JP6241724B2 - 光反射体用成形材料、光反射体及び照明器具 - Google Patents

Description

本発明は、光反射体（リフレクタ−）を形成するために適した光反射体用成形材料、及びこの光反射体用成形材料から形成される光反射体に関する。

従来、発光ダイオードなどの発光素子が発する光を反射させるために、光反射体（リフレクタ）を用いることが知られている。

光反射体を製造するために使用される熱可塑性樹脂として、従来、ポリアミドが広く使用されている。しかし、ポリアミドの耐光性及び耐熱変色性は高くなく、ポリアミドから形成される光反射体の光反射率が経時的に低下しやすいという問題がある。そこで、光反射体の変色を抑制する試みがなされている。

例えば、光反射体を製造するために、熱可塑性樹脂として、脂環式炭化水素構造を備えるポリエステルを使用することが、提案されている（特許文献１参照）。この場合、光反射体に変色が生じにくくなるため、長期に亘って優れた光反射性が維持されることが、期待できる。

また、ポリアミドの耐光性及び耐熱変色性を向上する試みもなされている。例えば特許文献２には、少なくとも５０モル％の１，４−シクロヘキサンジカルボン酸を含むジカルボン酸と、少なくとも５０モル％の１，９−ノナンジアミン及び／又は２−メチル−１，８−オクタンジアミンを含むジアミンと、を重合させたポリアミドであって、トランス異性体比率が５１〜８５％であるポリアミド１００質量部に対して、酸化チタンを１〜４０質量部、及び強化材を５〜３０質量部含有する、ＬＥＤリフレクタ用ポリアミド組成物が、開示されている。

このような光反射体には、強度向上のために、補強材としてガラス繊維を含有させることが行われている。

特開２０１３−３２４２６号公報 特開２０１１−２１１２８号公報

近年、ＬＥＤ等を備える発光装置、照明装置等の小型化、チップ化が進展しており、そのため、光反射体の小型化及び薄型化が求められている。

しかし、補強材としてガラス繊維を含有する小型、薄型の光反射体を製造すると、光反射体用成形材料の流動性が阻害されることで充填不良等の成形不良が生じやすく、また光反射体の表面平滑性が損なわれやすい。また、ガラス繊維は透明であるため、特に光反射体の厚みが薄い場合には、光反射体を光が透過しやすくなり、そのために光反射体の光反射率が低下してしまう。

本発明は上記事由に鑑みてなされたものであり、良好な光反射性を有し、経時的な光反射性の低下が生じにくく、良好な強度を有する光反射体を製造することができ、且つ良好な薄型成形性をも有する光反射体用成形材料、この光反射体用成形材料から製造される光反射体及びこの光反射体を備える照明器具を提供することを目的とする。

第１の態様に係る光反射体用成形材料は、光反射体を製造するための熱可塑性の光反射体用成形材料であって、
脂環式炭化水素構造を備えるポリエステル又は脂環式炭化水素構造を備えるポリアミドと、白色顔料と、ワラストナイトとを含有する。

第２の態様では、第１の態様において、前記ワラストナイトの白色度が９３．０以上である。

第３の態様では、第１又は第２の態様において、前記ワラストナイトの平均アスペクト比が、５〜２０の範囲内である。

第４の態様に係る光反射体用成形材料は、第１乃至第３のいずれか一の態様において、無機充填材を含有し、前記無機充填材が、合成品及び化学処理により純度が向上された天然品からなる群から選択される一種以上の材料を含有する。

第５の態様では、第１乃至第４のいずれか一の態様において、前記白色顔料が、酸化チタンを含有する。

第６の態様に係る光反射体用成形材料は、第１乃至第５のいずれか一の態様において、離型剤を含有し、前記離型剤が、Ｓｉ含有ポリエステルワックス及びポリエチレンワックスのうち少なくとも一方を含有する。

第７の態様に係る光反射体用成形材料は、第１乃至第６のいずれか一の態様において、オレフィン系樹脂を含有する。

第８の態様に係る光反射体用成形材料は、第１乃至第７のいずれか一の態様において、５０〜９０質量％のエチレン、３〜４９質量％のα，β−不飽和カルボン酸アルキルエステル、及び０．５〜１０質量％の無水マレイン酸を含有する単量体成分が重合してなるエチレン系共重合体を含有する。

第９の態様に係る光反射体用成形材料は、第１乃至第８のいずれか一の態様において、前記脂環式炭化水素構造を備えるポリエステルを含有し、一分子中に一つのカルボジイミド基と、前記カルボジイミド基における二つの窒素のいずれにも結合している基とを備える環状カルボジイミド化合物を更に含有する。

第１０の態様に係る光反射体用成形材料は、第１乃至第９のいずれか一の態様において、フェノール系酸化防止剤及びリン系酸化防止剤からなる群から選択される一種以上の化合物を含有する。

第１１の態様に係る光反射体用成形材料は、第１乃至第１０のいずれか一の態様において、スチルベンベンズオキサゾールを含有する。

第１２の態様に係る光反射体用成形材料は、第１乃至第１１のいずれか一の態様において、非晶質シリカを含有する。

第１３の態様に係る光反射体用成形材料は、第１乃至第１２のいずれか一の態様において、前記ポリエステルを含有し、前記ポリエステルが、ポリシクロへキシレンジメチレンテレフタレートを含有する。

第１４の態様に係る光反射体用成形材料は、第１乃至第１２のいずれか一の態様において、前記ポリアミドを含有し、前記ポリアミドが、１，４−シクロヘキサンジカルボン酸残基と、１，９−ノナンジアミン残基及び２−メチル−１，８−オクタンジアミン残基から選ばれる一種以上の残基とを備える樹脂を含有する。

第１５の態様に係る光反射体は、第１乃至第１４のいずれか一の態様に係る光反射体用成形材料を成形してなる。

第１６の態様に係る照明器具は、第１５の態様に係る光反射体を備える。

本発明によると、光反射体用成形材料を成形することで、経時的な光反射性の低下が生じにくいと共に良好な強度を有する光反射体を得ることができる。更に、光反射体用成形材料は良好な薄型成形性を有し、この光反射体用成形材料を成形することで、未充填等の成形不良が抑制された薄型の光反射体を得ることができる。

本発明の一実施形態における、光反射体を備える照明器具の例を示す断面図である。 図１に示す照明器具を示す平面図である。 本発明の一実施形態における、光反射体を備える照明器具の他例を示す断面図である。 図３に示す照明器具を示す斜視図である。

本実施形態に係る光反射体用成形材料（以下、成形材料という）は、光反射体（リフレクタ−）を製造するための熱可塑性の樹脂成形材料（組成物）であって、脂環式炭化水素構造を備えるポリエステル又は脂環式炭化水素構造を備えるポリアミドと、白色顔料と、ワラストナイトとを含有する。

この成形材料を射出成形するなどして、光反射体が得られる。成形材料中のポリエスエル又はポリアミドが脂環式炭化水素構造を備えるため、光反射体の耐光性及び耐熱変色性が高く、このため光反射体に経時的に黄変が生じにくい。

また、成形材料がワラストナイトを含有することで、光反射体に良好な強度が付与される。更に、ワラストナイトは成形時の成形材料の流動性を阻害しにくいため、成形材料がワラストナイトを含有することで、成形材料が成形時に良好な流動性を有し、且つ金型成形時の良好な充填性を有する。このため、特に成形材料から薄型の光反射体を製造する場合に、成形不良が生じにくくなる。

以下、本発明の実施形態について、更に詳細に説明する。

成形材料が脂環式炭化水素構造を備えるポリエステルを含有する場合、このポリエステルは、ポリカルボン酸残基と脂環族グリコール残基とが結合した構造単位を備えることが好ましい。

ポリエステル中のポリカルボン酸残基は、テレフタル酸残基を含有することが好ましい。ポリエステル中の全ポリカルボン酸残基に対するテレフタル酸残基の割合は、３０〜１００モル％の範囲内であることが好ましく、４０〜１００モル％の範囲内であればより好ましく、８０〜１００モル％の範囲内であれば更に好ましく、９０〜１００モル％の範囲内であれば特に好ましい。

ポリエステル中のポリカルボン酸残基は、テレフタル酸残基に加えて、テレフタル酸残基以外のジカルボン酸残基を含有してもよい。例えばポリカルボン酸残基は、イソフタル酸残基、オルトフタル酸残基、２，６−ナフタレンジカルボン酸残基、２，７−ナフタレンジカルボン酸残基、１，５−ナフタレンジカルボン酸残基、メチルテレフタル酸残基、４，４´−ビフェニルジカルボン酸残基、２，２´−ビフェニルジカルボン酸残基、１，２−ビス（４−カルボキシフェノキシ）エタン残基、コハク酸残基、アジピン酸残基、スベリン酸残基、アゼライン酸残基、セバシン酸残基、ドデカンジオン酸残基、オクタデカンジカルボン酸残基、ダイマー酸残基及び１，４−シクロヘキサンジカルボン酸残基から選択される、一種以上の基を含有してもよい。

