３０，１０３１，１０３２，１０３３，１０３４、利用可能なコスト（例えば、費用やエネルギー）１０４０、及び利用可能なコスト１０４０に補充可能なエネルギー１０５０が表示されている。本実施形態では、出撃コスト１０３０〜１０３４は、味方飛行キャラクタ１０１０、味方地上キャラクタ１０２０Ａ，１０２０Ｂ，１０２０Ｃ，１０２０Ｄそれぞれの表示部分の右上に表示されている。また、利用可能なコスト１０４０及び補充可能なエネルギー１０５０は、味方飛行キャラクタ１０１０の上に表示されている。また、補充可能なエネルギー１０５０は、複数種類のオブジェクト１０５０Ａ，１０５０Ｂ，１０５０Ｃ，・・・の数量として表示されている。

ここで、味方キャラクタは、利用可能なコストがかかるなどされて制限がかけられており、その制限の中で敵と戦う。その一方で、時間経過により出撃コストが補充される。
これによって、出撃コスト１０３０〜１０３４よりも利用可能なコスト１０４０が大きければ、当該出撃コスト１０３０〜１０３４をもつ味方キャラクタを画面上で指でタッチすることで出撃させることができる。また、補充可能なエネルギー１０５０（例えば、「ＣＨＡＲＧＥ」部分）を画面上で指でタッチすることで、補充可能なエネルギー１０５０を利用可能なコスト１０４０に補充又は変換できる。例えば、補充可能なエネルギー１０５０は、予め設定されている時間、数秒間隔で自動的に増加し、具体的には、新たなオブジェクトが補充される形で増加する。

このような画面において、味方飛行キャラクタ１０１０及び味方地上キャラクタ１０２０Ａ，１０２０Ｂ，１０２０Ｃ，１０２０Ｄのうち、出撃できる味方キャラクタが指でタッチされると、その味方キャラクタが出撃していく。この画面表示例は、味方地上キャラクタ１０２０Ａ，１０２０Ｂ，１０２０Ｃが既に指でタッチされて自拠点１０００から既に出撃している例となる。

また、出撃している味方飛行キャラクタ１０１０及び味方地上キャラクタ１０２０Ａ，１０２０Ｂ，１０２０Ｃ，１０２０Ｄに耐久値を示す耐久値ゲージが設定されている。この耐久値は、相手側の攻撃によってダメージを受けると減少し、それに応じて、耐久値ゲージの長さが短くなる。例えば、耐久値ゲージは、出撃している味方キャラクタの上に表示される。図４に示す画面表示例では、耐久値ゲージ１０７０Ａ，１０７０Ｂ，１０７０Ｃが、出撃している味方地上キャラクタ１０２０Ａ，１０２０Ｂ，１０２０Ｃの上に表示されている。

ゲームでは、味方キャラクタに設定されている耐久値ゲージの残量が０になると、当該味方キャラクタは、力尽きたことになり、自拠点１０００に自動的に送還される。すなわち、当該味方キャラクタは、再び、出撃待ちの状態になる。
なお、耐久値といったパラメータでなく、他の類するパラメータを用いても、同様な処理を行うこともできる。

また、ゲームでは、予め設定されている要件を満たすと、味方キャラクタに必殺技を発動させる。例えば、補充可能なエネルギー１０５０にオブジェクトが同種類で複数個補充された状態になると、そのオブジェクトの種類に対応付けられている味方キャラクタが必殺技をもって攻撃や特殊効果を発動するようになる。これによって、出撃している味方キャラクタを指でタッチすると、その味方キャラクタは、必殺技を発動する。
以下にそれら演出に係る処理部３０の構成や各種の処理等の詳細を説明する。

（処理部の具体例）
図５は、処理部３０の構成例を示すブロック図である。
図５に示すように、処理部３０は、ゲーム統括部３１、自拠点移動部３２、出撃演出部３３、発射出撃演出部３４、魔法陣演出部３５、必殺技演出部３６、敗北処理部３７、味方キャラクタ行動制御部３８、敵キャラクタ行動制御部３９、時間管理部４０、接触検出処理部４１、画像表示処理部４２、及び音声出力処理部４３を有している。

