JP6279099B2 - 粒子線治療施設の設計支援方法及び粒子線治療施設の製造方法 - Google Patents
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Description
図1は、本発明の実施の形態1による粒子線治療施設の設計支援方法を示すフローチャートである。図2は本発明の治療室モデルを示す図である。図3は図1における治療室モデルの配置表示例を示す図であり、図4は図1における局所凹領域の体積又は射影面積の計算結果表示例を示す図である。図5は、本発明の粒子線治療施設に配置される粒子線治療装置の概略構成図であり、図6は図5の粒子線照射装置の構成を示す図である。まず、粒子線治療施設に配置される粒子線治療装置の概要を説明し、その後に粒子線治療施設の設計支援方法を説明する。図5において、粒子線治療装置51は、ビーム発生装置52と、ビーム輸送系59と、粒子線照射装置58a、58bとを備える。ビーム発生装置52は、イオン源(図示せず)と、前段加速器
53と、加速器54とを有する。粒子線照射装置58aは、ガントリ室
20aの回転ガントリ24a(図20参照)に設置される。粒子線照射装置58bは、ガントリ室20bの回転ガントリ24b(図20参照)に設置される。ガントリ室20a、20bは、回転ガントリ24a、24bが設置された治療室である。
24aに設置されるビーム輸送系59の一部は回転ガントリ搭載部56aであり、回転ガントリ24bに設置されるビーム輸送系59の一部は回転ガントリ搭載部56bである。
31の位置異常やサイズ異常を示す異常検出信号を生成し、この異常検出信号を照射管理装置38に出力する。
26を備える。図1のステップS001にて、治療室の3次元モデルである治療室モデルを作成する(治療室モデル作成手順)。図2には、治療室モデルの一例を示した。治療室モデルは、少なくとも他の領域と区別する境界を含んでいる。治療室モデルであるガントリ室モデル1は、例えば、ガントリ胴体4、ガントリ前面パネル3、真空ダクト5、ガントリ胴体4の内部領域と接続された解放空間領域2を有する。患者45が搭載される治療台6は、治療の際に、回転ガントリ24a、24bにおけるガントリ胴体4に該当する内部領域と、解放空間領域2に該当する解放空間領域18a、18b
(図10参照)とに跨って配置される。真空ダクト5は、ビーム輸送系59の真空ダクトである。なお、ガントリ室モデル1を記載した図において、ガントリ室モデル1は原則的に上部から見た上面図である。
1b内の点の集合pとする。集合pは、式(1)のように表現できる。
p|G∈p ・・・(1)
ここで、Gはガントリ室モデル1a、1bの集合エリアである。
q|条件1、条件2、条件3 ・・・(2)
ここで、条件1、条件2、条件3は、ぞれぞれ、式(3)、式(4)、式
(5)で表せる。
p1、p2は、基準点a0からベクトル表示されている。
q|条件1、条件2、条件3、条件4 ・・・(6)
ここで、条件4は、式(7)で表せる。
20aの解放空間領域18a側と、ガントリ室20bの解放空間領域18b側にラビリンス通路23a、23bを形成する遮蔽壁19b、19c、
19d、19e、19f、19g、19hが配置され、ラビリンス通路23a、23bの入口には、それぞれ扉22a、22bが配置されている。
