JP6281507B2 - 希土類元素オキシフッ化物粉末溶射材料及び希土類元素オキシフッ化物溶射部材の製造方法 - Google Patents
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Description
〔1〕
イットリウムオキシフッ化物を含む粉末からなる溶射材料であり、その粒子の外形のアスペクト比が2以下、粒度分布D 10 ,D 50 ,及びD 90 が質量基準で下記(1)又は(2)、嵩密度が0.8g/cm3以上2g/cm3以下で、
粒度分布(1)D 10 =26μm、D 50 =46μm及びD 90 =68μm
粒度分布(2)D 10 =18μm、D 50 =28μm及びD 90 =48μm
かつ炭素を0.5質量%以下、酸素を3質量%以上15質量%以下含有することを特徴とする希土類元素オキシフッ化物粉末溶射材料。
〔2〕
基材に、〔1〕記載の溶射材料をプラズマ溶射することにより、炭素含有量が0.1質量%以下、酸素含有量が3質量%以上15質量%以下の溶射皮膜を形成することを特徴とする希土類元素オキシフッ化物溶射部材の製造方法。
1.流動性がよい、
2.プラズマ溶射で希土類元素酸化物に分解しない
ことが望ましく、本発明の溶射材料はかかる利点を備えている。
なお、平均粒子径はレーザー光回折法による粒度分布測定装置によって求めることができ、質量平均値D50(即ち、累積質量が50%となるときの粒子径又はメジアン径)として測定することができる。
〔溶射粉の製造〕
表1に示す原料を同表の割合で混合し、同表のバインダーに溶解してスラリーを調製し、これをスプレードライヤーを用いて造粒した後、同表の条件で焼成して、溶射粉末を得た。得られた各溶射粉末につき、粒子のアスペクト比、粒度分布、嵩密度、酸素濃度、フッ素濃度及び炭素濃度を測定した。結果を表1に示す。なお、粒度分布はレーザー回折法で測定し、フッ素濃度は溶解イオンクロマトグラフィ法、炭素濃度及び酸素濃度は燃焼IR法でそれぞれ分析した。また、粒子のアスペクト比はSEM写真により180個の粒子の短径と長径を測定して平均した。
実施例1,2、参考例1,2及び比較例1,2の溶射粉を用いてアルゴン40L/min、水素5L/minの混合ガスを用いた大気圧プラズマ溶射をアルミニウム基材に施工し、200μm程度の溶射皮膜を形成した部材を得た。実施例1,2及び参考例1,2の溶射粉から得られた溶射皮膜は黒色、比較例1,2の溶射粉から得られた溶射皮膜は白色をそれぞれ呈していた。得られた各溶射皮膜の酸素濃度及び炭素濃度を燃焼IR法で測定した。結果を表1に示す。
得られた各部材について、マスキングテープでマスキングした部分と暴露部分を作った後に、リアクティブイオンプラズマ試験装置にセットし、周波数13.56MHz、プラズマ出力1000W、ガス種CF4+O2(20vol%)、流量50sccm、ガス圧50mtorr、12時間の条件でプラズマ耐食性試験を行った。レーザー顕微鏡を使用して、暴露部分とマスキング部分の腐食による高さ変化を4点測定して平均値を求め、耐食性を評価した。結果を表1に示す。
Claims (2)
- イットリウムオキシフッ化物を含む粉末からなる溶射材料であり、その粒子の外形のアスペクト比が2以下、粒度分布D 10 ,D 50 ,及びD 90 が質量基準で下記(1)又は(2)、嵩密度が0.8g/cm3以上2g/cm3以下で、
粒度分布(1)D 10 =26μm、D 50 =46μm及びD 90 =68μm
粒度分布(2)D 10 =18μm、D 50 =28μm及びD 90 =48μm
かつ炭素を0.5質量%以下、酸素を3質量%以上15質量%以下含有することを特徴とする希土類元素オキシフッ化物粉末溶射材料。 - 基材に、請求項1記載の溶射材料をプラズマ溶射することにより、炭素含有量が0.1質量%以下、酸素含有量が3質量%以上15質量%以下の溶射皮膜を形成することを特徴とする希土類元素オキシフッ化物溶射部材の製造方法。
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