ここで、ゲーム統括部３１は、ゲームを開始してゲームの進行を統括的に制御処理する。また、自拠点移動部３２は、プレイヤの操作に応じて自拠点１０００を移動させる自拠点移動処理を実行する。また、出撃演出部３３は、味方飛行キャラクタ１０１０、及び味方地上キャラクタ１０２０を出撃させる出撃演出処理を実行する。また、発射出撃演出部３４は、自拠点１０００から味方飛行キャラクタ１０１０を出撃させる発射出撃演出処理を実行する。また、魔法陣演出部３５は、魔法陣エリア１００６に入った味方キャラクタが敵キャラクタに攻撃した際のダメージを増加させる魔法陣演出処理を実行する。また、必殺技演出部３６は、味方キャラクタに必殺技を発動させる必殺技演出処理を実行する。また、敗北処理部３７は、プレイヤ側の敗北処理を実行する。また、味方キャラクタ行動制御部３８は、自拠点１０００を含む味方キャラクタそれぞれの移動、攻撃、防御等の各行動を制御処理する。また、敵キャラクタ行動制御部３９は、敵ボスキャラクタ２０００を含む敵キャラクタ２０１０それぞれの移動、攻撃、防御の各行動を制御処理する。また、時間管理部４０は、常にゲーム内時間が進行する（リアルタイムとも言う）ことを管理する。これによって、ゲームは、将棋のように１手ずつ進行したり、敵と交互に行動するゲームではなく、リアルタイムで同時に進行する。また、接触検出処理部４１は、タッチパネル１０（以下、画面ともいう。）への指の接触を検出した接触検出部１２からの信号が入力されており、処理部３０を構成する前記各部と協働し前記各部の処理中のタッチパネル１０への指の接触状態を検出する処理を実行する。また、画像表示処理部４２は、処理部３０を構成する前記各部の処理結果を基に画面に画像を表示する処理を実行する。また、音声出力処理部４３は、処理部３０を構成する前記各部を基に音声を出力する処理を実行する。そして、これら各部は、各処理を、所定の処理時間間隔で実行しつつ他の処理と同時並列的に実行する。以下に、本実施形態において特徴となる自拠点移動処理、出撃演出処理、発射出撃演出処理、魔法陣演出処理、必殺技演出処理、及び敗北処理の詳細を説明する。

図６は、自拠点移動処理の一例を示すフローチャートである。
図６に示すように、ステップＳ１の処理として、自拠点移動部３２は、画面において自拠点１０００の前後方向（左右方向）で指のタッチを検出したか否かを判定する。自拠点移動部３２は、画面において自拠点１０００の前後方向で指のタッチを検出するとステップＳ２の処理に進む。

ステップＳ２の処理として、自拠点移動部３２は、画面において自拠点１０００の前後方向のうち指でタッチされた側に、自拠点１０００の移動方向となる矢印を表示する。
続くステップＳ３の処理として、自拠点移動部３２は、画面において自拠点１０００の前後方向のうち指でタッチされた側に自拠点１０００が移動する表示を行う。例えば、自拠点１０００は、足を動かして移動する。そして、自拠点移動部３２は、ステップＳ１の処理に戻り処理を続ける。

以上のような自拠点移動処理によって、例えば、自拠点移動部３２が、画面において自拠点１０００の前後方向で指のタッチを検出すると、画面には、自拠点１０００の前後方向のうち指でタッチされた側に、その方向に向く矢印が表示されるとともに、その方向に移動していく自拠点１０００が表示される。これによって、例えば、指でタッチされている限り、画面には、そのような矢印及び自拠点１０００の移動が表示され続ける。

図７は、自拠点１０００の前側が指４０００でタッチされたときの画面表示例を示す図であり、図８は、自拠点１０００の後側が指４０００でタッチされたときの画面表示例を示す図である。
図７に示すように、自拠点１０００の前側が指４０００でタッチされると、画面には、自拠点１０００の前側に、前方向に向く矢印３００１が表示されるとともに、前方向に移動していく自拠点１０００が表示される。
図８に示すように、自拠点１０００の後側が指４０００でタッチされると、画面には、自拠点１０００の後側に、後方向に向く矢印３００２が表示されるとともに、後方向に移動していく自拠点１０００が表示される。

図９は、出撃演出処理の一例を示すフローチャートである。
図９に示すように、ステップＳ２１の処理として、出撃演出部３３は、味方飛行キャラクタ１０１０、味方地上キャラクタ１０２０を出撃させる操作がされたか否かを判定する。具体的には、出撃演出部３３は、出撃できる状態にある味方キャラクタが指でタッチされると、その味方キャラクタを出撃させる操作がされたと判定する。出撃演出部３３は、味方キャラクタを出撃させる操作がされたと判定したときに、ステップＳ２２の処理に進む。ここで、出撃できる状態にある味方キャラクタとは、戦場に出撃しておらずかつコストが十分にある味方キャラクタである。

図１０は、出撃できる状態になっている味方キャラクタの画面表示例を示す図である。
図１０に示すように、出撃できる状態になっている味方キャラクタ、この例では味方地上キャラクタ１０２０Ｃを含む所定範囲の表示領域１０３８は、ハイライト表示がオンされている。一方、出撃できる状態にない味方キャラクタ、この例では味方飛行キャラクタ１０１０、味方地上キャラクタ１０２０Ａ，１０２０Ｂ，１０２０Ｄを含む所定範囲の各表示領域１０３５，１０３６，１０３７，１０３９は、ハイライト表示がオフされている。この例では、味方飛行キャラクタ１０１０、味方地上キャラクタ１０２０Ａ，１０２０Ｄは、コストが不十分なため、出撃を選択できないようにハイライト表示がオフされており、味方地上キャラクタ１０２０Ｂは、戦場に出撃中のため、出撃を選択できないようにハイライト表示がオフされている。このように画面中、出撃できる状態になっている味方キャラクタが指でタッチされると、出撃演出部３３は、タッチされた味方キャラクタが出撃させる操作がされたと判定する。

