JP6325882B2 - 除染方法及び装置 - Google Patents
除染方法及び装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6325882B2 JP6325882B2 JP2014095448A JP2014095448A JP6325882B2 JP 6325882 B2 JP6325882 B2 JP 6325882B2 JP 2014095448 A JP2014095448 A JP 2014095448A JP 2014095448 A JP2014095448 A JP 2014095448A JP 6325882 B2 JP6325882 B2 JP 6325882B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- relative humidity
- disinfectant
- temperature
- parameter
- decontamination
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Landscapes
- Disinfection, Sterilisation Or Deodorisation Of Air (AREA)
- Apparatus For Disinfection Or Sterilisation (AREA)
Description
室内の相対湿度φと、温度θと、除菌剤濃度Cとを計測する計測工程と、
相対湿度φと除菌剤濃度Cとの関係を示す空気中の除菌剤と水の二成分系の除菌剤飽和蒸気圧線に対し、所定の除菌剤濃度Csでの接線である直線を一次近似式として定義し、該一次近似式の傾きを示すパラメータaθと温度θとの関係式、及び、前記一次近似式の切片を示すパラメータbθと温度θとの関係式に、前記計測工程で計測された温度θを代入可能としているパラメータ演算工程と、
該パラメータ演算工程における前記関係式に、前記計測工程で計測された温度を代入してパラメータaθとパラメータbθとを求め、除菌剤と水の二成分系の空気中での温度θにおける飽和蒸気圧を示す線図を一次近似式
φS=aθC+bθ
として求める飽和蒸気圧線近似演算工程と、
該飽和蒸気圧線近似演算工程で求められた一次近似式に基づき、計測される前記除菌剤濃度Cから除菌剤の結露を制御するための制御相対湿度φSを求め、前記相対湿度φが制御相対湿度φSより低い場合には除染を行い、前記相対湿度φが制御相対湿度φS以上である場合には除染を停止する結露判定工程と
を有することを特徴とする除染方法にかかるものである。
室内の相対湿度φと、温度θと、除菌剤濃度Cとを計測する計測工程と、
相対湿度φと除菌剤濃度Cとの関係を示す空気中の除菌剤と水の二成分系の除菌剤飽和蒸気圧線に対し、所定の除菌剤濃度Csでの接線である直線を一次近似式として定義し、該一次近似式の傾きを示すパラメータaθと温度θとの関係式、及び、前記一次近似式の切片を示すパラメータbθと温度θとの関係式に、前記計測工程で計測された温度θを代入可能にしているパラメータ演算工程と、
計測された前記除菌剤濃度Cに基づいて、前記所定の除菌剤濃度Csに代入する値を選定した後、前記一次近似式の傾きを示すパラメータaθと温度θとの関係式、及び、前記一次近似式の切片を示すパラメータbθと温度θとの関係式を演算設定する接線設定演算工程と、
前記接線設定演算工程により演算設定された、前記一次近似式の傾きを示すパラメータaθと温度θとの関係式、及び前記一次近似式の切片を示すパラメータbθと温度θとの関係式に、前記計測工程で計測された温度θを代入してパラメータaθとパラメータbθとを求め、除菌剤と水の二成分系の空気中での温度θにおける飽和蒸気圧を示す線図を一次近似式
φS=aθC+bθ
として求める飽和蒸気圧線近似演算工程と、
該飽和蒸気圧線近似演算工程で求められた一次近似式に基づき、計測される前記除菌剤濃度Cから除菌剤の結露を制御するための制御相対湿度φSを求め、計測される前記相対湿度φが前記制御相対湿度φSより低い場合には除染を行い、前記相対湿度φが前記制御相対湿度φS以上である場合には除染を停止する結露判定工程と
を有することを特徴とする除染方法にかかるものである。
室内の相対湿度φと、温度θと、除菌剤濃度Cとを計測する計測工程と、
相対湿度φと除菌剤濃度Cとの関係を示す空気中の除菌剤と水の二成分系の除菌剤飽和蒸気圧線に対し、所定の除菌剤濃度Csでの接線である直線を一次近似式として定義し、該一次近似式の傾きを示すパラメータaθと温度θとの関係式、及び、前記一次近似式の切片を示すパラメータbθと温度θとの関係式に、前記計測工程で計測された温度θを代入可能にしているパラメータ演算工程と、
該パラメータ演算工程における前記関係式に、想定される温度θを5〜10個代入してパラメータaθとパラメータbθとを求めて、除菌剤と水の二成分系の空気中での温度θにおける飽和蒸気圧を示す線図を一次近似式
φS=aθC+bθ
として予め求めておき、前記計測工程で計測された温度θに基づき一次近似式を選択して求める飽和蒸気圧線近似演算工程と、
該飽和蒸気圧線近似演算工程で求められた一次近似式に基づき、計測される前記除菌剤濃度Cから除菌剤の結露を制御するための制御相対湿度φSを求め、計測される前記相対湿度φが前記制御相対湿度φSより低い場合には除染を行い、前記相対湿度φが前記制御相対湿度φS以上である場合には除染を停止する結露判定工程と
を有することを特徴とする除染方法にかかるものである。
前記所定の除菌剤濃度Csは、150〜400ppmであることが好ましい。
前記温度θは、15〜30℃であることが好ましい。
前記室内の相対湿度φを計測する湿度計と、
前記室内の除菌剤濃度Cを計測する濃度計と、
前記噴霧ユニットへ噴霧用の圧縮空気を供給する空気配管途中に設けられた遮断弁と、
相対湿度φと除菌剤濃度Cとの関係を示す空気中の除菌剤と水の二成分系の除菌剤飽和蒸気圧線に対し、所定の除菌剤濃度Csでの接線である直線を一次近似式として定義し、該一次近似式の傾きを示すパラメータaθと温度θとの関係式、及び、前記一次近似式の切片を示すパラメータbθと温度θとの関係式に、前記温度計で計測された温度θを代入してパラメータaθとパラメータbθとを求め、除菌剤と水の二成分系の空気中における飽和蒸気圧を示す線図を一次近似式
φS=aθC+bθ
として求める飽和蒸気圧線近似演算部と、
該飽和蒸気圧線近似演算部で求められた一次近似式に基づき前記濃度計で計測された除菌剤濃度Cから除菌剤の結露を制御するための制御相対湿度φSを求める飽和相対湿度演算部と、
該飽和相対湿度演算部で求められた制御相対湿度φSを設定値として、前記湿度計で計測された相対湿度φが制御相対湿度φSより低い場合には除染を行うよう前記遮断弁へ開指令を出力し、前記相対湿度φが制御相対湿度φS以上である場合には除染を停止するよう前記遮断弁へ閉指令を出力する結露判定演算部と
を備えることを特徴とする除染装置にかかるものである。
室内の相対湿度φを計測する湿度計と、
室内の除菌剤濃度Cを計測する濃度計と、
噴霧ユニットへ噴霧用の圧縮空気を供給する空気配管途中に設けられた遮断弁と、
相対湿度φと除菌剤濃度Cとの関係を示す空気中の除菌剤し水の二成分系の除菌剤飽和蒸気圧線に対し、所定の除菌剤濃度Csでの接線である直線を一次近似式として定義し、該一次近似式の傾きを示すパラメータaθと温度θとの関係式、及び、前記一次近似式の切片を示すパラメータbθと温度θとの関係式を記憶していて、前記濃度計で計測された前記除菌剤濃度Cに基づいて、前記所定の除菌剤濃度Csに代入する値を選定し、前記一次近似式の傾きを示すパラメータaθと温度θとの関係式、及び、前記一次近似式の切片を示すパラメータbθと温度θとの関係式を演算し接線を設定する演算を行った後、
前記温度計で計測された温度θを代入してパラメータaθとパラメータbθとを求め、除菌剤と水の二成分系の空気中での温度θにおける飽和蒸気圧を示す線図を一次近似式
φS=aθC+bθ
として求める飽和蒸気圧線近似演算部と、
該飽和蒸気圧線近似演算部で求められた一次近似式に基づき、前記濃度計で計測される前記除菌剤濃度Cから除菌剤の結露を制御するための制御相対湿度φSを求める飽和相対湿度演算部と、
