JP6322718B2 - リソグラフィ装置、リソグラフィ装置においてオブジェクトを位置決めするための方法、及びデバイス製造方法 - Google Patents
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Description
本出願は、2014年4月16日出願の欧州特許出願第14164988.9号の利益を主張し、参照によりその全体が本明細書に組み込まれる。
第1オブジェクトと、
第1オブジェクトに対して移動方向に移動可能な第2オブジェクトと、
第1オブジェクトと第2オブジェクトとの間に配置構成されたケーブル及び/又は配管のセットと、
ケーブル及び/又は配管のセットを誘導するための誘導ドラムであって、移動方向に対して垂直に延在する回転軸を中心に回転可能な誘導ドラムと、
第1オブジェクトに対する第2オブジェクトの動きによって生じるケーブル及び/又は配管のセットの動きに追従するように、誘導ドラムを位置決めするためのドラム位置決めデバイスと、
誘導ドラムの動きを移動方向に誘導するための誘導構造と、を備えるリソグラフィ装置が提供される。
a)第1オブジェクトと第2オブジェクトとの間に配置構成されたケーブル及び/又は配管のセットを提供するステップと、
b)ケーブル及び/又は配管のセットを誘導するための誘導ドラムを提供するステップであって、誘導ドラムは、移動方向に対して垂直に延在する回転軸を中心に回転可能である、提供するステップと、
c)誘導ドラムの動きを移動方向に誘導するための誘導構造を提供するステップと、
d)第1オブジェクトに対して第2オブジェクトを位置決めするステップと、
e)第1オブジェクトに対する第2オブジェクトの動きによって生じるケーブル及び/又は配管のセットの動きに追従するように、誘導ドラムを位置決めするステップと、を含む、リソグラフィ装置において第1オブジェクトに対して移動可能な第2オブジェクトを位置決めするための方法が提供される。
放射ビームBを調節するように構成された照明システム(イルミネータ)ILと、
パターニングデバイス(例えばマスク)MAを支持するように構成され、特定のパラメータに従ってパターニングデバイスMAを正確に位置決めするように構成された第1ポジショナPMに接続された支持構造(例えばマスクテーブル)MTと、
基板(例えばレジストコートウェーハ)Wを保持するように構成され、特定のパラメータに従って基板Wを正確に位置決めするように構成された第2ポジショナPWに接続された基板テーブル(例えばウェーハテーブル)WTa又はWTbと、
パターニングデバイスMAによって放射ビームBに与えられたパターンを基板Wのターゲット部分C(例えば1つ以上のダイを含む)に投影するように構成された投影システムPSと、を備える。
第1モードはステップモードである。ステップモードでは、放射ビームに付与されたパターン全体が1回でターゲット部分Cに投影される間、支持構造MT及び基板テーブルWTa/WTbは本質的に定常に維持される(すなわち単一静的露光)。次いで、基板テーブルWTa/WTbがX及び/又はY方向にシフトされるため、異なるターゲット部分Cを露光することができる。ステップモードでは、露光フィールドの最大サイズが単一静的露光で結像されるターゲット部分Cのサイズを限定する。
第2モードはスキャンモードである。スキャンモードでは、放射ビームに付与されたパターンがターゲット部分Cに投影される間、支持構造MT及び基板テーブルWTa/WTbは同期的にスキャンされる(すなわち単一動的露光)。支持構造MTに対する基板テーブルWTa/WTbの速度及び方向は、投影システムPSの拡大(縮小)及び像反転特徴によって決定され得る。スキャンモードでは、露光フィールドの最大サイズが単一動的露光におけるターゲット部分Cの幅(非スキャニング方向)を限定する一方で、スキャニングモーションの長さがターゲット部分Cの高さ(スキャニング方向)を決定する。
第3のモードでは、支持構造MTはプログラマブルパターニングデバイスMAを保持しながら本質的に定常に維持され、放射ビームに付与されたパターンがターゲット部分Cに投影される間、基板テーブルWTa/WTbは移動又はスキャンされる。このモードでは、一般にパルス放射源が使用され、プログラマブルパターニングデバイスMAは、基板テーブルWTa/WTbの各動きの後、又はスキャン中の連続する放射パルス間に、必要に応じて更新される。この動作モードは、前述のようなタイプのプログラマブルミラーアレイなどのプログラマブルパターニングデバイスMAを利用するマスクレスリソグラフィに容易に適用可能である。
本明細書では「固定世界」として機能する、第1オブジェクトOB1、
第1オブジェクトOB1に対して移動方向MDに移動可能な第2オブジェクトOB2、例えば図1に示される基板テーブルWT又はマスクテーブルMT、
第1オブジェクトOB1と第2オブジェクトOB2の間に配置構成された、本実施形態ではケーブル及び誘導キャリアCTCによって保持される、ケーブル及び/又は配管のセットCTであって、このケーブル及び/又は配管のセットCTは、第2オブジェクトOB2に電力及び/又は冷却流体を提供すること、並びに/或いは、駆動信号及び/又は測定信号を交換することが可能である、
ケーブル及び配管キャリアCTCを誘導するための誘導ドラムGDであって、これによりケーブル及び/又は配管のセットCTを誘導し、誘導ドラムは、誘導ドラムが回転する(矢印RDで示される)際に中心とすることが可能な移動方向に対して垂直に延在する回転軸RAを定義する車軸AXを含み、この場合、車軸及び回転軸は図の面に対して垂直に延在する、
第1オブジェクトOB1に対する第2オブジェクトOB2の動きによって生じるケーブル及び配管キャリアCTCの動きに追従するように、誘導ドラムGDを位置決めするためのスプリングSPの形のドラム位置決めデバイス、及び、
誘導ドラムGDの動きを本実施形態では車軸AXを誘導することによって、移動方向MDに誘導するための誘導構造GS、を備える。
Claims (13)
- 第1オブジェクトと、
前記第1オブジェクトに対して移動方向に移動可能な第2オブジェクトと、
前記第1オブジェクトと前記第2オブジェクトとの間に配置されたケーブル及び/又は配管のセットと、
前記ケーブル及び/又は配管のセットを誘導するための誘導ドラムであって、前記移動方向に対して垂直に延在する回転軸を中心に回転可能であるとともに前記移動方向に移動可能な誘導ドラムと、
前記第1オブジェクトに対する前記第2オブジェクトの動きによって生じる前記ケーブル及び/又は配管のセットの動きに追従するように、前記誘導ドラムの回転及び前記移動方向における移動を制御するためのドラム位置決めデバイスと、
前記誘導ドラムの前記移動方向の動きを誘導するための誘導構造と、を備えるリソグラフィ装置。 - 前記ケーブル及び/又は配管のセットを保持するためのケーブル及び配管キャリアを更に備え、前記誘導ドラムは、前記ケーブル及び配管キャリアを誘導することによって前記ケーブル及び/又は配管のセットを誘導する、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記ドラム位置決めデバイスはドラム支持及びドラム作動システムを備え、前記ドラム支持は、前記誘導構造によって誘導され、前記誘導ドラムを支持し、前記ドラム作動システムは前記ドラム支持を位置決めする、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記ドラム位置決めデバイスは、前記誘導ドラムをその回転軸を中心に回転させるためのモータを備える、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記第2オブジェクトの測定された位置を取得するために前記第2オブジェクトの位置を測定するための測定システム、前記第2オブジェクトを移動させるためのオブジェクト作動システム、及び、前記第2オブジェクトの前記測定された位置に基づいて前記オブジェクト作動システムを駆動するためのオブジェクト制御システムを更に備える、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記ドラム位置決めデバイスはドラム支持及びドラム作動システムを備え、前記ドラム支持は、前記誘導構造によって誘導され、前記誘導ドラムを支持し、前記ドラム作動システムは前記ドラム支持を位置決めし、前記ドラム位置決めデバイスは、前記第2オブジェクトの前記測定された位置に基づいて前記ドラム作動システムを駆動するためのドラム制御システムを備える、請求項5に記載のリソグラフィ装置。
- 前記ドラム位置決めデバイスは、前記誘導ドラムと前記第2オブジェクトとの間に延在する、前記ケーブル及び/若しくは配管のセットの一部、又は、前記ケーブル及び/若しくは配管のセットを保持するケーブル及び配管キャリアの一部における張力が、ほぼ一定であるように、前記ドラム作動システムを駆動するドラム制御システムを備える、請求項3に記載のリソグラフィ装置。
- 前記第1オブジェクトと第2オブジェクトとの間に配置された他のケーブル及び/又は配管のセットと、
前記他のケーブル及び/又は配管のセットを誘導するための他の誘導ドラムであって、前記移動方向に対して垂直に延在する他の回転軸を中心に回転可能な他の誘導ドラムと、
前記第1オブジェクトに対する前記第2オブジェクトの動きによって生じる前記他のケーブル及び/又は配管のセットの動きに追従するように、前記他の誘導ドラムを位置決めするための他のドラム位置決めデバイスと、をさらに備え、
前記誘導構造は、前記他の誘導ドラムの前記移動方向の動きを誘導する、請求項1に記載のリソグラフィ装置。 - パターニングデバイスを支持する支持であって、前記パターニングデバイスはパターンが付与された放射ビームを形成するために放射ビームの断面にパターンを付与することが可能である、支持と、
基板を保持する基板テーブルと、
前記パターンが与えられた放射ビームを前記基板のターゲット部分に投影する投影システムと、を更に備え、
前記第2オブジェクトは前記支持又は前記基板テーブルである、請求項1に記載のリソグラフィ装置。 - リソグラフィ装置において第1オブジェクトに対して移動可能な第2オブジェクトを位置決めするための方法であって、
a)前記第1オブジェクトと前記第2オブジェクトとの間に配置されたケーブル及び/又は配管のセットを提供するステップと、
b)前記ケーブル及び/又は配管のセットを誘導するための誘導ドラムを提供するステップであって、前記誘導ドラムは、前記移動方向に対して垂直に延在する回転軸を中心に回転可能であるとともに前記移動方向に移動可能である、提供するステップと、
c)前記誘導ドラムの動きを前記移動方向に誘導するための誘導構造を提供するステップと、
d)前記第1オブジェクトに対して前記第2オブジェクトを位置決めするステップと、
e)前記第1オブジェクトに対する前記第2オブジェクトの動きによって生じる前記ケーブル及び/又は配管のセットの動きに追従するように、前記誘導ドラムの回転及び前記移動方向における移動を制御するステップと、を含む、方法。 - 前記第2オブジェクトを位置決めするステップは、前記第2オブジェクトの測定された位置を取得するために、基準構造に対して前記第2オブジェクトの位置を測定するステップを含み、前記第2オブジェクトを位置決めするステップは前記第2オブジェクトの前記測定された位置に基づいて実施される、請求項10に記載の方法。
- 前記誘導ドラムを位置決めするステップは、前記第2オブジェクトの前記測定された位置に基づいて制御されるドラム作動システムによって実施される、請求項11に記載の方法。
- 請求項1に記載のリソグラフィ装置が使用されるデバイス製造方法。
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