ステップＳ２２の処理として、出撃演出部３３は、味方地上キャラクタ１０２０を出撃させる操作がなされたか否かを判定する。出撃演出部３３は、味方地上キャラクタ１０２０を出撃させる操作がなされたと判定すると、ステップＳ２３に進む。一方、出撃演出部３３は、味方地上キャラクタ１０２０でない味方キャラクタ、すなわち、味方飛行キャラクタ１０１０を出撃させる操作がなされたと判定すると、ステップＳ２４に進む。

ステップＳ２３の処理において、出撃演出部３３は、出撃させる操作がされた味方地上キャラクタ１０２０を自拠点１０００から出撃させる表示を行う。
図１１は、味方地上キャラクタ１０２０Ｃが自拠点１０００から出撃する画面表示例を示す図である。図１１に示すように、自拠点１０００の側面の一部が開き、その開いた部分１００２から味方地上キャラクタ１０２０Ｃが登場する。その後、味方地上キャラクタ１０２０Ｃは、味方キャラクタ行動制御部３８によって、移動、攻撃、防御等の各行動が制御されて、それに応じた表示がなされる。

一方、ステップＳ２４の処理において、出撃演出部３３は、自拠点１０００から味方飛行キャラクタ１０１０を出撃させる。ステップＳ２４の処理によって、味方飛行キャラクタ１０１０は、自拠点１０００に格納された状態になる。そして、実際に自拠点１０００から味方飛行キャラクタ１０１０を出撃させる処理は、後で詳述する発射出撃演出処理になる。

以上のような出撃演出処理によって、出撃演出部３３は、味方飛行キャラクタ１０１０及び味方地上キャラクタ１０２０の出撃操作に応じてそれぞれを出撃させる。
図１２は、発射出撃演出処理の一例を示すフローチャートである。
図１２に示すように、ステップＳ４１の処理として、発射出撃演出部３４は、味方飛行キャラクタ１０１０が自拠点１０００に格納されているか否かを判定する。発射出撃演出部３４は、味方飛行キャラクタ１０１０が自拠点１０００に格納されていると判定したときに、ステップＳ４２の処理に進む。発射出撃演出部３４は、ステップＳ２４の処理が既に実行されていれば味方飛行キャラクタ１０１０は自拠点１０００に格納されている状態になっているため、ステップＳ４２の処理に進む。

ステップＳ４２の処理として、発射出撃演出部３４は、自拠点１０００の大砲１００１に対するひっぱり操作を検出したか否かを判定する。ここで、自拠点１０００の大砲１００１に対するひっぱり操作とは、自拠点１０００の大砲１００１そのもの、又は大砲１００１の後方の領域が指でタッチされ、指がそのまま大砲１００１の後方に向けてスライド移動する操作である。発射出撃演出部３４は、自拠点１０００の大砲１００１に対するひっぱり操作を検出したと判定すると、ステップＳ４３の処理に進む。一方、発射出撃演出部３４は、自拠点１０００の大砲１００１に対するひっぱり操作を検出しないと判定すると、当該発射出撃演出処理を終了する。

ステップＳ４３の処理として、発射出撃演出部３４は、ステップＳ４２の処理で検出したひっぱり操作における指のスライド移動の変位成分及び変位量を検出する。
続いてステップＳ４４の処理として、発射出撃演出部３４は、ステップＳ４３の処理で検出した指のスライド移動の変位成分及び変位量を基に、大砲１００１の発射口の向き（上下方向の発射角度）を変える表示をするとともに、味方飛行キャラクタ１０１０が大砲１００１から発射された後の飛行軌道（以下、発射後飛行軌道という。）を算出し矢印で表示する。ここで、発射後飛行軌道は、大砲１００１の発射口を起点とした上に凸の放物線からなる。

具体的には、発射出撃演出部３４は、指のスライド移動の上下方向の変位成分に応じて大砲１００１の発射口の向きを変化させ、さらに、指のスライド移動の前後（又は左右）方向の変位成分に応じて発射後飛行軌道を示す放物線の大きさを変化させる。詳しくは、発射出撃演出部３４は、指が下方向にスライド移動された際には、その下方向への変位量に応じて大砲１００１の発射口の角度を上方向に変化させ、指が上方向にスライド移動された際には、その上方向への変位量に応じて大砲１００１の発射口の角度を下方向に変化させる。加えて、発射出撃演出部３４は、指をスライド移動した際の大砲１００１の後方向への変位量が多いほど、発射後飛行軌道の放物線を大きくし、すなわち、飛行距離、射程距離が長くなるようにする。このような表示は、例えば、弓を引き矢を飛ばすときに、弓を引く量を多くすることで、放たれた後の矢を勢いよく飛び出させて、矢の飛行距離を長くするような行為に似た表示である。

図１３、図１４は、大砲１００１及び発射後飛行軌道１００３の画面表示例を示す図である。図１３は、指４０００を大砲１００１の後方向にスライド移動させたときの大砲１００１及び発射後飛行軌道１００３の画面表示例を示し、図１４は、指４０００を下方向にスライド移動させたときの大砲１００１及び発射後飛行軌道１００３の画面表示例を示す。

