JP6288909B2 - 撮像素子及び撮像装置 - Google Patents

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Description

本発明は、撮像素子及びそれを用いた撮像装置に関するものである。
撮影レンズの焦点状態を検出する方式の一つとして、各画素にマイクロレンズが形成された2次元撮像素子を用いた瞳分割位相差方式(撮像面位相差方式)による焦点検出を行う撮像装置が提案されている。
特許文献1では、1つの画素に対して、1つのマイクロレンズと複数に分割された光電変換部が形成されている2次元撮像素子を用いた撮像装置が開示されている。分割された光電変換部は、1つのマイクロレンズを介して撮影レンズの射出瞳の異なる領域を受光するように構成され、瞳分割を行っている。これらの分割された光電変換部で受光したそれぞれの信号から像ずれ量を求めて、焦点検出を行い、分割された光電変換部で受光した信号を足し合わせることで、撮像信号を取得する。また、焦点検出に限らず、各画素で左右に分割された光電変換部で受光した視差信号を、右眼用と左眼用に別々に表示することで、立体画像が可能となることが開示されている。
特許文献2では、複数の撮像用画素からなる2次元撮像素子に、部分的に1対の焦点検出用画素が配置された撮像装置が開示されている。1対の焦点検出用画素は、開口部を有する遮光層により、撮影レンズの射出瞳の異なる領域を受光するように構成され、瞳分割を行っている。2次元センサーの大部分に配置された撮像用画素で撮像信号を取得し、一部に配置された焦点検出用画素の信号から像ずれ量を求めて、焦点検出を行う。
レンズ交換式カメラなどで、撮影レンズの射出瞳距離と撮像素子の入射瞳距離が異なる場合、撮像素子の像高が高くなると、撮影レンズの射出瞳と撮像素子の入射瞳との間で瞳ずれが生じる。また、量産ばらつきにより、マイクロレンズと分割された光電変換部や、マイクロレンズと開口部を有する遮光層との位置合わせがずれた場合も、撮影レンズの射出瞳と撮像素子の入射瞳との間で瞳ずれが生じる。撮像面位相差方式による焦点検出では、瞳ずれが生じるに伴い、瞳分割された各瞳部分領域の非対称性が大きくなり、焦点検出精度が低下してしまう。
特許文献3では、瞳ずれに対応するために、マイクロレンズと分割された光電変換部との位置合わせを、予め、複数の異なるずらし量でずらした焦点検出用画素を配置しておくことが開示されている。そして、撮影レンズと焦点検出を行う像高に応じて、瞳分割された各瞳部分領域の非対称性ができるだけ小さくなる焦点検出用画素を選択し、撮像面位相差方式による焦点検出を行う。
米国特許第4410804号明細書 特開2000−156823号公報 特開2009−15164号公報
しかしながら、実際の撮像素子では、画素の大きさは有限であるため、分割された光電変換部や開口部を有する遮光層を、画素内部で予めずらしておくずらし量には上限がある。そのため、撮像素子の周辺像高での瞳ずれに対応できず、焦点検出精度が低下し、瞳分割位相差方式による焦点検出可能な像高範囲が限定されてしまうという課題がある。
本発明は、上記の課題に鑑みてなされたものであり、その目的は、撮像面での瞳分割位相差方式による焦点検出において、焦点検出可能な像高範囲を拡大することである。
本発明に係わる撮像素子は、結像光学系の撮像瞳領域を通過する光束を受光する複数の撮像用画素と、前記撮像瞳領域より小さい第1瞳領域を通過する光束を受光する複数の第1焦点検出用画素と、前記撮像瞳領域より小さい第2瞳領域を通過する光束を受光する複数の第2焦点検出用画素と、を有し、前記第1及び第2焦点検出用画素は、それぞれ、マイクロレンズと、光電変換部と、前記光電変換部の一部を覆う遮光層とを含み、前記第1瞳領域の重心と前記第2瞳領域の重心が異なり、周辺像高において前記第1焦点検出用画素の中心に対する前記第1焦点検出用画素のマイクロレンズの偏心の方向、および前記第2焦点検出用画素の中心に対する前記第2焦点検出用画素のマイクロレンズの偏心の方向が、それぞれに隣接する撮像用画素における前記撮像用画素の中心に対する前記撮像用画素のマイクロレンズの偏心の方向と異なり、前記第1瞳領域の重心と前記第2瞳領域の重心の平均位置が前記撮像瞳領域の重心に対して偏心していることを特徴とする。