20a、20b)の3次元モデルである治療室モデル(ガントリ室モデル1)を作成する治療室モデル作成手順と、配置対象空間に対応したモデル空間に複数の治療室モデル(ガントリ室モデル1a、1b)を初期位置に配置する治療室モデル配置手順と、複数の治療室モデル(ガントリ室モデル1a、1b)の内、最も近くに配置された2つの治療室モデル(ガントリ室モデル1a、1b)の間における凹領域である局所凹領域8の体積又は局所凹領域8を床方向の2次元に射影した場合の射影面積を計算する局所凹領域計算手順と、局所凹領域計算手順にて計算した局所凹領域8の体積又は射影面積を設計支援装置27の表示装置26に表示する凹領域計算結果表示手順と、凹領域計算結果表示手順の後に作業終了指示がない場合に、治療室モデル(ガントリ室モデル1a、1b)の移動指示に応じて、治療室モデル(ガントリ室モデル1a、1b)をモデル空間において移動する治療室モデル移動手順と、を含み、作業終了指示があるまで、局所凹領域計算手順、凹領域計算結果表示手順、治療室モデル移動手順を繰り返す。実施の形態1の粒子線治療施設の設計支援方法に係る局所凹領域8は、最も近くに配置された2つの治療室モデル(ガントリ室モデル1a、1b)における対向する外周を結ぶ線上の点の集合からなる領域であるか、または、最も近くに配置された2つの治療室モデル(ガントリ室モデル1a、1b)の間に遮蔽壁9が配置されている場合に、この場合の2つの治療室モデル(ガントリ室モデル1a、1b)における対向する外周を結ぶ線上の点であって、かつ遮蔽壁9を除いた対象点の集合からなる領域である。この構成により、実施の形態1の粒子線治療施設の設計支援方法は、複数の治療室モデル(ガントリ室モデル1a、
1b)の内、最も近くに配置された2つの治療室モデル(ガントリ室モデル1a、1b)の間における凹領域8の体積又は射影面積を計算し、表示装置26に表示するので、治療室モデル(ガントリ室モデル1a、1b)の配置位置に伴って凹領域8の面積や体積の計算結果を表示でき、凹領域8をできる限り少なくするように、複数の治療室(ガントリ室20a、20b)のレイアウトを最適化することができる。
図12は、本発明の実施の形態2による粒子線治療施設の設計支援方法を示すフローチャートである。実施の形態1では、操作者の指示によりガントリ室モデル1を移動させて、その都度、凹領域8の体積又は射影面積を計算する例を示したが、実施の形態2は、計算機25にて反復計算により最適値を計算する例である。図12のフローチャートは、図1のステップS004、S005、S006の代わりに、ステップS010、ステップS011が追加された点で、図1とは異なる。
20a、20b)の3次元モデルである治療室モデル(ガントリ室モデル1)を作成する治療室モデル作成手順と、配置対象空間に対応したモデル空間に複数の治療室モデル(ガントリ室モデル1a、1b)を初期位置に配置する治療室モデル配置手順と、複数の治療室モデル(ガントリ室モデル1a、1b)の内、最も近くに配置された2つの治療室モデル(ガントリ室モデル1a、1b)を対象組とし、対象組における2つの治療室モデル(ガントリ室モデル1a、1b)の間における凹領域である局所凹領域8の体積又は局所凹領域8を床方向の2次元に射影した場合の射影面積を、対象組毎に計算する局所凹領域計算手順と、設計支援装置27にて治療室モデル(ガントリ室モデル1a、1b)を移動し、局所凹領域8の体積又は局所凹領域8の射影面積の計算を対象組毎に複数回繰り返して最適値を計算する最適値計算手順と、最適値計算手順にて計算した局所凹領域8の体積の最適値又は射影面積の最適値と、この場合に対応する治療室モデル(ガントリ室モデル1a、1b)の配置を、設計支援装置27の表示装置26に表示する最適値計算結果表示手順と、を含むことを特徴とする。この構成により、実施の形態2の粒子線治療施設の設計支援方法は、設計支援装置27の計算機25が反復計算により凹領域8の体積又は射影面積の最適値を計算するので、実施の形態1よりも短時間で、凹領域8をできる限り少なくするように、複数の治療室(ガントリ室20a、20b)のレイアウトを最適化することができる。また、実施の形態2の粒子線治療施設の設計支援方法は、実施の形態1よりも効率的に複数の治療室(ガントリ室20a、20b)のレイアウトを最適化することができる。
実施の形態1では、局所凹領域8の体積又は射影面積を最適化する例を示したが、配置領域枠10におけるガントリ室モデル1の配置されていない領域においても有効活用可能な領域を確保できることが望ましい。実施の形態3では、配置領域枠10におけるガントリ室モデル1の配置されていない領域も最適化することができる粒子線治療施設の設計支援方法を説明する。
20a、20bが配置された上面図における2次元領域と、この2次元領域が、床から天井まで垂直に延伸した3次元領域を考える。
15a、15bを用いる。
10から治療室モデル(ガントリ室モデル1a、1b)が配置された治療室モデル関連領域を減算した残空間14を求め、この残空間14における凹領域(残空間凹領域15)の体積、又は2次元に射影した場合の面積(射影面積)を計算する(残空間凹領域計算手順)。ステップS013にて、局所凹領域計算手順及び残空間凹領域計算手順にて計算された体積又は射影面積を表示装置26に表示する(凹領域計算結果表示手順)。例えば、ステップS003の局所凹領域計算手順の計算開始指令が入力された場合に、局所凹領域計算手順と、残空間凹領域計算手順とが実行される。局所凹領域計算手順、残空間凹領域計算手順及び凹領域計算結果表示手順が実行された結果は、図14に示すように、表示装置26に表示される。
図17は、本発明の実施の形態4による粒子線治療施設の設計支援方法を示すフローチャートである。実施の形態3では、操作者の指示によりガントリ室モデル1を移動させて、その都度、局所凹領域8及び残空間凹領域15の体積又は射影面積を計算する例を示したが、実施の形態4は、計算機25にて反復計算により最適値を計算する例である。図17のフローチャートは、図13のステップS013、S005、S006の代わりに、ステップS020、ステップS021が追加された点で、図13とは異なる。
図18は、本発明の実施の形態5による粒子線治療施設の製造方法を示すフローチャートである。図19は配置対象空間に2つの治療室モデル、加速器モデルを最適に配置した例を示す図であり、図20は本発明の実施の形態5による粒子線治療施設の例を示す図である。実施の形態5では、加速器の配置も考慮した粒子線治療施設の製造方法を説明する。
17を配置する(輸送系モデル配置手順)。
59は、ガントリ室20a、20b、加速器室71に跨って配置されている。図20の粒子線治療施設70において、2つのガントリ室20a、20b、加速器54、ビーム輸送系59は、図19のガントリ室モデル1a、1bのガントリ胴体4、加速器モデル16、輸送系モデル17の相対位置が同一である。
15をできる限り少なくするように、複数の治療室(ガントリ室20a、
20b)のレイアウトを最適化することができる。また、実施の形態5の粒子線治療施設の製造方法は、ガントリ室20a、20bを設置予定の建屋形状に合わせた形状の配置領域枠10を用いて、レイアウトの検討を行うので、ガントリ室20a、20b等の治療室の形状と大きさ、及び治療室の設置場所の形状と大きさを考慮に入れることができる。
54により加速された荷電粒子ビーム31を輸送するビーム輸送系59と、ビーム輸送系59で輸送された荷電粒子ビーム31を照射対象(患部48)に照射する複数の粒子線照射装置58a、58bと、粒子線照射装置58a、58bのそれぞれを搭載し、照射対象(患部48)に対して任意の方向から荷電粒子ビーム31を照射する複数の回転ガントリ24a、24bと、回転ガントリ24a、24bのそれぞれが設置された複数の治療室(ガントリ室20a、20b)を備える。回転ガントリ24a、24bの胴体及び前面パネルを含むガントリ領域と、治療室(ガントリ室20a、20b)における回転ガントリ24a、24bの胴体の内部領域に接続する解放空間領域とからなる領域を仮想ガントリ領域とし、遮蔽壁19を隔てて最も近くに配置された2つの治療室(ガントリ室20a、20b)の間において、2つの仮想ガントリ領域の間における対向する外周を結ぶ線上の点であって、かつ遮蔽壁19を除いた対象点の集合からなる領域を局所凹領域73とし、複数の治療室(ガントリ室20a、20b)の配置は、複数の治療室(ガントリ室20a、20b)の内、最も近くに配置された2つの治療室(ガントリ室20a、20b)の間における局所凹領域73を床方向の2次元に射影した場合の射影面積が、仮想ガントリ領域を床方向の2次元に射影した場合における射影面積の1/4以下となる配置である。この構成により、実施の形態5の粒子線治療施設は、局所凹領域73をできる限り少なくするように、複数の治療室(ガントリ室20a、20b)のレイアウトを最適化することができる。
Claims (7)
- 照射対象に対して任意の方向から荷電粒子ビームを照射する回転ガントリが設置される治療室の複数を、あらかじめ決められた配置対象空間に配置する配置設計を設計支援装置にて支援する粒子線治療施設の設計支援方法であって、
前記治療室の3次元モデルである治療室モデルを作成する治療室モデル作成手順と、
前記配置対象空間に対応したモデル空間に複数の前記治療室モデルを初期位置に配置する治療室モデル配置手順と、
複数の前記治療室モデルの内、最も近くに配置された2つの前記治療室モデルの間における凹領域である局所凹領域の体積又は前記局所凹領域を床方向の2次元に射影した場合の射影面積を計算する局所凹領域計算手順と、
前記局所凹領域計算手順にて計算した前記局所凹領域の体積又は前記射影面積を前記設計支援装置の表示装置に表示する凹領域計算結果表示手順と、
前記凹領域計算結果表示手順の後に作業終了指示がない場合に、前記治療室モデルの移動指示に応じて、前記治療室モデルを前記モデル空間において移動する治療室モデル移動手順と、を含み、
前記作業終了指示があるまで、前記局所凹領域計算手順、前記凹領域計算結果表示手順、前記治療室モデル移動手順を繰り返し、
前記局所凹領域は、
最も近くに配置された2つの前記治療室モデルにおける対向する外周を結ぶ線上の点の集合からなる領域であるか、
または、最も近くに配置された2つの前記治療室モデルの間に遮蔽壁が配置されている場合に、この場合の2つの前記治療室モデルにおける対向する外周を結ぶ線上の点であって、かつ前記遮蔽壁を除いた対象点の集合からなる領域であることを特徴とする粒子線治療施設の設計支援方法。 - 照射対象に対して任意の方向から荷電粒子ビームを照射する回転ガントリが設置される治療室の複数を、あらかじめ決められた配置対象空間に配置する配置設計を設計支援装置にて支援する粒子線治療施設の設計支援方法であって、
前記治療室の3次元モデルである治療室モデルを作成する治療室モデル作成手順と、
前記配置対象空間に対応したモデル空間に複数の前記治療室モデルを初期位置に配置する治療室モデル配置手順と、
複数の前記治療室モデルの内、最も近くに配置された2つの前記治療室モデルを対象組とし、前記対象組における2つの前記治療室モデルの間における凹領域である局所凹領域の体積又は前記局所凹領域を床方向の2次元に射影した場合の射影面積を、前記対象組毎に計算する局所凹領域計算手順と、
前記設計支援装置にて前記治療室モデルを移動し、前記局所凹領域の体積又は前記局所凹領域の前記射影面積の計算を前記対象組毎に複数回繰り返して最適値を計算する最適値計算手順と、
前記最適値計算手順にて計算した前記局所凹領域の体積の最適値又は前記射影面積の最適値と、この場合に対応する前記治療室モデルの配置を、前記設計支援装置の表示装置に表示する最適値計算結果表示手順と、を含み、
前記局所凹領域は、
最も近くに配置された2つの前記治療室モデルにおける対向する外周を結ぶ線上の点の集合からなる領域であるか、
または、最も近くに配置された2つの前記治療室モデルの間に遮蔽壁が配置されている場合に、この場合の2つの前記治療室モデルにおける対向する外周を結ぶ線上の点であって、かつ前記遮蔽壁を除いた対象点の集合からなる領域であることを特徴とする粒子線治療施設の設計支援方法。 - 請求項1記載の粒子線治療施設の設計支援方法において、
前記モデル空間から複数の前記治療室モデルを含む治療室モデル関連領域を減算した残空間を求め、前記残空間における凹領域である残空間凹領域の体積又は前記残空間凹領域を床方向の2次元に射影した場合の射影面積を計算する残空間凹領域計算手順を含み、
前記残空間凹領域は、前記治療室モデル関連領域の側における前記残空間の対向する外周を結ぶ線上の点の集合からなる領域であり、
前記凹領域計算結果表示手順は、前記局所凹領域計算手順の計算結果と、前記残空間凹領域計算手順にて計算した前記残空間凹領域の体積又は前記射影面積を前記表示装置に表示することを特徴とする粒子線治療施設の設計支援方法。 - 請求項2記載の粒子線治療施設の設計支援方法において、
前記モデル空間から複数の前記治療室モデルを含む治療室モデル関連領域を減算した残空間を求め、前記残空間における凹領域である残空間凹領域の体積又は前記残空間凹領域を床方向の2次元に射影した場合の射影面積を計算する残空間凹領域計算手順を含み、
前記残空間凹領域は、前記治療室モデル関連領域の側における前記残空間の対向する外周を結ぶ線上の点の集合からなる領域であり、
前記最適値計算手順は、前記設計支援装置にて前記治療室モデルが移動されると、前記局所凹領域の体積又は前記局所凹領域の前記射影面積の計算と、前記残空間凹領域の体積又は前記残空間凹領域の前記射影面積の計算とを、前記対象組毎に複数回繰り返して最適値を計算し、
前記最適値計算結果表示手順は、前記最適値計算手順にて計算した、前記局所凹領域の体積の最適値又は前記射影面積の最適値と、前記残空間凹領域の体積の最適値又は前記射影面積の最適値と、この場合に対応する前記治療室モデルの配置を、前記設計支援装置の表示装置に表示することを特徴とする粒子線治療施設の設計支援方法。 - 請求項4に記載の粒子線治療施設の設計支援方法において、
前記最適値計算手順は、前記局所凹領域と前記残空間凹領域との間に重み付けをした評価関数値に基づいて、前記局所凹領域の体積の最適値又は前記射影面積の最適値と、前記残空間凹領域の体積の最適値又は前記射影面積の最適値とを計算することを特徴とする粒子線治療施設の設計支援方法。 - 粒子線治療装置の加速器と、前記加速器により加速された荷電粒子ビームを輸送するビーム輸送系と、照射対象に対して任意の方向から前記荷電粒子ビームを照射する回転ガントリが設置される治療室の複数と、をあらかじめ決められた配置対象空間に配置する粒子線治療施設の製造方法であって、
前記配置対象空間に対応したモデル空間に、前記加速器に対応した加速器モデルを配置する加速器モデル配置手順と、
前記モデル空間に前記治療室の3次元モデルである治療室モデルの複数を配置する治療室モデル最適配置手順と、
前記モデル空間において、前記ビーム輸送系に対応した輸送系モデルを、前記加速器モデルと前記治療室モデルを接続して配置する輸送系モデル配置手順と、を含み、
前記治療室モデル最適配置手順は、請求項1から5のいずれか1項の粒子線治療施設の設計支援方法を用いて、前記治療室モデルの配置を決定することを特徴とする粒子線治療施設の製造方法。 - 請求項6記載の粒子線治療施設の製造方法において、
前記治療室モデル最適配置手順は、前記局所凹領域の前記射影面積が、前記治療室モデルの前記射影面積の1/4以下となるように前記治療室モデルを配置することを特徴とする粒子線治療施設の製造方法。
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