図１３に示すように、指４０００を大砲１００１にタッチし、そのまま後方向にスライド移動させると、飛行距離が長くなるように発射後飛行軌道１００３の放物線が大きくなる。また、図１４に示すように、指４０００を下方向にスライド移動させると、大砲１００１の発射口１００１ａ及び発射後飛行軌道１００３が上向きになる。

続いてステップＳ４５の処理として、発射出撃演出部３４は、指が画面から離れたか否かを判定する。発射出撃演出部３４は、指が画面から離れたと判定すると、ステップＳ４６の処理に進む。一方、発射出撃演出部３４は、指が画面から離れていないと判定すると、ステップＳ４３の処理に戻り処理を続ける。

ステップＳ４６の処理として、発射出撃演出部３４は、大砲発砲時の表示を行う。
以上のような発射出撃演出処理によって、発射出撃演出部３４は、ステップＳ２４の処理が実行されて味方飛行キャラクタ１０１０が自拠点１０００に格納されている状態で、自拠点１０００の大砲１００１に対するひっぱり操作を検出すると、そのひっぱり操作における指のスライド移動の変位成分及び変位量を基に、大砲１００１の発射口１００１ａの向き及び大砲１００１から味方飛行キャラクタ１０１０を発射した後の発射後飛行軌道１００３を表示する。そして、発射出撃演出部３４は、画面から指が離れると、大砲１００１から味方飛行キャラクタ１０１０を発射させる表示を行う。

なお、本実施形態は、以上のような、ひっぱり操作によって味方飛行キャラクタ１０１０を発射させることに限定されない。単に、前方のどこへ飛ばすかといった簡易な操作によって味方飛行キャラクタ１０１０を発射させることもできる。

図１５は、魔法陣演出処理の一例を示すフローチャートである。
図１５に示すように、ステップＳ６１の処理として、魔法陣演出部３５は、自拠点１０００を中心に形成された魔法陣エリア１００６内に味方キャラクタが入ったか否かを判定する。魔法陣演出部３５は、魔法陣エリア１００６内に味方キャラクタが入ったと判定すると、ステップＳ６２の処理に進む。ここで、魔法陣エリア１００６は、自拠点１０００に対応づけられていることで、自拠点１０００が移動すると、それに連動してともに移動する。

ステップＳ６２の処理として、魔法陣演出部３５は、味方キャラクタに関するパラメータを変更させる処理を実行する。具体的には、魔法陣演出部３５は、魔法陣エリア１００６内に入った味方キャラクタが敵キャラクタを攻撃した際の当該敵キャラクタのダメージを増加させる処理を実行する。この処理により、魔法陣エリア１００６内に入った味方キャラクタが敵キャラクタを攻撃した際の当該敵キャラクタのダメージは、魔法陣エリア１００６内に入っていないときに味方キャラクタが敵キャラクタを攻撃した際の当該敵キャラクタのダメージよりも大きくなる。また、例えば、魔法陣演出部３５は、味方キャラクタが魔法陣エリア１００６内に与ダメージ増加判定用時間いると、当該味方キャラクタの与ダメージを増加させる。ここで、与ダメージとは、攻撃した相手に与えることができるダメージを意味する。また、与ダメージ増加判定用時間は、予め設定されている時間である。そして、魔法陣演出部３５は、当該味方キャラクタが魔法陣エリア１００６外に出たとき、維持判定用時間、与ダメージが増加している状態を維持する。ここで、維持判定用時間は、予め設定されている時間である。また、このとき、魔法陣エリア１００６内に入っている味方キャラクタ（図４の画面表示例では味方地上キャラクタ１０２０Ｃ）や魔法陣エリア１００６外でも与ダメージが増加している状態を維持している味方地上キャラクタの足元に光の輪１００７を表示する演出を行うこともできる。

図１６は、必殺技演出処理の一例を示すフローチャートである。
図１６に示すように、ステップＳ８１の処理として、必殺技演出部３６は、補充可能なエネルギー１０５０中に表示された味方キャラクタ（出撃中の味方キャラクタ）に対応するオブジェクトが必殺技の発動に必要な数貯まったか（揃ったか）否かを判定する。ここで、補充可能なエネルギー１０５０中に表示されるオブジェクトは複数種類あり、各種のオブジェクトが、各味方キャラクタに対応付けられている。また、例えば、味方キャラクタの種類によっては、１つで必殺技の発動に必要な数になる場合もあり、複数で必殺技の発動に必要な数になる場合もある。このような構成が前提となり、必殺技演出部３６は、補充可能なエネルギー１０５０中に表示された味方キャラクタ（出撃中の味方キャラクタ）に対応するオブジェクトが必殺技の発動に必要な数貯まったか否かを判定している。必殺技演出部３６は、出撃中の味方キャラクタに対応するオブジェクトが必殺技の発動に必要な数貯まったと判定したときに、ステップＳ８２の処理に進む。

ステップＳ８２の処理として、必殺技演出部３６は、必殺技を発動させたいキャラクタが選択されたか否かを判定する。具体的には、必殺技演出部３６は、ステップＳ８１の処理で必殺技の発動に必要な数が貯まったと判定したオブジェクトに対応する出撃中のキャラクタが指でタッチされたとき、必殺技を発動させたいキャラクタが選択されたと判定する。必殺技演出部３６は、必殺技を発動させたいキャラクタが選択されたと判定したときに、ステップＳ８３の処理に進む。
ステップＳ８３の処理として、必殺技演出部３６は、必殺技の発動待ちの表示をする。

図１７は、必殺技の発動待ちの画面表示例を示す図である。
図１７に示すように、必殺技演出部３６は、出撃中の味方地上キャラクタ１０２０Ａに対応する複数揃ったオブジェクト１０５０Ｃを目立つように表示する。例えば、必殺技演出部３６は、複数揃ったオブジェクトを光らせる。また、必殺技演出部３６は、必殺技の効果の説明１０８１を表示する。また、必殺技演出部３６は、必殺技をプレイヤが発動できるようにするためのボタンを表示する。本例では、必殺技演出部３６は、「発動」ボタン１０８２、「やめる」ボタン１０８３を表示させている。

続いてステップＳ８４の処理として、必殺技演出部３６は、必殺技をかける対象のキャラクタを特定する。ここで、必殺技をかける対象は、敵キャラクタ又は味方キャラクタである。また、必殺技演出部３６は、指の操作に応じてキャラクタを特定する目印を移動させる。例えば、図１７に示すように、目印１０９０は、光の柱（例えば、赤い光の柱）であり、指の操作に応じて敵キャラクタの場所へ移動する。本例では、目印１０９０が敵キャラクタ２０１０に移動している。

続いてステップＳ８５の処理として、必殺技演出部３６は、必殺技を発動させる操作がされたか否かを判定する。具体的には、必殺技演出部３６は、図１７に示すような「発動」ボタン１０８２が指でタッチされると、必殺技を発動させる操作がされたと判定する。必殺技演出部３６は、必殺技を発動させる操作がされたと判定したときに、ステップＳ８６の処理に進む。また、必殺技演出部３６は、図１７に示すような「やめる」ボタン１０８３が指でタッチされると、ステップＳ８６の処理をスキップして、当該必殺技演出処理を終了する。

ステップＳ８６の処理として、必殺技演出部３６は、ステップＳ８４で選ばれたキャラクタに対して必殺技を発動する。例えば、必殺技演出部３６は、必殺技の発動として、通常と異なる攻撃を表示する演出をしつつ、敵キャラクタが受ける攻撃によるダメージを通常よりも大きくする（敵キャラクタの耐久値の減少量を通常より多くする）。

図１８は、敗北処理の一例を示すフローチャートである。
図１８に示すように、ステップＳ１０１の処理として、敗北処理部３７は、自拠点１０００の耐久値の残量が０になったか否かを判定する。敗北処理部３７は、自拠点１０００の耐久値の残量が０になったと判定したときに、ステップＳ１０２の処理に進む。

ステップＳ１０２の処理として、敗北処理部３７は、敗北処理を実行する。例えば、敗北処理部３７は、自拠点１０００が爆発する様子を表示する処理を行う。

（ゲーム全体の動作、作用等）
ゲームの一連の流れの例を説明する。
自拠点１０００の前後方向が指でタッチされると、指でタッチされている最中、画面では、自拠点１０００の前後方向で指でタッチされた側に自拠点１０００が進む方向に向く矢印が表示され、自拠点１０００は、その矢印方向に移動する。

そして、画面でハイライト表示がオンになっている味方キャラクタを指でタッチすると、画面では、タッチされた味方キャラクタが自拠点１０００から登場し出撃する。具体的には、味方地上キャラクタ１０２０の場合、自拠点１０００の側面の一部が開き、その開いた部分から味方地上キャラクタ１０２０が登場し出撃する。一方、味方飛行キャラクタ１０１０の場合、先ず自拠点１０００に味方飛行キャラクタ１０１０が瞬時に格納される様子が表示される。

そして、自拠点１０００に味方飛行キャラクタ１０１０が格納された後、自拠点１０００に対するひっぱり操作を行うと、画面では、そのひっぱり操作に応じて自拠点１０００の大砲１００１の発射口１００１ａの発射角度が変化し、さらに、発射後飛行軌道が表示され、その向き、大きさが変化する。そして、画面から指を離すと、画面では、味方飛行キャラクタ１０１０が、そのときの発射後飛行軌道に大砲１００１から発射される。発射後、味方飛行キャラクタ１０１０は、飛行移動し出撃する。

このように、ゲームでは、利用可能なコスト１０４０の許す限り、複数の味方キャラクタを出撃させることができる。
また、魔法陣エリア１００６内に味方キャラクタが入ると、味方キャラクタの与ダメージが増加する。また、図７及び図８に示すように、魔法陣エリア１００６は、自拠点１０００とともに移動するため、プレイヤは、自拠点１０００を移動させて、魔法陣エリア１００６を移動させることができるため、意図的に味方キャラクタを魔法陣エリア１００６内に入れることができ、意図的に味方キャラクタの与ダメージを増加させることができる。

また、補充可能なエネルギー１０５０中に表示された味方キャラクタのオブジェクトが必要な数揃い、対応する味方キャラクタが選択されると、必殺技の発動待ちの表示をする。そして、その表示中から対象キャラクタが指で特定されて、「発動」ボタンが指で選択されると、味方キャラクタが対象キャラクタに対して必殺技を発動する。

また、ゲームは、自拠点１０００の耐久値の残量が０になると、自拠点１０００が爆発する表示等により敗北処理を実行する。

（実施形態における効果）
（１）ゲームでは、防衛目標である自拠点１０００を移動させることで、自拠点１０００への敵キャラクタ２０１０の攻撃を回避したり敵キャラクタ２０１０から攻撃されない位置に自拠点１０００を移動させたりしつつ、自拠点１０００に対応づけた魔法陣エリア１００６を移動させて魔法陣エリア１００６内の状況を変えてプレイヤに有利な効果を発生させることができ、自拠点１０００が重要な防衛目標でありながら重要な進攻手段になることを両立できる。これによって、攻防の駆け引きが生まれ、プレイヤの緊張感や興奮感を高め、ゲームの興趣性をより高めることができる。

（２）ゲームでは、魔法陣エリア１００６に入ったキャラクタの戦闘行動等の攻防に関する行動をプレイヤに有利になるように変更することで、よりゲームの興趣性をより高めることができる。
（３）ゲームでは、魔法陣エリア１００６に入った味方キャラクタの攻防で変化するパラメータを変更することで、魔法陣エリア１００６に入った味方キャラクタの攻防の状況が変わるため、よりゲームの興趣性をより高めることができる。

（４）ゲームでは、魔法陣エリア１００６に入った味方キャラクタが敵キャラクタに与えるダメージを、魔法陣エリア１００６外にいたときに当該味方キャラクタが敵キャラクタに与えるダメージよりも大きくすることで、自拠点に対応づけた領域に入った味方キャラクタの攻防の状況が変わるため、よりゲームの興趣性をより高めることができる。

（５）ゲームでは、プレイヤの操作に応じて自拠点１０００から味方キャラクタを複数出撃させることができるので、複数の味方キャラクタの出撃と指示がゲームの展開を左右するようになるため、プレイヤの緊張感や興奮感を高め、よりゲームの興趣性をより高めることができる。

（６）ゲームでは、プレイヤの操作に応じて必殺技を味方キャラクタに発動させることで、プレイヤは、攻防に有利と思うタイミングで予め設定されている特別の戦闘行動を発動することができる。これによって、攻防の駆け引きが生まれ、プレイヤの緊張感や興奮感を高め、ゲームの興趣性をより高めることができる。

（７）ゲームでは、時間が経過したこと、又は予め設定された条件を満たすことのいずれかで、味方キャラクタが出撃可能なことを示す利用可能なコスト１０４０を増加させて、より出撃可能になる方向に変化させることで、プレイヤは、画面に表示されている味方キャラクタが出撃可能なことを示す指標をみつつ、攻防に有利と思うタイミングで味方キャラクタを出撃させることができる。これによって、攻防の駆け引きが生まれ、プレイヤの緊張感や興奮感を高め、ゲームの興趣性をより高めることができる。

（８）ゲームでは、防衛目標である自拠点１０００を敵キャラクタ２０１０の攻撃の回避や攻撃されない位置に移動することと、味方キャラクタの出撃位置の調整や魔法陣エリア１００６を移動させることで味方キャラクタを援護することができ、自拠点１０００が重要な防衛目標でありながら重要な進攻手段になることを両立できるため、攻防の駆け引きが生まれ、プレイヤの緊張感や興奮感を高め、ゲームの興趣性をより高めることができる。

（９）ゲームでは、複数の味方キャラクタの位置や耐久値など状況の把握および出撃や必殺技に必要なコストリソースの状況の把握を行い、味方キャラクタの出撃と指示がゲームの展開を左右するようになるため、プレイヤの緊張感や興奮感を高め、ゲームの興趣性をより高めることができる。

（１０）ゲームでは、常に変化する状況を判断し、自拠点１０００の操作や前記味方キャラクタに指示する必要性があるため、プレイヤの緊張感や興奮感を高め、ゲームの興趣性をより高めることができる。
なお、前記の実施形態の説明において、味方キャラクタ行動制御部３８、敵キャラクタ行動制御部３９は、例えば、行動処理手段を構成する。また、自拠点移動部３２は、例えば、移動処理手段を構成する。また、敗北処理部３７は、例えば、ゲーム進行処理手段を構成する。また、魔法陣演出部３５、必殺技演出部３６は、例えば、演出処理手段を構成する。また、出撃演出部３３は、例えば、出撃処理手段を構成する。また、自拠点１０００の耐久値は、例えば、第１パラメータを構成する。また、味方キャラクタに関するパラメータは、例えば、前記味方キャラクタの攻防で変化する第２パラメータを構成する。また、補充可能なエネルギー１０５０は、例えば、必殺技の発動に必要なコストを構成する。また、必殺技は、例えば、予め設定されている特別の戦闘行動を構成する。また、利用可能なコスト１０４０は、例えば、時間が経過したこと、又は予め設定された条件を満たすことのいずれかで、味方キャラクタが出撃可能なことを示す指標を構成する。

（本実施形態の他の例等）
実施形態の他の例として、発射又は出撃する射出部は、砲台又は大砲に限らず、発射や出撃に適しているもの、一般的に発射や出撃に使用されている道具等とすることもできる。
また、実施形態の他の例として、味方飛行キャラクタ１０１０が発射又は出撃する位置は、自拠点１０００上の位置に限らず、自拠点１０００の移動に連動して移動する位置であれば自拠点１０００上にない位置でも良い。例えば、味方飛行キャラクタ１０１０が発射又は出撃する位置は、自拠点１０００から離れて配置されているが自拠点１０００の移動に連動して移動する砲台等の射出部の位置とすることもできる。

図１９は、自拠点１０００から離れて配置され自拠点１０００の移動に連動して移動する砲台１００５の画面表示例を示す図である。
図１９に示すように、砲台１００５が自拠点１０００から離れて配置されている。そして、自拠点移動処理によって、砲台１００５は、自拠点１０００が移動操作されると、自拠点１０００とともに移動する。例えば、図７に示したように、自拠点１０００の前側が指４０００でタッチされると、砲台１００５は、自拠点１０００とともに前方向に移動する。また、図８に示したように、自拠点１０００の後側が指４０００でタッチされると、砲台１００５は、自拠点１０００とともに後方向に移動する。そして、発射出撃演出処理において、ひっぱり操作によって砲台１００５から味方飛行キャラクタ１０１０が発射され又は出撃する。このとき、ひっぱり操作に応じて砲台１００５の大砲から発射後飛行軌道が延び、指が画面から離れると、味方飛行キャラクタ１０１０が砲台１００５の大砲から発射され又は出撃する。

また、実施形態の他の例として、プレイヤの勝利条件は進攻目標の陥落に限られず、自拠点１０００を一定時間守りきること、また、一定の距離を前進または後退とすることもできる。
また、実施形態の他の例として、自拠点１０００に連動して動くパラメータ変更エリア１００６は、自拠点１０００に連動して動くエリアとして確立されている限り、形や大きさおよび個数は限定されないものとすることができる。例えば、自拠点１０００の前方にヘッドライトを照らすような表現とすることもできる。例えば、効果が異なる２つ以上のパラメータ変更エリア１００６を、同時に連動させることができる。

また、実施形態の他の例として、自拠点１０００に連動して動くパラメータ変更エリア１００６は、自拠点１０００に連動して動くエリアとして確立されている限り、パラメータ変更エリア１００６を定義づける手法は限定されないものとすることができる。例えば、見えない四角形などの範囲として定義できる。例えば、自拠点１０００からの一定距離として定義できる。

また、実施形態の他の例として、自拠点１０００に連動して動く魔法陣エリア１００６は、自拠点１０００に連動して動くエリアとして確立されている限り、パラメータの変更の効果に限らず、プレイヤに有利な何らかの効果とすることもできる。例えば、魔法陣エリア１００６を雨傘のようなものとし、その雨傘の下にいるキャラクタを濡れさせないこともできる。例えば、魔法陣エリア１００６を、エリアに侵入してきた特定の攻撃を軽減または無効化する防御機構と表現することができる。例えば、魔法陣エリア１００６を、エリアに侵入してきた敵キャラクタの攻撃力を下げたり、防御力を下げたりといった効果と表現することができる。

言い換えると、魔法陣エリア１００６に入った味方キャラクタの防御に関するパラメータを変更することもできる。例えば、魔法陣エリア１００６に入った味方キャラクタが敵キャラクタから与えられるダメージを、魔法陣エリア１００６外にいるときに当該味方キャラクタが敵キャラクタから与えられるダメージよりも小さくする。

また、実施形態の他の例として、魔法陣エリア１００６に入った敵キャラクタの攻防で変化するパラメータ（第３パラメータ）を変更することもできる。例えば、魔法陣エリア１００６に入った敵キャラクタが味方キャラクタから与えられるダメージを、魔法陣エリア１００６外にいるときに当該敵キャラクタが味方キャラクタから与えられるダメージよりも大きくする。

また、実施形態の他の例として、自拠点や味方キャラクタまたは敵キャラクタや敵ボスキャラクタの耐久値またはそれに類するパラメータは、ダメージなどによりゲージ残量が０になって勝敗が決する以外にも、ゲージ残量が上がっていき一定値に達すると勝敗が決する表現とすることもできる。例えば、熱い地面の上に自拠点がいると、熱量ゲージが上がっていき一定値に達すると敗北する。
また、実施形態の他の例として、必殺技演出部３６は、敵キャラクタに限らず、味方キャラクタに対しても必殺技を発動できる。

また、本実施形態では、プログラムが記憶媒体に記憶されているものであっても良い。この場合、各装置等は、記憶媒体に記憶されているプログラムを読み込み、読み込んだプログラムを基に処理を実行する。
また、本実施形態では、プレイヤが守る自拠点を敵キャラクタが攻撃し、味方キャラクタによって前記敵キャラクタを迎撃及び攻撃するゲームを実行するゲーム装置であって、前記自拠点、前記味方キャラクタ、及び前記敵キャラクタの行動を制御する行動処理手段と、プレイヤの操作に応じて前記自拠点を移動させる移動処理手段と、前記自拠点がダメージを受けると変化する第１パラメータが予め設定された値になると、ゲームにおいてプレイヤ側を敗北状態にするゲーム進行処理手段と、前記自拠点に対応づけた領域内の状況を基に、プレイヤに有利な効果を発生させる演出を行う演出処理手段と、を有するゲーム装置を実現している。

また、本発明の実施形態を開示したが、当業者によっては本発明の範囲を逸脱することなく変更が加えられうることは明白である。すべてのこのような修正及び等価物が次の請求項に含まれることが意図されている。

１ ゲーム装置、１０ タッチパネル、１１ 画像表示部、１２ 接触検出部、２０ 記憶部、２１ ゲームプログラム、３０ 処理部、３１ ゲーム統括部、３２ 自拠点移動部、３３ 出撃演出部、３４ 発射出撃演出部、３５ 魔法陣演出部、３６ 必殺技演出部、３７ 敗北処理部、３８ 味方キャラクタ行動制御部、３９ 敵キャラクタ行動制御部、４０ 時間管理部、４１ 接触検出処理部、４２ 画像表示処理部、４３ 音声出力処理部

Claims (7)

1. プレイヤが守る自拠点を敵キャラクタが攻撃し、味方キャラクタによって前記敵キャラクタを迎撃及び攻撃するゲームをコンピュータに実行させるコンピュータプログラムであって、
   前記自拠点、前記味方キャラクタ、及び前記敵キャラクタの行動を制御する行動処理手段と、
   プレイヤの操作に応じて前記自拠点を移動させる移動処理手段と、
   前記自拠点がダメージを受けると変化する第１パラメータが予め設定された値になると、ゲームにおいてプレイヤ側を敗北状態にするゲーム進行処理手段と、
   移動する前記自拠点に対応づけた領域内の状況を基に、プレイヤに有利な効果を発生させる演出を行う演出処理手段と、
   を有し、
   前記演出処理手段は、前記味方キャラクタが前記領域に入ってから第１の予め設定されている時間が経過すると、前記領域に入った前記味方キャラクタが前記敵キャラクタに与えるダメージを、前記領域にいなかったときの当該味方キャラクタが前記敵キャラクタに与えるダメージよりも大きくするコンピュータプログラム。
2. 前記演出処理手段は、前記味方キャラクタが前記領域の外に出たとき、第２の予め設定されている時間、前記領域に入った前記味方キャラクタが前記敵キャラクタに与えるダメージを、前記領域にいなかったときの当該味方キャラクタが前記敵キャラクタに与えるダメージよりも大きくする状態を維持する請求項１に記載のコンピュータプログラム。
3. 前記演出処理手段は、前記領域に入った前記敵キャラクタの攻防で変化する第３パラメータを変更する請求項１又は２に記載のコンピュータプログラム。
4. プレイヤの操作に応じて前記自拠点から前記味方キャラクタを複数出撃させる出撃処理手段をさらに有する請求項１乃至３の何れか１項に記載のコンピュータプログラム。
5. 前記演出処理手段は、プレイヤの操作に応じて予め設定されている特別の戦闘行動を前記味方キャラクタに発動させる請求項１乃至４の何れか１項に記載のコンピュータプログラム。
6. 前記行動処理手段は、時間が経過したこと、又は予め設定された条件を満たすことのいずれかで、前記味方キャラクタが出撃可能なことを示す指標を、より出撃可能になる方向に変化させる請求項１乃至５の何れか１項に記載のコンピュータプログラム。
7. プレイヤが守る自拠点を敵キャラクタが攻撃し、味方キャラクタによって前記敵キャラクタを迎撃及び攻撃するゲームを実行するゲーム装置であって、
   前記自拠点、前記味方キャラクタ、及び前記敵キャラクタの行動を制御する行動処理手段と、
   プレイヤの操作に応じて前記自拠点を移動させる移動処理手段と、
   前記自拠点がダメージを受けると変化する第１パラメータが予め設定された値になると、ゲームにおいてプレイヤ側を敗北状態にするゲーム進行処理手段と、
   移動する前記自拠点に対応づけた領域内の状況を基に、プレイヤに有利な効果を発生させる演出を行う演出処理手段と、
   を有し、
   前記演出処理手段は、前記味方キャラクタが前記領域に入ってから予め設定されている時間が経過すると、前記領域に入った前記味方キャラクタが前記敵キャラクタに与えるダメージを、前記領域にいなかったときの当該味方キャラクタが前記敵キャラクタに与えるダメージよりも大きくするゲーム装置。

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