また、本発明に係わる撮像素子は、結像光学系の撮像瞳領域を通過する光束を受光する複数の撮像用画素と、前記撮像瞳領域より小さい第1瞳領域を通過する光束を受光する複数の第1焦点検出用画素と、前記撮像瞳領域より小さい第2瞳領域を通過する光束を受光する複数の第2焦点検出用画素と、を有し、前記第1焦点検出用画素は、該第1焦点検出用画素のマイクロレンズと該第1焦点検出用画素の光電変換部との間に、第1開口部を有する第1遮光層を備えるとともに前記第2焦点検出用画素は、該第2焦点検出用画素のマイクロレンズと該第2焦点検出用画素の光電変換部との間に、第2開口部を有する第2遮光層を備え、周辺像高において前記第1及び第2焦点検出用画素それぞれの中心に対する前記第1及び第2焦点検出用画素のマイクロレンズの偏心の方向が、前記第1及び第2焦点検出用画素の中心に対する前記第1開口部の重心と前記第2開口部の重心の平均位置の偏心の方向と反対方向であることを特徴とする。
本発明によれば、撮像面での瞳分割位相差方式による焦点検出において、焦点検出可能な像高範囲を拡大することが可能となる。
本発明の実施形態における撮像装置の概略構成図。 本発明の実施形態における画素配列の概略図。 第1の実施形態における構成1の第1焦点検出用画素の概略平面図と概略断面図。 第1の実施形態における構成1の第2焦点検出用画素の概略平面図と概略断面図。 第1の実施形態における撮像用画素の概略平面図と概略断面図。 第1の実施形態における構成1の瞳分割の概略説明図。 第1の実施形態における構成2の第1焦点検出用画素の概略平面図と概略断面図。 第1の実施形態における構成2の第2焦点検出用画素の概略平面図と概略断面図。 第1の実施形態における構成2の瞳分割の概略説明図。 第1の実施形態における構成3の第1焦点検出用画素の概略平面図と概略断面図。 第1の実施形態における構成3の第2焦点検出用画素の概略平面図と概略断面図。 第1の実施形態における構成3の瞳分割の概略説明図。 瞳ずれの概略説明図。 瞳ずれの概略説明図。 第2の実施形態における構成1の第1焦点検出用画素の概略平面図と概略断面図。 第2の実施形態における構成1の第2焦点検出用画素の概略平面図と概略断面図。 第2の実施形態における撮像用画素の概略平面図と概略断面図。 第2の実施形態における構成2の第1焦点検出用画素の概略平面図と概略断面図。 第2の実施形態における構成2の第2焦点検出用画素の概略平面図と概略断面図。
以下、本発明の実施形態について、添付図面を参照して詳細に説明する。
(第1の実施形態)
[全体構成]
図1は本発明の第1の実施形態に係わる撮像素子を有する撮像装置であるカメラの構成図を示している。図1において、101は結像光学系の先端に配置された第1レンズ群で、光軸方向に進退可能に保持される。102は絞り兼用シャッタで、その開口径を調節することで撮影時の光量調節を行なうほか、静止画撮影時には露光秒時調節用シャッタとしても機能する。103は第2レンズ群である。そして絞り兼用シャッタ102及び第2レンズ群103は一体となって光軸方向に進退し、第1レンズ群101の進退動作との連動により、変倍作用(ズーム機能)をなす。
105は第3レンズ群で、光軸方向の進退により、焦点調節を行なう。106は光学的ローパスフィルタで、撮影画像の偽色やモアレを軽減するための光学素子である。107は2次元CMOSフォトセンサーと周辺回路からなる撮像素子である。
111はズームアクチュエータで、不図示のカム筒を回動することで、第1レンズ群111ないし第3レンズ群105を光軸方向に進退駆動し、変倍操作を行なう。112は絞りシャッタアクチュエータで、絞り兼用シャッタ102の開口径を制御して撮影光量を調節すると共に、静止画撮影時の露光時間制御を行なう。114はフォーカスアクチュエータで、第3レンズ群105を光軸方向に進退駆動して焦点調節を行なう。
115は撮影時の被写体照明用電子フラッシュで、キセノン管を用いた閃光照明装置が好適であるが、連続発光するLEDを備えた照明装置を用いても良い。116はAF補助光装置で、所定の開口パターンを有したマスクの像を、投光レンズを介して被写界に投影し、暗い被写体あるいは低コントラスト被写体に対する焦点検出能力を向上させる。
121は、カメラ本体の種々の制御を司るカメラ内CPUで、演算部、ROM、RAM、A/Dコンバータ、D/Aコンバータ、通信インターフェイス回路等を有する。そして、ROMに記憶された所定のプログラムに基づいて、カメラが有する各種回路を駆動し、AF、撮影、画像処理と記録等の一連の動作を実行する。
122は電子フラッシュ制御回路で、撮影動作に同期して電子フラッシュ115を点灯制御する。123は補助光駆動回路で、焦点検出動作に同期してAF補助光装置116を点灯制御する。124は撮像素子駆動回路で、撮像素子107の撮像動作を制御するとともに、取得した画像信号をA/D変換してCPU121に送信する。125は画像処理回路で、撮像素子107が取得した画像のγ変換、カラー補間、JPEG圧縮等の処理を行なう。
