JP6278036B2 - 粒子の製造方法 - Google Patents
粒子の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6278036B2 JP6278036B2 JP2015234136A JP2015234136A JP6278036B2 JP 6278036 B2 JP6278036 B2 JP 6278036B2 JP 2015234136 A JP2015234136 A JP 2015234136A JP 2015234136 A JP2015234136 A JP 2015234136A JP 6278036 B2 JP6278036 B2 JP 6278036B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- good solvent
- poor solvent
- solvent
- nozzle
- precipitation
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D1/00—Evaporating
- B01D1/16—Evaporating by spraying
- B01D1/18—Evaporating by spraying to obtain dry solids
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01D—COMPOUNDS OF ALKALI METALS, i.e. LITHIUM, SODIUM, POTASSIUM, RUBIDIUM, CAESIUM, OR FRANCIUM
- C01D15/00—Lithium compounds
- C01D15/04—Halides
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D9/00—Crystallisation
- B01D9/0018—Evaporation of components of the mixture to be separated
- B01D9/0031—Evaporation of components of the mixture to be separated by heating
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D9/00—Crystallisation
- B01D9/005—Selection of auxiliary, e.g. for control of crystallisation nuclei, of crystal growth, of adherence to walls; Arrangements for introduction thereof
- B01D9/0054—Use of anti-solvent
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B17/00—Sulfur; Compounds thereof
- C01B17/22—Alkali metal sulfides or polysulfides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B17/00—Sulfur; Compounds thereof
- C01B17/22—Alkali metal sulfides or polysulfides
- C01B17/36—Purification
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Thermal Sciences (AREA)
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
- Battery Electrode And Active Subsutance (AREA)
- Glanulating (AREA)
- Vaporization, Distillation, Condensation, Sublimation, And Cold Traps (AREA)
Description
2.前記良溶媒溶液と前記洗浄用貧溶媒を交互に前記ノズルに通すことをさらに含む、前記1に記載の粒子の製造方法。
3.前記良溶媒溶液と前記洗浄用貧溶媒を混合して前記ノズルに通すことをさらに含む、前記1に記載の粒子の製造方法。
4.前記洗浄用貧溶媒が、前記析出用貧溶媒の加熱温度以上の沸点を有する、前記1〜3のいずれか一項に記載の粒子の製造方法。
5.前記洗浄用貧溶媒と、前記析出用貧溶媒が同じである、前記4に記載の粒子の製造方法。
6.前記析出用貧溶媒の加熱温度が、前記良溶媒の沸点よりも165℃以上高い、前記1〜5のいずれか一項に記載の粒子の製造方法。
7.前記原料成分が複数種である、前記1〜6のいずれか一項に記載の粒子の製造方法。
8.前記複数の原料成分が、硫化リチウム、及びハロゲン化リチウムである、前記7に記載の粒子の製造方法。
9.前記ハロゲン化リチウムが、ヨウ化リチウム及び臭化リチウムである、前記8に記載の粒子の製造方法。
10.前記良溶媒溶液が、前記良溶媒に分散している少なくとも一種の粉末状の原料成分をさらに含有しているスラリーの形態である、前記1〜9のいずれかに記載の粒子の製造方法。
11.前記良溶媒溶液中の複数種の前記原料成分の濃度が、10g/l以上である、請求項に1〜10のいずれか一項に記載の粒子の製造方法。
12.前記良溶媒溶液を前記析出用貧溶媒に注入する際の流量が、5ml/min以上10ml/min以下である、前記1〜11のいずれか一項に記載の粒子の製造方法。
本発明において、原料成分とは、本発明の粒子の製造方法によって製造される粒子の原料となる成分である。原料成分が複数である場合、本発明の方法では、複数の原料成分が高度に複合化された微粒子を得ることができる。したがって、本発明では、原料成分が複数である場合は特に好ましい。本発明では、良溶媒に溶解する原料成分を用いることができるが、さらに、良溶媒に分散する随意の粉末状の原料成分を用いることもできる。
本発明における良溶媒とは、本発明における原料成分のうち全部又は一部を溶解することができ、かつ本発明における貧溶媒よりも原料成分の溶解度が高い溶媒である。本発明における良溶媒としては特に限定されないが、例えば、メタノール、水、トルエン等が挙げられる。
本発明における良溶媒溶液は、良溶媒に原料成分を溶解させた溶液である。良溶媒溶液における複数の原料成分の濃度は特に限定されないが、合計で5g/l以上、10g/l以上、20g/l以上、又は50g/l以上が好ましい。これは、良溶媒溶液中の原料成分の濃度が高いほうが、より高度に複合化された粒子を得ることができるためである。なお、本発明において、良溶媒溶液は、良溶媒に分散している少なくとも一種の原料成分粉末をさらに含有しているスラリーの形態であってもよい。
本発明における析出用貧溶媒は、良溶媒よりも原料成分の溶解度が低い溶媒である。本件における貧溶媒は、良溶媒の沸点よりも高い温度に加熱されている。
本発明では、良溶媒溶液を、ノズルを通して注入することにより、良溶媒を蒸発させて複数の粒子を析出させる。ノズルは、良溶媒溶液を析出用貧溶媒に注入することができる形状であれば特に限定されない。ノズルは、例えば管上の形状を有し、管の内部に液体を流通させることができる構造を有している。ノズルの具体例としては、例えば注入ノズルが挙げられる。
本発明において、洗浄用貧溶媒は、良溶媒溶液に用いられる良溶媒よりも、各原料成分の溶解度が低い溶媒である。洗浄用貧溶媒としては、例えばドデカン、トリデカンなどが挙げられる。
下記のようにして、高温に加熱した析出用貧溶媒にノズルを通して良溶媒溶液を注入し、ノズルの閉塞の有無を観察した。なお、参考例1〜4、並びに実施例1及び2は、図1において示した装置を用いて行った。また、実施例3は、図4において示した装置を用いて行った。
原料成分としての硫化リチウム、ヨウ化リチウム、及び臭化リチウム(モル比6:1:1)を、良溶媒溶液中の原料成分の濃度が50g/lになるように、良溶媒としてのメタノール(沸点65℃)に溶解して、原料成分を溶解した良溶媒溶液を作製した。
析出用貧溶媒に良溶媒溶液を注入する前後に、洗浄用貧溶媒としてのトリデカンをノズルに注入したことを除いて、参考例1と同様にして、良溶媒溶液を析出用貧溶媒に注入した。具体的には、下記のようにして注入を行った。
析出用貧溶媒に良溶媒溶液を注入する際の流量を5ml/minとしたことを除いて、参考例1と同様にして、良溶媒溶液を析出用貧溶媒に注入した。
析出用貧溶媒に対して、良溶媒溶液を注入する前後に洗浄用貧溶媒を注入し、かつ良溶媒溶液と貧溶媒溶液を交互に注入したことを除いて、参考例2と同様にして、良溶媒溶液を析出用貧溶媒に注入した。具体的には、下記のようにして注入を行った。
析出用貧溶媒に対して、図4に示される装置を用いて良溶媒溶液と洗浄用貧溶媒をスタティックミキサーによって混合して注入したことを除いて、参考例2と同様にして、良溶媒溶液を析出用貧溶媒に注入した。
良溶媒であるメタノールを洗浄用貧溶媒の代わりに用いたことを除いて、実施例1と同様にして、良溶媒溶液を析出用貧溶媒に注入した。
良溶媒溶液及び洗浄用良溶媒の流量を20ml/minとしたことを除いて、参考例3と同様にして、良溶媒溶液を析出用貧溶媒に注入した。
参考例1〜4、並びに実施例1〜3の実験条件、及び結果を下記の表1に記載した。なお、表1において、洗浄液とは、洗浄用貧溶媒又は洗浄用貧溶媒の代わりに使用した良溶媒を表している。
良溶媒溶液を析出用貧溶媒に注入する前にノズルに洗浄用貧溶媒を通さなかった参考例1の場合には、注入開始後、8秒後にノズルが閉塞した。
参考例2では、参考例1よりも良溶媒溶液の流量が小さかったため、注入開始から約1秒未満で閉塞した。これに対して、参考例2と同じ流量であるが、良溶媒溶液と洗浄用貧溶媒を交互に注入した実施例2、及び参考例2と同じ流量であるが、良溶媒溶液と洗浄用貧溶媒を混合して注入した実施例3では、ノズルの閉塞が起きなかった。
洗浄用貧溶媒としてのトリデカンを使用した実施例1では、良溶媒溶液を析出用貧溶媒に10分間注入を続けたが、閉塞しなかった。これに対して、洗浄用貧溶媒の代わりに良溶媒としてのメタノールを使用した参考例3では、良溶媒溶液を貧溶媒溶液に注入する前に洗浄用良溶媒を流し込んでいるにもかかわらず、注入開始から約11秒後にノズルが閉塞し、ノズルの閉塞を防止することができなかった。
<実施例1及び比較例1>
上記実施例1の方法により得られた粒子と、比較例1としての良溶媒と貧溶媒を用いる一般的な方法により得られた粒子について、X線回折(XRD)測定を行って、その結晶構造を比較した。なお、比較例1は、下記のようにして行った。
図5は、実施例1及び比較例1のXRD測定の結果を示すグラフである。図において、上側の曲線が実施例1のXRD測定結果である。また、下側の曲線が比較例1のXRD測定結果である。
実施例1の方法により得られた析出物は、比較例1の方法により得られた析出物と比較して、ヨウ化リチウムのピークが右にシフトしており、硫化リチウム及び臭化リチウムのピークは左にシフトしていた。これは、ヨウ化リチウム、硫化リチウム、及び臭化リチウムがお互いに固溶して格子定数が近くなったためと考えられる。
2 洗浄用貧溶媒
3 切替弁
4 ポンプ
5 配管
6 ノズル
7 Arガスと良溶媒の蒸気の混合気体
8 Arガス
9 良溶媒の蒸気
10 析出用貧溶媒
11 オイルバス
12 加熱されたオイル
13 スタティックミキサー
20 良溶媒溶液
21 良溶媒の蒸気
22 原料成分の微粒子
23 原料成分の結晶
25 ノズル
Claims (13)
- 粒子の製造方法であって、
(a)良溶媒及び前記良溶媒に溶解している原料成分を含む良溶媒溶液を、前記良溶媒の沸点よりも高い温度に加熱されている析出用貧溶媒中に、ノズルを通して注入することにより、前記良溶媒を蒸発させて複数の粒子を析出させること、及び
(b)前記良溶媒溶液を前記析出用貧溶媒中に注入開始するとき、及び注入終了するときに、洗浄用貧溶媒を前記ノズルに通すこと、
を含む、粒子の製造方法。 - 前記工程(b)において、前記良溶媒溶液を前記析出用貧溶媒中に注入開始するとき、前記洗浄用貧溶媒で前記ノズルを満たした後に、及び前記良溶媒溶液を前記析出用貧溶媒中に注入終了するときに、前記洗浄用貧溶媒を前記ノズルに通すことを含む、請求項1に記載の粒子の製造方法。
- 前記良溶媒溶液と前記洗浄用貧溶媒を交互に前記ノズルに通すことをさらに含む、請求項1又は2に記載の粒子の製造方法。
- 前記良溶媒溶液と前記洗浄用貧溶媒を混合して前記ノズルに通すことをさらに含む、請求項1又は2に記載の粒子の製造方法。
- 前記洗浄用貧溶媒が、前記析出用貧溶媒の加熱温度以上の沸点を有する、請求項1〜4のいずれか一項に記載の粒子の製造方法。
- 前記洗浄用貧溶媒と、前記析出用貧溶媒が同じである、請求項5に記載の粒子の製造方法。
- 前記析出用貧溶媒の加熱温度が、前記良溶媒の沸点よりも165℃以上高い、請求項1〜6のいずれか一項に記載の粒子の製造方法。
- 前記原料成分が複数種である、請求項1〜7のいずれか一項に記載の粒子の製造方法。
- 前記複数種の原料成分が、硫化リチウム、及びハロゲン化リチウムである、請求項8に記載の粒子の製造方法。
- 前記ハロゲン化リチウムが、ヨウ化リチウム及び臭化リチウムである、請求項9に記載の粒子の製造方法。
- 前記良溶媒溶液が、前記良溶媒に分散している少なくとも一種の粉末状の原料成分をさらに含有しているスラリーの形態である、請求項1〜10のいずれか一項に記載の粒子の製造方法。
- 前記良溶媒溶液中の前記原料成分の濃度が、10g/l以上である、請求項1〜11のいずれか一項に記載の粒子の製造方法。
- 前記良溶媒溶液を前記析出用貧溶媒中に注入する際の流量が、5ml/min以上10ml/min以下である、請求項1〜12のいずれか一項に記載の粒子の製造方法。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015234136A JP6278036B2 (ja) | 2015-11-30 | 2015-11-30 | 粒子の製造方法 |
CN201610885467.8A CN106807100B (zh) | 2015-11-30 | 2016-10-11 | 粒子的制造方法 |
US15/347,441 US9868645B2 (en) | 2015-11-30 | 2016-11-09 | Method for producing particles |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015234136A JP6278036B2 (ja) | 2015-11-30 | 2015-11-30 | 粒子の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2017100069A JP2017100069A (ja) | 2017-06-08 |
JP6278036B2 true JP6278036B2 (ja) | 2018-02-14 |
Family
ID=58776704
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015234136A Active JP6278036B2 (ja) | 2015-11-30 | 2015-11-30 | 粒子の製造方法 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9868645B2 (ja) |
JP (1) | JP6278036B2 (ja) |
CN (1) | CN106807100B (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US10879559B2 (en) * | 2017-09-06 | 2020-12-29 | Idemitsu Kosan Co., Ltd. | Method for producing solid electrolyte |
JP7071899B2 (ja) | 2017-09-06 | 2022-05-19 | 出光興産株式会社 | 固体電解質の製造方法 |
CN110230917A (zh) * | 2019-06-17 | 2019-09-13 | 新疆骏强科技发展有限公司 | 一种干燥无水碘化锂的装置及无水碘化锂的制备方法 |
Family Cites Families (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06183729A (ja) * | 1992-07-31 | 1994-07-05 | Sony Corp | 複合酸化物の製造方法及び複合酸化物製造装置 |
JP3796763B2 (ja) * | 1994-04-01 | 2006-07-12 | 東ソー株式会社 | 結晶形2,2−ビス(3,5−ジブロモ−4−ジブロモプロポキシフェニル)プロパン及びその製造方法 |
JP2000053658A (ja) * | 1998-08-06 | 2000-02-22 | Tosoh Corp | トリス(ジブロモプロピル)イソシアヌレートの製造方法 |
JP2001104703A (ja) * | 1999-08-04 | 2001-04-17 | Sumitomo Chem Co Ltd | 蒸発晶析方法 |
JP2001354642A (ja) * | 2000-06-08 | 2001-12-25 | Sanko Kagaku Kogyo Kk | ビス(3,5−ジブロモ−4−ジブロモプロポキシフェニル)スルホン顆粒体の製造方法 |
JP2003265901A (ja) * | 2002-03-15 | 2003-09-24 | Sumitomo Chem Co Ltd | 有機化合物結晶の製造方法 |
JPWO2005013938A1 (ja) * | 2003-08-06 | 2006-09-28 | エーザイ株式会社 | 薬物超微粒子の製造法及び製造装置 |
JP2009215413A (ja) * | 2008-03-10 | 2009-09-24 | Fujifilm Corp | 顔料微粒子の形成方法および形成装置 |
JP2009297668A (ja) * | 2008-06-16 | 2009-12-24 | Ebara Corp | 微粒子の製造方法及び装置 |
WO2010044340A1 (ja) * | 2008-10-16 | 2010-04-22 | 宇部興産株式会社 | 高分子粒子の製造方法及び製造装置 |
EA025562B1 (ru) * | 2010-03-22 | 2017-01-30 | Инстилло Гмбх | Способ для получения микрочастиц или наночастиц и устройство для его осуществления |
CA2824961C (en) * | 2011-01-31 | 2015-07-07 | Toray Industries, Inc. | Process for producing polylactic acid-based resin microparticles, polylactic acid-based resin microparticles themselves and cosmetic using thereof |
US20140315098A1 (en) * | 2011-06-20 | 2014-10-23 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | Solid electrolyte microparticle production method |
CN102585253B (zh) * | 2011-12-23 | 2014-07-09 | 云南云天化股份有限公司 | 用于pi薄膜表面改性的tpi微粒的制备方法 |
EP2826545A4 (en) * | 2012-03-14 | 2015-04-15 | Mitsubishi Rayon Co | DEVICE FOR PREPARING A HOLLOWED POROUS FILM AND METHOD FOR PRODUCING A HOLLOWED POROUS FILM |
JP5692266B2 (ja) * | 2013-03-15 | 2015-04-01 | トヨタ自動車株式会社 | 硫化物固体電解質材料の製造方法 |
-
2015
- 2015-11-30 JP JP2015234136A patent/JP6278036B2/ja active Active
-
2016
- 2016-10-11 CN CN201610885467.8A patent/CN106807100B/zh active Active
- 2016-11-09 US US15/347,441 patent/US9868645B2/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US9868645B2 (en) | 2018-01-16 |
CN106807100B (zh) | 2019-05-31 |
US20170152150A1 (en) | 2017-06-01 |
JP2017100069A (ja) | 2017-06-08 |
CN106807100A (zh) | 2017-06-09 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6278036B2 (ja) | 粒子の製造方法 | |
CN105126638B (zh) | 一种反向扩散原位自组装MOFs纳滤膜的制备方法 | |
CN106340611A (zh) | 粒子的制造方法 | |
JP3525126B2 (ja) | 晶析装置および晶析方法 | |
Wu et al. | Solvent penetration mediated phase transformation for the preparation of aggregated particles with well-defined shape | |
JP2016071020A (ja) | 半導体フォトリソグラフィー用薬液の精製方法、半導体フォトリソグラフィー用薬液の精製装置、及び半導体フォトリソグラフィー用薬液 | |
KR101729843B1 (ko) | 폴리머 입자, 그 제조방법 및 그것을 포함하는 전지용 분리막 | |
US1026724A (en) | Porous granular hygroscopic material. | |
JP6480103B2 (ja) | 貯氷タンク、製氷システム、及び製氷方法 | |
RU142486U1 (ru) | Устройство для изготовления и перемещения смеси или раствора | |
US10280083B2 (en) | Method for producing complexed particles | |
NO753468L (ja) | ||
JP6815337B2 (ja) | 貯氷タンク | |
KR20070105759A (ko) | 고유량을 나타내는 고다공성 폴리비닐리덴 플로라이드멤브레인 및 이의 제조방법 | |
KR20170119136A (ko) | 파라핀이 충진된 탄소나노튜브의 제조 방법, 나노 입자 및 축열재 | |
CN104151324A (zh) | 一种溶媒结晶法制备氨苄西林钠的方法 | |
CN105154868A (zh) | 一种基于抽气方法的纳米涂层沉积装置及方法 | |
CN114177668B (zh) | 一种四溴双酚a醚类衍生物的连续沉淀装置及方法 | |
ES2784306T3 (es) | Soporte de catalizador y procesos relacionados | |
JP6529412B2 (ja) | 地熱熱水を利用したシリカの製造方法 | |
JP2015218094A (ja) | 結晶の凝集制御方法 | |
JP7251817B2 (ja) | ナノ粒子を生成するプロセス | |
JP2017129356A (ja) | シャーベット氷の製氷システム及び製氷方法 | |
RU2016138434A (ru) | Порошок йогексола и способ его применения | |
JP2014054609A (ja) | 気体捕集装置及び気体捕集方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20170908 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20170926 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20171109 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20171219 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20180101 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 6278036 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |