JP6297030B2 - シール高さのばらつきが低減された真空断熱ガラス（ｖｉｇ）窓ユニット及びその製造方法 - Google Patents

シール高さのばらつきが低減された真空断熱ガラス（ｖｉｇ）窓ユニット及びその製造方法 Download PDF

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Description

本開示は、真空断熱ガラス（ＶＩＧ）窓ユニットの構成及びＶＩＧ窓ユニットの製造方法に関する。具体的には、本開示は、ＶＩＧ窓ユニット端部シールの構成、及びＶＩＧ窓ユニットの端部シールの周長（ｐｅｒｉｍｅｔｅｒ）によって規定されてガラス基板の間に形成されるキャビティを真空状態にするために用いられるポンプダウン手順のうち、端部シールの付近でＶＩＧ窓ユニットの破損の可能性を減らすために最終的な端部シール高さのばらつきを減少させる端部シール材を配置する方法に関する。本開示は、キャビティの真空引きの前に端部シール高さのばらつき（例えば、許容値）を減少させるためのユニットの構造配置及び寸法のサイジングに関する。
真空断熱ガラス（ＶＩＧ）ユニットは、典型的に、離隔された少なくとも２つのガラス基板を備えており、これらガラス基板の間には真空引きした又は低圧の空間／キャビティが囲まれている。基板は、外周端部シールで相互接続されており、典型的に、ガラス基板間の間隔を維持するため及び基板間に存在する低圧環境が原因で生じ得るガラス基板の崩壊を回避するためにガラス基板間にスペーサーが含まれている。いくつかのＶＩＧ構造例は、例えば、米国特許第５，６５７，６０７号、同第５，６６４，３９５号、同第５，６５７，６０７号、同第５，９０２，６５２号、同第６，５０６，４７２号及び同第６，３８３，５８０号に開示されており、これら公報の開示全体をいずれも参照として本明細書に組み込む。
図１及び図２は、典型的なＶＩＧ窓ユニット１及びＶＩＧ窓ユニット１の構成要素を表している。例えば、ＶＩＧユニット１は、離隔された２つの実質上平行なガラス基板２，３を備えていてよく、これらガラス基板の間には真空引きした低圧の空間／キャビティが囲まれている。ガラスシート又は基板２，３は外周端部シール４で相互接続されており、外周端部シールは、例えば、溶融はんだガラス製であってよい。基板２，３の間に存在する低圧の空間／間隙６を考慮して、支柱／スペーサー５の配列をガラス基板２，３の間に備えてＶＩＧユニット１の基板２，３の間隔を維持することもある。
排気管８は、例えば、はんだガラス９によって、一方のガラス基板２の内表面から当該ガラス基板２の外表面にある任意の凹部１１の底面に通じる又は場合により当該ガラス基板２の外表面に通じる開口部／穴１０に気密封止されていてよい。排気管８に吸引装置を取り付けて、例えば、連続ポンプダウン操作を利用して内部キャビティ６を低圧まで真空引きする。キャビティ６を真空引き後、排気管８の一部（例えば、先端）を溶融することで低圧キャビティ／空間６を真空密封する。この任意の凹部１１は、封止された排気管８を保持することができる。場合によって、一方のガラス基板、例えば、ガラス基板２の内表面に配置された凹部１３にはゲッター材１２が含まれていてもよい。ゲッター材１２は、キャビティ６の真空引き及び封止後に残存している可能性のある特定の残留不純物を吸着する、又は特定の残留不純物に結合するために使用され得る。
溶融はんだガラス外周端部シール４の付いたＶＩＧユニットは典型的に、ガラスフリットを溶液状態（例えば、フリットペースト）で基板２（又は基板３）の外縁周囲に配置させることによって製造される。このガラスフリットペースは最終的にはガラスはんだ端部シール４となる。もう一方の基板（例えば、３）を、２つの基板２，３の間にスペーサー／支柱５とガラスフリット溶液が挟持されるように基板２上に下ろす。次に、ガラス基板２，３、スペーサー／支柱５及びシール材（例えば、溶液又はペースト状態のガラスフリット）を備える組立品全体を少なくとも約５００℃の温度まで加熱することで、ガラスフリットが溶融してガラス基板２，３の表面を濡らし、そして最終的に気密性の外縁／端部シール４となる。
