JP6243800B2 - 酸化物半導体評価装置および該方法 - Google Patents
酸化物半導体評価装置および該方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6243800B2 JP6243800B2 JP2014118388A JP2014118388A JP6243800B2 JP 6243800 B2 JP6243800 B2 JP 6243800B2 JP 2014118388 A JP2014118388 A JP 2014118388A JP 2014118388 A JP2014118388 A JP 2014118388A JP 6243800 B2 JP6243800 B2 JP 6243800B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- oxide semiconductor
- unit
- thickness
- reflected wave
- measurement
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N22/00—Investigating or analysing materials by the use of microwaves or radio waves, i.e. electromagnetic waves with a wavelength of one millimetre or more
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Immunology (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Pathology (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Thin Film Transistor (AREA)
- Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
Description
Pkc=Pk/(1−exp(−αd)) ・・・(1)
4 厚さ測定部
52 取得部
53 ピーク演算部
54 補正部
55 評価部
Claims (5)
- 所定波長の光を評価対象の酸化物半導体に照射する光照射部と、
前記酸化物半導体に所定の測定波を照射する測定波照射部と、
前記酸化物半導体で反射された前記測定波の反射波を測定する反射波測定部と、
前記光照射部によって照射される光の進行方向に沿った方向における前記酸化物半導体の厚さを測定する厚さ測定部と、
前記厚さ測定部で測定された前記酸化物半導体の厚さとに基づいて、前記反射波測定部で測定された前記反射波の強度を補正する処理部とを備え、
前記反射波測定部は、前記反射波の反射率を測定し、
前記処理部は、前記反射波測定部で測定された前記反射率のピーク値を求めるピーク演算部と、前記ピーク演算部で求めたピーク値を、前記厚さ測定部で測定された前記酸化物半導体の厚さで補正することによって補正ピーク値を求める補正部とを備えること
を特徴とする酸化物半導体評価装置。 - 前記補正部は、前記ピーク値をPkとし、前記酸化物半導体における吸収係数および厚さをそれぞれαおよびdとした場合に、前記補正ピーク値Pkcを次式(1)から求めること
を特徴とする請求項1に記載の酸化物半導体評価装置。
Pkc=Pk/(1−exp(−αd)) ・・・(1) - 前記厚さ測定部は、前記酸化物半導体における消衰係数kをさらに測定すること
を特徴とする請求項2に記載の酸化物半導体評価装置。 - 前記処理部は、前記補正部で補正された補正ピーク値に基づいて前記酸化物半導体の移動度を評価する評価部をさらに備えること
を特徴とする請求項1ないし請求項3のいずれか1項に記載の酸化物半導体評価装置。 - 所定波長の光を評価対象の酸化物半導体に照射する光照射工程と、
前記酸化物半導体に所定の測定波を照射する測定波照射工程と、
前記酸化物半導体で反射された前記測定波の反射波を測定する反射波測定工程と、
前記光照射工程によって照射される光の進行方向に沿った方向における前記酸化物半導体の厚さを測定する厚さ測定工程と、
前記厚さ測定工程で測定された前記酸化物半導体の厚さとに基づいて、前記反射波測定工程で測定された前記反射波の強度を補正する処理工程とを備え、
前記反射波測定工程は、前記反射波の反射率を測定し、
前記処理工程は、前記反射波測定工程で測定された前記反射率のピーク値を求めるピーク演算工程と、前記ピーク演算工程で求めたピーク値を、前記厚さ測定工程で測定された前記酸化物半導体の厚さで補正することによって補正ピーク値を求める補正工程とを備えること
を特徴とする酸化物半導体評価方法。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014118388A JP6243800B2 (ja) | 2014-06-09 | 2014-06-09 | 酸化物半導体評価装置および該方法 |
CN201580013083.0A CN106104781B (zh) | 2014-06-09 | 2015-03-23 | 氧化物半导体评价装置和该方法 |
PCT/JP2015/058720 WO2015190151A1 (ja) | 2014-06-09 | 2015-03-23 | 酸化物半導体評価装置および該方法 |
KR1020167033844A KR101876113B1 (ko) | 2014-06-09 | 2015-03-23 | 산화물 반도체 평가 장치 및 그 방법 |
TW104111254A TWI551871B (zh) | 2014-06-09 | 2015-04-08 | Oxide semiconductor evaluation device and method thereof |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014118388A JP6243800B2 (ja) | 2014-06-09 | 2014-06-09 | 酸化物半導体評価装置および該方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2015233029A JP2015233029A (ja) | 2015-12-24 |
JP6243800B2 true JP6243800B2 (ja) | 2017-12-06 |
Family
ID=54833260
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014118388A Active JP6243800B2 (ja) | 2014-06-09 | 2014-06-09 | 酸化物半導体評価装置および該方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6243800B2 (ja) |
KR (1) | KR101876113B1 (ja) |
CN (1) | CN106104781B (ja) |
TW (1) | TWI551871B (ja) |
WO (1) | WO2015190151A1 (ja) |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03141659A (ja) * | 1989-10-26 | 1991-06-17 | Fujitsu Ltd | 半導体の評価方法 |
JP3683562B2 (ja) * | 2002-09-24 | 2005-08-17 | 富士通株式会社 | 結晶層組成決定方法 |
JP5100986B2 (ja) * | 2005-07-14 | 2012-12-19 | 株式会社神戸製鋼所 | 半導体キャリア寿命測定用装置,半導体キャリア寿命測定方法 |
JP5358373B2 (ja) * | 2009-09-24 | 2013-12-04 | 株式会社神戸製鋼所 | 半導体薄膜の結晶性評価方法及び結晶性評価装置 |
TWM396965U (en) * | 2010-06-18 | 2011-01-21 | Schmid Yaya Technology Co Ltd | Detect apparatus of anti-reflective layers thickness for solar chip |
JP5814558B2 (ja) * | 2010-06-30 | 2015-11-17 | 株式会社神戸製鋼所 | 酸化物半導体薄膜の評価方法、及び酸化物半導体薄膜の品質管理方法 |
CN102313849B (zh) * | 2010-06-30 | 2014-08-06 | 株式会社神户制钢所 | 氧化物半导体薄膜的评价方法及氧化物半导体薄膜的质量管理方法 |
TW201314194A (zh) * | 2011-09-28 | 2013-04-01 | Ind Tech Res Inst | 物件特性量測系統 |
JP5862522B2 (ja) * | 2012-09-06 | 2016-02-16 | 株式会社島津製作所 | 検査装置 |
-
2014
- 2014-06-09 JP JP2014118388A patent/JP6243800B2/ja active Active
-
2015
- 2015-03-23 WO PCT/JP2015/058720 patent/WO2015190151A1/ja active Application Filing
- 2015-03-23 CN CN201580013083.0A patent/CN106104781B/zh active Active
- 2015-03-23 KR KR1020167033844A patent/KR101876113B1/ko active IP Right Grant
- 2015-04-08 TW TW104111254A patent/TWI551871B/zh active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN106104781B (zh) | 2019-01-18 |
KR101876113B1 (ko) | 2018-07-06 |
TW201546464A (zh) | 2015-12-16 |
JP2015233029A (ja) | 2015-12-24 |
WO2015190151A1 (ja) | 2015-12-17 |
CN106104781A (zh) | 2016-11-09 |
KR20160148699A (ko) | 2016-12-26 |
TWI551871B (zh) | 2016-10-01 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR101647618B1 (ko) | 산화물 반도체 박막의 평가 방법 및 산화물 반도체 박막의 품질 관리 방법, 및 상기 평가 방법에 사용되는 평가 소자 및 평가 장치 | |
JP5814558B2 (ja) | 酸化物半導体薄膜の評価方法、及び酸化物半導体薄膜の品質管理方法 | |
JP5295924B2 (ja) | 半導体キャリア寿命測定装置および該方法 | |
EP3046141B1 (en) | Evaluation device for oxide semiconductor thin film | |
KR101251123B1 (ko) | 산화물 반도체 박막의 평가 방법 및 산화물 반도체 박막의 품질 관리 방법 | |
KR101863010B1 (ko) | 산화물 반도체 박막, 및 상기 산화물 반도체 박막의 표면에 보호막을 갖는 적층체의 품질 평가 방법, 및 산화물 반도체 박막의 품질 관리 방법 | |
KR101923798B1 (ko) | 산화물 반도체 박막의 표면에 보호막을 갖는 적층체의 품질 평가 방법 및 산화물 반도체 박막의 품질 관리 방법 | |
JP6243800B2 (ja) | 酸化物半導体評価装置および該方法 | |
US10230003B2 (en) | Method of evaluating thin-film transistor, method of manufacturing thin-film transistor, and thin-film transistor | |
JP5242287B2 (ja) | 半導体薄膜の結晶性評価装置及び結晶性評価方法 | |
JP2014027114A (ja) | 半導体基板と絶縁膜との界面評価方法、及び半導体基板と絶縁膜との界面評価装置 | |
JP5882801B2 (ja) | 半導体結晶性評価装置および該方法 | |
JP6219559B2 (ja) | 半導体キャリア寿命測定装置および該方法 | |
KR20140018672A (ko) | 그래핀 층을 이용한 광 스위치 및 광 스위칭 방법 | |
JP2012204490A (ja) | イオン注入量測定装置およびイオン注入量測定方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20160901 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20170523 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20170627 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20170905 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20170908 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20171107 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20171110 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6243800 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |