JP6292443B2 - 透明導電膜用リペア組成物及び透明導電膜 - Google Patents
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Description
本発明のリペア組成物は、導電材料を含有する透明導電膜形成用組成物を塗布して形成された透明導電膜の修復・再生に用いられる組成物であって、
膜厚300nmの乾燥膜とした場合の全光線透過率が97%以上、ヘイズが3%以下、波長633nmにおける屈折率が1.40〜1.70、色度が−1.5〜1.5である組成物である。
導電材料としては、特に限定されず、例えば、無機導電微粒子、金属ナノワイヤ、導電性ポリマー、炭素材料等が挙げられる。これらの導電材料は、単独で用いても、2種以上を併用しても良い。導電材料は、透明導電膜とした際の導電性・透明性に優れる点で、無機導電微粒子、金属ナノワイヤ及び導電性ポリマーからなる群より選択される少なくとも1つであることが好ましい。
金属単体としては、特に限定されないが、例えば、銀、銅、銀、鉄、コバルト、ニッケル、亜鉛、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、カドミウム、オスミウム、イリジウム、白金等が挙げられ、金属含有化合物としては、特に限定されないが、例えば、これらの金属を含むものが挙げられる。これらの金属ナノワイヤは、単独で用いても良いし、2種以上を併用しても良い。
金属ナノワイヤの長さは、特に限定されないが、1〜1000μmであることが好ましく、1〜100μmであることがより好ましい。金属ナノワイヤの長さが1μm未満であると塗布膜の導電性の低下の原因となることがあり、1000μmを超えると、金属ナノワイヤ分散体の安定性が悪くなることがある。
なお、本発明において、アスペクト比とは、金属ナノワイヤの径に対する長さの比を表す。
ポリ(3,4−ジアルコキシチオフェン)又はポリ(3,4−アルキレンジオキシチオフェン)としては、以下の式(I):
C1−4のアルキル基としては、特限定されないが、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、t−ブチル基等が挙げられる。また、R1及びR2が結合している場合、C1−4のアルキレン基としては、特に限定されないが、例えば、メチレン基、1,2−エチレン基、1,3−プロピレン基、1,4−ブチレン基、1−メチル−1,2−エチレン基、1−エチル−1,2−エチレン基、1−メチル−1,3−プロピレン基、2−メチル−1,3−プロピレン基等が挙げられる。これらの中では、メチレン基、1,2−エチレン基、1,3−プロピレン基が好ましく、1,2−エチレン基がより好ましい。C1−4のアルキル基、及び、C1−4のアルキレン基は、その水素の一部が置換されていても良い。C1−4のアルキレン基を有するポリチオフェンとしては、ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)が特に好ましい。
ポリ陰イオンとしては、特に限定されないが、例えば、カルボン酸ポリマー類(例えば、ポリアクリル酸、ポリマレイン酸、ポリメタクリル酸等)、スルホン酸ポリマー類(例えば、ポリスチレンスルホン酸、ポリビニルスルホン酸、ポリイソプレンスルホン酸等)等が挙げられる。これらのカルボン酸ポリマー類及びスルホン酸ポリマー類はまた、ビニルカルボン酸類及びビニルスルホン酸類と他の重合可能なモノマー類、例えば、アクリレート類、スチレン、ビニルナフタレン等の芳香族ビニル化合物との共重合体であっても良い。これらの中では、ポリスチレンスルホン酸が特に好ましい。
バインダーとしては、特に限定されないが、例えば、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、ポリウレタン、エポキシ樹脂、アルコキシシランオリゴマー、ポリオレフィン樹脂等が挙げられる。これらのバインダーは単独で用いても良いし、2種以上を併用しても良い。これらのバインダーは導電材料等の他の成分との相溶性が高く、これらのバインダーを含有するリペア組成物は凹部周辺の透明導電膜との親和性が良好であることから、本発明のリペア組成物を膜不良部に塗布することにより膜不良部を効果的に不可視化することができる。さらには、これらのバインダーを含有するリペア組成物を用いて修復・再生された透明導電膜は、良好な硬度及び耐薬品性を得ることができる。
