JP2015211772A - 除染方法及び装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】室内1に、水を含む除菌剤をミスト噴霧する噴霧ユニット2と、ミストを室内に行き渡らせる撹拌ファン3とを配設し、室内温度θに基づきパラメータaθとパラメータbθとを求め、除菌剤と水の二成分系の空気中における飽和蒸気圧を示す線図を一次近似式φS=aθC+bθより求め、一次近似式に基づき除菌剤濃度Cから結露が生じる相対湿度φSを求め、それに基づいて制御相対湿度φSを求めて、湿度計8で計測された相対湿度φが制御相対湿度φSより低い場合には除染を行うよう遮断弁6へ開指令を出力し、相対湿度φが制御相対湿度φS以上である場合には除染を停止するよう遮断弁6へ閉指令を出力し且つ除害装置10へ起動指令を出力する動力制御盤11を設ける。
【選択図】図1
Description
室内の相対湿度φと、温度θと、除菌剤濃度Cとを計測する計測工程と、
相対湿度φと除菌剤濃度Cとの関係を示す空気中の除菌剤と水の二成分系の除菌剤飽和蒸気圧線に対し、所定の除菌剤濃度Csでの接線である直線を一次近似式として定義し、該一次近似式の傾きを示すパラメータaθと温度θとの関係式、及び、前記一次近似式の切片を示すパラメータbθと温度θとの関係式に、前記計測工程で計測された温度θを代入可能としているパラメータ演算工程と、
該パラメータ演算工程における前記関係式に、前記計測工程で計測された温度を代入してパラメータaθとパラメータbθとを求め、除菌剤と水の二成分系の空気中での温度θにおける飽和蒸気圧を示す線図を一次近似式
φS=aθC+bθ
として求める飽和蒸気圧線近似演算工程と、
該飽和蒸気圧線近似演算工程で求められた一次近似式に基づき、計測される前記除菌剤濃度Cから除菌剤の結露を制御するための制御相対湿度φSを求め、前記相対湿度φが制御相対湿度φSより低い場合には除染を行い、前記相対湿度φが制御相対湿度φS以上である場合には除染を停止する結露判定工程と
を有することを特徴とする除染方法にかかるものである。
室内の相対湿度φと、温度θと、除菌剤濃度Cとを計測する計測工程と、
相対湿度φと除菌剤濃度Cとの関係を示す空気中の除菌剤と水の二成分系の除菌剤飽和蒸気圧線に対し、所定の除菌剤濃度Csでの接線である直線を一次近似式として定義し、該一次近似式の傾きを示すパラメータaθと温度θとの関係式、及び、前記一次近似式の切片を示すパラメータbθと温度θとの関係式に、前記計測工程で計測された温度θを代入可能にしているパラメータ演算工程と、
計測された前記除菌剤濃度Cに基づいて、前記所定の除菌剤濃度Csに代入する値を選定した後、前記一次近似式の傾きを示すパラメータaθと温度θとの関係式、及び、前記一次近似式の切片を示すパラメータbθと温度θとの関係式を演算設定する接線設定演算工程と、
前記接線設定演算工程により演算設定された、前記一次近似式の傾きを示すパラメータaθと温度θとの関係式、及び前記一次近似式の切片を示すパラメータbθと温度θとの関係式に、前記計測工程で計測された温度θを代入してパラメータaθとパラメータbθとを求め、除菌剤と水の二成分系の空気中での温度θにおける飽和蒸気圧を示す線図を一次近似式
φS=aθC+bθ
として求める飽和蒸気圧線近似演算工程と、
該飽和蒸気圧線近似演算工程で求められた一次近似式に基づき、計測される前記除菌剤濃度Cから除菌剤の結露を制御するための制御相対湿度φSを求め、計測される前記相対湿度φが前記制御相対湿度φSより低い場合には除染を行い、前記相対湿度φが前記制御相対湿度φS以上である場合には除染を停止する結露判定工程と
