JP6310752B2 - Cleaning device - Google Patents
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- 238000004140 cleaning Methods 0.000 title claims description 114
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims description 52
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims description 20
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims description 19
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 claims description 12
- 238000005406 washing Methods 0.000 claims description 9
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 28
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 6
- 239000003595 mist Substances 0.000 description 2
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 2
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 1
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
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Description
本発明は、ウェーハなどの円板状ワークを洗浄液によって洗浄し乾燥させる洗浄装置に関する。 The present invention relates to a cleaning apparatus for cleaning a disk-shaped workpiece such as a wafer with a cleaning liquid and drying it.
研削や研磨などの加工が施された円板状ワークは、その上面及び下面(両面)を洗浄した後、円板状ワークを高速回転させて乾燥させている(例えば、特許文献1、特許文献2参照)。 The disk-shaped workpiece that has been subjected to processing such as grinding and polishing is dried by rotating the disk-shaped workpiece at high speed after washing the upper and lower surfaces (both sides) (for example, Patent Document 1 and Patent Document 1). 2).
しかし、円板状ワークを高速回転させると、円板状ワークに付着していた洗浄液が飛散して霧状になって飛散する。そして、この霧状の洗浄液が雰囲気中の微粒塵を取り込むと、微粒塵が円板状ワークに付着する。特に、円板状ワークを保持した保持機構のスピン回転により乱気流が発生すると、霧状の洗浄液が乱気流に乗って上昇した後、微粒塵を取り込んで円板状ワーク上に落下して再付着する。 However, when the disk-shaped workpiece is rotated at a high speed, the cleaning liquid adhering to the disk-shaped workpiece is scattered to form a mist and scatter. And when this mist-like cleaning liquid takes in the fine dust in the atmosphere, the fine dust adheres to the disk-shaped workpiece. In particular, when turbulent air flow is generated by spin rotation of the holding mechanism that holds the disk-shaped workpiece, after the mist-like cleaning liquid rises on the turbulent air flow, it takes in fine dust and falls onto the disk-shaped workpiece and reattaches. .
本発明は、このような問題にかんがみなされたもので、飛散して霧状になった洗浄液が円板状ワークに再付着するのを防ぐことにより、円板状ワークに微粒塵が付着するのを防ぐことを目的とする。 The present invention has been considered in view of such a problem. By preventing the sprayed and sprayed cleaning liquid from re-adhering to the disk-shaped workpiece, fine particles adhere to the disk-shaped workpiece. The purpose is to prevent.
本発明に係る洗浄装置は、円板状ワークの外周縁を保持して該円板状ワークを回転させ、該円板状ワークの両面を洗浄する洗浄ユニットと、該洗浄ユニットによって洗浄された円板状ワークの外周縁を保持して円板状ワークを回転させ、該円板状ワークを乾燥させる乾燥ユニットと、該洗浄ユニットによって洗浄された円板状ワークの外周縁を保持し、円板状ワークを該洗浄ユニットから該乾燥ユニットに搬送する搬送手段と、該洗浄ユニット及び該乾燥ユニットを囲う外壁と、該洗浄ユニットと該乾燥ユニットとを遮断する遮断壁と、該搬送手段による円板状ワークの搬送を可能とするために、該遮断壁に設けられた開口を開閉する開閉扉と、を備えた洗浄装置であって、該乾燥ユニットは、円板状ワークの外周縁を保持する外周保持部が、回転軸から等距離離れた位置に均等な角度で少なくとも3つ配設された外周保持機構と、該外周保持機構で保持された円板状ワークの上方から円板状ワークに向かってクリーンエアーを吹き付けるクリーンエアー供給部と、を備え、該遮断壁は、該クリーンエアー供給部から供給されたクリーンエアーが該乾燥ユニット側から該洗浄ユニット側へ流入する流入口を備え、該外壁は、該流入口から該洗浄ユニット側に流入したクリーンエアーが該洗浄ユニットに保持された円板状ワークの周囲を横断した後、該クリーンエアーを外部に排気する排気口を備え、該洗浄ユニットが円板状ワークを洗浄しているとき、該搬送手段が円板状ワークを搬送しているとき、及び、該乾燥ユニットが円板状ワークを乾燥しているとき、のいずれのときも、該クリーンエアー供給部が供給するクリーンエアーが、該流入口を介して該乾燥ユニット側から該洗浄ユニット側へ流入する流れを維持する。 The cleaning apparatus according to the present invention includes a cleaning unit that holds the outer peripheral edge of a disk-shaped workpiece and rotates the disk-shaped workpiece to clean both surfaces of the disk-shaped workpiece, and a circle cleaned by the cleaning unit. A drying unit for rotating the disk-shaped work while holding the outer peripheral edge of the plate-shaped work and drying the disk-shaped work, and an outer peripheral edge of the disk-shaped work cleaned by the cleaning unit, Conveying means for conveying the workpiece from the cleaning unit to the drying unit, an outer wall surrounding the cleaning unit and the drying unit, a blocking wall for blocking the cleaning unit and the drying unit, and a disc by the conveying means And a door that opens and closes an opening provided in the blocking wall, the drying unit holds an outer peripheral edge of the disk-shaped workpiece. The outer periphery holding part At least three outer peripheral holding mechanisms arranged at equal angles at positions spaced apart from the rotation shaft, and clean air is directed from above the disc-shaped workpiece held by the outer peripheral holding mechanism toward the disc-shaped workpiece. A clean air supply section for spraying, and the blocking wall includes an inlet through which the clean air supplied from the clean air supply section flows from the drying unit side to the cleaning unit side, and the outer wall includes the flow path An exhaust port is provided for exhausting the clean air to the outside after the clean air that has flowed into the cleaning unit from the inlet crosses the periphery of the disk-shaped workpiece held by the cleaning unit. When washing a workpiece, when the conveying means is conveying a disk-shaped workpiece, and when the drying unit is drying a disk-shaped workpiece, Clean air supply unit for supplying clean air is to maintain the flow flowing from the drying unit side to the cleaning unit side through the fluid inlet.
本発明に係る洗浄装置によれば、クリーンエアー供給部がワークの上方からクリーンエアーを吹き付けるので、ワークを高速回転させても、上方へ向かう乱気流が発生しない。また、ワークから飛散して霧状となった洗浄液が、ワークの上方には向かわず、ワークの側方や下方へ向かい、流入口から洗浄ユニット側へ流入する。したがって、微粒塵を含んだ霧状の洗浄液がワーク上に落下して微粒塵が再付着するのを防ぐことができる。
また、乾燥時だけでなく、洗浄時や搬送時も、流入口を介してクリーンエアーが乾燥ユニット側から洗浄ユニット側へ流入する流れを維持するので、洗浄ユニットから飛散した洗浄液が乾燥ユニット側に侵入するのを防ぐことができる。
According to the cleaning apparatus of the present invention, the clean air supply unit blows clean air from above the workpiece, so that turbulent air flow upward does not occur even when the workpiece is rotated at a high speed. Further, the cleaning liquid which has been sprayed from the work and formed into a mist does not go upwards of the work but goes to the side or the lower side of the work and flows into the cleaning unit from the inlet. Therefore, it is possible to prevent the mist-like cleaning liquid containing fine dust from falling on the workpiece and reattaching the fine dust.
In addition, not only during drying, but also during cleaning and transport, the flow of clean air flowing from the drying unit side to the cleaning unit side is maintained through the inlet, so that the cleaning liquid splashed from the cleaning unit will enter the drying unit side. Intrusion can be prevented.