126はフォーカス駆動回路で、焦点検出結果に基づいてフォーカスアクチュエータ114を駆動制御し、第3レンズ群105を光軸方向に進退駆動して焦点調節を行なう。128は絞りシャッタ駆動回路で、絞りシャッタアクチュエータ112を駆動制御して絞り兼用シャッタ102の開口を制御する。129はズーム駆動回路で、撮影者のズーム操作に応じてズームアクチュエータ111を駆動する。
131はLCD等の表示器で、カメラの撮影モードに関する情報、撮影前のプレビュー画像と撮影後の確認用画像、焦点検出時の合焦状態表示画像等を表示する。132は操作スイッチ群で、電源スイッチ、レリーズ(撮影トリガ)スイッチ、ズーム操作スイッチ、撮影モード選択スイッチ等で構成される。133は着脱可能なフラッシュメモリで、撮影済み画像を記録する。
[撮像素子]
第1の実施形態における撮像素子の画素配列の概略図を図2に示す。図2は、第1の実施形態の2次元CMOSセンサー(撮像素子)の画素配列を、20列×20行画素の範囲で示したものである。図2に示した20列×20行画素を面上に多数配置し、高解像度画像の取得を可能としている。本実施形態においては、画素ピッチが4μm、有効画素数が横5575列×縦3725行=約2000万画素、撮像画面サイズが横22.3mm×縦14.9mmの撮像素子として説明を行なう。
本実施形態において、図2に示した2行×2列の画素群200では、R(赤)の分光感度を有する画素200Rが左上に、G(緑)の分光感度を有する画素200Gが右上と左下に、B(青)の分光感度を有する画素200Bが右下に配置されている。また、図2に示した2行×2列の焦点検出用画素群210(220、230、240、250)では、右上と左下の2画素にGの分光感度を有する撮像用画素210G(220G、230G、240G、250G)を配置されている。また、左上にW(白)の分光感度を有する第1焦点検出用画素210SA(220SA、230SA、240SA、250SA)が、右下にWの分光感度を有する第2焦点検出用画素210SB(220SB、230SB、240SB、250SB)が配置されている。
[構成1]
構成1の焦点検出用画素群230について、以下に説明する。図2に示した撮像素子の1つの第1焦点検出用画素230SAを、撮像素子の受光面側(+z側)から見た平面図を図3(a)に示し、図3(a)のa−a断面を−y側から見た断面図を図3(b)に示す。また、図2に示した撮像素子の1つの第2焦点検出用画素230SBを、撮像素子の受光面側(+z側)から見た平面図を図4(a)に示し、図4(a)のb−b断面を−y側から見た断面図を図4(b)に示す。また、図2に示した撮像素子の1つの撮像用画素230Gを、撮像素子の受光面側(+z側)から見た平面図を図5(a)に示し、図5(a)のc−c断面を−y側から見た断面図を図5(b)に示す。
図3、図4および図5に示すように、本実施形態の第1焦点検出用画素230SA、第2焦点検出用画素230SBおよび撮像用画素230Gでは、p型層300とn型層301の間にn−イントリンシック層302を挟んだpin構造のフォトダイオード(光電変換部)PDが形成される。光電変換部PDの領域は、n−イントリンシック層302に形成される空乏層とその周辺に少数キャリアの拡散距離だけ拡がった領域であり、概ね、n−イントリンシック層302とn型層301を合わせた領域と重なる。必要に応じて、n−イントリンシック層302を省略し、pn接合フォトダイオードとしても良い。各画素の受光側には、入射光を集光するためのマイクロレンズ305が形成される。
図3に示した第1焦点検出用画素230SAでは、マイクロレンズ305と光電変換部PDとの間に、第1開口部を有する第1遮光層330aが形成され、光電変換部の受光面の重心に対し、第1開口部の重心が−x方向に偏心して構成される。
一方、図4に示した第2焦点検出用画素230SBでは、マイクロレンズ305と光電変換部PDとの間に、第2開口部を有する第2遮光層330bが形成され、光電変換部の受光面の重心に対し、第2開口部の重心が+x方向に偏心して構成される。
構成1では、第1遮光層330aの第1開口部の重心と第2遮光層330bの第2開口部の重心が異なる。また、第1遮光層330aの第1開口部の重心と第2遮光層330bの第2開口部の重心との平均位置を、光電変換部の受光面の重心と概ね一致させる。
本実施形態では、撮像素子を駆動するための配線層を利用して第1開口部を有する第1遮光層と第2開口部を有する第2遮光層が形成される。つまり、配線層と遮光層が兼ねられている。
本実施形態では、第1焦点検出用画素は、第1焦点検出用画素のマイクロレンズと第1焦点検出用画素の光電変換部との間に、第1開口部を有する第1遮光層を備えている。また、第2焦点検出用画素は、第2焦点検出用画素のマイクロレンズと第2焦点検出用画素の光電変換部との間に、第2開口部を有する第2遮光層を備えている。
図3(図4)に示した第1焦点検出用画素230SA(第2焦点検出用画素230SB)に入射した光は、マイクロレンズ305により集光される。そして、集光された光の一部が、第1遮光層330a(第2遮光層330b)の第1開口部(第2開口部)を通過し、光電変換部PDで受光される。光電変換部PDでは、受光量に応じて電子とホールが対生成し、空乏層で分離された後、負電荷の電子はn型層301に蓄積され、一方、ホールは定電圧源(不図示)に接続されたp型層300を通じて撮像素子外部へ排出される。
焦点検出用画素に対し、図5に示した撮像用画素230Gでは、配線層330cは画素周辺部のみに形成され、画素中央部に遮光層は形成されない。また、マイクロレンズ305と光電変換部PDとの間に、G(緑)のカラーフィルター(不図示)が形成される。
構成1での画素に形成される遮光層の開口部と瞳分割との対応関係を表す概略説明図を図6に示す。図3(a)に示した第1焦点検出用画素230SAのa−a断面を+y側から見た断面図と結像光学系の射出瞳面を図6(a)に示す。また、図4(a)に示した第2焦点検出用画素230SBのb−b断面を+y側から見た断面図と結像光学系の射出瞳面を図6(b)に示す。また、図5(a)に示した撮像用画素230Gのc−c断面を+y側から見た断面図と結像光学系の射出瞳面を図6(c)に示す。図6では、射出瞳面の座標軸と対応を取るため、断面図のx軸とy軸を図3、図4、図5に対して反転させている。
図6の400は結像光学系の射出瞳、500は撮像用画素230Gの瞳強度分布(撮像瞳領域)、530aは第1焦点検出用画素230SAの瞳強度分布(第1瞳領域)、530bは第2焦点検出用画素230SBの瞳強度分布(第2瞳領域)である。なお、PDは光電変換部である。 被写体からの光束は、結像光学系の射出瞳400を通過してそれぞれの画素に入射する。
図6(c)で、撮像用画素の撮像瞳領域500は、光電変換部PDの受光面と、マイクロレンズによって、概ね、共役関係になっており、撮像用画素で受光可能な瞳領域を表している。瞳距離が数10mmであるのに対し、マイクロレンズの直径は数μmである。そのため、マイクロレンズの絞り値が数万となり、数10mmレベルの回折ボケが生じる。よって、光電変換部PDの受光面の像は、明瞭な領域とならずに、受光率分布となる。
撮像用画素の撮像瞳領域500は、結像光学系の射出瞳400を通過した光束をより多く受光できるように可能な限り大きく、また、撮像瞳領域500の重心が、所定の瞳距離で結像光学系の光軸と概ね一致するように構成されている。
図6(a)で、第1焦点検出用画素230SAの第1瞳領域530aは、第1遮光層330aの重心が−x方向に偏心している第1開口部と、マイクロレンズによって、概ね、共役関係になっている。そして、第1焦点検出用画素230SAで受光可能な瞳領域を表している。第1焦点検出用画素230SAの第1瞳領域530aは、撮像用画素の撮像瞳領域500より小さく、瞳面上で+X側に重心が偏心している。
図6(b)で、第2焦点検出用画素230SBの第2瞳領域530bは、第2遮光層330bの重心が+x方向に偏心している第2開口部と、マイクロレンズによって、概ね、共役関係になっている。そして、第2焦点検出用画素230SBで受光可能な瞳領域を表している。第2焦点検出用画素230SBの第2瞳領域530bは、撮像用画素の撮像瞳領域500より小さく、瞳面上で−X側に重心が偏心している。
第1焦点検出用画素230SAの第1瞳領域530aの重心と第2焦点検出用画素230SBの第2瞳領域530bの重心が異なり、反対方向に偏心している。これにより、結像光学系の射出瞳400をX方向に瞳分割することができる。同様にして、第1遮光層の第1開口部の重心を−y方向に偏心させ、第2遮光層の第2開口部の重心を+y方向に偏心させると、結像光学系の射出瞳400をY方向に瞳分割することができる。
構成1では、第1瞳領域530aの重心と第2瞳領域530bの重心が異なる。また、第1瞳領域530aの重心と第2瞳領域530bの重心との平均を、所定の瞳距離で、撮像瞳領域500の重心と概ね一致させる。
本実施形態の撮像素子は、結像光学系の撮像瞳領域を通過する光束を受光する複数の撮像用画素と、撮像瞳領域より小さい第1瞳領域を通過する光束を受光する複数の第1焦点検出用画素と、撮像瞳領域より小さい第2瞳領域を通過する光束を受光する複数の第2焦点検出用画素を備え、第1瞳領域の重心と前記第2瞳領域の重心が異なるように構成される。
[構成2]
構成2の焦点検出用画素群220について、以下に説明する。図2に示した撮像素子の1つの第1焦点検出用画素220SAを、撮像素子の受光面側(+z側)から見た平面図を図7(a)に示し、図7(a)のa−a断面を−y側から見た断面図を図7(b)に示す。また、図2に示した撮像素子の1つの第2焦点検出用画素220SBを、撮像素子の受光面側(+z側)から見た平面図を図8(a)に示し、図8(a)のb−b断面を−y側から見た断面図を図8(b)に示す。撮像用画素220Gは、構成1の撮像用画素230Gと同様である。
構成2の第1焦点検出用画素220SAと第2焦点検出用画素220SBでは、第1遮光層320aの第1開口部の重心と第2遮光層320bの第2開口部の重心が異なる。また、第1遮光層320aの第1開口部の重心と第2遮光層320bの第2開口部の重心との平均位置を、光電変換部の受光面の重心に対して−x方向に偏心させる。
これとは反対に、図2に示した焦点検出用画素群240の第1焦点検出用画素240SAと第2焦点検出用画素240SBは、第1遮光層の第1開口部の重心と第2遮光層の第2開口部の重心との平均位置を、光電変換部の受光面の重心に対して、+x方向に偏心させる。
構成2での画素に形成される遮光層の開口部と瞳分割との対応関係を表す概略説明図を図9に示す。図7(a)に示した第1焦点検出用画素220SAのa−a断面を+y側から見た断面図と結像光学系の射出瞳面を図9(a)に示す。また、図8(a)に示した第2焦点検出用画素220SBのb−b断面を+y側から見た断面図と結像光学系の射出瞳面を図9(b)に示す。図9では、射出瞳面の座標軸と対応を取るため、断面図のx軸とy軸を図7、図8に対して反転させている。
構成2の第1焦点検出用画素220SAと第2焦点検出用画素220SBでは、第1瞳領域520aの重心と第2瞳領域520bの重心が異なる。また、第1瞳領域520aの重心と第2瞳領域520bの重心との平均を、所定の瞳距離で、撮像瞳領域500の重心に対して、+X側に偏心させる。
これとは反対に、図2に示した焦点検出用画素群240の第1焦点検出用画素240SAと第2焦点検出用画素240SBは、第1瞳領域の重心と第2瞳領域の重心との平均が、所定の瞳距離で、撮像瞳領域500の重心に対して、−X側に偏心するように構成される。
[構成3]
構成3の焦点検出用画素群210について、以下に説明する。図2に示した撮像素子の1つの第1焦点検出用画素210SAを、撮像素子の受光面側(+z側)から見た平面図を図10(a)に示し、図10(a)のa−a断面を−y側から見た断面図を図10(b)に示す。また、図2に示した撮像素子の1つの第2焦点検出用画素210SBを、撮像素子の受光面側(+z側)から見た平面図を図11(a)に示し、図11(a)のb−b断面を−y側から見た断面図を図11(b)に示す。撮像用画素210Gは、構成1の撮像用画素230Gと同様である。
構成3の第1焦点検出用画素210SAと第2焦点検出用画素210SBでは、第1遮光層310aの第1開口部の重心と第2遮光層310bの第2開口部の重心が異なる。また、第1遮光層310aの第1開口部の重心と第2遮光層310bの第2開口部の重心との平均位置を、光電変換部の受光面の重心に対して−x方向に偏心させる。さらに、第1焦点検出用画素210SAと第2焦点検出用画素210SBのマイクロレンズを、光電変換部の受光面の重心に対して+x方向に偏心させる。
これとは反対に、図2に示した焦点検出用画素群250の第1焦点検出用画素250SAと第2焦点検出用画素250SBは、第1遮光層の第1開口部の重心と第2遮光層の第2開口部の重心との平均位置を、光電変換部の受光面の重心に対して、+x方向に偏心させる。さらに、第1焦点検出用画素250SAと第2焦点検出用画素250SBのマイクロレンズを、光電変換部の受光面の重心に対して−x方向に偏心させる。
本実施形態では、第1焦点検出用画素および第2焦点検出用画素の各マイクロレンズの偏心が、第1開口部の重心と第2開口部の重心との平均位置の偏心と反対方向に偏心されている。
本実施形態の第1焦点検出用画素210SAの第1遮光層310aは、撮像素子を駆動するための配線層で形成されているため、第1遮光層310aの第1開口部は、これ以上−x方向に偏心させることができない。その代わり、第1焦点検出用画素210SAのマイクロレンズを反対方向の+x方向に偏心させる。これにより、第1焦点検出用画素210SAのマイクロレンズに対する第1遮光層310aの第1開口部の偏心量を、構成2よりもさらに大きくすることができる。撮像用画素210Gのマイクロレンズは、構成1と同様である。
図2に示したように画素群210を構成する第1焦点検出用画素210SAと撮像用画素210Gは隣接しており、図10に示した第1焦点検出用画素210SAのマイクロレンズの偏心と、図5に示した撮像用画素210Gのマイクロレンズの偏心が異なる。同様に、図2に示したように画素群210を構成する第2焦点検出用画素210SBと撮像用画素210Gは隣接しており、図11に示した第2焦点検出用画素210SBのマイクロレンズの偏心と、図5に示した撮像用画素210Gのマイクロレンズの偏心が異なる。
したがって、本実施形態では、第1焦点検出用画素210SAのマイクロレンズの偏心と隣接する撮像用画素210Gのマイクロレンズの偏心が異なる。また、第2焦点検出用画素210SBのマイクロレンズの偏心と隣接する撮像用画素210Gのマイクロレンズの偏心が異なる。
構成3での画素に形成される遮光層の開口部と瞳分割との対応関係を表す概略説明図を図12に示す。図10(a)に示した第1焦点検出用画素210SAのa−a断面を+y側から見た断面図と結像光学系の射出瞳面を図12(a)に示す。また、図11(a)に示した第2焦点検出用画素210SBのb−b断面を+y側から見た断面図と結像光学系の射出瞳面を図12(b)に示す。図12では、射出瞳面の座標軸と対応を取るため、断面図のx軸とy軸を図10、図11に対して反転させている。
構成3の第1焦点検出用画素210SAと第2焦点検出用画素210SBでは、第1瞳領域510aの重心と第2瞳領域510bの重心が異なる。また、第1瞳領域510aの重心と第2瞳領域510bの重心との平均を、所定の瞳距離で、撮像瞳領域500の重心に対して、+X側に偏心させる。
これとは反対に、図2に示した焦点検出用画素群250の第1焦点検出用画素250SAと第2焦点検出用画素250SBは、第1瞳領域の重心と第2瞳領域の重心との平均が、所定の瞳距離で、撮像瞳領域500の重心に対して、−X側に偏心するように構成される。
[焦点検出]
図2に示した第1焦点検出用画素210SA(220SA、230SA、240SA、250SA)をx方向に規則的に配列し、これら複数の第1焦点検出用画素から取得した被写体像をA像とする。同様に、図2に示した第2焦点検出用画素210SB(220SB、230SB、240SB、250SB)をx方向に規則的に配列し、これら複数の第2焦点検出用画素から取得した被写体像をB像とする。A像とB像の像ずれ量(相対位置)からデフォーカス量(合焦ずれ量)を算出し、焦点検出を行うことができる。
[瞳ずれへの対応]
以下、本実施形態における撮像素子の周辺像高での瞳ずれへの対応について説明する。図13および図14に、撮像素子の周辺像高における第1焦点検出用画素の第1瞳領域、第2焦点検出用画素の第2瞳領域、および結像光学系の射出瞳の関係を示す。
図13(a)は、結像光学系の射出瞳距離Dlと撮像素子の設定瞳距離Dsが、概ね、一致する場合である。この場合は、第1焦点検出用画素230SAの第1瞳領域530aと第2焦点検出用画素230SBの第2瞳領域530bにより、結像光学系の射出瞳400が、概ね、均等に瞳分割される。
これに対して、図13(b)に示した結像光学系の射出瞳距離Dlが撮像素子の設定瞳距離Dsより短い場合や、図13(c)に示した結像光学系の射出瞳距離Dlが撮像素子の設定瞳距離Dsより長い場合には、撮像素子の周辺像高では、結像光学系の射出瞳400が、不均一に瞳分割されてしまう。
瞳分割が不均一になるのに伴い、A像とB像の強度も不均一になり、A像とB像のいずれか一方の強度が大きくなり、他方の強度が小さくなる。そのため、周辺像高などで、このA像とB像の強度の不均一が激しくなると、A像とB像の一方の信号が十分な強度で得られなくなり、焦点検出性能が低下してしまう。
本実施形態では、第1瞳領域510aの重心と第2瞳領域510bの重心との平均を、所定の瞳距離で、撮像瞳領域500の重心に対して、+X側に大きく偏心させた構成3の第1焦点検出用画素210SAと第2焦点検出用画素210SBを、予め、配置しておく。
図14に、結像光学系の射出瞳距離Dlと撮像素子の設定瞳距離Dsが異なり、周辺像高において、撮像素子の設定瞳距離Dsの位置の瞳面上で、結像光学系の射出瞳400が+X側に大きく偏心した場合を示す。図14(a)は、+X側に大きく偏心した結像光学系の射出瞳400を、構成1の第1焦点検出用画素230SAの第1瞳領域530aと第2焦点検出用画素230SBの第2瞳領域530bで瞳分割する場合である。瞳ずれが大きく、不均一な瞳分割となってしまう。一方、図14(b)は、+X側に大きく偏心した結像光学系の射出瞳400を、構成3の第1焦点検出用画素210SAの第1瞳領域510aと第2焦点検出用画素210SBの第2瞳領域510bで瞳分割する場合である。周辺像高でも、瞳ずれを小さくでき、均一な瞳分割を行うことができ、焦点検出性能を向上することができる。