SiR4 (II)
(式中、Rは、水素、水酸基、炭素数1〜4のアルコキシ基、置換基を有しても良いアルキル基、置換基を有しても良いフェニル基である。但し、4つのRのうち少なくとも1個は炭素数1〜4のアルコキシ基又は水酸基である)
アルコキシシランオリゴマーの重量平均分子量は特に限定されないが、152より大きく4000以下であることが好ましく、500〜2500であることがより好ましい。
ここで、重量平均分子量はゲル透過クロマトグラフィー(GPC)にて測定した値である。
導電性向上剤は、塗布膜の導電性を向上させる目的で添加される。導電性向上剤は、塗布膜を形成する際に加熱により蒸散するが、その際に導電性ポリマーの配向を制御することで塗布膜の導電性を向上させるものと推定される。また、導電性向上剤を使用する場合、導電性向上剤を使用しない場合と比較して、表面抵抗率を維持しつつ導電性ポリマーの配合量を少なく出来る結果、透明性を改善できる利点がある。
(i)沸点が60℃以上で分子内に少なくとも1つのケトン基を有する化合物
(ii)沸点が100℃以上で分子内に少なくとも1つのエーテル基を有する化合物
(iii)沸点が100℃以上で分子内に少なくとも1つのスルフィニル基を有する化合物
(iv)沸点が100℃以上で分子内に少なくとも1つのアミド基を有する化合物
(v)沸点が50℃以上で分子内に少なくとも1つのカルボキシル基を有する化合物
(vi)沸点が100℃以上で分子内に2つ以上のヒドロキシル基を有する化合物
(vii)沸点が100℃以上で分子内に少なくとも1つのラクタム基を有する化合物
溶媒としては、特に限定されず、例えば、水;メタノール、エタノール、2−プロパノール、1−プロパノール等のアルコール類;エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール等のエチレングリコール類;エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル等のグリコールエーテル類;エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート等のグリコールエーテルアセテート類;プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール等のプロピレングリコール類;プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールジエチルエーテル、ジプロピレングリコールジエチルエーテル等のプロピレングリコールエーテル類;プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート等のプロピレングリコールエーテルアセテート類;テトラヒドロフラン;アセトン;アセトニトリル等が挙げられる。これらの溶媒は単独で用いても良いし、2種類以上を併用しても良い。
リペア組成物は、導電材料を含有する透明導電膜形成用組成物を塗布して形成された透明導電膜の修復・再生に用いられる。本発明のリペア組成物を用いて修復・再生された本発明の透明導電膜は、高い透明性と導電性、低いヘイズ値、良好な膜強度の全てを適度に維持できる点で、電磁波シールド膜、ノイズカット膜、帯電防止膜及び透明電極といった用途に好適に使用される。
本発明のリペア組成物が適用される透明導電膜は、導電材料を含有する透明導電膜形成用組成物を塗布して形成されたものであり、基材の少なくとも一つの面上に配置されたものである。透明導電膜は、透明導電膜形成用組成物を基材に直接塗布して形成しても良いし、プライマー層等の別の層を予め基材上に設けた後で、当該層の上に塗布して形成しても良い。
本発明のリペア組成物を用いた透明導電膜の修復・再生方法は、特に限定されないが、例えば、以下のとおり行うことができる。
本発明のリペア組成物を透明導電膜上の凹部に塗布することにより、透明導電膜を形成する過程や、表示デバイスへの組立過程で透明導電膜に生じた各種膜不良(傷、欠損又は異物)を有する透明導電膜を修復・再生することができる。
透明導電膜上の凹部としては、特に限定されないが、例えば、基材の形状に起因する凹み、透明導電膜に存在する傷及び欠損、透明導電膜に存在する異物を除去して形成された凹み、並びに、透明導電膜に存在する欠損を加圧して形成された凹み等が挙げられる。