図1に示す洗浄装置10は、円板状のワーク20を洗浄する洗浄ユニット12と、洗浄ユニット12で洗浄されたワーク20を乾燥させる乾燥ユニット13と、洗浄ユニット12で洗浄されたワーク20を洗浄ユニット12から乾燥ユニット13へ搬送する搬送手段14と、洗浄ユニット12及び乾燥ユニット13を囲う外壁11と、洗浄ユニット12と乾燥ユニット13とを遮断する遮断壁15とを備えている。
A
外壁11は、±Y方向に長い直方体箱状であり、洗浄ユニット12側の側面に排気口111を備えている。なお、図1では、外壁11の内部が見えるように、+Z側の上面及び+X側の側面を透明に描いている。
The
洗浄ユニット12は、ワーク20の外周縁を保持してワーク20を回転させる外周保持回転手段124と、外周保持回転手段124に保持されたワーク20の上面(+Z側の面)を洗浄する洗浄スポンジ121と、外周保持回転手段124に保持されたワーク20の下面(−Z側の面)を洗浄する洗浄スポンジ122と、洗浄スポンジ121を移動させるアーム123とを備える。外周保持回転手段124は、XY平面に平行にワーク20を保持し、XY平面に垂直な回転軸を中心としてワーク20を回転させる。洗浄ユニット12は、外周保持回転手段124に保持されて回転しているワーク20に洗浄液を供給し、洗浄スポンジ121,122を接触させることにより、ワーク20を洗浄する。
The
乾燥ユニット13は、洗浄ユニット12によって洗浄されたワーク20の外周縁を保持する外周保持機構131と、外周保持機構131を回転させる回転手段132と、外周保持機構131の周囲を囲繞するカバー133と、外周保持機構131によって保持されたワーク20に向けてクリーンエアーを吹き付けるクリーンエアー供給部134とを備えている。
The
外周保持機構131は、ワーク20の外周縁を保持する外周保持部311を3つ備えている。3つの外周保持部311は、回転手段132による外周保持機構131の回転軸から等距離離れた位置に均等な角度(図示の例では120度)で配置されている。外周保持機構131は、XY平面に平行にワーク20を保持する。なお、外周保持部311の数は、3つではなく、4つ以上であってもよい。
The outer
回転手段132は、外周保持機構131全体をXY平面に垂直な回転軸を中心として回転させることにより、外周保持機構131に保持されたワーク20を高速回転させ、ワーク20に付着した洗浄液を飛散させてワーク20が乾燥する。カバー133は、円筒状に形成された円筒側壁部分と、円筒側壁部分より上方(+Z方向)へいくほど径が小さくなる円錐台側壁部分とを備えており、円筒側壁部分には複数の通気孔331を備えている。
The rotating means 132 rotates the entire outer
クリーンエアー供給部134は、外壁11の上面に配置され、外周保持機構131に保持されたワーク20の上方からワーク20に向かってクリーンエアーを吹き付ける。
The clean
搬送手段14は、洗浄ユニット12によって洗浄されたワーク20の外周縁を保持する外周保持搬送部144と、外周保持搬送部144を支持するアーム143と、アーム143を回動させる回動部141とを備えている。回動部141がXY平面に垂直な支軸を中心としてアーム143を回動させることにより、アーム143に支持された外周保持搬送部144がXY平面に平行に移動し、外周保持搬送部144に保持されたワーク20が、洗浄ユニット12から乾燥ユニット13へ搬送される。
The conveying means 14 includes an outer peripheral holding and conveying
遮断壁15は、外壁11の内部を、洗浄ユニット12が配置されている−Y側の洗浄室と、乾燥ユニット13が配置されている+Y側の乾燥室とに分離している。遮断壁15には、外周保持搬送部144及び外周保持搬送部144に保持されたワーク20を通過させるための開口151が設けられている。
The blocking
図2に示すように、洗浄装置10は、図1で説明した構成に加えて、開口151を開閉する開閉扉16と、開閉扉16を±Z方向に移動させる開閉手段17とを備えている。開閉扉16は、開口151とほぼ同じ大きさに形成され、洗浄室側に配置されている。
As shown in FIG. 2, the
クリーンエアー供給部134は、外壁11の外部から空気を取り入れて微粒塵などを取り除きクリーンエアーにするフィルタ341と、フィルタ341によって生成されたクリーンエアーを下方に吹き付けるファン342とを備えている。クリーンエアー供給部134は、外周保持機構131の上方に配置されているので、クリーンエアー供給部134から供給されたクリーンエアーは、外周保持機構131に保持されたワーク20bに吹き付けられる。
The clean
このように構成される洗浄装置10においては、洗浄ユニット12において、外周保持回転手段124によってワーク20が保持され、ワーク20を回転させながら、洗浄スポンジ121,122をワーク20の両面に接触させて洗浄を行う。洗浄終了後は、搬送手段14がワーク20を保持して乾燥ユニット13に搬送し、外周保持部311において洗浄後のワーク20が保持される。そして、ワーク20を高速回転させることにより、ワーク20を乾燥させる。乾燥ユニット13においてワーク20を高速回転させることにより、ワーク20に付着していた洗浄液が霧状になって飛び散る。
In the
ワーク20aを洗浄する洗浄時や、ワーク20bを乾燥させる乾燥時には、開閉手段17が開閉扉16を+Z方向に移動させることにより、開口151を塞ぎ、洗浄ユニット12から飛び散った洗浄液が乾燥ユニット13に侵入するのを防ぐ。開閉扉16が洗浄室側に設けられているので、洗浄ユニット12から飛び散った洗浄液が開閉扉16に付着しても、開閉扉16に付着した洗浄液が乾燥ユニット13に侵入するのを防ぐことができる。
When cleaning the
ただし、開閉扉16は、開口151を完全に塞ぐのではなく、開口151の上部にわずかに隙間152を残している。この隙間152は、クリーンエアー供給部134によって供給されたクリーンエアーが乾燥ユニット12側から洗浄ユニット12側に流入する流入口として機能する。開閉扉16は、開口151を下側から塞ぎ、開口151の上側に隙間を形成することにより、洗浄ユニット12から飛び散った洗浄液が隙間152に到達するのを防ぐ。
However, the opening /
ワーク20bに吹き付けられたクリーンエアーは、ワーク20bから飛散した霧状の洗浄液とともに、ワーク20bの側方を通り、カバー133の内側を下方へ向かって、通気孔331からカバー133の外に出る。カバー133の外に出たクリーンエアーは、開閉扉16と開口151との間の隙間(流入口)152から洗浄室へ流入する。
The clean air blown to the
外周保持機構131に保持されたワーク20bの上方からワーク20bにクリーンエアーを吹き付けることにより、乾燥ユニット13がワーク20を乾燥させるときに、霧状の洗浄液がワーク20bの上方に飛散するのを防ぐ。これにより、ワーク20bの上方に飛散した霧状の洗浄液が落下してワーク20bに再付着するのを防ぐことができる。
By spraying clean air onto the
クリーンエアーが洗浄室に流入する流入口152を遮断壁15に設けることにより、ワーク20bの側方や下方に飛散した霧状の洗浄液がクリーンエアーとともに洗浄室に流入する。ワーク20bから飛散した霧状の洗浄液が乾燥室内に滞留しないので、洗浄液がワーク20bに再付着するのを防ぐことができる。
By providing the blocking
流入口から洗浄ユニット12側に流入したクリーンエアーは、外周保持回転手段124に保持されたワーク20aの周囲を横断して、遮断壁15とは反対側の外壁11に設けられた排気口111から外壁11の外に排気される。ワーク20aの洗浄により飛散した霧状の洗浄液は、この空気の流れに乗って、排気口111から排出される。これにより、霧状の洗浄液が流入口152から乾燥ユニット13側に侵入するのを防ぐことができる。したがって、乾燥ユニット13でワーク20bを乾燥させるのと並行して、洗浄ユニット12で次のワーク20aを洗浄しても、乾燥中のワーク20bに洗浄液が付着するのを防ぐことができる。これにより、洗浄装置10の処理能力(単位時間当たりに洗浄できるワークの枚数)を高めることができる。
The clean air that has flowed into the
また、乾燥ユニット13がワーク20bの乾燥をしていないときであっても、洗浄ユニット12がワーク20aを洗浄している洗浄中は、クリーンエアー供給部134を動作させて、流入口152を介して乾燥ユニット13から洗浄ユニット12を経て外部へ排気されるクリーンエアーの流れを維持する。これにより、飛散した洗浄液が乾燥室に流入するのを防ぐ。
Further, even when the drying
図3に示すように、ワーク20cを洗浄ユニット12から乾燥ユニット13へ搬送する搬送時には、開閉手段17が開閉扉16を−Z方向に移動させることにより、開口151を開き、外周保持搬送部144及びそれに保持されたワーク20cが通過できるようにする。このときも、クリーンエアー供給部134を動作させて、乾燥ユニット13から洗浄ユニット12を経て外部へ排気されるクリーンエアーの流れを維持する。これにより、洗浄室内に浮遊している洗浄液が開口151から乾燥室の側に流入するのを防ぐことができる。また、搬送手段14でワーク20cを搬送するのと並行して、次のワーク20aを洗浄しても、飛散した洗浄液が乾燥室に侵入するのを防ぐことができる。これにより、洗浄装置10の処理能力を高めることができる。
As shown in FIG. 3, when conveying the
なお、本実施形態における排気口111は、外壁11のうち、洗浄ユニット12側の側壁に形成されているが、洗浄ユニット12側の底板に形成されていてもよい。また、排気口111として、洗浄液を排出する排水口を利用することもできる。その場合は、排水口の口径を、通常の排水口より大きくすることが好ましい。
In addition, although the
10 洗浄装置、11 外壁、111 排気口、
12 洗浄ユニット、
121,122 洗浄スポンジ、123 アーム、124 外周保持回転手段、
13 乾燥ユニット、
131 外周保持機構、311 外周保持部、
132 回転手段、133 カバー、331 通気孔、134 クリーンエアー供給部、341 フィルタ、342 ファン、
14 搬送手段、
141 回動部、143 アーム、144 外周保持搬送部、441 外周保持部、
15 遮断壁、151 開口、152 隙間(流入口)、
16 開閉扉、17 開閉手段、
20,20a〜20c ワーク
10 cleaning device, 11 outer wall, 111 exhaust port,
12 Cleaning unit,
121, 122 cleaning sponge, 123 arm, 124 outer periphery holding rotation means,
13 Drying unit,
131 outer periphery holding mechanism, 311 outer periphery holding portion,
132 rotating means, 133 cover, 331 vent hole, 134 clean air supply unit, 341 filter, 342 fan,
14 Conveying means,
141 rotating unit, 143 arm, 144 outer periphery holding and conveying unit, 441 outer periphery holding unit,
15 barrier wall, 151 opening, 152 gap (inlet),
16 Opening / closing door, 17 Opening / closing means,
20, 20a-20c Workpiece
Claims (1)
該洗浄ユニットによって洗浄された円板状ワークの外周縁を保持して円板状ワークを回転させ、該円板状ワークを乾燥させる乾燥ユニットと、
該洗浄ユニットによって洗浄された円板状ワークの外周縁を保持し、円板状ワークを該洗浄ユニットから該乾燥ユニットに搬送する搬送手段と、
該洗浄ユニット及び該乾燥ユニットを囲う外壁と、
該洗浄ユニットと該乾燥ユニットとを遮断する遮断壁と、
該搬送手段による円板状ワークの搬送を可能とするために、該遮断壁に設けられた開口を開閉する開閉扉と、
を備えた洗浄装置であって、
該乾燥ユニットは、
円板状ワークの外周縁を保持する外周保持部が、回転軸から等距離離れた位置に均等な角度で少なくとも3つ配設された外周保持機構と、
該外周保持機構で保持された円板状ワークの上方から円板状ワークに向かってクリーンエアーを吹き付けるクリーンエアー供給部と、
を備え、
該遮断壁は、該クリーンエアー供給部から供給されたクリーンエアーが該乾燥ユニット側から該洗浄ユニット側へ流入する流入口を備え、
該外壁は、該流入口から該洗浄ユニット側に流入したクリーンエアーが該洗浄ユニットに保持された円板状ワークの周囲を横断した後、該クリーンエアーを外部に排気する排気口を備え、
該洗浄ユニットが円板状ワークを洗浄しているとき、該搬送手段が円板状ワークを搬送しているとき、及び、該乾燥ユニットが円板状ワークを乾燥しているとき、のいずれのときも、該クリーンエアー供給部が供給するクリーンエアーが、該流入口を介して該乾燥ユニット側から該洗浄ユニット側へ流入する流れを維持する、洗浄装置。 A cleaning unit that holds the outer periphery of the disk-shaped work, rotates the disk-shaped work, and cleans both surfaces of the disk-shaped work;
A drying unit for rotating the disk-shaped work while holding the outer peripheral edge of the disk-shaped work cleaned by the cleaning unit, and drying the disk-shaped work;
Conveying means for holding the outer peripheral edge of the disk-shaped workpiece cleaned by the cleaning unit, and conveying the disk-shaped workpiece from the cleaning unit to the drying unit;
An outer wall surrounding the washing unit and the drying unit;
A blocking wall that blocks the cleaning unit and the drying unit;
An open / close door that opens and closes an opening provided in the blocking wall in order to enable the transfer of the disk-shaped workpiece by the transfer means;
A cleaning device comprising:
The drying unit
An outer periphery holding mechanism in which at least three outer periphery holding portions that hold the outer peripheral edge of the disk-shaped workpiece are arranged at equal angles at positions spaced apart from the rotation axis;
A clean air supply unit that blows clean air from above the disk-shaped workpiece held by the outer periphery holding mechanism toward the disk-shaped workpiece;
With
The blocking wall includes an inlet through which clean air supplied from the clean air supply unit flows from the drying unit side to the cleaning unit side,
The outer wall is provided with an exhaust port for exhausting the clean air to the outside after the clean air flowing into the cleaning unit side from the inlet crosses the periphery of the disk-shaped workpiece held by the cleaning unit,
Either when the cleaning unit is cleaning the disk-shaped workpiece, when the transport means is transporting the disk-shaped workpiece, or when the drying unit is drying the disk-shaped workpiece. Sometimes, the cleaning apparatus maintains the flow of clean air supplied by the clean air supply unit from the drying unit side to the cleaning unit side via the inflow port.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014081917A JP6310752B2 (en) | 2014-04-11 | 2014-04-11 | Cleaning device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014081917A JP6310752B2 (en) | 2014-04-11 | 2014-04-11 | Cleaning device |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2015204322A JP2015204322A (en) | 2015-11-16 |
JP6310752B2 true JP6310752B2 (en) | 2018-04-11 |
Family
ID=54597624
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014081917A Active JP6310752B2 (en) | 2014-04-11 | 2014-04-11 | Cleaning device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6310752B2 (en) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN106409726A (en) * | 2016-10-10 | 2017-02-15 | 上海华力微电子有限公司 | Uniwafer cleaning machine table capable of enhancing cavity exhausting effect and used for exhausting apparatus |
CN117772416B (en) * | 2024-02-27 | 2024-05-31 | 山东瑞翼德科技股份有限公司 | Plasma cleaning device of etching machine |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3367065B2 (en) * | 1996-08-13 | 2003-01-14 | 株式会社東京精密 | Work transfer device in dicing machine |
JP4089837B2 (en) * | 1997-07-10 | 2008-05-28 | 株式会社ディスコ | Spinner device |
JP4579354B2 (en) * | 1998-06-23 | 2010-11-10 | 芝浦メカトロニクス株式会社 | Spin processing equipment |
JP2000015198A (en) * | 1998-06-30 | 2000-01-18 | Shibaura Mechatronics Corp | Washer |
JP2002043272A (en) * | 2000-07-28 | 2002-02-08 | Ebara Corp | Substrate cleaning apparatus and substrate processing apparatus |
JP2005327906A (en) * | 2004-05-14 | 2005-11-24 | Renesas Technology Corp | Semiconductor manufacturing apparatus, and method for manufacturing semiconductor device |
JP4908085B2 (en) * | 2006-07-06 | 2012-04-04 | 株式会社ディスコ | Wafer processing equipment |
JP4812847B2 (en) * | 2009-02-23 | 2011-11-09 | 東京エレクトロン株式会社 | Substrate processing apparatus and substrate processing method |
JP5385965B2 (en) * | 2011-12-05 | 2014-01-08 | 大日本スクリーン製造株式会社 | Substrate processing equipment |
-
2014
- 2014-04-11 JP JP2014081917A patent/JP6310752B2/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2015204322A (en) | 2015-11-16 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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A621 | Written request for application examination |
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|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20180213 |
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A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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|
R250 | Receipt of annual fees |
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R250 | Receipt of annual fees |
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