ポリエステル中のポリカルボン酸残基は、三価以上の多価カルボン酸残基を含有してもよい。例えばポリカルボン酸残基は、トリメリット酸残基及びピロメリット酸残基のうち少なくとも一方を含有してもよい。ポリエステル中の全ポリカルボン酸残基に対する三価以上の多価カルボン酸残基の割合は、１０モル％以下であることが好ましい。

ポリエステル中の脂環族グリコール残基は、炭素数４〜２０の脂環式炭化水素骨格を備える基を含有することが好ましい。炭素数４〜２０の脂環式炭化水素骨格を備える基は、例えば１，３−シクロペンタンジオール残基、１，３−シクロペンタンジメタノール残基、１，４−シクロヘキサンジオール残基、１，４−シクロヘキサンジメタノール残基、１，４−シクロヘプタンジオール残基、及び１，４−シクロヘプタンジメタノール残基からなる群から選ばれる一種以上の基を含有することができる。特に脂環族グリコール残基が、シクロヘキサン骨格を有する基を含有することが好ましく、シクロヘキサンジメタノール残基を含有するならば更に好ましい。

シクロヘキサンジメタノール残基等の脂環族ジアルコール残基は、シス構造とトランス構造のうちいずれかの構造を有し得る。光反射体の耐熱性向上のためには、トランス構造が有利である。脂環族ジアルコール残基全体におけるトランス構造体に対するシス構造体のモル比の値は、６０／４０〜１０／９０の範囲内であることが好ましく、５０／５０〜１５／８５の範囲内であればより好ましく、４０／６０〜２５／７５の範囲内であれば更に好ましい。

ポリエステルは、脂環族グリコール残基以外に、脂肪族グリコール残基、芳香族グリコール残基等を備えていてもよい。すなわち、ポリエステルは、脂環族グリコール残基を含有するグリコール残基を備え、グリコール残基は、脂環族グリコール残基のみを含有しても、脂環族グリコール残基とそれ以外の基とを含有してもよい。

グリコール残基が脂肪族グリコール残基を含有する場合、脂肪族グリコール残基は、例えばエチレングリコール残基、トリメチレングリコール残基、プロピレングリコール残基、テトラメチレングリコール残基、ネオペンチルグリコール残基、ヘキサメチレングリコール残基、及びドデカメチレングリコール残基からなる群から選択される一種以上の基を含有することができる。グリコール残基が芳香族グリコール残基を含有する場合、芳香族グリコール残基は、例えば２，２−ビス（２´−ヒドロキシエトキシフェニル）プロパン残基を含有することができる。

ポリエステル中の全グリコール残基に対するシクロヘキサンジメタノール残基の割合は、３０〜１００モル％の範囲内であることが好ましく、４０〜１００モル％の範囲内であればより好ましく、８０〜１００モル％の範囲内であれば更に好ましく、９０〜１００モル％の範囲内であれば特に好ましい。

ポリエステルが、テレフタル酸残基とシクロヘキサンジメタノール残基とが結合した構造単位を備えるポリジメチレンシクロヘキサンテレフタレート（ＰＣＴ）を含有するならば、特に好ましい。

ポリエステルの極限粘度は、０．５〜１．２ｄｌ／ｇの範囲内であることが好ましい。この極限粘度は、ＡＳＴＭ Ｄ−２８７５に従い、溶媒としてｏ−クレゾールフェノールを用い、３０℃の温度下で測定される。この場合、成形材料が射出成形される場合の成形性が特に良好になると共に、光反射体の力学的特性及び耐熱性が更に向上する。ポリエステルの極限粘度は、例えばポリエステルの構造に応じて、ポリエステルの分子量を適宜調整することで、調整される。

また、ポリエステルの末端カルボキシル基量は、１００当量／１０⁶ｇ以下であることが好ましく、３０当量／１０⁶ｇ以下であればより好ましく、１５当量／１０⁶ｇ以下であれば特に望ましい。この末端カルボキシル基量は、例えばAnal. Chem., 26. 1614−1616(1954)に記載されているH. A. Pohlの方法を用いて測定される。

ポリエステルの、ＣＩＥ １９７６（Ｌ^*，ａ^*，ｂ^*）色空間によるＬ^*の値が８５以上の範囲内、ａ^*の値が−３〜３の範囲内、ｂ^*の値が−１〜１０の範囲内であることが好ましい。また、ポリエステルの、ＡＳＴＭ Ｅ３１３−７３によるハンター白度は、８０以上であることが好ましく、８５以上であれば更に好ましい。この場合、光反射体の光反射性が特に向上する。

ポリエステルの（Ｌ^*，ａ^*，ｂ^*）の値、並びに白度の測定にあたっては、例えばまずポリエステルをペレット状に成形してから１４０℃で１時間加熱処理することで、サンプルが得られる。このサンプルの反射色を測定することで、（Ｌ^*，ａ^*，ｂ^*）の値、並びにハンター白度の値が得られる。測定は、ＪＩＳ Ｚ８７２２に準拠して、例えば測定装置としてコニカミノルタ社製分光光度計ＣＭ−５を用いて、光源としてＤ６５光源、白色校正板としてコニカミノルタ株式会社製のＣＭ−Ａ２１０を用い、ＳＣＥ（正反射光除去）方式、測定径３０ｍｍという条件で、実施される。

ポリエステルは、溶融重合法、固相重合法、溶融押出重合法など公知の方法で製造されうる。例えば、有機チタン化合物などの触媒の存在下もしくは非存在下で、テレフタル酸またはその低級アルキルエステルと１，４−シクロヘキサンジメタノールを重縮合して得る方法が挙げられる。重合条件としては例えば米国特許第２，９０１，４６６号公報に記載された条件などが適用されうる。ポリエステルの合成にあたり、必要に応じて、原料中にモノカルボン酸及びモノアルコールを適当量含有させることで、生成されるポリエステルの分子量を調整してもよい。

成形材料中のポリエステルの割合は、特に制限されないが、光反射体の良好な表面平滑性、成形加工性及び寸法安定性を確保するためには、５０〜７０質量％の範囲内であることが好ましく、５５〜６５質量％の範囲内であれば更に好ましい。

成形材料が脂環式炭化水素構造を備えるポリアミドを含有する場合、光反射体の強度が特に向上する。このポリアミドは、ジカルボン酸残基とジアミン残基とがアミド結合を介して結合した構造単位を備えることが好ましい。

ポリアミド中のジカルボン酸残基は、１，４−シクロヘキサンジカルボン酸残基を含有することが好ましい。ポリアミド中の全ジカルボン酸残基に対する１，４−シクロヘキサンジカルボン酸残基の割合は、５０〜１００モル％の範囲内であることが好ましい。この場合、ポリアミドの機械的強度、成形性及び低吸湿性が、更に向上する。１，４−シクロヘキサンジカルボン酸残基の割合が６０〜１００モル％の範囲内であれば更に好ましい。

ポリアミド中のジアミン残基は、１，９−ノナンジアミン残基及び２−メチル−１，８−オクタンジアミン残基から選ばれる一種以上の残基を含有することが好ましい。ポリアミド中の全ジアミン残基に対する１，９−ノナンジアミン残基及び２−メチル−１，８−オクタンジアミン残基から選ばれる一種以上の残基の合計の割合は、５０〜１００モル％の範囲内であることが好ましい。この場合、光反射体の耐熱性、低吸水性及び耐薬品性が特に高くなる。この１，９−ノナンジアミン残基及び２−メチル−１，８−オクタンジアミン残基から選ばれる一種以上の残基の合計の割合は、７５〜１００モル％の範囲内であればより好ましく、９０〜１００モル％の範囲内であれば更に好ましい。

また、ジアミン残基中における、１，９−ノナンジアミン残基の、２−メチル−１，８−オクタンジアミン残基に対する比の値は、１００／０〜２０／８０の範囲内であることが好ましく、１００／０〜６０／４０の範囲内であればより好ましく、１００／０〜７０／３０の範囲内であれば更に好ましい。

ポリアミドが、１，４−シクロヘキサンジカルボン酸残基と、１，９−ノナンジアミン残基及び２−メチル−１，８−オクタンジアミン残基から選ばれる一種以上の残基とを備える場合、ポリアミドは高い機械的強度と、成形時の良好な流動性とを有する。更にポリアミドの融点及びガラス転移点が高くなることから、ポリアミドの耐熱性が高くなる。

ポリアミドが、１，４−シクロヘキサンジカルボン酸残基を備える場合、１，４−シクロヘキサンジカルボン酸残基は、シス異性体とトランス異性体とのうち少なくとも一方を含む。１，４−シクロヘキサンジカルボン酸残基中のトランス異性体の割合は、５１〜８５モル％の範囲内であることが好ましい。この場合、ポリアミドは、融点が高く、機械的強度に優れる上に、高いガラス転移点を有することにより優れた耐熱性を有し、更に、通常は耐熱性を相反する性質である成形時の高い流動性を有し、更に、高い結晶性も有する。このトランス異性体の割合は、５１〜８０モル％の範囲内であればより好ましく、６０〜８０モル％の範囲内であれば更に好ましい。

ポリアミドの原料が１，４−シクロヘキサンジカルボン酸を含有する場合、１，４−シクロヘキサンジカルボン酸中のトランス異性体の割合を調整することで、１，４−シクロヘキサンジカルボン酸残基中のトランス異性体の割合を調整することができる。１，４−シクロヘキサンジカルボン酸のシス異性体とジアミンとの当量塩の方が、そのトランス異性体とジアミンとの当量塩よりも水溶性が高いことを考慮すると、１，４−シクロヘキサンジカルボン酸中のトランス異性体の、シス異性体に対するモル比の値は、５０／５０〜０／１００の範囲内であることが好ましく、４０／６０〜１０／９０の範囲内であればより好ましく、３５／６５〜１５／８５の範囲内であれば更に好ましい。尚、１，４−シクロヘキサンジカルボン酸中のトランス異性体の、シス異性体に対するモル比の値は、液体クロマトグラフィー（ＨＰＬＣ）、核磁気共鳴分光法（ＮＭＲ）等により求められる。

ポリアミド中のジカルボン酸残基は、１，４−シクロヘキサンジカルボン酸残基に加えて、１，４−シクロヘキサンジカルボン酸残基以外のジカルボン酸残基を含有してもよい。例えば、ジカルボン酸残基は、１，４−シクロヘキサンジカルボン酸残基以外の、脂肪族ジカルボン酸残基、脂環族ジカルボン酸残基、及び芳香族ジカルボン酸残基からなる群から選択される一種以上の残基を含有することができる。特にジカルボン酸残基が脂肪族ジカルボン酸及び脂環族ジカルボン酸からなる群から選択される一種以上の残基を含有すれば、ポリアミドの機械的強度及び成形時の流動性が、更に向上する。

脂肪族ジカルボン酸残基の具体例として、マロン酸残基、ジメチルマロン酸残基、コハク酸残基、２，２−ジメチルコハク酸残基、２，３−ジメチルグルタル酸残基、２，２−ジエチルコハク酸残基、２，３−ジエチルグルタル酸残基、グルタル酸残基、２，２−ジメチルグルタル酸残基、アジピン酸残基、２−メチルアジピン酸残基、トリメチルアジピン酸残基、ピメリン酸残基、スベリン酸残基、アゼライン酸残基、セバシン酸残基、ドデカン二酸残基、エイコサン二酸残基、及びジグリコール酸残基などの、炭素数３〜２０の直鎖状又は分岐鎖状飽和脂肪族ジカルボン酸の残基が、挙げられる。

脂肪族ジカルボン酸残基の炭素数は６以上であることが好ましく、１０以上であれば更に好ましい。特に脂肪族ジカルボン酸残基の炭素数が１０以上であると、ポリアミドの吸水性が低くなる。炭素数１０以上の脂肪族ジカルボン酸残基の具体例として、セバシン酸残基、ドデカン二酸残基、テトラデカン二酸残基、ヘキサデカン二酸残基、オクタデカン二酸残基、及びエイコサン二酸残基が挙げられる。特に、セバシン酸残基及びドデカン二酸残基が、入手が容易である点で好ましい。

脂環族ジカルボン酸残基における脂環構造の炭素数は３〜１０の範囲内であることが好ましい。また、脂環族ジカルボン酸残基の炭素数が５〜１０の範囲内であることも好ましい。脂環族ジカルボン酸残基の具体例として、１，３−シクロヘキサンジカルボン酸残基及び１，３−シクロペンタンジカルボン酸残基が挙げられる。脂環族ジカルボン酸残基は、無置換でも置換基を有していてもよい。置換基の具体例として、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、及びｔｅｒｔ−ブチル基などの炭素数１〜４のアルキル基が挙げられる。

ジカルボン酸残基が脂環族ジカルボン酸残基を含む場合、脂環族ジカルボン酸残基は、１，４−シクロヘキサンジカルボン酸残基と同様に、シス異性体とトランス異性体とのうち少なくとも一方を含みうる。ポリアミドにおける１，４−シクロヘキサンジカルボン酸残基と脂環族ジカルボン酸残基の合計中のトランス異性体の割合は、５１〜８５モル％の範囲内であることが好ましい。この場合、ポリアミドは、融点が高く、機械的強度に優れる上に、高いガラス転移点を有することにより優れた耐熱性を有し、更に、通常は耐熱性を相反する性質である成形時の高い流動性を有し、更に、高い結晶性も有する。このトランス異性体の割合は、５１〜８０モル％の範囲内であればより好ましく、６０〜８０モル％の範囲内であれば更に好ましい。

芳香族ジカルボン酸残基の炭素数は、８〜２０の範囲内であることが好ましい。芳香族ジカルボン酸残基の具体例として、テレフタル酸残基、イソフタル酸残基、ナフタレンジカルボン酸残基、２−クロロテレフタル酸残基、２−メチルテレフタル酸残基、５−メチルイソフタル酸残基、５−ナトリウムスルホイソフタル酸残基、及びジグリコール酸残基が挙げられる。芳香族ジカルボン酸残基は、無置換でも置換基を有していてもよい。置換基の具体例として、炭素数１〜４のアルキル基；炭素数６〜１０のアリール基；炭素数７〜１０のアリールアルキル基；クロロ基及びブロモ基などのハロゲン基；炭素数１〜６のシリル基；スルホン酸基；並びにナトリウム塩などのスルホン酸塩基が、挙げられる。

ジカルボン酸残基が、本実施形態の目的を損なわない範囲で、トリメリット酸、トリメシン酸、ピロメリット酸などの３価以上の多価カルボン酸の残基を含んでもよい。

ジカルボン酸残基が炭素数１０以上の脂肪族ジカルボン酸残基を含む場合には、ジカルボン酸残基中の１，４−シクロヘキサンジカルボン酸残基の割合が５０〜９９．９モル％の範囲内であると共に炭素数１０以上の脂肪族ジカルボン酸残基の割合が０．１〜５０モル％の範囲内であってもよい。また、ジカルボン酸残基中の１，４−シクロヘキサンジカルボン酸残基の割合が６０〜９０モル％の範囲内であると共に炭素数１０以上の脂肪族ジカルボン酸残基の割合が１０〜４０モル％の範囲内であってもよい。また、ジカルボン酸残基中の１，４−シクロヘキサンジカルボン酸残基の割合が７０〜８５モル％の範囲内であると共に炭素数１０以上の脂肪族ジカルボン酸残基の割合が１５〜３０モル％の範囲内であってもよい。

ポリアミド中のジアミン残基は、１，９−ノナンジアミン残基及び２−メチル−１，８−オクタンジアミン残基から選ばれる一種以上の残基に加えて、１，９−ノナンジアミン残基及び２−メチル−１，８−オクタンジアミン残基以外のジアミン残基を含んでもよい。