基材の形状に起因する凹みとしては、例えば、ディンプルのような傷を表面に有する基材上に透明導電膜を形成した場合に、透明導電膜上に生じる凹みが挙げられる。
透明導電膜に存在する傷及び欠損としては、透明導電膜を形成する過程や、表示デバイスへの組立過程で透明導電膜の膜中や膜表面に生じた凹形状の傷及び欠損が挙げられる。なお、本発明のリペア組成物を用いた透明導電膜の修復・再生においては、傷及び欠損の形状に応じて、任意に、研磨紙等で傷及び欠損表面を部分的に削り取る処理を行っても良い。
透明導電膜に存在する異物を除去して形成された凹みとしては、透明導電膜を形成する過程で異物が混入した場合に、異物を除去した結果、透明導電膜上に生じる凹みが挙げられる。
透明導電膜に存在する欠損を加圧して形成された凹みとしては、透明導電膜を形成する過程において、透明導電膜の膜中や膜表面(透明導電膜と基材との界面を含む)に気泡が混入した場合に、この欠損を加圧した結果、透明導電膜上に生じる凹みが挙げられる。
透明導電膜中又は透明導電膜と基材の間に存在する空隙を加圧して凹みを形成する方法としては、特に限定されないが、粘着ローラーを用いて、加圧する方法等が挙げられる。
凹部形成工程の後、凹部にリペア組成物を塗布する。凹部にリペア組成物を塗布する方法としては、特に限定されないが、リペア組成物を浸み込ませた不織布、綿棒、刷毛等を用いて凹部に塗布する方法等が挙げられる。
リペア組成物塗布工程、リペア組成物除去工程又は乾燥処理工程の後、任意に、透明導電膜上の凹部に透明樹脂層を積層することができる。リペア組成物を塗布した透明導電膜に透明樹脂層を積層することで、膜不良部を効果的に不可視化できるため好ましい。透明導電膜上の凹部に透明樹脂層を積層する方法としては、上述の透明樹脂層形成用組成物を透明導電膜上の凹部に塗布した後加熱処理する方法や、あらかじめ粘着フィルムとして形成された透明樹脂層を透明導電膜上の凹部に貼り合わせる方法等が挙げられる。透明樹脂層形成用組成物を透明導電膜上の凹部に塗布する方法や、加熱処理の条件は、上述の透明導電膜を形成する際に採用し得る方法、条件と同様である。
次に、本発明の透明導電膜を備えた透明導電積層体について説明する。
透明導電積層体は、ガラス基材を備え、ガラス基材、透明導電膜及び透明樹脂層が順に積層されたものであることが好ましい。なお、ガラスと透明導電膜との間や透明導電膜と透明樹脂層との間には、プライマー層等の層が存在しても良い。
以下の実施例及び比較例においては、以下の材料を使用した。
1−1.導電材料
・ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)ポリスチレンスルホン酸(PEDOT/PSS)(ヘレウス株式会社製、Clevios PH1000)
・銀ナノワイヤ(星光PMC社製、T−YP808、アスペクト比230、固形分1.0%)
・ITO微粒子(三菱マテリアル電子化成社製、酸化インジウムスズ)
・ATO微粒子(三菱マテリアル電子化成社製、アンチモン含有酸化スズ(ATO))
・カーボンナノチューブ(名城ナノカーボン社製、SWNT分散液、カーボンナノチューブ濃度0.1%)
・グラフェン(XG Sciences社製、H−5水分散液、固形分15%)
1−2.バインダー
・ポリエステル樹脂(ナガセケムテックス社製、ガブセンES−210、固形分25%)
・アルコキシシランオリゴマー(扶桑化学工業社製、N−POS)
・アルコキシシランオリゴマー(多摩化学工業社製、TEOS)
・アルコキシシランオリゴマー(信越化学工業社製、KBM−303)
・ポリウレタン(第一工業製薬社製、スーパーフレックス300、固形分30%)
・アクリル樹脂(東亞合成社製、ジュリマーSEK301、固形分40%)
・アクリル樹脂(日本触媒社製、アクアリックDL−522、固形分30%)
・アクリル樹脂(ナガセケムテックス社製、テイサンレジンSG−600TEA、固形分15%)
・ポリオレフィン樹脂(東洋紡社製、NZ―1001、固形分100%)
・エポキシ樹脂(ジャパンエポキシレジン社製、828XA、固形分100%)
・フッ素系樹脂(ダイキン工業社製、ポリフロンF−205)
・アルコキシチタンオリゴマー(マツモトファインケミカル社製、オルガチックスTC―400、80%)
1−3.導電性向上剤
・エチレンシアノヒドリン(東京化成工業社製、δD=17.2、δH=18.8、δP=17.6)
・ピラゾール(東京化成工業社製、δD=20.2、δH=10.4、δP=12.4)
1−4.溶剤
・エタノール(ナカライテスク社製、沸点78.4℃)
・エチレングリコール(和光純薬工業社製)
1−5.架橋剤
・特殊アクリレート(多官能)DPHA系(東亞合成社製、アロニックスM−406、固形分100%)
・イソシアネート化合物(日本ポリウレタン社製、コロネートHL、固形分75%)
1−6.触媒
・1%硝酸
・アルキルフェノン系光重合開始剤(チバ・スペシャリティケミカルズ社製、イルガキュア184、)
以下の実施例及び比較例において、各工程は以下の方法により行った。
2−1.透明導電膜形成工程
透明導電膜形成用組成物を無アルカリガラス板(厚み0.7mm、全光線透過率91.2%)にワイヤーバーを用いて塗布し、オーブンにて120℃、30分間加熱することにより透明導電膜を形成した。
なお、実施例7では、透明導電膜形成用組成物を無アルカリガラス板(厚み0.7mm、全光線透過率91.2%)にワイヤーバーを用いて塗布し、オーブンにて100℃、5分間加熱して乾燥させた後、2000mJ/cm2の紫外線を照射して成膜することで透明導電膜を形成した。
2−2.凹部
透明導電膜上に欠損等の凹部が存在する場合、その凹部をそのまま用いた。透明導電膜の破片が剥がれ落ちることなく透明導電膜上に残存している場合、粘着ローラーに破片を付着させて除去した。
透明導電膜に異物が存在する場合、研磨紙(住友スリーエム社製、568XA)で透明導電膜を研磨して異物を除去し、透明導電膜上に凹部を形成した。研磨後に透明導電膜の破片が剥がれ落ちることなく透明導電膜上に残存している場合、粘着ローラーに破片を付着させて除去した。
透明導電膜に空隙が存在する場合、空隙を加圧することで透明導電膜上に凹部を形成した。ここで、加圧は粘着ローラー(一進産業社製、クリーニングローラーP―50)を用いて行った。
2−3.リペア組成物塗布工程
不織布(旭化成社製、ベンコット)を用いてリペア組成物を透明導電膜上の凹部に塗布した。
その後、オーブンにて120℃、3分間加熱することによりリペア組成物を乾燥させた。
2−4.透明樹脂層積層工程
各実施例及び比較例で得た透明樹脂層形成用組成物を透明導電膜上に塗布し、オーブンにて120℃、3分間加熱して乾燥させることにより、透明樹脂層を積層した。
以下の実施例及び比較例において、各評価は以下の方法により行った。
3−1.膜厚の測定
触針式表面形状測定装置(アルバック社製、Dektak6M)を用いて測定した。
3−2.表面抵抗率(SR)の測定
2−1.透明導電膜形成工程直後、及び、2−3.リペア組成物塗布工程直後の透明導電膜について、抵抗率計(三菱化学社製、ロレスターGP MCP−T600)を用いて測定した。
3−3.全光線透過率(Tt)及びヘイズの測定
JIS K7150に従い、ヘイズコンピュータ(スガ試験機社製、HGM−2B)を用いて測定した。
3−4.色度の測定
分光測色計(コニカミノルタ社製、CM3600d)を用いて測定した。
3−5.屈折率の測定
エリプソメータ(溝尻光学工業所社製、DHA−XA2/S6)を用いて波長633nmにて測定した。
3−6.超音波洗浄耐性
水又はアセトンを入れたビーカーに2−3.リペア組成物塗布工程直後の透明導電膜付ガラス板を入れ、超音波洗浄機(アズワン社製、ULTRASONIC CLEANER US−4R)にて10分間洗浄し、抵抗率計(三菱化学社製、ロレスターGP MCP−T600)を用いて洗浄前後の表面抵抗率を測定した。洗浄前後の表面抵抗率の変化率は下記式により算出した。変化率が1.3倍以下であった場合を○、1.3倍を超えた場合を×として評価した。
変化率=洗浄後の表面抵抗率(Ω/□)/洗浄前の表面抵抗率(Ω/□)
3−7.外観(目視観察)
目視検査用照明を透明導電積層体の背面に配置し、透明導電積層体表面に凹凸や異物が存在するかを目視にて確認した。凹凸や異物が確認されなかったものを○、確認されたものを×として評価した。
3−8.外観(拡大観察)
電界放出形走査型電子顕微鏡(FE−SEM)(日立製作所社製、S−4500)を用いて、透明導電積層体表面に凹凸や異物が存在するかを確認した。凹凸や異物が確認されなかったものを○、確認されたものを×として評価した。
PEDOT/PSS100部、ポリエステル樹脂33部、エチレンシアノヒドリン37部、エタノール255部、イオン交換水45部を混合することにより、透明導電膜形成用組成物を得た。また、ポリエステル樹脂100部、エタノール1395部を混合することにより、リペア組成物を得た。さらに、アクリル樹脂(東亞合成社製、ジュリマーSEK301、固形分40%)100部、エタノール75部を混合して透明樹脂層形成用組成物を得た。得られた透明導電膜形成用組成物、リペア組成物及び透明樹脂層形成用組成物を用いて、2−1.〜2−4に記載の工程を行うことで透明導電積層体を得た。
PEDOT/PSS80部、エチレンシアノヒドリン37部、エタノール200部を混合することにより、透明導電膜形成用組成物を得た。また、銀ナノワイヤ100部、アクリル樹脂(日本触媒社製、アクアリックDL−522)33部、エタノール300部を混合することにより、リペア組成物を得た。さらに、アルコキシシランオリゴマー(多摩化学工業社製、TEOS)90部、アルコキシシランオリゴマー(信越化学工業社製、KBM−303)30部、エタノール4000部を混合して透明樹脂層形成用組成物を得た。得られた透明導電膜形成用組成物、リペア組成物及び透明樹脂層形成用組成物を用いて、2−1.〜2−4に記載の工程を行うことで透明導電積層体を得た。
PEDOT/PSS100部、ポリエステル樹脂33部、エチレンシアノヒドリン37部、エタノール255部、イオン交換水45部を混合することにより、透明導電膜形成用組成物を得た。また、PEDOT/PSS80部、グラフェン水分散体20部、ポリウレタン100部、エタノール1400部を混合することにより、リペア組成物を得た。さらに、アクリル樹脂(ナガセケムテックス社製、テイサンレジンSG−600TEA、固形分15%)200部、イソシアネート化合物5部、エタノール5部を混合して透明樹脂層形成用組成物を得た。得られた透明導電膜形成用組成物、リペア組成物及び透明樹脂層形成用組成物を用いて、2−1.〜2−4に記載の工程を行うことで透明導電積層体を得た。
PEDOT/PSS100部、ポリエステル樹脂33部、エチレンシアノヒドリン37部、エタノール255部、イオン交換水45部を混合することにより、透明導電膜形成用組成物を得た。また、PEDOT/PSS80部、エタノール250部を混合することにより、リペア組成物を得た。さらに、アルコキシシランオリゴマー(多摩化学工業社製、TEOS)90部、アルコキシシランオリゴマー(信越化学工業社製、KBM−303)30部、エタノール4000部を混合して透明樹脂層形成用組成物を得た。得られた透明導電膜形成用組成物、リペア組成物及び透明樹脂層形成用組成物を用いて、2−1.〜2−4に記載の工程を行うことで透明導電積層体を得た。
PEDOT/PSS80部、銀ナノワイヤ50部、ポリエステル樹脂42部、ピラゾール37部、エタノール250部、イオン交換水40部、エチレングリコール5部を混合することにより、透明導電膜形成用組成物を得た。また、アクリル樹脂(日本触媒社製、アクアリックDL−522、固形分30%)100部、エタノール 1500部を混合することにより、リペア組成物を得た。さらに、アクリル樹脂(ナガセケムテックス社製、テイサンレジンSG−600TEA、固形分15%)200部、イソシアネート化合物5部、エタノール5部を混合して透明樹脂層形成用組成物を得た。得られた透明導電膜形成用組成物、リペア組成物及び透明樹脂層形成用組成物を用いて、2−1.〜2−4に記載の工程を行うことで透明導電積層体を得た。
PEDOT/PSS100部、ポリエステル樹脂33部、ピラゾール37部、エタノール255部、イオン交換水45部を混合することにより、透明導電膜形成用組成物を得た。また、カーボンナノチューブ1部、アクリル樹脂(ナガセケムテックス社製、テイサンレジンSG−600TEA、固形分15%)2.5部を混合することにより、リペア組成物を得た。さらに、アクリル樹脂(東亞合成社製、ジュリマーSEK301、固形分40%)100部、エタノール75部を混合して透明樹脂層形成用組成物を得た。得られた透明導電膜形成用組成物、リペア組成物及び透明樹脂層形成用組成物を用いて、2−1.〜2−4に記載の工程を行うことで透明導電積層体を得た。
PEDOT/PSS100部、ITO微粒子0.1部、特殊アクリレート7部、アルキルフェノン系光重合開始剤0.7部、エタノール500部、イオン交換水50部を混合することにより、透明導電膜形成用組成物を得た。また、PEDOT/PSS100部、ITO微粒子1部、ポリオレフィン樹脂16部、エタノール500部を混合することにより、リペア組成物を得た。さらに、アクリル樹脂(ナガセケムテックス社製、テイサンレジンSG−600TEA、固形分15%)200部、イソシアネート化合物5部、エタノール5部を混合して透明樹脂層形成用組成物を得た。得られた透明導電膜形成用組成物、リペア組成物及び透明樹脂層形成用組成物を用いて、2−1.〜2−4に記載の工程を行うことで透明導電積層体を得た。
PEDOT/PSS100部、銀ナノワイヤ75部、アルコキシシランオリゴマー(信越化学工業社製、KBM−303)14部、エチレンシアノヒドリン37部、エタノール350部、イオン交換水45部、1%硝酸32部を混合することにより、透明導電膜形成用組成物を得た。また、PEDOT/PSS100部、アクリル樹脂(東亞合成社製、ジュリマーSEK301、固形分40%)23部、エタノール500部を混合することにより、リペア組成物を得た。さらに、アクリル樹脂(ナガセケムテックス社製、テイサンレジンSG−600TEA、固形分15%)200部、イソシアネート化合物5部、エタノール5部を混合して透明樹脂層形成用組成物を得た。得られた透明導電膜形成用組成物、リペア組成物及び透明樹脂層形成用組成物を用いて、2−1.〜2−4に記載の工程を行うことで透明導電積層体を得た。
PEDOT/PSS100部、アルコキシシランオリゴマー(多摩化学工業社製、TEOS)9部、エチレンシアノヒドリン37部、エタノール350部、イオン交換水45部、1%硝酸19部を混合することにより、透明導電膜形成用組成物を得た。また、アルコキシシランオリゴマー(多摩化学工業社製、TEOS)20部、エタノール800部を混合することにより、リペア組成物を得た。さらに、アルコキシシランオリゴマー(扶桑化学工業社製、N−POS)100部、エタノール950部を混合して透明樹脂層形成用組成物を得た。得られた透明導電膜形成用組成物、リペア組成物及び透明樹脂層形成用組成物を用いて、2−1.〜2−4に記載の工程を行うことで透明導電積層体を得た。
ITO微粒子1部、ポリウレタン25部、エタノール370部、イオン交換水30部を混合することにより、透明導電膜形成用組成物を得た。また、ITO微粒子1部、ポリウレタン25部、エタノール500部を混合することにより、リペア組成物を得た。さらに、アクリル樹脂(東亞合成社製、ジュリマーSEK301、固形分40%)100部、エタノール75部を混合して透明樹脂層形成用組成物を得た。得られた透明導電膜形成用組成物、リペア組成物及び透明樹脂層形成用組成物を用いて、2−1.〜2−4に記載の工程を行うことで透明導電積層体を得た。
PEDOT/PSS100部、アルコキシシランオリゴマー(扶桑化学工業社製、N−POS)14部、エチレンシアノヒドリン37部、エタノール255部、イオン交換水45部、1%硝酸19部を混合することにより、透明導電膜形成用組成物を得た。また、PEDOT/PSS80部、カーボンナノチューブ2部、アルコキシシランオリゴマー(扶桑化学工業社製、N−POS)14部、エタノール500部を混合することにより、リペア組成物を得た。さらに、アルコキシシランオリゴマー(扶桑化学工業社製、N−POS)100部、エタノール950部を混合して透明樹脂層形成用組成物を得た。得られた透明導電膜形成用組成物、リペア組成物及び透明樹脂層形成用組成物を用いて、2−1.〜2−4に記載の工程を行うことで透明導電積層体を得た。
PEDOT/PSS80部、エタノール200部を混合することにより、透明導電膜形成用組成物を得た。また、PEDOT/PSS100部、エポキシ樹脂16.5部、エタノール250部を混合することにより、リペア組成物を得た。アクリル樹脂(ナガセケムテックス社製、テイサンレジンSG−600TEA、固形分15%)200部、イソシアネート化合物5部、エタノール5部を混合して透明樹脂層形成用組成物を得た。得られた透明導電膜形成用組成物、リペア組成物及び透明樹脂層形成用組成物を用いて、2−1.〜2−4に記載の工程を行うことで透明導電積層体を得た。
PEDOT/PSS100部、カーボンナノチューブ0.1部、アクリル樹脂(日本触媒社製、アクアリックDL−522)40部、エチレンシアノヒドリン37部、エタノール 350部を混合することにより、透明導電膜形成用組成物を得た。また、アクリル樹脂(日本触媒社製、アクアリックDL−522)20部、エタノール250部を混合することにより、リペア組成物を得た。アクリル樹脂(ナガセケムテックス社製、テイサンレジンSG−600TEA、固形分15%)200部、イソシアネート化合物5部、エタノール5部を混合して透明樹脂層形成用組成物を得た。得られた透明導電膜形成用組成物、リペア組成物及び透明樹脂層形成用組成物を用いて、2−1.〜2−4に記載の工程を行うことで透明導電積層体を得た。
PEDOT/PSS100部、アルコキシシランオリゴマー(扶桑化学工業社製、N−POS)24部、エチレンシアノヒドリン37部、エタノール500部、イオン交換水80部、1%硝酸19部を混合することにより、透明導電膜形成用組成物を得た。また、ATO微粒子1部、アルコキシシランオリゴマー(扶桑化学工業社製、N−POS)12部、エタノール500部、1%硝酸18部を混合することにより、リペア組成物を得た。さらに、アルコキシシランオリゴマー(扶桑化学工業社製、N−POS)100部、エタノール950部を混合して透明樹脂層形成用組成物を得た。得られた透明導電膜形成用組成物、リペア組成物及び透明樹脂層形成用組成物を用いて、2−1.〜2−4に記載の工程を行うことで透明導電積層体を得た。
PEDOT/PSS100部、ATO微粒子1部、アルコキシシランオリゴマー(扶桑化学工業社製、N−POS)25部、エチレンシアノヒドリン37部、エタノール600部、イオン交換水100部、1%硝酸37部を混合することにより、透明導電膜形成用組成物を得た。また、PEDOT/PSS100部、ATO微粒子1部、アルコキシシランオリゴマー(扶桑化学工業社製、N−POS)25部、エチレンシアノヒドリン37部、エタノール600部、イオン交換水100部、1%硝酸37部を混合することにより、リペア組成物を得た。さらに、アルコキシシランオリゴマー(扶桑化学工業社製、N−POS)100部、エタノール950部を混合して透明樹脂層形成用組成物を得た。得られた透明導電膜形成用組成物、リペア組成物及び透明樹脂層形成用組成物を用いて、2−1.〜2−4に記載の工程を行うことで透明導電積層体を得た。
PEDOT/PSS100部、ポリウレタン55部、エタノール520部、イオン交換水80部を混合することにより、透明導電膜形成用組成物を得た。また、PEDOT/PSS100部、ポリウレタン55部、エタノール520部、イオン交換水80部を混合することにより、リペア組成物を得た。さらに、アクリル樹脂(ナガセケムテックス社製、テイサンレジンSG−600TEA、固形分15%)200部、イソシアネート化合物5部、エタノール5部を混合して透明樹脂層形成用組成物を得た。得られた透明導電膜形成用組成物、リペア組成物及び透明樹脂層形成用組成物を用いて、2−1.〜2−4に記載の工程を行うことで透明導電積層体を得た。
PEDOT/PSS100部、ポリエステル樹脂22部、ピラゾール37部、エタノール 255部、イオン交換水45部を混合することにより、リペア組成物を得た。また、アクリル樹脂(東亞合成社製、ジュリマーSEK301、固形分40%)100部、エタノール75部を混合して透明樹脂層形成用組成物を得た。このリペア組成物及び透明樹脂層形成用組成物と、実施例6で得られた透明導電膜形成用組成物とを用いて、2−1.〜2−4に記載の工程を行うことで透明導電積層体を得た。
銀ナノワイヤ100部、ポリエステル樹脂10部、エタノール255部、イオン交換水45部を混合することにより、リペア組成物を得た。また、アクリル樹脂(ナガセケムテックス社製、テイサンレジンSG−600TEA、固形分15%)200部、イソシアネート化合物5部、エタノール5部を混合して透明樹脂層形成用組成物を得た。このリペア組成物及び透明樹脂層形成用組成物と、実施例6で得られた透明導電膜形成用組成物とを用いて、2−1.〜2−4に記載の工程を行うことで透明導電積層体を得た。
フッ素系樹脂8部、エタノール255部を混合することにより、リペア組成物を得た。また、アクリル樹脂(東亞合成社製、ジュリマーSEK301、固形分40%)100部、エタノール75部を混合して透明樹脂層形成用組成物を得た。このリペア組成物及び透明樹脂層形成用組成物と、実施例6で得られた透明導電膜形成用組成物とを用いて、2−1.〜2−4に記載の工程を行うことで透明導電積層体を得た。
アルコキシチタンオリゴマー10部、エタノール255部を混合することにより、リペア組成物を得た。また、アルコキシチタンオリゴマー50部、エタノール255部を混合して透明樹脂層形成用組成物を得た。このリペア組成物及び透明樹脂層形成用組成物と、実施例6で得られた透明導電膜形成用組成物とを用いて、2−1.〜2−4に記載の工程を行うことで透明導電積層体を得た。
PEDOT/PSS120部、ポリエステル樹脂11部、ピラゾール37部、エタノール200部を混合することにより、リペア組成物を得た。また、アルコキシチタンオリゴマー50部、エタノール255部を混合して透明樹脂層形成用組成物を得た。このリペア組成物及び透明樹脂層形成用組成物と、実施例6で得られた透明導電膜形成用組成物とを用いて、2−1.〜2−4に記載の工程を行うことで透明導電積層体を得た。
特開2013−142194号公報記載の手法に従い、無アルカリガラス板上にITOスパッタ膜を形成した。
また、ポリエステル樹脂11部、エタノール100部を混合することにより、リペア組成物を得た。さらに、アクリル樹脂(東亞合成社製、ジュリマーSEK301、固形分40%)100部、エタノール75部を混合して透明樹脂層形成用組成物を得た。得られたITOスパッタ膜、リペア組成物及び透明樹脂層形成用組成物を用いて、2−2.〜2−4に記載の工程を行うことで透明導電積層体を得た。
また、各実施例及び比較例において、2−1.に記載した工程(透明導電膜形成工程)直後の透明導電膜の膜厚、表面抵抗率(SR)、全光線透過率(Tt)、ヘイズ、色度及び屈折率を、3−1.〜3−5.に記載の方法により評価した。
さらに、各実施例及び比較例で得られた透明導電積層体について、表面抵抗率(SR)、超音波洗浄耐性(水、アセトン)及び外観(目視観察、拡大観察)を、3−2.、3−6.〜3−8.に記載の方法により評価した。
これらの結果を表2に示す。
Claims (11)
- 金属ナノワイヤ、導電性ポリマー、および、炭素材料からなる群より選択される少なくとも1つの導電材料を含有する透明導電膜形成用組成物を塗布して形成され、波長633nmにおける屈折率が1.4〜1.7である透明導電膜の修復・再生に用いられるリペア組成物であって、
膜厚300nmの乾燥膜とした場合の全光線透過率が97%以上、ヘイズが3%以下、波長633nmにおける屈折率が1.40〜1.70、色度が−1.5〜1.5であるリペア組成物。 - 導電材料及び/又はバインダーを含有する、請求項1記載のリペア組成物。
- 透明導電膜形成用組成物はリペア組成物と同一のバインダーを含有する、請求項2記載のリペア組成物。
- バインダーは、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、ポリウレタン、エポキシ樹脂、アルコキシシランオリゴマー及びポリオレフィン樹脂からなる群より選択される少なくとも1つである、請求項2又は3記載のリペア組成物。
- 透明導電膜形成用組成物は、金属ナノワイヤ及び導電性ポリマーからなる群より選択される少なくとも1つを含有する、請求項1〜4のいずれか1項に記載のリペア組成物。
- 透明導電膜形成用組成物は、ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)とポリスチレンスルホン酸との複合体を含有する、請求項1〜4のいずれか1項に記載のリペア組成物。
- 導電材料は、金属ナノワイヤ、導電性ポリマー、および、炭素材料からなる群より選択される少なくとも1つである、請求項2〜6のいずれか1項に記載のリペア組成物。
- 導電材料が、ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)とポリスチレンスルホン酸との複合体である、請求項2〜6のいずれか1項に記載のリペア組成物。
- 透明導電膜は、電磁波シールド膜、ノイズカット膜、帯電防止膜又は透明電極である、請
求項1〜8のいずれか1項に記載のリペア組成物。 - 請求項1〜8のいずれか1項に記載のリペア組成物を用いて修復・再生されたことを特徴
とする透明導電膜。 - 電磁波シールド膜、ノイズカット膜、帯電防止膜又は透明電極である請求項10記載の透
明導電膜。
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