基板間に端部シール４を形成した後、排気管８を介して真空にすることで基板２，３間に低圧の空間／キャビティ６を形成する。空間６内の圧力は、真空引き工程によって大気圧未満、例えば、約１０−２Ｔｏｒｒ未満の程度にしてよい。この空間／キャビティ６内の低圧を維持するために、基板２，３を気密封止する。小さな高強度スペーサー／支柱５を基板間に配置することで、大気圧下で基板が互いにほぼ平行に分離したままになる。上述の通り、基板２，３間の空間６を真空引き後、排気管８は、例えば、レーザなどを用いてその先端を溶融させることによって封止してよい。
キャビティを大気圧未満の圧力まで真空引きした後、キャビティを真空引き又はパージするために使用する排気管の端部を加熱してその入口を溶融させ、その結果ＶＩＧ窓ユニットのキャビティを封止することにより、排気管の封止工程を行ってもよい。例えば、これに限定されないが、この加熱及び溶融工程は、排気管の先端にレーザを照射することによって行ってもよい。
一部の例では、キャビティ真空引き工程中に、端部シール近辺でＶＩＧユニットガラスの破損が観察された。キャビティ真空引き工程中に発生したこのような破損の原因を特定するために、かなりの時間とリソースが費やされた。最終的に、シール高さのばらつきは、破損の問題に関連し得るものと認識された。例えば、フリット材料を含む接着剤などのような端部シールを形成するのに用いられる物質は、キャビティを定義するシールの周長における高さのばらつきが過度に大きいものを含む場合がある。複数の試験を行った後、驚くべきことに、シール厚さのばらつき許容値とキャビティ真空（又はポンプダウン）工程中の破損事例との間に相関関係が存在することが分かった。驚くべきことに、シール高さのばらつきは、ＶＩＧユニットのガラス基板の間に形成されたキャビティを真空状態にする途中にシールの近辺でＶＩＧユニット上の応力に影響を及ぼすことが分かった。真空引き工程は、場合によってプルダウン（ｐｕｌｌ−ｄｏｗｎ）又はポンプダウン（ｐｕｍｐ−ｄｏｗｎ）手順と呼ぶこともできる。驚くべきことに、シール高さのばらつきが大き過ぎる場合、シールの周囲及び典型的にシール近辺の内側でＶＩＧユニットのガラスを破損し得るポンプダウン中に十分な応力が発生する場合があることが分かった。例えば、これに限定されないが、シール高さのばらつきが大き過ぎる場合、支柱又はスペーサーと少なくとも１つのガラス基板との間に間隙が生じ、それによって、ガラス基板がポンプダウン中に曲げや撓みが生じる。シールの周長におけるシール高さのばらつきが非常に大きい場合、ガラスが破損することが分かった。
また、シール高さの大きいばらつきを起こすことに様々な原因があることが分かった。例えば、これに限定されないが、初期に配置したグリーン（例えば、未焼成）シール材（例えば、フリット）の均一性、焼成工程中にガラス基板の曲げや撓みを含んでもよい。このような条件は、最終的なシール高さの大きいばらつき（例えば、非均一性）に寄与することが分かった。
ポンプダウン中のガラスの曲げや撓みに起因するガラスの破損に伴う欠陥を解決するために、端部シールの周長におけるシール高さのばらつきを減らすことによって、ポンプダウン中のＶＩＧユニット上の応力を緩和して（例えば、ガラス基板の曲げや撓みレベルを減らす）、ポンプダウン中のＶＩＧユニットガラスの破損の事例を減少させた。試験の結果、例えば、これに限定されないが、シール材（例えば、フリット材料）の初期ディスペンスの高さを調節すること、焼成中にシール材の流れを調節すること、及び封止工程中に均一に温度を調節することによって、シール高さのばらつき又は許容値を好ましい小さいレベルに減少させることができた。例えば、これに限定されないが、最終的な端部シール高さのばらつきを、好ましくは約０．２０ｍｍ未満、さらに好ましくは約０．１５ｍｍ未満、及びより好ましくは約０．１０ｍｍ未満に調節することによって、ポンプダウン中のガラスの破損をかなり減少させた。焼成中にガラス基板が曲がるのを減らし、また、シール材の流れを調節した焼成工程を提供することが好ましく、これは、端部シール高さのばらつきの減少を助ける。