ジアミン残基は、例えばエチレンジアミン残基、１，３−プロパンジアミン残基、１，４−ブタンジアミン残基、１，５−ペンタンジアミン残基、１，６−ヘキサンジアミン残基、１，７−ヘプタンジアミン残基、１，８−オクタンジアミン残基、１，１０−デカンジアミン残基、１，１１−ウンデカンジアミン残基、及び１，１２−ドデカンジアミン残基などの直鎖状脂肪族ジアミン；１，２−プロパンジアミン残基、１−ブチル−１，２−エタンジアミン残基、１，１−ジメチル−１，４−ブタンジアミン残基、１−エチル−１，４−ブタンジアミン残基、１，２−ジメチル−１，４−ブタンジアミン残基、１，３−ジメチル−１，４−ブタンジアミン残基、１，４−ジメチル−１，４−ブタンジアミン残基、２，３−ジメチル−１，４−ブタンジアミン残基、２−メチル−１，５−ペンタンジアミン残基、３−メチル−１，５−ペンタンジアミン残基、２，５−ジメチル−１，６−ヘキサンジアミン残基、２，４−ジメチル−１，６−ヘキサンジアミン残基、３，３−ジメチル−１，６−ヘキサンジアミン残基、２，２−ジメチル−１，６−ヘキサンジアミン残基、２，２，４−トリメチル−１，６−ヘキサンジアミン残基、２，４，４−トリメチル−１，６−ヘキサンジアミン残基、２，４−ジエチル−１，６−ヘキサンジアミン残基、２，２−ジメチル−１，７−ヘプタンジアミン残基、２，３−ジメチル−１，７−ヘプタンジアミン残基、２，４−ジメチル−１，７−ヘプタンジアミン残基、２，５−ジメチル−１，７−ヘプタンジアミン残基、３−メチル−１，８−オクタンジアミン残基、４−メチル−１，８−オクタンジアミン残基、１，３−ジメチル−１，８−オクタンジアミン残基、１，４−ジメチル−１，８−オクタンジアミン残基、２，４−ジメチル−１，８−オクタンジアミン残基、３，４−ジメチル−１，８−オクタンジアミン残基、４，５−ジメチル−１，８−オクタンジアミン残基、２，２−ジメチル−１，８−オクタンジアミン残基、３，３−ジメチル−１，８−オクタンジアミン残基、４，４−ジメチル−１，８−オクタンジアミン残基、及び５−メチル−１，９−ノナンジアミン残基などの分岐鎖状脂肪族ジアミン残基；シクロヘキサンジアミン残基、メチルシクロヘキサンジアミン残基、イソホロンジアミン残基、ビス（４−アミノシクロヘキシル）メタン残基、ノルボルナンジメチルアミン残基、及びトリシクロデカンジメチルアミン残基などの脂環族ジアミン残基；ｐ−フェニレンジアミン残基、ｍ−フェニレンジアミン残基、ｐ−キシリレンジアミン残基、ｍ−キシリレンジアミン残基、４，４’−ジアミノジフェニルメタン残基、４，４’−ジアミノジフェニルスルホン残基、及び４，４’−ジアミノジフェニルエーテル残基などの芳香族ジアミン残基からなる群から選択される一種以上の残基を含むことができる。特に、ジアミン残基が、１，６−ヘキサンジアミン残基、１，７−ヘプタンジアミン残基、１，８−オクタンジアミン残基、１，１０−デカンジアミン残基及び１，１２−ドデカンジアミン残基からなる群から選択される一種以上の残基を含有することが好ましい。

ジアミン残基は、本実施形態の目的を損なわない範囲で、ビスヘキサメチレントリアミンなどの３価以上の多価アミンを含んでもよい。

ポリアミド中のジカルボン酸残基とジアミン残基のモル量は、同量付近であることが好ましい。尚、ジカルボン酸とジアミンとを反応させてポリアミドを合成する場合には、ジアミンの反応系外への逃散分を考慮すると、ジカルボン酸に対するジアミンのモル比の値は、０．９〜１．２の範囲内であることが好ましく、０．９５〜１．１の範囲内であればより好ましく、０．９８〜１．０５の範囲内であれば更に好ましい。

ポリアミドの分子鎖の末端が、末端封止剤により封止されていてもよい。例えば、ポリアミドの分子鎖の末端基が末端封止剤により封止されている割合（末端封止率）は、０〜９０％の範囲内であることが好ましく、０〜５０％の範囲内でることも好ましく、１０％未満であることも好ましい。末端封止率が０〜９０％の範囲内であればポリアミドの分子量が大きくなりやすく、特に０〜５０％の範囲内及び１０％未満であると、ポリアミドの機械的強度が特に向上する。

末端封止剤は、例えばモノカルボン酸及びモノアミンからなる群から選択される一種以上の化合物を含有することができる。

末端封止剤がモノカルボン酸を含有する場合、モノカルボン酸は、例えば蟻酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、カプロン酸、カプリル酸、ラウリン酸、トリデシル酸、ミリスチル酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ピバリン酸、及びイソブチル酸などの脂肪族モノカルボン酸；シクロヘキサンカルボン酸などの脂環族モノカルボン酸；並びに安息香酸、トルイル酸、α−ナフタレンカルボン酸、β−ナフタレンカルボン酸、メチルナフタレンカルボン酸、及びフェニル酢酸などの芳香族モノカルボン酸からなる群から選択される一種以上の化合物を含有することができる。

末端封止剤がモノアミンを含有する場合、モノアミンは、例えばメチルアミン、エチルアミン、プロピルアミン、ブチルアミン、ヘキシルアミン、オクチルアミン、デシルアミン、ステアリルアミン、ジメチルアミン、ジエチルアミン、ジプロピルアミン、及びジブチルアミンなどの脂肪族モノアミン；シクロヘキシルアミン及びジシクロヘキシルアミンなどの脂環族モノアミン；並びにアニリン、トルイジン、ジフェニルアミン、及びナフチルアミンなどの芳香族モノアミンからなる群から選択される一種以上の化合物を含有することができる。

ポリアミドの２５℃における相対粘度が、１．５〜７．０の範囲内であることが好ましい。この場合、成形材料が射出成形される場合の成形性が特に良好になると共に、光反射体の力学的特性及び耐熱性が更に向上する。尚、相対粘度は、ＪＩＳ Ｋ６８１０に従い、９８％硫酸を用いて調製された濃度１％の溶液（（ポリアミド１ｇ）／（９８％硫酸１００ｍＬ）の割合）を用いて、２５℃の温度条件下で測定される。ポリアミドの相対粘度は、例えばポリアミドの構造に応じて、ポリアミドの分子量を適宜調整することで、調整される。

ポリアミドは、溶液重合法、界面重合法、熱重縮合法、固相重合法、熱溶融重合法など公知の方法で製造されうる。

ポリアミドの融点は、２８０〜３５０℃の範囲内であることが好ましい。この場合、ポリアミドの耐熱性が特に良好であると共に、成形時にポリアミドが過熱されてもポリアミドの熱分解が抑制される。また、本実施形態では、ポリアミドの高融点化が可能であるため、ポリアミドの融点を２８０〜３５０℃の範囲内とすることが可能である。この融点は、２８５〜３３５℃の範囲内であればより好ましく、２９０〜３３０℃の範囲内であれば更に好ましい。尚、融点は、ＪＩＳ Ｋ７１２１に準じて測定される。

成形材料中のポリアミドの割合は、特に制限されないが、光反射体の良好な表面平滑性、成形加工性及び寸法安定性を確保するためには、４０〜６０質量％の範囲内であることが好ましく、４５〜５５質量％の範囲内であれば更に好ましい。

ワラストナイトは、ガラス繊維ほどではないものの、光反射体に良好な強度を付与することができる。また、ワラストナイトは、成形材料が成形される際の良好な流動性を確保することができる。しかも、成形材料から薄型の光反射体を作製する場合でも、ワラストナイトは、光反射体の良好な成形性、良好な光反射性及び良好な寸法精度を確保することができる。その理由は、ワラストナイトの寸法は小さいため、未充填不良、及び光反射体の表面の凹凸が、生じにくくなり、また金型成形時にはゲート部分に欠けが生じにくくなるためであると、推察される。

ワラストナイトの寸法は特に制限されないが、ワラストナイトの平均繊維長は１０〜５００μｍの範囲内であることが好ましく、その平均繊維径は５〜５０μｍの範囲内であることが好ましい。

また、ワラストナイトの平均アスペクト比、すなわち、ワラストナイトの繊維径に対する繊維長の比の値の平均値は、５〜２０の範囲内であることが好ましい。この平均アスペクト比が５以上であることで、光反射体の強度がより高くなる。またこの平均アスペクト比が２０以下であることで、成形時の成形材料の流動性及び成形性が特に高くなる。この平均アスペクト比が１０〜２０の範囲内であれば、更に好ましい。

尚、ワラストナイトの繊維径及び繊維長は、ワラストナイトの電子顕微鏡写真を画像処理することで得られる。

ワラストナイトの、ＡＳＴＭ Ｅ３１３−７３によるハンター白度は、９０．０以上であることが好ましく、９３．０以上であれば更に好ましい。この場合、光反射体の光反射性が特に向上する。

尚、ワラストナイトの白度の測定にあたっては、まずワラストナイトを直径３０ｍｍの深底シャーレ内に４０ｍｍ深さまで投入し、深底シャーレを５〜１０回タッピングすることで深底シャーレ内のワラストナイトを均すことで、サンプルが得られる。このサンプルの反射色を測定することで、ハンター白度の値が得られる。測定は、ＪＩＳ Ｚ８７２２に準拠して、例えば測定装置としてコニカミノルタ社製分光光度計ＣＭ−５を用いて、光源としてＤ６５光源、白色校正板としてコニカミノルタ株式会社製のＣＭ−Ａ２１０を用い、ＳＣＥ（正反射光除去）方式、測定径３０ｍｍ、照明径３６ｍｍ、ＬＡＶ設定という条件で、実施される。測定にあたっては、同じ方法で得られるサンプルを３つ用意し、各サンプルについて白度の値を測定し、これらの測定値の平均値を、ワラストナイトの白度の値とみなすことができる。