を有することを特徴とする除染方法にかかるものである。
室内の相対湿度φと、温度θと、除菌剤濃度Cとを計測する計測工程と、
相対湿度φと除菌剤濃度Cとの関係を示す空気中の除菌剤と水の二成分系の除菌剤飽和蒸気圧線に対し、所定の除菌剤濃度Csでの接線である直線を一次近似式として定義し、該一次近似式の傾きを示すパラメータaθと温度θとの関係式、及び、前記一次近似式の切片を示すパラメータbθと温度θとの関係式に、前記計測工程で計測された温度θを代入可能にしているパラメータ演算工程と、
該パラメータ演算工程における前記関係式に、想定される温度θを5〜10個代入してパラメータaθとパラメータbθとを求めて、除菌剤と水の二成分系の空気中での温度θにおける飽和蒸気圧を示す線図を一次近似式
φS=aθC+bθ
として予め求めておき、前記計測工程で計測された温度θに基づき一次近似式を選択して求める飽和蒸気圧線近似演算工程と、
該飽和蒸気圧線近似演算工程で求められた一次近似式に基づき、計測される前記除菌剤濃度Cから除菌剤の結露を制御するための制御相対湿度φSを求め、計測される前記相対湿度φが前記制御相対湿度φSより低い場合には除染を行い、前記相対湿度φが前記制御相対湿度φS以上である場合には除染を停止する結露判定工程と
を有することを特徴とする除染方法にかかるものである。
前記所定の除菌剤濃度Csは、150〜400ppmであることが好ましい。
前記温度θは、15〜30℃であることが好ましい。
前記循環する撹拌気流の内側に、該循環する撹拌気流と同じ方向へ水を含む除菌剤をミスト噴霧する噴霧ユニットとを備え、
前記循環する撹拌気流により前記噴霧ユニットから噴霧されるミストを室内に行き渡らせることで、湿度の低い気流を前記室内の壁面に沿わせることにより、前記室内の壁面への除菌剤の結露を制御することを特徴とする除染装置にかかるものである。
前記室内の相対湿度φを計測する湿度計と、
前記室内の除菌剤濃度Cを計測する濃度計と、
前記噴霧ユニットへ噴霧用の圧縮空気を供給する空気配管途中に設けられた遮断弁と、
相対湿度φと除菌剤濃度Cとの関係を示す空気中の除菌剤と水の二成分系の除菌剤飽和蒸気圧線に対し、所定の除菌剤濃度Csでの接線である直線を一次近似式として定義し、該一次近似式の傾きを示すパラメータaθと温度θとの関係式、及び、前記一次近似式の切片を示すパラメータbθと温度θとの関係式に、前記温度計で計測された温度θを代入してパラメータaθとパラメータbθとを求め、除菌剤と水の二成分系の空気中における飽和蒸気圧を示す線図を一次近似式
φS=aθC+bθ
として求める飽和蒸気圧線近似演算部と、
該飽和蒸気圧線近似演算部で求められた一次近似式に基づき前記濃度計で計測された除菌剤濃度Cから除菌剤の結露を制御するための制御相対湿度φSを求める飽和相対湿度演算部と、
該飽和相対湿度演算部で求められた制御相対湿度φSを設定値として、前記湿度計で計測された相対湿度φが制御相対湿度φSより低い場合には除染を行うよう前記遮断弁へ開指令を出力し、前記相対湿度φが制御相対湿度φS以上である場合には除染を停止するよう前記遮断弁へ閉指令を出力する結露判定演算部と
を備えることを特徴とする除染装置にかかるものである。
室内の相対湿度φを計測する湿度計と、
室内の除菌剤濃度Cを計測する濃度計と、
噴霧ユニットへ噴霧用の圧縮空気を供給する空気配管途中に設けられた遮断弁と、
相対湿度φと除菌剤濃度Cとの関係を示す空気中の除菌剤し水の二成分系の除菌剤飽和蒸気圧線に対し、所定の除菌剤濃度Csでの接線である直線を一次近似式として定義し、該一次近似式の傾きを示すパラメータaθと温度θとの関係式、及び、前記一次近似式の切片を示すパラメータbθと温度θとの関係式を記憶していて、前記濃度計で計測された前記除菌剤濃度Cに基づいて、前記所定の除菌剤濃度Csに代入する値を選定し、前記一次近似式の傾きを示すパラメータaθと温度θとの関係式、及び、前記一次近似式の切片を示すパラメータbθと温度θとの関係式を演算し接線を設定する演算を行った後、
前記温度計で計測された温度θを代入してパラメータaθとパラメータbθとを求め、除菌剤と水の二成分系の空気中での温度θにおける飽和蒸気圧を示す線図を一次近似式
φS=aθC+bθ
として求める飽和蒸気圧線近似演算部と、
該飽和蒸気圧線近似演算部で求められた一次近似式に基づき、前記濃度計で計測される前記除菌剤濃度Cから除菌剤の結露を制御するための制御相対湿度φSを求める飽和相対湿度演算部と、
該飽和相対湿度演算部で求められた制御相対湿度φSを設定値として、前記湿度計で計測された相対湿度φが制御相対湿度φSより低い場合には除染を行うよう前記遮断弁へ開指令を出力し、前記相対湿度φが制御相対湿度φS以上である場合には除染を停止するよう前記遮断弁へ閉指令を出力する結露判定演算部と、
を備えることを特徴とする除染装置にかかるものである。
室内の相対湿度φを計測する湿度計と、
室内の除菌剤濃度Cを計測する濃度計と、
噴霧ユニットへ噴霧用の圧縮空気を供給する空気配管途中に設けられた遮断弁と、
相対湿度φと除菌剤濃度Cとの関係を示す空気中の除菌剤と水の二成分系の除菌剤飽和蒸気圧線に対し、所定の除菌剤濃度Csでの接線である直線を一次近似式として定義し、該一次近似式の傾きを示すパラメータaθと温度θとの関係式、及び、前記一次近似式の切片を示すパラメータbθと温度θとの関係式に、想定される温度θを5〜10個代入してパラメータaθとパラメータbθとを求めて、除菌剤と水の二成分系の空気中での温度θにおける飽和蒸気圧を示す線図を一次近似式
φS=aθC+bθ
として予め複数求めておき、前記温度計で計測された温度θに基づき一次近似式を選択して求める飽和蒸気圧線近似演算部と、
該飽和蒸気圧線近似演算部で求められた一次近似式に基づき、前記濃度計で計測される前記除菌剤濃度Cから除菌剤の結露を制御するための制御相対湿度φSを求める飽和相対湿度演算部と、
前記飽和相対湿度演算部から出力された制御相対湿度φSを設定値として、前記湿度計で計測された相対湿度φが制御相対湿度φSより低い場合には除染を行うよう前記遮断弁へ開指令を出力し、前記相対湿度φが制御相対湿度φS以上である場合には除染を停止するよう前記遮断弁へ閉指令を出力する結露判定演算部と、
を備えることを特徴とする除染装置にかかるものである。
記所定の除菌剤濃度Csは、150〜400ppmであることが好ましい。
前記温度θは、15〜30℃であることが好ましい。
前記室内にミスト噴霧された除菌剤を無害化する除害装置を更に備え、
前記結露判定演算部から前記除害装置へ起動指令を出力することが好ましい。
[数1]
φS=aθC+bθ
として求めるようになっている。ここで、図4は過酸化水素と水の二成分系の空気中における飽和蒸気圧を示す線図であり、その理論式は、図4中、実線で示す如く、温度θ毎に右下がりで下側へ凸形状となる緩やかな曲線となるが、この理論式をその都度リアルタイムで求めることは、その演算が非常に複雑化することが避けられない。
[数2]
PW=γWχWPW o
[数3]
PH=γHχHPH o
[数4]
γW=exp{(1−χW)2/RT×[B0−B1(1−4χW)+B2(1−2χW)(1−6χW)]}
[数5]
γH=exp{χW 2/RT×[B0+B1(3−4χW)+B2(1−2χW)(5−6χW)]}
[数6]
χW+χH=1
[数7]
PW o=exp(AW−BW/(CW+θ))
[数8]
PH o=exp(AH−BH/(CH+θ))
但し、PW:水と過酸化水素の二成分下における水の飽和蒸気圧[Torr]
PH:水と過酸化水素の二成分下における過酸化水素の飽和蒸気圧[Torr]
γW:活量係数
γH:活量係数
χW:過酸化水素中の水の液相モル分率
χH:過酸化水素中の過酸化水素の液相モル分率
PW o:水成分のみが存在するときの水の飽和蒸気圧[Torr]
PH o:過酸化水素成分のみが存在するときの過酸化水素の飽和蒸気圧[Torr]
R:気体定数
T:絶対温度[K]
B0,B1,B2:定数
AW,BW,CW:定数
AH,BH,CH:定数
[数1]
φS=aθC+bθ
として求めるようになっている。その後は、前記第一の実施例と同じである。
[数1]
φS=aθC+bθ
として予め複数求めておく飽和蒸気圧線近似演算工程を備えていて、
前記温度計7で計測された温度θに基づき、過酸化水素と水の二成分系の空気中における飽和蒸気圧を示す線図を一次近似式
[数1]
φS=aθC+bθ
から選択して求めて、これで求められた一次近似式に基づき、計測される前記過酸化水素濃度Cから過酸化水素の結露を制御するための制御相対湿度φSを求める飽和相対湿度演算部18と、該飽和相対湿度演算部18から出力された制御相対湿度φSを設定値として、前記湿度計8で計測された相対湿度φが制御相対湿度φSより低い場合には除染を行うよう前記遮断弁6へ開指令を出力し、前記相対湿度φが制御相対湿度φS以上である場合には除染を停止するよう前記遮断弁6へ閉指令を出力する結露判定演算部17とを備えるものである。
2 噴霧ユニット
3 撹拌ファン
3a 吹出口
4 コンプレッサ
5 空気配管
6 遮断弁
7 温度計
8 湿度計
9 濃度計
10 除害装置
11 動力制御盤
15 結露演算器
16 飽和蒸気圧線近似演算部
17 結露判定演算部
18 飽和相対湿度演算部
aθ パラメータ
bθ パラメータ
C 過酸化水素濃度(除菌剤濃度)
Cs 所定の過酸化水素濃度(所定の除菌剤濃度)
CH1 過酸化水素濃度上限設定値(除菌剤濃度上限設定値)
CL0 過酸化水素濃度下限設定値(除菌剤濃度下限設定値)
t 時間
tset 設定時間
θ 温度
φ 相対湿度
φS 相対湿度又は制御相対湿度
Claims (16)
- 水を含む除菌剤をミスト噴霧して室内の除染を行う除染方法において、
室内の相対湿度φと、温度θと、除菌剤濃度Cとを計測する計測工程と、
相対湿度φと除菌剤濃度Cとの関係を示す空気中の除菌剤と水の二成分系の除菌剤飽和蒸気圧線に対し、所定の除菌剤濃度Csでの接線である直線を一次近似式として定義し、該一次近似式の傾きを示すパラメータaθと温度θとの関係式、及び、前記一次近似式の切片を示すパラメータbθと温度θとの関係式に、前記計測工程で計測された温度θを代入可能としているパラメータ演算工程と、
該パラメータ演算工程における前記関係式に、前記計測工程で計測された温度を代入してパラメータaθとパラメータbθとを求め、除菌剤と水の二成分系の空気中での温度θにおける飽和蒸気圧を示す線図を一次近似式
φS=aθC+bθ
として求める飽和蒸気圧線近似演算工程と、
該飽和蒸気圧線近似演算工程で求められた一次近似式に基づき、計測される前記除菌剤濃度Cから除菌剤の結露を制御するための制御相対湿度φSを求め、前記相対湿度φが制御相対湿度φSより低い場合には除染を行い、前記相対湿度φが制御相対湿度φS以上である場合には除染を停止する結露判定工程と
を有することを特徴とする除染方法。 - 水を含む除菌剤をミスト噴霧して室内の除染を行う除染方法において、
室内の相対湿度φと、温度θと、除菌剤濃度Cとを計測する計測工程と、
相対湿度φと除菌剤濃度Cとの関係を示す空気中の除菌剤と水の二成分系の除菌剤飽和蒸気圧線に対し、所定の除菌剤濃度Csでの接線である直線を一次近似式として定義し、該一次近似式の傾きを示すパラメータaθと温度θとの関係式、及び、前記一次近似式の切片を示すパラメータbθと温度θとの関係式に、前記計測工程で計測された温度θを代入可能にしているパラメータ演算工程と、
計測された前記除菌剤濃度Cに基づいて、前記所定の除菌剤濃度Csに代入する値を選定した後、前記一次近似式の傾きを示すパラメータaθと温度θとの関係式、及び、前記一次近似式の切片を示すパラメータbθと温度θとの関係式を演算設定する接線設定演算工程と、
前記接線設定演算工程により演算設定された、前記一次近似式の傾きを示すパラメータaθと温度θとの関係式、及び前記一次近似式の切片を示すパラメータbθと温度θとの関係式に、前記計測工程で計測された温度θを代入してパラメータaθとパラメータbθとを求め、除菌剤と水の二成分系の空気中での温度θにおける飽和蒸気圧を示す線図を一次近似式
φS=aθC+bθ
として求める飽和蒸気圧線近似演算工程と、
該飽和蒸気圧線近似演算工程で求められた一次近似式に基づき、計測される前記除菌剤濃度Cから除菌剤の結露を制御するための制御相対湿度φSを求め、計測される前記相対湿度φが前記制御相対湿度φSより低い場合には除染を行い、前記相対湿度φが前記制御相対湿度φS以上である場合には除染を停止する結露判定工程と
を有することを特徴とする除染方法。 - 水を含む除菌剤をミスト噴霧して室内の除染を行う除染方法において、
室内の相対湿度φと、温度θと、除菌剤濃度Cとを計測する計測工程と、
相対湿度φと除菌剤濃度Cとの関係を示す空気中の除菌剤と水の二成分系の除菌剤飽和蒸気圧線に対し、所定の除菌剤濃度Csでの接線である直線を一次近似式として定義し、該一次近似式の傾きを示すパラメータaθと温度θとの関係式、及び、前記一次近似式の切片を示すパラメータbθと温度θとの関係式に、前記計測工程で計測された温度θを代入可能にしているパラメータ演算工程と、
該パラメータ演算工程における前記関係式に、想定される温度θを5〜10個代入してパラメータaθとパラメータbθとを求めて、除菌剤と水の二成分系の空気中での温度θにおける飽和蒸気圧を示す線図を一次近似式
φS=aθC+bθ
として予め求めておき、前記計測工程で計測された温度θに基づき一次近似式を選択して求める飽和蒸気圧線近似演算工程と、
該飽和蒸気圧線近似演算工程で求められた一次近似式に基づき、計測される前記除菌剤濃度Cから除菌剤の結露を制御するための制御相対湿度φSを求め、計測される前記相対湿度φが前記制御相対湿度φSより低い場合には除染を行い、前記相対湿度φが前記制御相対湿度φS以上である場合には除染を停止する結露判定工程と
を有することを特徴とする除染方法。 - 前記請求項1乃至3の何れか一項に記載の除染方法において、
前記所定の除菌剤濃度Csは、150〜400ppmであることを特徴とする除染方法。 - 前記請求項1乃至4の何れか一項に記載の除染方法において、
前記温度θは、15〜30℃であることを特徴とする除染方法。 - 前記請求項1乃至5の何れか一項に記載の除染方法において、
前記結露判定工程で除染が行われる場合に、前記除菌剤濃度Cが除菌剤濃度下限設定値CL0より低い時には前記ミスト噴霧を行い、前記除菌剤濃度Cが除菌剤濃度上限設定値CH1以上となる時には前記ミスト噴霧を停止するミスト噴霧発停工程を有することを特徴とする除染方法。 - 前記請求項1乃至6の何れか一項に記載の除染方法において、
前記除菌剤は過酸化水素であることを特徴とする除染方法。 - 除染対象である室内の壁面に沿って循環する撹拌気流が生じるよう、吹出口を前記循環する撹拌気流と同じ方向に向けて設置される複数の撹拌ファンと、
前記循環する撹拌気流の内側に、該循環する撹拌気流と同じ方向へ水を含む除菌剤をミスト噴霧する噴霧ユニットとを備え、
前記循環する撹拌気流により前記噴霧ユニットから噴霧されるミストを室内に行き渡らせることで、湿度の低い気流を前記室内の壁面に沿わせることにより、前記室内の壁面への除菌剤の結露を制御することを特徴とする除染装置。 - 前記室内の温度θを計測する温度計と、
前記室内の相対湿度φを計測する湿度計と、
前記室内の除菌剤濃度Cを計測する濃度計と、
前記噴霧ユニットへ噴霧用の圧縮空気を供給する空気配管途中に設けられた遮断弁と、
相対湿度φと除菌剤濃度Cとの関係を示す空気中の除菌剤と水の二成分系の除菌剤飽和蒸気圧線に対し、所定の除菌剤濃度Csでの接線である直線を一次近似式として定義し、該一次近似式の傾きを示すパラメータaθと温度θとの関係式、及び、前記一次近似式の切片を示すパラメータbθと温度θとの関係式に、前記温度計で計測された温度θを代入してパラメータaθとパラメータbθとを求め、除菌剤と水の二成分系の空気中における飽和蒸気圧を示す線図を一次近似式
φS=aθC+bθ
として求める飽和蒸気圧線近似演算部と、
該飽和蒸気圧線近似演算部で求められた一次近似式に基づき前記濃度計で計測された除菌剤濃度Cから除菌剤の結露を制御するための制御相対湿度φSを求める飽和相対湿度演算部と、
該飽和相対湿度演算部で求められた制御相対湿度φSを設定値として、前記湿度計で計測された相対湿度φが制御相対湿度φSより低い場合には除染を行うよう前記遮断弁へ開指令を出力し、前記相対湿度φが制御相対湿度φS以上である場合には除染を停止するよう前記遮断弁へ閉指令を出力する結露判定演算部と
を備えることを特徴とする除染装置。 - 室内の温度θを計測する温度計と、
室内の相対湿度φを計測する湿度計と、
室内の除菌剤濃度Cを計測する濃度計と、
噴霧ユニットへ噴霧用の圧縮空気を供給する空気配管途中に設けられた遮断弁と、
相対湿度φと除菌剤濃度Cとの関係を示す空気中の除菌剤し水の二成分系の除菌剤飽和蒸気圧線に対し、所定の除菌剤濃度Csでの接線である直線を一次近似式として定義し、該一次近似式の傾きを示すパラメータaθと温度θとの関係式、及び、前記一次近似式の切片を示すパラメータbθと温度θとの関係式を記憶していて、前記濃度計で計測された前記除菌剤濃度Cに基づいて、前記所定の除菌剤濃度Csに代入する値を選定し、前記一次近似式の傾きを示すパラメータaθと温度θとの関係式、及び、前記一次近似式の切片を示すパラメータbθと温度θとの関係式を演算し接線を設定する演算を行った後、
前記温度計で計測された温度θを代入してパラメータaθとパラメータbθとを求め、除菌剤と水の二成分系の空気中での温度θにおける飽和蒸気圧を示す線図を一次近似式
φS=aθC+bθ
として求める飽和蒸気圧線近似演算部と、
該飽和蒸気圧線近似演算部で求められた一次近似式に基づき、前記濃度計で計測される前記除菌剤濃度Cから除菌剤の結露を制御するための制御相対湿度φSを求める飽和相対湿度演算部と、
該飽和相対湿度演算部で求められた制御相対湿度φSを設定値として、前記湿度計で計測された相対湿度φが制御相対湿度φSより低い場合には除染を行うよう前記遮断弁へ開指令を出力し、前記相対湿度φが制御相対湿度φS以上である場合には除染を停止するよう前記遮断弁へ閉指令を出力する結露判定演算部と、
を備えることを特徴とする除染装置。 - 室内の温度θを計測する温度計と、
室内の相対湿度φを計測する湿度計と、
室内の除菌剤濃度Cを計測する濃度計と、
噴霧ユニットへ噴霧用の圧縮空気を供給する空気配管途中に設けられた遮断弁と、
相対湿度φと除菌剤濃度Cとの関係を示す空気中の除菌剤と水の二成分系の除菌剤飽和蒸気圧線に対し、所定の除菌剤濃度Csでの接線である直線を一次近似式として定義し、該一次近似式の傾きを示すパラメータaθと温度θとの関係式、及び、前記一次近似式の切片を示すパラメータbθと温度θとの関係式に、想定される温度θを5〜10個代入してパラメータaθとパラメータbθとを求めて、除菌剤と水の二成分系の空気中での温度θにおける飽和蒸気圧を示す線図を一次近似式
φS=aθC+bθ
として予め複数求めておき、前記温度計で計測された温度θに基づき一次近似式を選択して求める飽和蒸気圧線近似演算部と、
該飽和蒸気圧線近似演算部で求められた一次近似式に基づき、前記濃度計で計測される前記除菌剤濃度Cから除菌剤の結露を制御するための制御相対湿度φSを求める飽和相対湿度演算部と、
前記飽和相対湿度演算部から出力された制御相対湿度φSを設定値として、前記湿度計で計測された相対湿度φが制御相対湿度φSより低い場合には除染を行うよう前記遮断弁へ開指令を出力し、前記相対湿度φが制御相対湿度φS以上である場合には除染を停止するよう前記遮断弁へ閉指令を出力する結露判定演算部と、
を備えることを特徴とする除染装置。 - 前記請求項9乃至11の何れか一項に記載の除染装置において、
記所定の除菌剤濃度Csは、150〜400ppmであることを特徴とする除染装置。 - 前記請求項9乃至12の何れか一項に記載の除染装置において、
前記温度θは、15〜30℃であることを特徴とする除染装置。 - 前記請求項9乃至13の何れか一項に記載の除染装置において、
前記室内にミスト噴霧された除菌剤を無害化する除害装置を更に備え、
前記結露判定演算部から前記除害装置へ起動指令を出力することを特徴とする除染装置。 - 前記結露判定演算部は、前記湿度計で計測された相対湿度φが制御相対湿度φSより低く除染が行われる場合に、前記除菌剤濃度Cが除菌剤濃度下限設定値CL0より低い時には前記遮断弁へ開指令を出力してミスト噴霧を行い、前記除菌剤濃度Cが除菌剤濃度上限設定値CH1以上となる時には前記遮断弁へ閉指令を出力してミスト噴霧を停止することを特徴とする請求項9乃至14の何れか一項に記載の除染装置。
- 前記除菌剤は過酸化水素である請求項9乃至15の何れか一項に記載の除染装置。
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