該飽和相対湿度演算部で求められた制御相対湿度φSを設定値として、前記湿度計で計測された相対湿度φが制御相対湿度φSより低い場合には除染を行うよう前記遮断弁へ開指令を出力し、前記相対湿度φが制御相対湿度φS以上である場合には除染を停止するよう前記遮断弁へ閉指令を出力する結露判定演算部と、
を備えることを特徴とする除染装置にかかるものである。
室内の相対湿度φを計測する湿度計と、
室内の除菌剤濃度Cを計測する濃度計と、
噴霧ユニットへ噴霧用の圧縮空気を供給する空気配管途中に設けられた遮断弁と、
相対湿度φと除菌剤濃度Cとの関係を示す空気中の除菌剤と水の二成分系の除菌剤飽和蒸気圧線に対し、所定の除菌剤濃度Csでの接線である直線を一次近似式として定義し、該一次近似式の傾きを示すパラメータaθと温度θとの関係式、及び、前記一次近似式の切片を示すパラメータbθと温度θとの関係式に、想定される温度θを5〜10個代入してパラメータaθとパラメータbθとを求めて、除菌剤と水の二成分系の空気中での温度θにおける飽和蒸気圧を示す線図を一次近似式
φS=aθC+bθ
として予め複数求めておき、前記温度計で計測された温度θに基づき一次近似式を選択して求める飽和蒸気圧線近似演算部と、
該飽和蒸気圧線近似演算部で求められた一次近似式に基づき、前記濃度計で計測される前記除菌剤濃度Cから除菌剤の結露を制御するための制御相対湿度φSを求める飽和相対湿度演算部と、
前記飽和相対湿度演算部から出力された制御相対湿度φSを設定値として、前記湿度計で計測された相対湿度φが制御相対湿度φSより低い場合には除染を行うよう前記遮断弁へ開指令を出力し、前記相対湿度φが制御相対湿度φS以上である場合には除染を停止するよう前記遮断弁へ閉指令を出力する結露判定演算部と、
を備えることを特徴とする除染装置にかかるものである。
記所定の除菌剤濃度Csは、150〜400ppmであることが好ましい。
前記温度θは、15〜30℃であることが好ましい。
前記室内にミスト噴霧された除菌剤を無害化する除害装置を更に備え、
前記結露判定演算部から前記除害装置へ起動指令を出力することが好ましい。
又、前記除染装置において、除染対象である室内の壁面に沿って循環する撹拌気流が生じるよう、吹出口を前記循環する撹拌気流と同じ方向に向けて設置される複数の撹拌ファンと、
前記循環する撹拌気流の内側に、該循環する撹拌気流と同じ方向へ水を含む除菌剤をミスト噴霧する噴霧ユニットとを備え、
前記循環する撹拌気流により前記噴霧ユニットから噴霧されるミストを室内に行き渡らせることで、湿度の低い気流を前記室内の壁面に沿わせることにより、前記室内の壁面への除菌剤の結露を制御することが好ましい。
[数1]
φS=aθC+bθ
として求めるようになっている。ここで、図4は過酸化水素と水の二成分系の空気中における飽和蒸気圧を示す線図であり、その理論式は、図4中、実線で示す如く、温度θ毎に右下がりで下側へ凸形状となる緩やかな曲線となるが、この理論式をその都度リアルタイムで求めることは、その演算が非常に複雑化することが避けられない。
[数2]
PW=γWχWPW o
[数3]
PH=γHχHPH o
[数4]
γW=exp{(1−χW)2/RT×[B0−B1(1−4χW)+B2(1−2χW)(1−6χW)]}
[数5]
γH=exp{χW 2/RT×[B0+B1(3−4χW)+B2(1−2χW)(5−6χW)]}
[数6]
χW+χH=1
[数7]
PW o=exp(AW−BW/(CW+θ))
[数8]
PH o=exp(AH−BH/(CH+θ))
但し、PW:水と過酸化水素の二成分下における水の飽和蒸気圧[Torr]
PH:水と過酸化水素の二成分下における過酸化水素の飽和蒸気圧[Torr]
γW:活量係数
γH:活量係数
χW:過酸化水素中の水の液相モル分率
χH:過酸化水素中の過酸化水素の液相モル分率
PW o:水成分のみが存在するときの水の飽和蒸気圧[Torr]
PH o:過酸化水素成分のみが存在するときの過酸化水素の飽和蒸気圧[Torr]
R:気体定数
T:絶対温度[K]
B0,B1,B2:定数
AW,BW,CW:定数
AH,BH,CH:定数
[数1]
φS=aθC+bθ
として求めるようになっている。その後は、前記第一の実施例と同じである。
[数1]
φS=aθC+bθ