ワラストナイトには、アミノシラン、エポキシ化合物等による表面処理が施されていてもよいが、このような表面処理が施されていない未処理品である方が好ましい。表面処理が施されているワラストナイトの白度は、未処理品よりも低下する傾向がある。特に、ワラストナイトがエポキシ化合物で処理されている場合、熱劣化による黄変が発生するおそれがある。例えば、ワラストナイトの未処理品であるナイコミネラル社のＮＹＧＬＯＳ １２５０の初期のハンター白度が９４．５に対し、この未処理品にアミノシランカップリング剤で表面処理を施して得られる処理品の初期のハンター白度は、９３．０となる。

ワラストナイトの、ＡＳＴＭ−Ｇ７５−９４規格で規定されるゴールド法で測定される硬度が、１０以下であることも好ましい。尚、当該方法では、ポリオール（DOW XUS 14003.01）の検体を２５％含有するスラリーの上で、検査対象を滑らせ、その場合に生じる重量減に基づいて摩耗性を測定し、その結果に基づいて検査対象の硬度を評価する。この硬度が３以下であれば更に好ましく、１以下であれば特に好ましい。この場合、混練中に原料と混練機とが強く擦れることが抑制されるため、光反射体の光反射性が更に向上する。ワラストナイトのゴールド法による硬度は、その形状により０．４〜１２の範囲内で変動するが、硬度１０以下であることが好ましく、硬度３以下であればより好ましく、硬度１以下であれば更に好ましい。

成形材料中のワラストナイトの割合は、特に制限されないが、１５〜３０質量％の範囲内であることが好ましい。この割合が１５質量％以上であると、光反射体の強度が充分に高くなる。またこの割合が３０質量％以下であると、成形時の成形材料の良好な成形性と、光反射体の良好な光反射特性とが、両立して得られる。この繊維状充填材の割合が１７〜２３質量％の範囲内であれば、更に好ましい。

成形材料が炭酸カルシウムウィスカーを含有してもよい。この場合、炭酸カルシウムウィスカーの寸法はワラストナイトよりも小さいため、光反射体中のワラストナイト間の隙間に炭酸カルシウムウィスカーが配置されやすくなる。このため、光反射体の成形性、光反射性及び寸法精度が、更に高くなる。成形材料中の炭酸カルシウムウィスカーの割合は、特に制限されないが、０．５〜１０質量％の範囲内であることが好ましく、１〜６質量％の範囲内であれば更に好ましい。

成形材料が、ワラストナイト及び炭酸カルシウムウィスカー以外の繊維状充填材を含有してもよい。例えば成形材料が、ガラス繊維、有機繊維等を含有してもよい。但し、繊維状充填材が、成形材料の良好な成形性及び光反射体の良好な光反射性を損なわないことが好ましい。そのためには、成形材料中の、ワラストナイト及び炭酸カルシウムウィスカー以外の繊維状充填材の割合が５質量％以下であることが好ましい。成形材料が、ワラストナイト及び炭酸カルシウムウィスカー以外の繊維状充填材を含有しないことも好ましい。

白色顔料は、成形材料から形成される光反射体に、光反射性を付与する。白色顔料は、例えば酸化チタン、チタン酸バリウム、チタン酸ストロンチウム、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化亜鉛、硫化亜鉛、硫酸バリウム、炭酸マグネシウム、及び炭酸バリウムからなる群から選択される一種以上の材料を含有することができる。

特に、白色顔料が、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化亜鉛、及び硫酸バリウムからなる群から選択される一種以上の材料を含有することが好ましい。また、白色顔料が、熱伝導率の高い酸化アルミニウムを含有することも好ましい。

白色顔料が酸化チタンを含有する場合、酸化チタンは、例えばアナタ−ゼ型二酸化チタン、ルチル型二酸化チタン、及びブルサイト型二酸化チタンから選択される一種以上の材料を含有することができる。特に、ルチル型二酸化チタンは熱安定性に優れているため、酸化チタンが、ルチル型二酸化チタンを含有することが好ましい。酸化チタンの製法として、塩素法及び硫酸法が挙げられる。特に塩素法で製造された酸化チタンは、その白色度が高いため、特に好ましい。

白色顔料は、金属酸化物で表面処理（表面被覆）されていてもよい。金属酸化物としては、例えば、シリカ、アルミナ、酸化亜鉛等が、挙げられる。

特に白色顔料が酸化チタンを含有する場合、酸化チタンが、シリカ及びアルミナのうち少なくとも一方で表面被覆されていることが好ましい。この場合、酸化チタンの光触媒活性が抑制されることで光反射体の耐久性が向上すると共に、光反射体内での酸化チタンの分散性が向上することで光反射体の白度及び光反射性が更に向上する。酸化チタンには、更に有機被覆が施されてもよい。有機被覆は、例えばシロキサン、ポリオール等から形成される。有機被覆が設けられていると、白色顔料への水分の吸着が抑制、また白色顔料の分散性が向上する。

白色顔料は、脂肪酸、カップリング剤等で表面処理されていてもよい。この場合、白色顔料の凝集、吸油等が抑制され、成形材料内での白色顔料の充填性が高くなる。カップリング剤は、特にアミノシランを含有することが好ましい。この場合、カップリング剤で処理された白色顔料が変色しにくくなり、このため光反射体の高い白色度が長期に亘って維持される。尚、エポキシ系化合物は変色を引き起こしやすいため、白色顔料の変色抑制のためには、カップリング剤がエポキシ系カップリング剤を含有しないことも好ましい。

光反射体の光反射率の向上のためには、白色顔料の平均粒径は、２．０μｍ以下であることが好ましい。また、この平均粒径は、０．０１μｍ以上であることが好ましい。この平均粒径は、０．０３〜１．０μｍの範囲内であることも好ましく、０．１〜０．７μｍの範囲内であることも好ましく、０．１〜０．５μｍの範囲内であることも好ましく、０．１５〜０．４０μｍの範囲内であることも好ましく、０．３〜０．４μｍの範囲内であれば更に好ましい。尚、白色顔料の平均粒径は、レーザー回折散乱法で測定される。

成形材料中の白色顔料の割合は、１５〜３０質量％の範囲内であることが好ましい。この割合が１５質量％以上であると、光反射体の光反射率が特に高くなる。この割合が３０質量％以下であると、光反射体の表面平滑性及び成形加工性が特に高くなる。この白色顔料の割合が１７〜２３質量％の範囲内であれば更に好ましい。

白色顔料の、ＣＩＥ １９７６（Ｌ^*，ａ^*，ｂ^*）色空間によるＬ^*の値が９０以上の範囲内、ａ^*の値が−３〜３の範囲内、ｂ^*の値が−３〜５の範囲内であることが好ましい。また、白色顔料の、ＡＳＴＭ Ｅ３１３−７３によるハンター白度は、８５以上であることが好ましく、８８以上であれば更に好ましい。この場合、光反射体の光反射性が特に向上する。

白色顔料の（Ｌ^*，ａ^*，ｂ^*）の値、並びに白度の測定にあたっては、まず白色顔料を直径３０ｍｍの深底シャーレ内に４０ｍｍ深さまで投入し、深底シャーレを５〜１０回タッピングすることで深底シャーレ内の白色顔料を均すことで、サンプルが得られる。このサンプルの反射色を測定することで、（Ｌ^*，ａ^*，ｂ^*）の値、並びにハンター白度の値が得られる。測定は、ＪＩＳ Ｚ８７２２に準拠して、例えば測定装置としてコニカミノルタ社製分光光度計ＣＭ−５を用いて、光源としてＤ６５光源、白色校正板としてコニカミノルタ株式会社製のＣＭ−Ａ２１０を用い、ＳＣＥ（正反射光除去）方式、測定径３０ｍｍ、照明径３６ｍｍ、ＬＡＶ設定という条件で、実施される。測定にあたっては、同じ方法で得られるサンプルを３つ用意し、各サンプルについて（Ｌ^*，ａ^*，ｂ^*）の値、並びに白度の値を測定し、これらの測定値の平均値を、白色顔料の（Ｌ^*，ａ^*，ｂ^*）の値、並びに白度の値とみなすことができる。

成形材料は、白色顔料以外の無機充填材を更に含有してもよい。この場合、光反射体の光反射性が更に高くなると共に、光反射体の形状安定性が更に高くなる。

また、無機充填材は、光反射体の熱伝導率を高めることができる。それにより、光反射体の熱による変色、劣化等が、更に抑制される。

無機充填材は、例えばシリカ、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、炭酸バリウム、水酸化カルシウム、水酸化アルミニウム、アルミナ、酸化マグネシウム、水酸化マグネシウム、硫酸バリウム、酸化亜鉛、タルク及びマイカからなる群から選択される一種以上の材料を含有することができる。

特に無機充填材が、炭酸カルシウム、アルミナ、マイカ、硫酸バリウム、酸化亜鉛、非晶質シリカ及び水酸化マグネシウムからなる群から選択される一種以上の材料を含有することが、好ましい。この場合、光反射体の光反射性が特に高くなる。

特に無機充填材が水酸化マグネシウムを含有すると、光反射体が長時間加熱されても、光反射体の黄変等の変色及び白度の低下が、抑制される。

無機充填材が、非晶質シリカを含有することも好ましい。この場合、成形材料及び光反射体中での、酸化チタン等の白色顔料の分散性が向上する。特に本実施形態のように成形材料がワラストナイトと白色顔料とを含有する場合、成形材料内で組成の偏りが非常に生じやすいが、成形材料が非晶質シリカを含有すると、組成の偏りが解消されやすくなる。これにより、光反射体の比重が安定し、光反射体の均質性が向上する。成形材料中の非晶質シリカの割合は、１〜４質量％の範囲内であることが好ましく、特に２質量％であることが好ましい。

無機充填材が、合成品、並びに化学処理により純度が向上された天然品のうち、少なくとも一方を含有することも好ましい。この場合も、光反射体の光反射性が特に高くなる。合成品としては、合成マイカ、合成炭酸カルシウム、合成硫酸バリウム等が挙げられる。天然品で、例えば単に粉砕加工が施されているだけの無機充填材は、不純物を含むために、変色の原因となるおそれがある。

無機充填材には、アミノシラン処理が施されていてもよい。この場合、無機充填材とポリエステル、ポリアミドなどの樹脂との親和性が、向上する。

無機充填材の表面は、変色の原因にならないような表面処理が施されてもよい。例えば機充填材が、脂肪酸、ポリオール、シリコーン、カップリング剤等で表面処理されていてもよい。この場合、無機充填材の凝集、吸油等が抑制され、成形材料内での無機充填材の充填性が高くなる。カップリング剤は、例えばアミノシラン、エポキシシランなどのシランカップリング剤、並びにチタンカップリング剤からなる群から選択される一種以上の材料を含有することができる。カップリング剤は、特にアミノシランを含有することが好ましい。この場合、カップリング剤で処理された無機充填材が変色しにくくなり、このため光反射体の高い白色度が長期に亘って維持される。無機充填材の変色抑制のためには、カップリング剤がエポキシ系カップリング剤を含有しないことも好ましい。

無機充填材の平均粒径は、１００μｍ以下であることが好ましい。この場合、成形材料の成形性が特に良好になると共に、光反射体の耐熱変色性及び耐湿性が特に高くなる。この平均粒径は、０．１μｍ以上であることが好ましい。この場合、成形材料の取扱い性が良好になる。無機充填材の平均粒径は、８０μｍ以下であればより好ましく、５０μｍ以下であれば更に好ましい。また、無機充填材の平均粒径は、０．３μｍ以上であればより好ましい。更に、無機充填材の平均粒径が８〜２０μｍの範囲内であれば、成形材料の射出成形性が特に良好になる。なお、無機充填材の平均粒径は、レーザー回折散乱法により測定される。

特に無機充填材が水酸化マグネシウムを含有する場合、水酸化マグネシウムの平均粒径は０．０５〜１０μｍの範囲内であることが好ましく、０．１〜５μｍの範囲内であればより好ましい。

無機充填材の硬度が、繊維状充填材及び白色顔料の硬度よりも低いことが、好ましい。この場合、加工プロセスでの金属不純物の混入が低減される。また、光反射体の表面平滑性が向上する。

特に、無機充填材のモース硬度が、５以下であることが好ましい。この場合、光反射体の光反射性が更に向上する。これは、混練機を用いて成形材料を調製する際、無機充填材のモース硬度が高い場合には、原料と混練機とが強く擦れることに起因して、光反射体の光反射性が低下するのに対し、無機充填材のモース硬度は低いとそのような光反射性の低下が生じないためであると、推察される。モース硬度が５以下の無機充填材としては、タルク、炭酸カルシウム及び硫酸バリウムが、例示される。

無機充填材の、ＡＳＴＭ−Ｇ７５−９４規格で規定されるゴールド法で測定される硬度が、１０以下であることも好ましい。尚、当該方法では、ポリオール（DOW XUS 14003.01）の検体を２５％含有するスラリーの上で、検査対象を滑らせ、その場合に生じる重量減に基づいて摩耗性を測定し、その結果に基づいて検査対象の硬度を評価する。この硬度が３以下であれば更に好ましく、１以下であれば特に好ましい。この場合も、混練中に原料と混練機とが強く擦れることが抑制されるため、光反射体の光反射性が更に向上する。このような無機充填材として、炭酸カルシウム、タルク等が例示される。例えばファインタルクのゴールド法による硬度は０．１以下である。

成形材料中の無機充填材の割合は、０．１〜１０質量％の範囲内であることが好ましい。この割合が０．１質量％以上であると、光反射体の表面平滑性が向上し、これにより、光反射体の光反射性が高くなる。また、この割合が１０質量％以下であると、成形材料の粘度上昇が抑制され、成形性が向上する。この割合は更に５質量％以下であることが好ましい。この割合が０．５〜５質量％の範囲内であれば特に好ましい。

無機充填材の、ＣＩＥ １９７６（Ｌ^*，ａ^*，ｂ^*）色空間によるＬ^*の値は、９３以上であることが好ましく、特に９５〜９９．９の範囲内であることが好ましい。また、無機充填材のａ^*の値が−３〜３の範囲内であることが好ましい。ｂ^*の値が−３〜５の範囲内であることが好ましく、０．８〜３の範囲内であれば更に好ましい。また、無機充填材の、ＡＳＴＭ Ｅ３１３−７３によるハンター白度は、９０以上であることが好ましく、９５以上であれば更に好ましい。この場合、光反射体の光反射性が特に向上する。

無機充填材の（Ｌ^*，ａ^*，ｂ^*）の値、並びに白度の測定にあたっては、まず無機充填材を直径３０ｍｍの深底シャーレ内に４０ｍｍ深さまで投入し、深底シャーレを５〜１０回タッピングすることで深底シャーレ内の無機充填材を均すことで、サンプルが得られる。このサンプルの反射色を測定することで、（Ｌ^*，ａ^*，ｂ^*）の値、並びにハンター白度の値が得られる。測定は、ＪＩＳ Ｚ８７２２に準拠して、例えば測定装置としてコニカミノルタ社製分光光度計ＣＭ−５を用いて、光源としてＤ６５光源、白色校正板としてコニカミノルタ株式会社製のＣＭ−Ａ２１０を用い、ＳＣＥ（正反射光除去）方式、測定径３０ｍｍ、照明径３６ｍｍ、ＬＡＶ設定という条件で、実施される。測定にあたっては、同じ方法で得られるサンプルを３つ用意し、各サンプルについて（Ｌ^*，ａ^*，ｂ^*）の値、並びに白度の値を測定し、これらの測定値の平均値を、無機充填材の（Ｌ^*，ａ^*，ｂ^*）の値、並びに白度の値とみなすことができる。

成形材料は、離型剤を含有してもよい。離型剤は、一般に用いられる脂肪酸系、脂肪酸金属塩系、鉱物系等のワックス類からなる群から選択される一種以上の材料を含有することができる。特に、離型剤は、耐熱変色性に優れた脂肪酸系又は脂肪酸金属塩系の材料を含有することが好ましい。

離型剤が、特にポリエチレンワックスと、Ｓｉ含有ポリエステルワックスとのうち、少なくとも一方を含有することが好ましい。この場合、光反射体が更に変色しにくくなり、このため、光反射体の高い光反射性が維持される。また、ポリエチレンワックス及びＳｉ含有ポリエステルワックスは、成形材料中のポリエステルと親和性が高いため、光反射体からブリードアウトしにくい。このため、光反射体の外観が向上すると共に、光反射体の高い光反射性が維持される。特にＳｉ含有ポリエステルワックスは、その分子中にシリコーン骨格を備えるため、光反射体に搭載された素子が樹脂で封止される場合の樹脂との接着性も高いという利点もある。