最終的に、端部シール高さのばらつきを減少させるために、本発明者は、例えば、これに限定されないが、配置工程中の機器を用いて未焼成シール材の初期ディスペンスの高さを調節して最終的なシール高さの均一性を著しく改善し、上記のように、最終的にシール高さのばらつきを許容範囲内になるようにする。また、例えば、焼成中の温度の均一性を調節することによって、ガラス基板の曲げや撓みを減らし、最終的にシール高さのばらつきを減らす。また、焼成中のシール材の流れを調節し、例えば、シール材が焼成中に支柱／スペーサーの高さにマッチングされるように流れる長い焼成工程を実施することによって、例えば、最終的にシール高さのばらつきを改善する。
このような利点及びその他の利点は、真空断熱ガラス窓ユニットによって提供されるものであって、これは第１基板と第２基板、及び第１基板と第２基板との間に形成されたキャビティの周囲に設けられ、第１基板と第２基板との間に挟まれたシール材を含み、第１基板と第２基板との間に気密封止を形成し、低圧のキャビティ周辺における前記シール材の高さのばらつきは、好ましくは約０．２０ｍｍ未満、さらに好ましくは０．１５ｍｍ以下、より好ましくは約０．１０ｍｍ以下である。
また他の利点は、真空断熱ガラス窓ユニットの製造方法によって提供されるものであって、周長を有し、機器によって堆積され、未焼成高さが約０．６ｍｍ〜０．９ｍｍを有するシール材を第１ガラス基板上に堆積させるステップと、焼成したシール材の高さのばらつきが好ましくは約０．２０ｍｍ未満、さらに好ましくは約０．１５ｍｍ以下、より好ましくは約０．１０ｍｍ以下である真空断熱ガラス窓ユニットの部分組立品を提供するために、前記第１ガラス基板、第２ガラス基板、及び前記第１ガラス基板と第２ガラス基板との間に挟まれた前記シール材を含む部分組立品を焼成するステップとを含む。
これら及びその他の実施態様及び利点は、本明細書では特定の実施態様例に対して以下の図面を参照して記載され、類似の参照符号は同様の要素を意味するものとする。
従来のＶＩＧユニットの概略断面図である。 従来のＶＩＧユニットの平面図である。 例示的な実施形態に従う例示のＶＩＧユニットの端部を示す概略部分断面図である。 例えば、シール材の高さを含む多様な工程条件が調節される、特定の実施形態例に従うＶＩＧユニット製造方法を示すフローチャートである。
本明細書では、以下の図面を参照して特定の実施態様例を詳述する。図面中、同様の参照符号は同様の要素を指すものとする。本明細書に記載の実施態様は、限定ではなく例示を目的とするものであり、また、当業者は、本明細書に添付する特許請求の範囲の真の趣旨及び全範囲を逸脱することなく様々な変更が可能であると考えることができることが分かるであろう。
図３を参照すると、ＶＩＧ窓ユニット例１の一部の概略断面図が示されている。ＶＩＧ窓ユニット１は、離隔された第１及び第２透明ガラス基板２，３を備えており、これら第１及び第２透明ガラス基板２，３は、端部シール４で相互接続することができ、端部シール４は例えば、これに限定されないが、バナジウム系若しくはＶＢＺ型のシール又ははんだガラス型シールであってもよく、あるいはこれらを含んでいてもよい。バナジウム系又はＶＢＺ型のシール組成物例は、２０１２年１月２０日出願の米国特許出願番号第１３／３５４，９６３に開示されており、この開示全体を参照として本明細書に組み込む。ＶＢＺ（例えば、バナジウム、バリウム、亜鉛）系のシール組成物は、前記公報第１３／３５４，９６３に記載されており、また、特定の実施態様例では端部シール４として使用可能である。従来のはんだガラスフリット材料もまた、特定の実施態様例では、端部シール４として使用可能である。ＶＢＺ系のシール組成物を用いる場合は、低温封止用の熱プロファイルを利用して、ＶＩＧユニットのガラスの所望のテンパーを維持する。これは、ＶＢＺ組成物の焼成温度が、ＶＩＧユニットにおいてシールを形成するのに使用可能な特定の他の従来のガラスフリット組成物の温度（例えば、約５００℃）よりも低い（例えば、＜２５０℃）ためである。本明細書に開示される実施態様も同様に、任意の好適なシール材を用いたＶＩＧ構造に適用可能であると考えることができる。上記のように、端部シール４の周長は、基板の間が真空状態になるように気密封止されたキャビティ６を定義する。
特定の実施態様では、透明ガラス基板２，３は、ほぼ同じ寸法であってよい。ただし、特定の実施態様例では、一方のガラス基板が他方よりも大きく、例えば、ほぼＬ字型のステップをＶＩＧユニットの端部に近接して付与する場合もある。ガラス基板２，３の一方又は両方は更に場合により、例えば、これに限定されないが、低Ｅコーティングなどのコーティング材（図示せず）を少なくとも１つ含んでいてもよい。ガラス基板２，３の少なくとも一方の内表面には様々なコーティングが含まれていてもよく、そしてかかるコーティングはＶＩＧ窓ユニット１に様々な有益な性能特性をもたらすと考えることもできる。特定の実施態様例では、ＶＩＧ窓ユニットの可視透過率は、少なくとも約３０％、好ましくは少なくとも約４０％、更に好ましくは少なくとも５０％、なお更に好ましくは少なくとも約６０％又は７０％である。
さらに、ガラス基板２，３間のキャビティに大気圧未満の圧力が最終的に付与されることを考慮すると、基板同士の間隔を維持するためにガラス基板２，３間は支柱／スペーサー５の配列を更に含んでいてもよい。特定の実施態様例では、スペーサーの高さは、例えば、約０．１〜１．０ｍｍ、より好ましくは約０．２〜０．４ｍｍであってよい。スペーサーの高さが真空キャビティ６の高さを決める場合もある。上述の通り、スペーサー５の寸法は、好ましくは、視覚的に目立たないほど十分に小さい。特定の実施態様例によれば、スペーサーは、はんだガラス、ガラス、セラミック、金属、ポリマー又は任意の他の好適な材料から作製されていてもよく、又はこれらを含んでいてもよい。さらに、スペーサー５は例えば、おおむね円筒形、丸形、球形、ダイム形、Ｃ形、まくら形又は任意の他の好適な形であってよい。
排気管（図３に図示せず）は、例えば、真空ポンプを排気管に接続してキャビティを低圧（例えば、大気圧未満の圧力）まで真空引きすることにより、基板２，３間のキャビティ６を真空引きする方法において用いられる。好ましい例では、キャビティ６内の圧力は、例えば、好ましくは約１０−２Ｔｏｒｒ未満、より好ましくは約１０−３Ｔｏｒｒ未満、なお更に好ましくは約５×１０−４Ｔｏｒｒ未満である。キャビティ６を真空引き後、排気管は、例えば、当該排気管の先端を例えば、レーザなどの任意の好適な手段で溶融することによって封止してもよい。ＶＩＧ窓ユニットは、例えば、これに限定されないが、家庭用住居、オフィスビル、共同住宅、ドアなどの窓として使用され得る。
特定の実施形態例によれば、ポンプダウン中に発生するＶＩＧユニット上の応力を減らしてポンプダウン中にＶＩＧユニットガラスの破損を減らすために、シール高さのばらつきを調節する。拡張試験の結果、シール高さのばらつき又は許容値は、例えば、これに限定されないが、シール材（例えば、フリット材料）の初期ディスペンスの高さを調節したり焼成中のシール材の流れを調節したり封止工程中に均一に温度を調節することによって減少させてもよい。例えば、これに限定されないが、最終的な端部シール高さのばらつきを、好ましくは約０．２０ｍｍ未満、さらに好ましくは０．１５ｍｍ未満、より好ましくは０．１０ｍｍ未満に調節するとき、ポンプダウン中の破損がかなり減少する。「ばらつき」は、最大シール高さと最小シール高さとの間の差と考えてもよい。したがって、低圧のキャビティを囲んだ端部シールの全周にわたって、端部シールの最大高さは、０．