以上の構成により、撮像素子の周辺像高での瞳ずれに対応し、瞳分割位相差方式による焦点検出可能な像高範囲を拡大することが可能となる。
(第2の実施形態)
本発明の第2の実施形態について、以下に説明する。
[構成1]
構成1の焦点検出用画素群230について、以下に説明する。図2に示した撮像素子の1つの第1焦点検出用画素230SAを、撮像素子の受光面側(+z側)から見た平面図を図15(a)に示し、図15(a)のa−a断面を−y側から見た断面図を図15(b)に示す。また、図2に示した撮像素子の1つの第2焦点検出用画素230SBを、撮像素子の受光面側(+z側)から見た平面図を図16(a)に示し、図16(a)のb−b断面を−y側から見た断面図を図16(b)に示す。また、図2に示した撮像素子の1つの撮像用画素230Gを、撮像素子の受光面側(+z側)から見た平面図を図17(a)に示し、図17(a)のc−c断面を-y側から見た断面図を図17(b)に示す。
図15(b)に示すように、第1焦点検出用画素230SAでは、マイクロレンズ305と第1開口部を有する第1遮光層330aとの間に、層内レンズ306が構成される。また、図16(b)に示すように、第2焦点検出用画素230SBでは、マイクロレンズ305と第2開口部を有する第2遮光層330bとの間に、層内レンズ306が構成される。また、図17(b)に示すように、撮像用画素230Gでは、層内レンズ306は構成されない。その他は、第1の実施形態の構成1と同様である。
[構成2]
構成2の焦点検出用画素群220の第1焦点検出用画素220SAと第2焦点検出用画素220SBで、構成1と同様に、層内レンズ306が構成される。焦点検出用画素群240の第1焦点検出用画素240SAと第2焦点検出用画素240SBも同様である。その他は、第1の実施形態の構成2と同様である。
[構成3]
構成3の焦点検出用画素群210について、以下に説明する。図2に示した撮像素子の1つの第1焦点検出用画素210SAを、撮像素子の受光面側(+z側)から見た平面図を図18(a)に示し、図18(a)のa−a断面を−y側から見た断面図を図18(b)に示す。また、図2に示した撮像素子の1つの第2焦点検出用画素210SBを、撮像素子の受光面側(+z側)から見た平面図を図19(a)に示し、図19(a)のb−b断面を−y側から見た断面図を図19(b)に示す。
図18(b)に示すように、第1焦点検出用画素210SAでは、マイクロレンズ305と第1開口部を有する第1遮光層310aとの間に、層内レンズ306が+x方向に偏心させて構成される。マイクロレンズと層内レンズから構成される合成マイクロレンズが、+x方向に偏心させて構成される。同様に、第2焦点検出用画素210SBでは、マイクロレンズ305と第2開口部を有する第2遮光層310bとの間に、層内レンズ306が+x方向に偏心させて構成される。マイクロレンズと層内レンズから構成される合成マイクロレンズが、+x方向に偏心させて構成される。その他は、第1の実施形態の構成3と同様である。
構成3の第1焦点検出用画素210SAと第2焦点検出用画素210SBでは、第1遮光層310aの第1開口部の重心と第2遮光層310bの第2開口部の重心が異なる。また、第1遮光層310aの第1開口部の重心と第2遮光層310bの第2開口部の重心との平均位置を、光電変換部の受光面の重心に対して−x方向に偏心させる。さらに、第1焦点検出用画素210SAと第2焦点検出用画素210SBの合成マイクロレンズを、光電変換部の受光面の重心に対して+x方向に偏心させる。
これとは反対に、図2に示した焦点検出用画素群250の第1焦点検出用画素250SAと第2焦点検出用画素250SBは、第1遮光層の第1開口部の重心と第2遮光層の第2開口部の重心との平均位置を、光電変換部の受光面の重心に対して、+x方向に偏心させる。さらに、第1焦点検出用画素250SAと第2焦点検出用画素250SBの合成マイクロレンズを、光電変換部の受光面の重心に対して−x方向に偏心させる。
本実施形態では、第1焦点検出用画素および第2焦点検出用画素の各合成マイクロレンズの偏心が、第1開口部の重心と第2開口部の重心との平均位置の偏心と反対方向に偏心されている。また、第1焦点検出用画素および第2焦点検出用画素の各合成マイクロレンズが、複数のマイクロレンズから構成されている。
上記以外は、第1の実施形態と同様である。以上の構成により、撮像素子の周辺像高での瞳ずれに対応し、瞳分割位相差方式による焦点検出可能な像高範囲を拡大することが可能となる。

Claims (11)

  1. 結像光学系の撮像瞳領域を通過する光束を受光する複数の撮像用画素と、
    前記撮像瞳領域より小さい第1瞳領域を通過する光束を受光する複数の第1焦点検出用画素と、前記撮像瞳領域より小さい第2瞳領域を通過する光束を受光する複数の第2焦点検出用画素と、を有し、
    前記第1及び第2焦点検出用画素は、それぞれ、マイクロレンズと、光電変換部と、前記光電変換部の一部を覆う遮光層とを含み、
    前記第1瞳領域の重心と前記第2瞳領域の重心が異なり、
    周辺像高において前記第1焦点検出用画素の中心に対する前記第1焦点検出用画素のマイクロレンズの偏心の方向、および前記第2焦点検出用画素の中心に対する前記第2焦点検出用画素のマイクロレンズの偏心の方向が、それぞれに隣接する撮像用画素における前記撮像用画素の中心に対する前記撮像用画素のマイクロレンズの偏心の方向と異なり、前記第1瞳領域の重心と前記第2瞳領域の重心の平均位置が前記撮像瞳領域の重心に対して偏心していることを特徴とする撮像素子。
  2. 前記第1及び第2焦点検出用画素は、それぞれ第1及び第2焦点検出用画素のマイクロレンズと該第1及び第2焦点検出用画素の光電変換部との間に、開口部を有する遮光層を備え、
    前記第1及び第2焦点検出用画素の中心に対する前記第1及び第2焦点検出用画素の各マイクロレンズの偏心の方向が、前記第1及び第2焦点検出用画素の中心に対する前記開口部の重心の偏心の方向と反対方向であることを特徴とする請求項に記載の撮像素子。
  3. 前記第1及び第2焦点検出用画素の各マイクロレンズが、複数のマイクロレンズから構成されていることを特徴とする請求項1または2に記載の撮像素子。
  4. 結像光学系の撮像瞳領域を通過する光束を受光する複数の撮像用画素と、
    前記撮像瞳領域より小さい第1瞳領域を通過する光束を受光する複数の第1焦点検出用画素と、前記撮像瞳領域より小さい第2瞳領域を通過する光束を受光する複数の第2焦点検出用画素と、を有し、
    前記第1焦点検出用画素は、該第1焦点検出用画素のマイクロレンズと該第1焦点検出用画素の光電変換部との間に、第1開口部を有する第1遮光層を備えるとともに前記第2焦点検出用画素は、該第2焦点検出用画素のマイクロレンズと該第2焦点検出用画素の光電変換部との間に、第2開口部を有する第2遮光層を備え、
    周辺像高において前記第1及び第2焦点検出用画素それぞれの中心に対する前記第1及び第2焦点検出用画素のマイクロレンズの偏心の方向が、前記第1及び第2焦点検出用画素の中心に対する前記第1開口部の重心と前記第2開口部の重心の平均位置の偏心の方向と反対方向であることを特徴とする撮像素子。
  5. 前記第1及び第2焦点検出用画素のマイクロレンズの偏心の方向は前記結像光学系の光軸に近づく方向であり、前記第1開口部の重心と前記第2開口部の重心の平均位置の偏心の方向は前記結像光学系の光軸から遠ざかる方向であることと特徴とする請求項に記載の撮像素子。
  6. 前記撮像用画素は赤緑青のいずれかの分光感度を備え、前記第1及び第2焦点検出画素は白の分光感度を備えることを特徴とする請求項またはに記載の撮像素子。
  7. 前記撮像用画素と、前記第1及び第2焦点検出用画素は行列形状に配置され、
    前記第1及び第2焦点検出用画素のマイクロレンズの偏心の方向は行方向であることを特徴とする請求項乃至のいずれか1項に記載の撮像素子。
  8. 前記結像光学系の射出瞳のずれに対して前記第1及び第2焦点検出用画素のマイクロレンズの偏心の方向は前記マイクロレンズに対する第1及び第2開口部の偏心量を大きくする方向であることを特徴とする請求項乃至のいずれか1項に記載の撮像素子。
  9. 前記第1及び第2焦点検出用画素それぞれにおける前記マイクロレンズに対する前記第1及び第2開口部の偏心量に対して、より少ない偏心量を有する第3焦点検出用画素を更に備えることを特徴とする請求項乃至の何れか1項に記載の撮像素子。
  10. 前記第1及び第2焦点検出用画素それぞれの中心は対応する光電変換部の受光面の重心であることを特徴とする請求項1乃至の何れか1項に記載の撮像素子。
  11. 請求項1乃至10の何れか1項に記載の撮像素子を有することを特徴とする撮像装置。
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