として予め複数求めておく飽和蒸気圧線近似演算工程を備えていて、
前記温度計7で計測された温度θに基づき、過酸化水素と水の二成分系の空気中における飽和蒸気圧を示す線図を一次近似式
[数1]
φS=aθC+bθ
から選択して求めて、これで求められた一次近似式に基づき、計測される前記過酸化水素濃度Cから過酸化水素の結露を制御するための制御相対湿度φSを求める飽和相対湿度演算部18と、該飽和相対湿度演算部18から出力された制御相対湿度φSを設定値として、前記湿度計8で計測された相対湿度φが制御相対湿度φSより低い場合には除染を行うよう前記遮断弁6へ開指令を出力し、前記相対湿度φが制御相対湿度φS以上である場合には除染を停止するよう前記遮断弁6へ閉指令を出力する結露判定演算部17とを備えるものである。
2 噴霧ユニット
3 撹拌ファン
3a 吹出口
4 コンプレッサ
5 空気配管
6 遮断弁
7 温度計
8 湿度計
9 濃度計
10 除害装置
11 動力制御盤
15 結露演算器
16 飽和蒸気圧線近似演算部
17 結露判定演算部
18 飽和相対湿度演算部
aθ パラメータ
bθ パラメータ
C 過酸化水素濃度(除菌剤濃度)
Cs 所定の過酸化水素濃度(所定の除菌剤濃度)
CH1 過酸化水素濃度上限設定値(除菌剤濃度上限設定値)
CL0 過酸化水素濃度下限設定値(除菌剤濃度下限設定値)
t 時間
tset 設定時間
θ 温度
φ 相対湿度
φS 相対湿度又は制御相対湿度
Claims (16)
- 水を含む除菌剤をミスト噴霧して室内の除染を行う除染方法において、
室内の相対湿度φと、温度θと、除菌剤濃度Cとを計測する計測工程と、
相対湿度φと除菌剤濃度Cとの関係を示す空気中の除菌剤と水の二成分系の除菌剤飽和蒸気圧線に対し、所定の除菌剤濃度Csでの接線である直線を一次近似式として定義し、該一次近似式の傾きを示すパラメータaθと温度θとの関係式、及び、前記一次近似式の切片を示すパラメータbθと温度θとの関係式に、前記計測工程で計測された温度θを代入可能としているパラメータ演算工程と、
該パラメータ演算工程における前記関係式に、前記計測工程で計測された温度を代入してパラメータaθとパラメータbθとを求め、除菌剤と水の二成分系の空気中での温度θにおける飽和蒸気圧を示す線図を一次近似式
φS=aθC+bθ
として求める飽和蒸気圧線近似演算工程と、
該飽和蒸気圧線近似演算工程で求められた一次近似式に基づき、計測される前記除菌剤濃度Cから除菌剤の結露を制御するための制御相対湿度φSを求め、前記相対湿度φが制御相対湿度φSより低い場合には除染を行い、前記相対湿度φが制御相対湿度φS以上である場合には除染を停止する結露判定工程と
を有することを特徴とする除染方法。 - 水を含む除菌剤をミスト噴霧して室内の除染を行う除染方法において、
室内の相対湿度φと、温度θと、除菌剤濃度Cとを計測する計測工程と、
相対湿度φと除菌剤濃度Cとの関係を示す空気中の除菌剤と水の二成分系の除菌剤飽和蒸気圧線に対し、所定の除菌剤濃度Csでの接線である直線を一次近似式として定義し、該一次近似式の傾きを示すパラメータaθと温度θとの関係式、及び、前記一次近似式の切片を示すパラメータbθと温度θとの関係式に、前記計測工程で計測された温度θを代入可能にしているパラメータ演算工程と、
計測された前記除菌剤濃度Cに基づいて、前記所定の除菌剤濃度Csに代入する値を選定した後、前記一次近似式の傾きを示すパラメータaθと温度θとの関係式、及び、前記一次近似式の切片を示すパラメータbθと温度θとの関係式を演算設定する接線設定演算工程と、
前記接線設定演算工程により演算設定された、前記一次近似式の傾きを示すパラメータaθと温度θとの関係式、及び前記一次近似式の切片を示すパラメータbθと温度θとの関係式に、前記計測工程で計測された温度θを代入してパラメータaθとパラメータbθとを求め、除菌剤と水の二成分系の空気中での温度θにおける飽和蒸気圧を示す線図を一次近似式
φS=aθC+bθ
として求める飽和蒸気圧線近似演算工程と、
該飽和蒸気圧線近似演算工程で求められた一次近似式に基づき、計測される前記除菌剤濃度Cから除菌剤の結露を制御するための制御相対湿度φSを求め、計測される前記相対湿度φが前記制御相対湿度φSより低い場合には除染を行い、前記相対湿度φが前記制御相対湿度φS以上である場合には除染を停止する結露判定工程と
を有することを特徴とする除染方法。 - 水を含む除菌剤をミスト噴霧して室内の除染を行う除染方法において、
室内の相対湿度φと、温度θと、除菌剤濃度Cとを計測する計測工程と、
相対湿度φと除菌剤濃度Cとの関係を示す空気中の除菌剤と水の二成分系の除菌剤飽和蒸気圧線に対し、所定の除菌剤濃度Csでの接線である直線を一次近似式として定義し、該一次近似式の傾きを示すパラメータaθと温度θとの関係式、及び、前記一次近似式の切片を示すパラメータbθと温度θとの関係式に、前記計測工程で計測された温度θを代入可能にしているパラメータ演算工程と、
該パラメータ演算工程における前記関係式に、想定される温度θを5〜10個代入してパラメータaθとパラメータbθとを求めて、除菌剤と水の二成分系の空気中での温度θにおける飽和蒸気圧を示す線図を一次近似式
φS=aθC+bθ
として予め求めておき、前記計測工程で計測された温度θに基づき一次近似式を選択して求める飽和蒸気圧線近似演算工程と、
該飽和蒸気圧線近似演算工程で求められた一次近似式に基づき、計測される前記除菌剤濃度Cから除菌剤の結露を制御するための制御相対湿度φSを求め、計測される前記相対湿度φが前記制御相対湿度φSより低い場合には除染を行い、前記相対湿度φが前記制御相対湿度φS以上である場合には除染を停止する結露判定工程と
を有することを特徴とする除染方法。 - 前記請求項1乃至3の何れか一項に記載の除染方法において、
前記所定の除菌剤濃度Csは、150〜400ppmであることを特徴とする除染方法。 - 前記請求項1乃至4の何れか一項に記載の除染方法において、
前記温度θは、15〜30℃であることを特徴とする除染方法。 - 前記請求項1乃至5の何れか一項に記載の除染方法において、
前記結露判定工程で除染が行われる場合に、前記除菌剤濃度Cが除菌剤濃度下限設定値CL0より低い時には前記ミスト噴霧を行い、前記除菌剤濃度Cが除菌剤濃度上限設定値CH1以上となる時には前記ミスト噴霧を停止するミスト噴霧発停工程を有することを特徴とする除染方法。 - 前記請求項1乃至6の何れか一項に記載の除染方法において、
前記除菌剤は過酸化水素であることを特徴とする除染方法。 - 除染対象である室内の温度θを計測する温度計と、
前記室内の相対湿度φを計測する湿度計と、
前記室内の除菌剤濃度Cを計測する濃度計と、
前記噴霧ユニットへ噴霧用の圧縮空気を供給する空気配管途中に設けられた遮断弁と、
相対湿度φと除菌剤濃度Cとの関係を示す空気中の除菌剤と水の二成分系の除菌剤飽和蒸気圧線に対し、所定の除菌剤濃度Csでの接線である直線を一次近似式として定義し、該一次近似式の傾きを示すパラメータaθと温度θとの関係式、及び、前記一次近似式の切片を示すパラメータbθと温度θとの関係式に、前記温度計で計測された温度θを代入してパラメータaθとパラメータbθとを求め、除菌剤と水の二成分系の空気中における飽和蒸気圧を示す線図を一次近似式
φS=aθC+bθ
として求める飽和蒸気圧線近似演算部と、
該飽和蒸気圧線近似演算部で求められた一次近似式に基づき前記濃度計で計測された除菌剤濃度Cから除菌剤の結露を制御するための制御相対湿度φSを求める飽和相対湿度演算部と、
該飽和相対湿度演算部で求められた制御相対湿度φSを設定値として、前記湿度計で計測された相対湿度φが制御相対湿度φSより低い場合には除染を行うよう前記遮断弁へ開指令を出力し、前記相対湿度φが制御相対湿度φS以上である場合には除染を停止するよう前記遮断弁へ閉指令を出力する結露判定演算部と
を備えることを特徴とする除染装置。 - 除染対象である室内の温度θを計測する温度計と、
室内の相対湿度φを計測する湿度計と、
室内の除菌剤濃度Cを計測する濃度計と、
噴霧ユニットへ噴霧用の圧縮空気を供給する空気配管途中に設けられた遮断弁と、
相対湿度φと除菌剤濃度Cとの関係を示す空気中の除菌剤し水の二成分系の除菌剤飽和蒸気圧線に対し、所定の除菌剤濃度Csでの接線である直線を一次近似式として定義し、該一次近似式の傾きを示すパラメータaθと温度θとの関係式、及び、前記一次近似式の切片を示すパラメータbθと温度θとの関係式を記憶していて、前記濃度計で計測された前記除菌剤濃度Cに基づいて、前記所定の除菌剤濃度Csに代入する値を選定し、前記一次近似式の傾きを示すパラメータaθと温度θとの関係式、及び、前記一次近似式の切片を示すパラメータbθと温度θとの関係式を演算し接線を設定する演算を行った後、
前記温度計で計測された温度θを代入してパラメータaθとパラメータbθとを求め、除菌剤と水の二成分系の空気中での温度θにおける飽和蒸気圧を示す線図を一次近似式
φS=aθC+bθ
として求める飽和蒸気圧線近似演算部と、
該飽和蒸気圧線近似演算部で求められた一次近似式に基づき、前記濃度計で計測される前記除菌剤濃度Cから除菌剤の結露を制御するための制御相対湿度φSを求める飽和相対湿度演算部と、
該飽和相対湿度演算部で求められた制御相対湿度φSを設定値として、前記湿度計で計測された相対湿度φが制御相対湿度φSより低い場合には除染を行うよう前記遮断弁へ開指令を出力し、前記相対湿度φが制御相対湿度φS以上である場合には除染を停止するよう前記遮断弁へ閉指令を出力する結露判定演算部と、
を備えることを特徴とする除染装置。 - 除染対象である室内の温度θを計測する温度計と、
室内の相対湿度φを計測する湿度計と、
室内の除菌剤濃度Cを計測する濃度計と、
噴霧ユニットへ噴霧用の圧縮空気を供給する空気配管途中に設けられた遮断弁と、
相対湿度φと除菌剤濃度Cとの関係を示す空気中の除菌剤と水の二成分系の除菌剤飽和蒸気圧線に対し、所定の除菌剤濃度Csでの接線である直線を一次近似式として定義し、該一次近似式の傾きを示すパラメータaθと温度θとの関係式、及び、前記一次近似式の切片を示すパラメータbθと温度θとの関係式に、想定される温度θを5〜10個代入してパラメータaθとパラメータbθとを求めて、除菌剤と水の二成分系の空気中での温度θにおける飽和蒸気圧を示す線図を一次近似式
φS=aθC+bθ
として予め複数求めておき、前記温度計で計測された温度θに基づき一次近似式を選択して求める飽和蒸気圧線近似演算部と、
該飽和蒸気圧線近似演算部で求められた一次近似式に基づき、前記濃度計で計測される前記除菌剤濃度Cから除菌剤の結露を制御するための制御相対湿度φSを求める飽和相対湿度演算部と、
前記飽和相対湿度演算部から出力された制御相対湿度φSを設定値として、前記湿度計で計測された相対湿度φが制御相対湿度φSより低い場合には除染を行うよう前記遮断弁へ開指令を出力し、前記相対湿度φが制御相対湿度φS以上である場合には除染を停止するよう前記遮断弁へ閉指令を出力する結露判定演算部と、
を備えることを特徴とする除染装置。 - 前記請求項8乃至10の何れか一項に記載の除染装置において、
記所定の除菌剤濃度Csは、150〜400ppmであることを特徴とする除染装置。 - 前記請求項8乃至11の何れか一項に記載の除染装置において、
前記温度θは、15〜30℃であることを特徴とする除染装置。 - 前記請求項8乃至12の何れか一項に記載の除染装置において、
前記室内にミスト噴霧された除菌剤を無害化する除害装置を更に備え、
前記結露判定演算部から前記除害装置へ起動指令を出力することを特徴とする除染装置。 - 前記結露判定演算部は、前記湿度計で計測された相対湿度φが制御相対湿度φSより低く除染が行われる場合に、前記除菌剤濃度Cが除菌剤濃度下限設定値CL0より低い時には前記遮断弁へ開指令を出力してミスト噴霧を行い、前記除菌剤濃度Cが除菌剤濃度上限設定値CH1以上となる時には前記遮断弁へ閉指令を出力してミスト噴霧を停止することを特徴とする請求項8乃至13の何れか一項に記載の除染装置。
- 前記除菌剤は過酸化水素である請求項8乃至14の何れか一項に記載の除染装置。
- 除染対象である室内の壁面に沿って循環する撹拌気流が生じるよう、吹出口を前記循環する撹拌気流と同じ方向に向けて設置される複数の撹拌ファンと、
前記循環する撹拌気流の内側に、該循環する撹拌気流と同じ方向へ水を含む除菌剤をミスト噴霧する噴霧ユニットとを備え、
前記循環する撹拌気流により前記噴霧ユニットから噴霧されるミストを室内に行き渡らせることで、湿度の低い気流を前記室内の壁面に沿わせることにより、前記室内の壁面への除菌剤の結露を制御することを特徴とする請求項8乃至請求項15の何れか一項に記載の除染装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014095448A JP6325882B2 (ja) | 2014-05-02 | 2014-05-02 | 除染方法及び装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014095448A JP6325882B2 (ja) | 2014-05-02 | 2014-05-02 | 除染方法及び装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2015211772A JP2015211772A (ja) | 2015-11-26 |
JP6325882B2 true JP6325882B2 (ja) | 2018-05-16 |
Family
ID=54696452
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014095448A Active JP6325882B2 (ja) | 2014-05-02 | 2014-05-02 | 除染方法及び装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6325882B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6285060B1 (ja) * | 2017-01-31 | 2018-02-28 | Sdバイオシステム株式会社 | 除染装置及び当該除染装置を使用した除染方法 |
Family Cites Families (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0754736Y2 (ja) * | 1993-01-21 | 1995-12-18 | 高砂熱学工業株式会社 | オフイス空間の温度分布緩和装置 |
US5876664A (en) * | 1996-06-14 | 1999-03-02 | American Sterilizer Company | Continuous-operation, closed loop decontamination system and method |
WO2010103295A1 (en) * | 2009-03-12 | 2010-09-16 | Steritrox Limited | Sterilization and decontamination of an enclosed environment |
JP2011002166A (ja) * | 2009-06-19 | 2011-01-06 | Panasonic Corp | 空気清浄システム |
JP4977233B2 (ja) * | 2010-05-24 | 2012-07-18 | 株式会社大気社 | 除染管理方法、及び、その除染管理方法に用いる除染管理装置 |
JP5761733B2 (ja) * | 2010-08-05 | 2015-08-12 | 武田薬品工業株式会社 | 除染装置 |
JP5572105B2 (ja) * | 2011-01-26 | 2014-08-13 | 武田薬品工業株式会社 | 除染方法、及び、その除染方法の実施に使用する除染システム |
JP2013183854A (ja) * | 2012-03-07 | 2013-09-19 | Panasonic Corp | 脱臭装置及びこれを備えた収納装置 |
JP5862884B2 (ja) * | 2012-04-09 | 2016-02-16 | 株式会社大気社 | 除染方法、及び、除染システム |
JP6063694B2 (ja) * | 2012-10-03 | 2017-01-18 | 大和製罐株式会社 | 殺菌システム |
JP6374638B2 (ja) * | 2012-12-05 | 2018-08-15 | 野崎 淳夫 | 汚染物質処理装置及びこれを用いた空気清浄維持システム |
JP6052499B2 (ja) * | 2013-02-05 | 2016-12-27 | 株式会社大気社 | 除染方法及びその除染方法を実施する除染システム |
JP6306420B2 (ja) * | 2014-05-02 | 2018-04-04 | 三機工業株式会社 | 除染方法及び装置 |
-
2014
- 2014-05-02 JP JP2014095448A patent/JP6325882B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2015211772A (ja) | 2015-11-26 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6306420B2 (ja) | 除染方法及び装置 | |
JP6062040B2 (ja) | 冷ミスト汚染除去ユニットおよびその操作方法 | |
US9186428B2 (en) | Sterilization and decontamination of an enclosed environment | |
US6953549B2 (en) | System and method for determining concentration of sterilant | |
US7919059B2 (en) | Vaporized hydrogen peroxide decontamination system with concentration adjustment mode | |
KR102468215B1 (ko) | 오염 제거 장치 및 당해 오염 제거 장치를 사용한 오염 제거 방법 | |
JP5793582B2 (ja) | サブサイクルベースのエアロゾル消毒システム | |
JP2008517650A (ja) | 蒸気過酸化水素濃度の検出装置 | |
GB2468520A (en) | Sterilisation of a environment with ozone and increased humidity | |
JP2014501147A (ja) | 生物学的除染サイクルの制御における改善 | |
JP6325882B2 (ja) | 除染方法及び装置 | |
US20090087921A1 (en) | Vaporized hydrogen peroxide concentration detector | |
JPH11146905A (ja) | オゾン燻蒸殺菌装置 | |
JP2020018574A (ja) | 局所清浄化装置の解析方法、局所清浄化装置の除染方法および局所清浄化装置 | |
WO2023126362A1 (en) | Device, system and method for disinfecting a room | |
GB2468641A (en) | Sterilisation of a environment with ozone and increased humidity |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20170125 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20171018 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20180109 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20180307 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20180327 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20180413 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6325882 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |