JP6268070B2 - メッキ材及び端子金具 - Google Patents

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Description

本発明は、メッキ材及び端子金具に関する。
銅又は銅合金を母材とする端子金具は、母材の上にスズメッキを施すことにより、防錆性及び接触性を向上させている。
下記特許文献1には、相手方の端子と電気的に接触する電気接続部と、電線の端末の導体に圧着される電線圧着部と、を有する圧着端子が記載されている。この圧着端子は、銅を含む本体部及びその表面を覆うスズメッキ層を有する金属板により形成されている。
特開2010−10013号公報
ところが、スズメッキは耐摩耗性が低いので、端子の摺動接点として使用した場合、摺動のたびにスズメッキが削られて剥離し、下地である銅又は銅合金が露出することがあった。このため、露出した銅又は銅合金が錆びてしまい、端子の電気的性能を低下させることがあった。
そこで、本発明の目的は、上記課題を解消することに係り、優れた耐摩耗性や導電性や摺動性を長期に亘って維持することができ、低コスト化を図ることのできるメッキ材及び端子金具を提供することにある。
本発明の前述した目的は、下記の構成により達成される。
(1) 母材金属板と、該母材金属板の表面を覆う銀による第1メッキ層と、該第1メッキ層の表面を覆うフッ素ドープ酸化スズ膜と、該フッ素ドープ酸化スズ膜の上を覆うスズ又はスズ合金による第2メッキ層と、を備えたことを特徴とするメッキ材。
(2) 前記母材金属板の表面は、該表面に対する前記第1メッキ層、前記フッ素ドープ酸化スズ膜及び前記第2メッキ層の付着性を向上させる凹凸を設けられたことを特徴とする上記(1)に記載のメッキ材。
(3) 上記(1)又は(2)に記載のメッキ材からなる端子金具であって、前記メッキ材の前記第2メッキ層が端子金具相互の摺動面となっていることを特徴とする端子金具。
上記(1)の構成によれば、銀による第1メッキ層の上を覆うフッ素ドープ酸化スズ膜は、次の(a)〜(d)の特徴を有している。
(a)金や銀と比較して、材料コストが安い。
(b)銅やスズと比較して優れた導電性を備えており、銀や金などと比較してもそれほど遜色のない優れた導電性を有している。そのため、良好な導電性を確保するために銀を使った第1メッキ層の膜厚を低減させて、材料コストの高い銀の使用量の低減により、コストの低減を図ることができる。
(c)銀や銅などと比較して、酸などの環境ストレスに強く、酸化による変色や腐食が発生し難く、酸化防止のためのコーティングなどが不要になり、コスト低減を促進することができる。
(d)金や銀と比較して耐摩耗性が高く、端子金具などに使った場合に、嵌合や摺動を繰り返しても、摩耗が生じ難く、寿命を延ばすことができる。
また、フッ素ドープ酸化スズ膜の上を覆うスズ又はスズ合金による第2メッキ層は、フッ素ドープ酸化スズ膜と比較して変形し易く、相手部材との接触部に使用されている場合に、相手部材の表面の凹凸に馴染んで、相手部材との接触を高めることができ、端子金具等に使用した場合に、接触信頼性を向上させることができる。
以上より、上記(1)の構成によれば、優れた耐摩耗性や導電性や摺動性を長期に亘って維持することができ、且つ、銀による第1メッキ層の厚みを抑えて低コスト化を図ることができる。
上記(2)の構成によれば、母材金属板に対する各層の接着強度を向上させることができ、プレス成形等を行っても、層の剥がれが生じ難く、各層が安定した性能を発揮することができる。
上記(3)の構成によれば、摺動面がフッ素ドープ酸化スズ膜の上にスズ又はスズ合金により第2メッキ層を有した構造で、相手端子金具との摺動性や接触信頼性を向上させることができ、また、フッ素ドープ酸化スズ膜や第1メッキ層のすぐれた導電性により、すぐれたと導電性能を確保することができる。また、フッ素ドープ酸化スズ膜が優れた耐摩耗性を有しているため、相手端子金具との嵌合・離脱を繰り返しても摩耗を抑えて、安定した接続性能を得ることができる。
即ち、端子金具として、優れた耐摩耗性や導電性や摺動性を長期に亘って維持することができ、且つ、銀による第1メッキ層の厚みを押さえて低コスト化を図ることができる。
本発明による端子金具によれば、優れた耐摩耗性や導電性や摺動性を長期に亘って維持することができ、且つ、銀による第1メッキ層の厚みを押さえて低コスト化を図ることができる。
以上、本発明について簡潔に説明した。さらに、以下に説明される発明を実施するための形態(以下、「実施形態」という。)を添付の図面を参照して通読することにより、本発明の詳細は更に明確化されるであろう。
図1は本発明に係る端子金具の一実施形態の縦断面図である。 図2は図1のA部の拡大図である。 図3は本発明に係るメッキ材の他の実施形態の縦断面図である。
以下、本発明に係る端子金具の好適な実施形態について、図面を参照して詳細に説明する。
図1は本発明に係る端子金具の一実施形態の縦断面図、図2は図1のA部の拡大図である。
図1では、雌端子金具10と雄端子金具20との嵌合状態を示している。
雌端子金具10は、金属板のプレス成形により所定の構造に形成されたもので、相手端子金具(雄端子金具20)が嵌合する角筒状の嵌合筒部11の内側に、雄端子金具20の舌状片21を挟持するばね板部12,13が装備されている。
それぞれのばね板部12,13は、嵌合筒部11に挿入された舌状片21が摺動接触する突起部12a,13aが形成されている。これらの突起部12a,13aは、表面が滑らかな湾曲面に形成されている。
雄端子金具20は、金属板のプレス成形により所定の構造に形成されたもので、先端に、雌端子金具10の嵌合筒部11に嵌合する舌状片21が装備されている。
舌状片21は、平板状の芯金22の両面を表面板23,24で挟んで所定の厚み寸法を確保している。
以上に説明した雌端子金具10及び雄端子金具20を形成する金属板は、図2に示す多層構造のメッキ材30である。即ち、雌端子金具10及び雄端子金具20は、メッキ材30のプレス成形により形成されている。
このメッキ材30は、母材金属板31と、該母材金属板31の表面を覆う銀による第1メッキ層32と、この前記第1メッキ層32の表面を覆うフッ素ドープ酸化スズ膜(FTO)33と、このフッ素ドープ酸化スズ膜33の上を覆うスズ又はスズ合金による第2メッキ層34と、を備えた4層構造の板材である。
第1メッキ層32上にフッ素ドープ酸化スズを薄板状に設けるには、例えば、スプレー熱分解(SPD:Spray Pyrolysis Deposition)法により設けることができる。SPD法はよく知られているように、基材を成膜温度まで加熱し、そこに向けて霧化器等の噴霧手段を用いて膜の原料となる溶液を噴霧することにより、反応初期には、基材表面に付着した液滴中の溶媒の蒸発と、溶質の熱分解に続く加水分解反応および熱酸化反応することにより結晶を形成させ、反応が進むにつれその結晶上に、液滴が付着し、液滴中の溶媒蒸発と共に、溶質および下部の結晶間で結晶成長を進行させ、薄膜を形成する方法である。SPD法を採用することにより、なおフッ素ドープ酸化スズは、SPD法以外にも公知の方法を採用し、形成することができる。
フッ素ドープ酸化スズは、金や銀と比較して材料コストが低い。また、フッ素ドープ酸化スズの膜(FTO膜)は、スズ(Sn)の純金属と比較すると体積抵抗率が一桁のみ大きく、金や銀と比較してもそれほど遜色のない優れた導電性を有している。また、フッ素ドープ酸化スズは、導電性の温度依存度が低く、耐食性や耐摩耗性も優れていて、優れた耐久性を示す。
母材金属板31は、例えば、銅(Cu)製の所定厚の板材である。
また、第1メッキ層32は、ストライクメッキとしても良い。
雌端子金具10及び雄端子金具20では、図2に示すように、メッキ材30における第2メッキ層34が端子金具相互の摺動面となるように、メッキ材30が使用されている。
以上に説明したメッキ材30において、銀による第1メッキ層32の上を覆うフッ素ドープ酸化スズ膜33は、次の(a)〜(d)の特徴を有している。
(a)金や銀と比較して、材料コストが安い。
(b)銅やスズと比較して優れた導電性を備えており、銀や金などと比較してもそれほど遜色のない優れた導電性を有している。そのため、良好な導電性を確保するために銀を使った第1メッキ層32の膜厚を低減させて、材料コストの高い銀の使用量の低減により、コストの低減を図ることができる。
(c)銀や銅などと比較して、酸などの環境ストレスに強く、酸化による変色や腐食が発生し難く、酸化防止のためのコーティングなどが不要になり、コスト低減を促進することができる。
(d)金や銀と比較して耐摩耗性が高く、端子金具などに使った場合に、嵌合や摺動を繰り返しても、摩耗が生じ難く、寿命を延ばすことができる。
また、フッ素ドープ酸化スズ膜33の上を覆うスズ又はスズ合金による第2メッキ層34は、フッ素ドープ酸化スズ膜33と比較して変形し易く、相手部材との接触部に使用されている場合に、相手部材の表面の凹凸に馴染んで、相手部材との接触を高めることができ、端子金具等に使用した場合に、接触信頼性を向上させることができる。
以上より、上記のメッキ材30では、優れた耐摩耗性や導電性や摺動性を長期に亘って維持することができ、且つ、銀による第1メッキ層32の厚みを押さえて低コスト化を図ることができる。
そして、メッキ材30で形成した雌端子金具10及び雄端子金具20は、端子金具相互の接触部である摺動面がフッ素ドープ酸化スズ膜33の上にスズ又はスズ合金により第2メッキ層34を有した構造であり、相手端子金具との摺動性や接触信頼性を向上させることができる。また、フッ素ドープ酸化スズ膜33や第1メッキ層32のすぐれた導電性により、すぐれた導電性能を確保することができる。また、フッ素ドープ酸化スズ膜33が優れた耐摩耗性を有しているため、相手端子金具との嵌合・離脱を繰り返しても摩耗を抑えて、安定した接続性能を得ることができる。
即ち、端子金具として、優れた耐摩耗性や導電性や摺動性を長期に亘って維持することができ、且つ、銀による第1メッキ層32の厚みを抑えて低コスト化を図ることができる。
なお、メッキ材30は、図3に示すように、母材金属板31の表面に、凹凸30aが設けられている。そして、母材金属板31の上に積層する第1メッキ層32、フッ素ドープ酸化スズ膜33、第2メッキ層34も、母材金属板31の凹凸30aと同様の凹凸を有した構造にすると良い。
このようにすると、母材金属板31に対する各層の接着強度を向上させることができ、プレス成形等を行っても、層の剥がれが生じ難く、各層が安定した性能を発揮することができる。
なお、本発明は、上述した実施形態に限定されるものではなく、適宜、変形、改良、等が可能である。その他、上述した実施形態における各構成要素の材質、形状、寸法、数、配置箇所、等は本発明を達成できるものであれば任意であり、限定されない。
例えば、メッキ材30の用途は、上記実施形態に示した端子金具10,20に限るものではなく、プリント回路基板上に設けられる接点パターンや、接点に摺動接触するスライダなどにも使用可能である。
ここで、上述した本発明に係るメッキ材及び端子金具の実施形態の特徴をそれぞれ以下[1]〜[3]に簡潔に纏めて列記する。
[1] 母材金属板(31)と、該母材金属板(31)の表面を覆う銀による第1メッキ層(32)と、該第1メッキ層(32)の表面を覆うフッ素ドープ酸化スズ膜(33)と、該フッ素ドープ酸化スズ膜(33)の上を覆うスズ又はスズ合金による第2メッキ層(34)と、を備えたことを特徴とするメッキ材(30)。
[2] 前記母材金属板(31)の表面は、該表面に対する前記第1メッキ層(32)、前記フッ素ドープ酸化スズ膜(33)及び前記第2メッキ層(34)の付着性を向上させる凹凸(30a)を設けられたことを特徴とする上記[1]に記載のメッキ材(30)。
[3] 上記[1]又は[2]に記載のメッキ材(30)のプレス成形により形成される端子金具(10,20)であって、前記メッキ材(30)の前記第2メッキ層(34)が端子金具相互の摺動面となるように形成されたことを特徴とする端子金具(10,20)。
10,20 端子金具
30 メッキ材
30a 凹凸
31 母材金属板
32 第1メッキ層
33 フッ素ドープ酸化スズ膜
34 第2メッキ層

Claims (3)

  1. 母材金属板と、該母材金属板の表面を覆う銀による第1メッキ層と、該第1メッキ層の表面を覆うフッ素ドープ酸化スズ膜と、該フッ素ドープ酸化スズ膜の上を覆うスズ又はスズ合金による第2メッキ層と、を備えたことを特徴とするメッキ材。
  2. 前記母材金属板の表面は、該表面に対する前記第1メッキ層、前記フッ素ドープ酸化スズ膜及び前記第2メッキ層の付着性を向上させる凹凸を設けられたことを特徴とする請求項1に記載のメッキ材。
  3. 請求項1又は2に記載のメッキ材からなる端子金具であって、前記メッキ材の前記第2メッキ層が端子金具相互の摺動面となっていることを特徴とする端子金具。
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