JP6301732B2 - 成膜用マスクホルダ - Google Patents
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Description
マスク成膜法は簡便でありプロセスコストが安いという利点があるが、マスクが基板から離間して密着性が低下し易い。このようにマスクが基板から浮いた状態でスパッタリング等による成膜を行うと、形成されたパターンに欠陥が発生し易くなり、このマスクの浮きという問題が解決されない限り微細なパターン形成には適さない。このため、微細なパターンを形成するため、マスクが基板から浮かないよう、マスクを成膜処理用マスクホルダに強力な磁力で吸着する必要がある。
また、このマスクホルダを組立てる際に、磁石と係止部材との位置関係、係止部材と第2のプレートとの位置関係を適正に維持するための措置を講じる必要がある等、工程が煩雑となり、工数が増大する。
このため、第2プレートの底面に冷却装置を配置してマスク、及び基板側の熱をマスクホルダを経由して冷却装置側に放熱するように構成している。
しかし、特許文献1のように第2プレートに設けた磁石収容用の穴部が貫通穴であると、第2プレート底面から冷却装置に伝わる熱量が穴部の開口面積分だけ減少して冷却効率が低下するという問題があった。
また、係止部材の収容スペース分だけ磁石が小型化して磁力が低下するためにマスクと基板との密着性が低下するという問題があった。
また、第2プレートに貫通穴が存在することにより、第2プレート下面に配置される冷却装置との接触面積が少なくなり、放熱効果が低下するという問題があった。
本発明は上述の課題に鑑みてなされたものであり、第1プレートと第2プレートとの間に磁石を収容した従来の成膜用マスクホルダにおいて、係止部材を用いることなく第2プレート側に磁石を位置決めすることにより組み付け手数の低減、並びに製造コストダウンを図ると共に、磁石の体積の小型化による磁力の低下を防止し、更にマスクホルダ底面に配置した冷却装置への放熱効率の低下を防止した成膜用マスクホルダを提供することを目的とする。
まず、成膜用マスクホルダの全体構造について説明する。
図1(a)(b)及び(c)は本発明の一実施形態に係る成膜用マスクホルダの構成を示す平面図、正面図、及びA-A断面図であり、図2はこの成膜用マスクホルダの分解斜視図であり、図3は図1(c)の要部拡大図であり、図4は蓋部材の単体の構成を示す斜視図である。
成膜用マスクホルダ1は、例えば純銅により構成するが、純銅に限定されるわけではなく、アルミ等、他の金属素材で製作することもできる。
マスク60には、基板50の成膜パターンに対応する開口61が形成されている。マスクとしては、磁石に吸着される材料、例えば、フェライト系ステンレス、または鉄−ニッケル合金などの軟磁性材を用いる。
なお、基板50の形状は図示した円板状に限らないが、本例では円板状の基板を一例として説明する。
第1プレートと第2プレートとは、ネジ止め、その他の固定方法により着脱自在に組み付けられる。
第2プレート10は、各磁石30の少なくとも一端部30aを収容し、且つ厚さ方向へ貫通する複数の貫通穴15と、各貫通穴の内壁(下部)に突設されて磁石の抜け落ちを防止する係止部16と、貫通穴の係止部16よりも外側(下方)に形成される空所S内に収容されて貫通穴15内に一部を収容された磁石30の磁力により吸引保持される蓋部材20と、を備えている。
即ち、蓋部材20は、図4に示すように、外側(下側)に位置する円形の大径部21と、大径部の内面(上面)に同心円状に配置された小径部(突起部)22と、から一体的に構成されており、小径部外周から張り出した大径部21の環状部分の上面を係止部16の下面により係止することにより、磁石からの磁力によって係止部を越えて蓋部材が内側へ移動することを阻止されている。
係止部16は、貫通穴15の外側開口よりも所定距離内側位置の内壁に突設された環状突起であり、磁石の底部のエッジ部(外周縁)と接して磁石が係止部を越えて外側へ移動することを阻止できるように構成されている。また、係止部16は蓋部材20が係止された位置よりも内側へ移動することを阻止する機能も有している。
各凹所5は近接配置されているが、凹所間には仕切りとなる壁部(厚肉部)6が配置されている。このため、壁部6の存在により第1プレートの機械的強度を所定に維持することができる。
第1プレート2、及び第2プレート10は、加工性と熱伝導性を考慮し純銅材で製作することが望ましい。
蓋部材20は磁石30に吸引されるため、鉄やニッケル合金などの軟磁性材により構成する。
磁石30は、例えば、ネオジウムやサマリウムコバルト等の焼結マグネットであり、本例では柱体状(円筒状)である円柱として構成されている。磁石は、円柱状である必要はなく、角柱状であってもよい。
磁石30の他端部30bが必要最小限の肉厚を有した第1プレートの天井面5aと接することにより、マスクと磁石との間の距離を可能な限り接近させることが可能となり、マスクを吸引保持する磁力を充分に確保することが可能となる。
また、蓋部材20は磁石の外周に配置される訳では無く、磁石の軸方向外側位置に配置されるため、磁石の体積(貫通穴内における磁石収容スペース)を減縮させる要因となることもない。
また、蓋部材20は形状が単純であるため、パーツフィーダーなどで整列しやすく、組立て作業(第2プレートに対する蓋部材の組付け作業)の自動化が容易となり、結果的に成膜用マスクホルダのコストを低減できる。
また、蓋部材20は、第2プレートの貫通穴15の空所S(下部空所)内にセットされた状態で磁石30によって吸引保持されるため、蓋部材を組み付けた状態では貫通穴15は有底穴(止まり穴)となる。
これに対して本発明では蓋部材20が全ての貫通穴15の下側開口を塞いでいるため、蓋部材に伝熱手段を兼用させることができる。このため、第2プレート底面の開口面積がゼロとなり、冷却ステージとの接触面積を最大限に拡大することが可能となる。
このため、本発明の第2プレートを備えた成膜用ホルダにより基板を支持した状態でスパッタリング等の成膜処理を行う方が、形成される膜に加わる熱応力が少なくなり、不良品の発生率が低下する。
第1の本発明に係る成膜用マスクホルダ1は、磁力により吸引されるマスク60を一面に配置した成膜対象物50の他面を一面で支持する第1プレート2と、第1プレートの他面側に配置され、マスクを吸引する複数の磁石30を該第1プレートとの間に収容する第2プレート10と、を備え、第2プレート10は、各磁石の少なくとも一端部30aを収容し、且つ厚さ方向へ貫通する複数の貫通穴15と、各貫通穴内に設けられて磁石の抜け落ちを防止する係止部16と、貫通穴の係止部よりも外側に形成される空所内に収容されるとともに、係止部に係止することにより係止部よりも内側への移動が阻止され、該貫通穴内の磁石の磁力により吸引保持される蓋部材20と、を備えていることを特徴とする。
第2プレートに設けた磁石支持部としての貫通穴15内に柱状(非環状)の磁石を位置決めする手段として係止部16を用いているため、格別の部材としての係止部材が不要となる。このため、係止部材を併用する場合に比して磁石の体積を増大させることができ、マスクを吸引する力を高めてマスクと基板との位置ズレを防止することが可能となる。貫通穴15内に係止部16を形成する加工は、従来の係止部材を支持するための加工に比して格段に容易であり、製造手数を低減できる。貫通穴の下部開口を蓋部材20により閉止し且つ磁石により吸引して保持することができるので、貫通穴を設けることにより生じる欠点である熱伝導性の低下という問題を解決することができる。
また、蓋部材20は形状が単純であるため、第2プレートに対する蓋部材の組付け作業の自動化が容易となり、成膜用マスクホルダのコストを低減できる。
蓋部材20が全ての貫通穴15の下側開口を塞いでいるため、第2プレート底面の開口面積がゼロとなり、冷却ステージとの接触面積を最大限に拡大して放熱効率を高めることができる。このため、スパッタリング等の成膜処理中に形成される薄膜に加わる熱応力が少なくなり、不良品の発生率が低下する。
また、貫通穴15内における係止部16の深さ位置dは、該係止部により磁石30を係止したときに、第2プレート10の一面10aより磁石の他端を突出させる深さにあり、第1プレート2の他面には各磁石の他端を夫々収容する複数の凹所5を備えている。
本発明では、貫通穴内の中間高さ位置に設けた環状の係止部16により磁石の一端部30aを係止するようにしたので、非環状の磁石を安定して保持することができる。
また、全ての貫通穴15内に収容された磁石の他端部30bの位置を一定とすることができるので、全ての磁石の他端部30bとマスクとの間の距離を一定にして吸引力のバラツキをなくすることができる。
Claims (1)
- 磁力により吸引されるマスクを一面に配置した成膜対象物の他面を一面で支持する第1プレートと、前記第1プレートの他面側に配置され、前記マスクを吸引する複数の磁石を該第1プレートとの間に収容する第2プレートと、を備え、
前記第2プレートは、前記各磁石の少なくとも一端部を収容し、且つ厚さ方向へ貫通する複数の貫通穴と、前記各貫通穴内に設けられて前記磁石の抜け落ちを防止する係止部と、前記貫通穴の前記係止部よりも外側に形成される空所内に収容されるとともに、前記係止部に係止することにより前記係止部よりも内側への移動が阻止され、該貫通穴内の前記磁石の磁力により吸引保持される蓋部材と、を備えていることを特徴とする成膜用マスクホルダ。
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