２０ｍｍ未満、さらに好ましくは約０．１５ｍｍ未満、より好ましくは約０．１０ｍｍ未満で変化してもよい。特定の実施形態例によれば、これに限定されないが、シール高さのばらつきは、配置工程中に、シール材（例えば、フリット）の初期ディスペンスの高さをさらに精密に調節する機器を提供することによって減少させてもよい。また、最終的な端部シール高さのばらつきに寄与し得るＶＩＧ窓ユニットのガラス基板の曲げや撓みを減らすために、例えば、低い温度ばらつき及び／又は長い焼成時間を有するさらに調節された焼成工程を用いてもよい。また、さらなる例示的な実施形態によれば、例えば、シール材が焼成中に支柱又はスペーサーの高さに一致するように流れて、シール高さのばらつきを減少させることで、焼成中のシール材の流れを調節する長い焼成工程を用いてもよい。
特定の実施形態例によれば、ＶＩＧ窓ユニットの製造方法が開示されている。特定の例示の方法によれば、初期のシール高さ用物質適用は、ＶＩＧユニットのガラス基板のうちの１つ上に初期のシール材をディスペンスするために機器を用いて調節されてもよい。初期ディスペンスのシール材の高さは、次の焼成に用いられる工程タイプにより異なることもある。例えば、これに限定されないが、短波赤外線（ＳＷＩＲ）焼成による初期のシール材堆積は、好ましくはグリーン未焼成（例えば、測定されたドライ）フリット（例えば、シール材）高さが約０．４ｍｍ〜０．９ｍｍ、さらに好ましくは約０．５ｍｍ〜０．８ｍｍ、より好ましくは約０．６ｍｍ〜０．７ｍｍであってもよい。ＳＷＩＲ処理は、比較的短時間に行われるから、初期グリーンフリット高さの堆積許容値は長いサイクル焼成工程の場合からより小さい。長いピーク加熱時間によって、シール材が支柱又はスペーサーの高さまで流れたり保持されるため、例えば、これに限定されないが、長いサイクルの従来型の焼成の間、例えば、グリーン未焼成フリット高さは約０．４ｍｍ〜１．０ｍｍ、さらに好ましくは０．５ｍｍ〜０．９ｍｍ、より好ましくは約０．６ｍｍ〜０．９ｍｍであってもよい。また他の実施形態によれば、例えば、ＶＩＧユニットのガラス基板の反りや捻れを減らし、シール高さのばらつきをさらに調節又は減少させるために、熱サイクルを調節してもよい。例えば、温度差によってガラス基板が反ったり捻れて、好ましくないシール高さのばらつきを起こす。したがって、特定の実施形態例によれば、例えば、より大きい温度均一（例えば、２．０℃未満）及び十分な加熱時間（例えば、２０〜３０分）を提供するために、焼成条件を調節してガラス基板が均一な温度に到達して平坦化されることによって、ガラスが安定して平坦化される。
図３を再び参照すると、端部シール４の最終的なシール高さ（Ｈ）が示されている。特定の実施形態例によれば、ＶＩＧユニット１の端部シール４の周長における端部シール４の高さＨのばらつきは、例えば、これに限定されないが、シール材（例えば、フリット）の初期ディスペンスの高さのばらつきを調節することによって調節されてもよい。上記のように、望ましい例示の初期ディスペンスフリット高さは、例えば、ＶＩＧユニットを焼成するところに用いられた工程タイプにより異なることもある。ＳＷＩＲ型の焼成工程を用いる特定の実施形態例によれば、初期ディスペンスのシール材の高さは、例えば、好ましくは約０．４ｍｍ〜０．９ｍｍ、さらに好ましくは約０．５ｍｍ〜０．８ｍｍ、より好ましくは約０．６ｍｍ〜０．７ｍｍであってもよい。長いサイクルの従来型の焼成を用いるその他の例示的な実施形態によれば、例えば、初期ディスペンスのシール材の高さ（例えば、グリーン未焼成フリット高さ）は、好ましくは０．４ｍｍ〜１．０ｍｍ、さらに好ましくは約０．５ｍｍ〜０．９ｍｍ、より好ましくは約０．６ｍｍ〜０．９ｍｍであってもよい。長いサイクルの従来型の工程のばらつきは、このようなタイプの焼成工程が典型的にさらに長いピーク加熱時間を設けるため、さらに大きくてもよい。例示的な実施形態によれば、初期のフリットディスペンスは、前記例示的な実施形態に対して近接した許容値に基づいて機械工程を用いて実施してもよい。また、特定の実施形態例によれば、焼成中のシール材の流れを容易にしてガラス基板の平坦化を容易にして最終的にシール高さのばらつきの低減を助けるために、さらに長いピーク加熱時間を設けることが望ましい。また、上記のように、温度差によってガラス基板の反りや捻れが好ましくないシール高さのばらつきを起こし得る。したがって、特定の実施形態例によれば、ガラス基板が均一な温度に到達するようにすることによって、ガラスを安定させて平坦化し、シール材の流れを可能にするために、焼成条件は、例えば大きい温度均一性（例えば、約２．０℃未満）及び十分な加熱時間（例えば、約２０〜３０分）を提供するように調節してもよい。得られたＶＩＧユニットは、最終的にシール高さのばらつきが減少し、最終的な端部シール高さのばらつきは、好ましくは約０．２０ｍｍ未満、さらに好ましくは０．１５ｍｍ以下、より好ましくは約０．１０ｍｍ以下である。
図４は、特定の実施形態例に従うＶＩＧ窓ユニットを製造する方法を示す例示のフローチャートである。図４に示すように、第１ガラス基板が提供される（Ｓ１）。ガラス基板は、例えば、スペーサー又は支柱などのような典型的なＶＩＧ窓ユニットの特定の構造的特徴を提供するために処理されてもよい。ステップＳ３で、第１ガラス基板には、例えば、これに限定されないが、封止される領域境界にシール材が配置され、キャビティが第２ガラス基板（下記に記載）によって規定される。上記のように、ＶＩＧ窓ユニット内にシールを形成するために用いられた任意の数の、可能なフリット又はシール材が存在してもよい。例えば、これに限定されないが、バナジウム系若しくはＶＢＺ型のシール又ははんだガラス型シールを含む。例えば、バナジウム系又はＶＢＺ型シール組成物は、２０１２年１月２０日に出願された米国特許出願第１３／３５４，９６３号に開示され、本明細書に参照として含まれる。ＶＢＺ（例えば、バナジウム、バリウム、亜鉛）系のシール組成物は、米国特許出願第１３／３５４，９６３号に開示され、特定の実施形態例で端部シール４に用いてもよい。特定の実施形態例において、従来のはんだガラスフリット材料を端部シール４に用いてもよい。特定の望ましい例示的な実施形態によれば、シール材は、ステップＳ３において、例えば、使用される次の焼成タイプに基づいてグリーンフリット高さまで機器によって堆積される。例えば、短波赤外線（ＳＷＩＲ）焼成時に、グリーン赤外線フリット（例えば、シール材）高さは、好ましくは約０．４ｍｍ〜０．９ｍｍ、さらに好ましくは約０．５ｍｍ〜０．８ｍｍ、より好ましくは約０．６ｍｍ〜０．７ｍｍであってもよい。上記のように、ＳＷＩＲ処理は比較的短時間で行われるため、初期グリーンフリット高さの堆積許容値は長いサイクル焼成工程の場合より小さくてもよい。例えば、これに限定されないが、前記詳細に記載された長いサイクルの従来型の焼成の間に、例えば、グリーン未焼成フリット高さは、シール材が支柱又はスペーサーの高さまで流れたり保持されるため、好ましくは約０．４ｍｍ〜１．０ｍｍ、さらに好ましくは約０．５ｍｍ〜０．９ｍｍ、より好ましくは約０．６ｍｍ〜０．９ｍｍであってもよい。シール材がステップＳ３で提供された後に、ステップ５で第２ガラス基板が提供され、第１ガラス基板と第２ガラス基板との間に未焼成フリット材料及び支柱を挟持する。第１ガラス基板と第２ガラス基板は、フリットシール材と共に、例えば、これに限定されないが、ＳＷＩＲ又は長いサイクル対流（ｌｏｎｇ ｃｙｃｌｅ ｃｏｎｖｅｃｔｉｏｎ）のような任意の好適な技術を用いて焼成する（Ｓ７）。得られたＶＩＧユニットは、好ましくは最終的にシール高さのばらつきが減少し、例えば、最終的な端部シール高さのばらつきは、好ましくは約０．２０ｍｍ未満、さらに好ましくは約０．１５ｍｍ以下、及びより好ましくは約０．１０ｍｍ以下であってもよい。
したがって、本発明の特定の実施形態例において、真空断熱ガラス（ＶＩＧ）窓ユニットが提供されるが、これは第１基板及び第２基板、及び、前記第１基板と第２基板との間に形成されたキャビティの境界を規定する前記第１基板と第２基板との間に挟まれたシール材を含み、前記基板の間のキャビティは大気圧未満の圧力であって、前記第１基板と第２基板との間に気密封止を形成し、前記全体キャビティ周辺における前記シール材の高さのばらつきは約０．２０ｍｍ未満である。
直前の段落に記載のＶＩＧ窓ユニットにおいて、前記全体キャビティ周辺における前記シール材の高さのばらつきは、約０．１５ｍｍ以下、さらに好ましくは約０．１０ｍｍ以下であってもよい。
前記２つの段落のいずれかに記載のＶＩＧ窓ユニットにおいて、前記第１基板と第２基板との間に配置される複数のスペーサーが提供されてもよい。
前記３つの段落のいずれかに記載のＶＩＧ窓ユニットにおいて、前記シール材の高さが基板の間のスペーサーの高さと実質的に一致してもよい。
前記４つの段落のいずれかに記載のＶＩＧ窓ユニットにおいて、前記第１基板と第２基板はガラス基板であってもよい。
前記５つの段落のいずれかに記載のＶＩＧ窓ユニットにおいて、前記シール材はフリットを含有する接着剤を含んでもよい。
前記６つの段落のいずれかに記載のＶＩＧ窓ユニットにおいて、前記シール材はバナジウムを含んでもよい。
本明細書で使用されたように、「上に」、「支持された」などは特に記載されなければ、２つの要素が互いに直接隣接いていることを意味すると解釈されるべきではない。すなわち、第１層と第２層との間に１つ以上の層が存在する場合にも、第１層は第２層の上にあったり、第２層によって支持されるものと記載されてもよい。
本明細書では特定の実施形態について説明及び開示してきたが、本明細書に記載の実施態様は、限定ではなく例示を目的とするものであり、また、当業者は、本明細書に添付する特許請求の範囲の真の趣旨及び全範囲を逸脱することなく様々な変更が可能であると考えることができることが分かるであろう。

Claims (8)

  1. 周長を有し、機器によって堆積されて、未焼成で約０．６ｍｍ〜０．９ｍｍの高さを有するシール材を、第１ガラス基板上に堆積させるステップと、
    真空断熱ガラス窓ユニットが焼成後の高さのばらつきが約０．２０ｍｍ未満のシール材を有するように、前記第１ガラス基板と、第２ガラス基板と、前記第１ガラス基板と前記第２ガラス基板との間に挟まれた前記シール材と、を含む部分組立品を焼成するステップと、
    を含み、
    前記焼成するステップは、実質的に少なくとも約２０から３０分の間、前記部分組立品に適用される対流サイクルを含み、
    前記対流サイクル中の温度ばらつきは、約２℃以下である、
    真空断熱ガラス窓ユニットの製造方法。
  2. 機器によって堆積された前記シール材の未焼成での高さは約０．６ｍｍ〜０．７ｍｍの範囲内であって、前記焼成するステップは短波赤外線処理を含む、
    請求項１に記載の方法。
  3. 前記周長における焼成後の前記シール材の高さのばらつきは、約０．１５ｍｍ以下である、
    請求項１から請求項２のいずれか一項に記載の方法。
  4. 前記周長における焼成後の前記シール材の高さのばらつきは、約０．１０ｍｍ以下である、
    請求項１から請求項３のいずれか一項に記載の方法。
  5. 前記シール材の前記周長によって規定されたキャビティの圧力を大気圧未満にするステップをさらに含む、
    請求項１から請求項４のいずれか一項に記載の方法。
  6. 前記シール材は、フリットを含有する接着剤を含む、
    請求項１から請求項５のいずれか一項に記載の方法。
  7. 前記シール材は、バナジウムを含む、
    請求項１から請求項６のいずれか一項に記載の方法。
  8. 前記第１基板と前記第２基板との間に複数のスペーサーを配置するステップをさらに含む、
    請求項１から請求項７のいずれか一項に記載の方法。
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