ポリエチレンワックスは、テレフタル酸とエチレングリコールを主成分とするモノマーの重合体であることが好ましい。ポリエチレンワックスは、酸化ポリエチレンワックスを含むことができる。ポリエチレンワックスとして、例えば三井化学株式会社製のハイワックスシリーズ（例えば品番１１０５Ａ、融点１０４℃）が、芳香族樹脂との相溶性が良好である点で、好ましい。

Ｓｉ含有ポリエステルワックスは、例えばジオール成分として１，４―シクロヘキサンジカルボン酸（ＣＨＤＡ、トランス比率９７％）を含有することが好ましい。この場合、光反射体のガラス転移点が向上すると共に耐候性が向上する。また、Ｓｉ含有ポリエステルワックスの具体例として、株式会社ベルポリエステル製のシリコーンポリエステル共重合体が挙げられる。

成形材料中の離型剤の割合は、０．５〜２質量％の範囲内であることが好ましい。この割合が０．５質量％以上であることで、光反射体の良好な離型性が確保される。また、この割合が２質量％以下であることで、光反射体の良好な外観と高い光反射性が維持される。

成形材料は、酸化防止剤を含有してもよい。この場合、光反射体の変色が更に抑制され、光反射体の経時的な光反射性の低下が、更に生じにくくなる。酸化防止剤は、例えばフェノール系酸化防止剤及びリン系酸化防止剤からなる群から選択される一種以上の化合物を含有することができる。酸化防止剤は、発色団を生成する化合物を含有しないことが好ましい。

成形材料がフェノール系酸化防止剤を含有する場合、成形材料中のフェノール系酸化防止剤の割合は０．１〜０．５質量％の範囲内であることが好ましい。また、成形材料がリン系酸化防止剤を含有する場合、成形材料中のリン系酸化防止剤の割合は０．１〜０．５質量％の範囲内であることが好ましい。

成形材料が特に脂環式炭化水素構造を備えるポリエステルを含有すると共に酸化防止剤を含有する場合は、酸化防止剤の熱分解温度が３１０℃以上であることが好ましい。この場合、成形材料の成形時における酸化防止剤の熱分解が抑制される。成形材料が特に脂環式炭化水素構造を備えるポリアミドを含有すると共に酸化防止剤を含有する場合は、酸化防止剤の熱分解温度が３４０℃以上であることが好ましい。この場合も、成形材料の成形時における酸化防止剤の熱分解が抑制される。

成形材料は、蛍光増白剤を含有してもよい。この場合、光反射体の白色度が更に高くなり、光反射体の光反射性が更に高くなる。蛍光増白剤は、例えばナフタレン系、スチルベン系、チオフェン系等のベンゾオキサゾール誘導体、並びにクマリン誘導体からなる群から選択される一種以上の化合物を含有することができる。より具体的には、例えば蛍光増白剤は、クラリアント社製のホスタルックスＫＳ、ホスタルックスＫＳＮ、クラリアント社製のホスタルックスＫＣＢ、ハッコ−ルケミカル社製のハッコ−ルＰＳＲ、及びＢＡＳＦ社製のＴＩＮＯＰＡＬ ＯＢからなる群から選択される一種以上の化合物を含有することができる。特に蛍光増白剤がスチルベンベンズオキサゾールを含有することが、好ましい。スチルベンベンズオキサゾールは、耐熱性が高く、熱重量減少測定による重量減少が少ないため、スチルベンベンズオキサゾールを用いることにより、成形材料の熱分解が抑制されると共に、成形時の金型汚染が低減する。尚、スチルベンベンズオキサゾールは、昇温過程における３００℃での重量保持率９９％を達成することができる。これに対し、ナフタレンベンズオキサゾールの重量保持率は９０％程度であり、クマリンの重量保持率は９７％程度である。

成形材料中の蛍光増白剤の割合は、０．０１〜０．０５質量％の範囲内であることが好ましい。

成形材料は、光安定剤を含有してもよい。この場合、光反射体に紫外線等の光が照射されても光反射体が劣化しにくくなる。このため、光反射体の経時的な光反射性の低下が、更に生じにくくなる。光安定剤は、例えばベンゾトリアゾール、トリアジン、ベンゾオキサジシン、ベンゾフェノン及びヒンダートアミン（ＨＡＬＳ）からなる群から選択される一種以上の化合物を含有することができる。

より具体的には、光安定剤は、例えばＢＡＳＦ社製のＴＩＮＵＶＩＮ２３４、ＢＡＳＦ社製のＴＩＮＵＶＩＮ３６０、ＢＡＳＦ社製のＴＩＮＵＶＩＮ１６００、ＢＡＳＦ社製のＴＩＮＵＶＩＮ６２２（ＨＡＬＳ）、チバ・ジャパン株式会社製のＣＨＩＭＡＳＳＯＲＢ１１９ＦＬ（ＨＡＬＳ）、チバ・ジャパン株式会社製のＣＨＩＭＡＳＳＯＲＢ２０２０（ＨＡＬＳ）、アデカ社製のＬＡ−３１、アデカ社製のＬＡ−Ｆ７０、ＣＹＴＥＣ ＩＮＤＵＳＴＲＩＥＳ社製のサイアソープ７０７、及びＣＹＴＥＣ ＩＮＤＵＳＴＲＩＥＳ社製のサイアソープ７０９からなる群から選択される一種以上の化合物を含有することができる。成形材料中の光安定剤の割合は、１質量％以下であることが好ましく、０．０５〜０．５質量％の範囲内であれば更に好ましい。

成形材料が脂環式炭化水素構造を備えるポリエステルを含有すると共に光安定剤を含有する場合は、光安定剤の熱分解温度が３１０℃以上であることが好ましい。この場合、成形材料の成形時における光安定剤の熱分解が抑制される。一方、成形材料が脂環式炭化水素構造を備えるポリアミドを含有すると共に光安定剤を含有する場合は、光安定剤の熱分解温度が３４０℃以上であることが好ましい。この場合も、成形材料の成形時における光安定剤の熱分解が抑制される。

また、成形材料が脂環式炭化水素構造を備えるポリエステルを含有すると共に光安定剤を含有する場合は、光安定剤はベンゾトリアゾール、トリアジン、ベンゾオキサジシン及びベンゾフェノンからなる群から選択される一種以上の化合物を含有することが好ましい。また、成形材料が脂環式炭化水素構造を備えるポリエステルを含有する場合は、光安定剤がヒンダートアミン（ＨＡＬＳ）を含有しないことが好ましい。これは、ヒンダートアミンが、脂環式炭化水素構造を備えるポリエステルの分解を促進する作用を有するためである。

一方、成形材料が脂環式炭化水素構造を備えるポリアミドを含有すると共に光安定剤を含有する場合は、光安定剤がヒンダートアミン（ＨＡＬＳ）を含有することがこの好ましい。例えば、光安定剤が、ベンゾトリアゾール、トリアジン、ベンゾオキサジシン及びベンゾフェノンからなる群から選択される一種以上の化合物と、ヒンダートアミン（ＨＡＬＳ）とを含有することが好ましい。この場合、相乗的な作用によって、光反射体の経時的な光反射性の低下が、更に生じにくくなる。

成形材料が、結晶核剤を含有してもよい。この場合、熱及び光による光反射体の黄変が更に抑制される。結晶核剤は、結晶核剤として機能する無機充填材を含有してもよい。このような無機充填材として、タルク、マイカ、カオリン等が挙げられる。結晶核剤は、アイオノマー等の有機化合物を含有してもよい。成形材料中の結晶核剤の割合は、０．１〜３質量％の範囲内であることが好ましい。

成形材料が、可塑剤を含有してもよい。この場合、成形材料が金型成形される際の金型離型性が向上する。更に、成形材料中の繊維状充填材の分散性が向上し、これにより、光反射体の力学特性の向上が見込める。可塑剤は、例えば、低分子量エチレン・プロピレン共重合物、及びモンタン酸のエステルワックスからなる群から選択される一種以上の化合物を含有することができる。成形材料中の可塑剤の割合は、０．１〜３質量％の範囲内であることが好ましい。

成形材料が、エラストマーを含有してもよい。この場合、光反射体の強度が向上する。成形材料内でのエラストマーの割合は、１〜５質量％の範囲内であることが好ましい。

エラストマーは、例えばオレフィン系樹脂を含有することができる。成形材料中のオレフィン系樹脂の割合は、１〜３質量％の範囲内であることが好ましい。

オレフィン系樹脂は、例えばエチレン、プロピレン、ブテン、ペンテン、4−メチル−１−ペンテン、ヘキセン、オクテン、デセン、テトラデセン、ヘキサデセン、オクタデセン、及びエイコセンから選択される一種以上のオレフィンモノマーを含むモノマー成分が重合して得られる重合体を含有することができる。モノマー成分は、一種以上のオレフィンモノマーに加えて、ジエン、酢酸ビニル、不飽和カルボン酸、不飽和カルボン酸誘導体、芳香族ビニル単量体及びシアン化ビニル系単量体から選択される一種以上の化合物を含有することもできる。ジエンは、例えばブタジエン、イソプレン、１，４−ヘキサジエン、５−エチリデン−２−ノルボルネン、及び５−ビニル−２−ノルボルネンから選択される一種以上の化合物を含有することができる。不飽和カルボン酸は、例えばアクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、及び２−ノルボルネン−５，６−ジカルボン酸から選択される一種以上の化合物を含有することができる。不飽和カルボン酸誘導体は、例えば不飽和カルボン酸塩、不飽和カルボン酸エステル及び不飽和カルボン酸無水物からなる群から選択される一種以上の化合物を含有することができる。具体的には、不飽和カルボン酸誘導体は、例えばアクリル酸塩、メタクリル酸塩、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル（例えばグリシジルメタクリレート）、無水マレイン酸、マレイン酸エステル、及び２−ノルボルネン−５，６−ジカルボン酸無水物からなる群から選択される一種以上の化合物を含有することができる。芳香族ビニル単量体は、例えばスチレンを含有することができる。シアン化ビニル系単量体は、例えばアクリロニトリルを含有することができる。

特にオレフィン系樹脂が、芳香環を持たないことが好ましい。更に、オレフィン系樹脂が、ポリエチレン−エチルアクリレート共重合体を含有することが好ましい。

オレフィン系樹脂は、例えばモノマー成分を高圧法、中圧法、低圧法等の常法で重合することで製造される。

エラストマーが、５０〜９０質量％のエチレン、３〜４９質量％のα，β−不飽和カルボン酸アルキルエステル、及び０．５〜１０質量％の無水マレイン酸を含有する単量体成分が重合してなるエチレン系共重合体を含有してもよい。この場合、光反射体と金属との密着性が向上する。このため、光反射体がリードフレーム等の金属製の部材と組み合わされる場合、金属製の部材から光反射体が脱離することが、抑制される。このため、光反射体の製造時の歩留まりが、改善する。また、このエチレン系共重合体は芳香環を備えないため、熱及び光による光反射体の黄変が更に抑制される。成形材料中のエチレン系共重合体の割合は、１〜５質量％の範囲内であることが好ましい。

単量体成分は、エチレン、α，β−不飽和カルボン酸アルキルエステル及び無水マレイン酸のみを含有することが好ましい。単量体成分中のエチレンの割合は、上記の通り５０〜９０質量％の範囲内であり、特に６０〜８５質量％の範囲内であることが好ましい。単量体成分中のα，β−不飽和カルボン酸アルキルエステルの割合は、上記の通り３〜４９質量％の範囲内であり、特に７〜４５質量％の範囲内であることが好ましい。単量体成分中の無水マレイン酸の割合は０．５〜１０質量％の範囲内であり、特に１〜８質量％の範囲内であることが好ましい。α，β−不飽和カルボン酸アルキルエステルの割合が４９質量％以下であることで、エチレン系共重合体の熱安定性が特に高くなり、この割合が３質量％以上であることで、光反射体の機械的強度が特に高くなる。また無水マレイン酸の割合が１０質量％以下であることで、エチレン系共重合体の熱安定性が特に高くなり、この割合が０．５質量％以上であることで、光反射体の機械的強度が特に高くなる。

α，β−不飽和カルボン酸アルキルエステルは、炭素数が３〜８個の不飽和カルボン酸（アクリル酸、メタクリル酸等）のアルキルエステルを含有することができる。すなわち、例えばα，β−不飽和カルボン酸アルキルエステルは、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸ｎ−プロピル、アクリル酸イソプロピル、アクリル酸ｎ−ブチル、アクリル酸ｔ−ブチル、アクリル酸イソブチル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ｎ−プロピル、メタクリル酸イソプロピル、メタクリル酸ｎ−ブチル、メタクリル酸ｔ−ブチル、及びメタクリル酸イソブチルからなる群から選択される一種以上の化合物を含有することができる。特にα，β−不飽和カルボン酸アルキルエステルが、アクリル酸エチル、アクリル酸ｎ−ブチル、及びメタクリル酸メチルからなる群から選択される一種以上の化合物を含有することが好ましい。

エチレン系共重合体の具体例として、アルケマ社製の商品名「ボンダインＡＸ８３９０」（エチレン６８質量％、アクリル酸エチル３０質量％、及び無水マレイン酸２質量％を重合してなる共重合体）が、挙げられる。

成形材料が、少なくとも１つのＰ−Ｏ結合が炭素数６〜３０の芳香族基と結合している構造を有するホスファイトと、少なくとも１つのＰ−Ｏ結合が炭素数６〜３０の芳香族基と結合している構造を有するホスホナイトとからなる群から選ばれる、少なくとも一種の化合物を含有してもよい。この場合、光反射体に適宜の加工が施される際の熱劣化が抑制される。ホスファイトは、例えば３，９−ビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノキシ）−２，４，８，１０−テトラオキサ−３，９−ジホスファスピロ［５．５］ウンデカン及び２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニルから選択される一種以上の化合物を含有することができる。ホスホナイトは、例えばテトラキス（２，４−ジオ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−４，４−ビフェニルジホスホナイトを含有することができる。成形材料中のこの化合物の合計量の割合は、０．０５〜２質量％の範囲内であることが好ましい。

成形材料が脂環式炭化水素構造を備えるポリエステルを含有する場合、成形材料が、加水分解防止剤を更に含有することも好ましい。この場合、光反射体の耐久性が更に向上する。

成形材料中の加水分解防止剤の割合は、０．０１〜１．０質量％の範囲内であることが好ましい。

加水分解防止剤は、例えばカルボジイミド化合物（環状でないカルボジイミド化合物）、環状カルボジイミド化合物、及びエポキシ化合物からなる群から選択される一種以上の化合物を含有することができる。

特に加水分解防止剤が、環状カルボジイミド化合物を含有することが好ましい。エポキシ化合物はその構造上黄変を引き起こすおそれがあり、カルボジイミド化合物はイソシアネートを発生させることで黄変を引き起こすことがあるが、環状カルボジイミド化合物からはイソシアネートが発生しないため、環状カルボジイミド化合物が用いられると、光反射体の黄変が更に抑制される。

環状カルボジイミド化合物は、一分子中に一つのカルボジイミド基と、このカルボジイミド基における二つの窒素（第一窒素及び第二窒素）のいずれにも結合している基（結合基）とを備える。

結合基は、例えば脂肪族基、脂環族基、芳香族基及びこれらの組み合わせからなる基から選択される２価の基である。結合基は、ヘテロ原子を備えてもよい。

芳香族基は、例えば炭素数５〜１５のアリ−レン基、炭素数５〜１５のアレーントリイル基、並びに炭素数５〜１５のアレーンテトライル基からなる群から選択される。脂肪族基は、例えば炭素数１〜２０のアルキレン基、炭素数１〜２０のアルカントリイル基、並びに炭素数１〜２０のアルカンテトライル基からなる群から選択される。脂環族基は、例えば炭素数３〜２０のシクロアルキレン基、炭素数３〜２０のシクロアルカントリイル基、並びに炭素数３〜２０のシクロアルカンテトライル基からなる群から選択される。

カルボジイミド化合物（環状でないカルボジイミド化合物）が用いられる場合、カルボジイミド化合物は、ポリカルボジイミド化合物及びモノカルボジイミド化合物から選択される一種以上の化合物を含有することができる。

ポリカルボジイミド化合物は、例えばポリ（４，４’−ジフェニルメタンカルボジイミド）、ポリ（４，４’−ジシクロヘキシルメタンカルボジイミド）、ポリ（１，３，５−トリイソプロピルベンゼン）ポリカルボジイミド、ポリ（１，３，５−トリイソプロピルベンゼン及び１，５−ジイソプロピルベンゼン）ポリカルボジイミドからなる群から選択される一種以上の化合物を含有することができる。モノカルボジイミド化合物は、例えばＮ，Ｎ’−ジ−２，６−ジイソプロピルフェニルカルボジイミドを含有することができる。

カルボジイミド化合物として、市販品が適宜使用され得る。カルボジイミド化合物の具体例としては、日清紡ケミカル株式会社製の商品名カルボジライトＬＡ−１（ポリ（４，４’−ジシクロヘキシルメタンカルボジイミド））、カルボジライトＨＭＶ−８ＣＡ，カルボジライトＨＭＶ−１５ＣＡ等が挙げられる。

カルボジイミド化合物は、イソシアネート基を有しないことが好ましい。カルボジイミド化合物がイソシアネート基を有しないとは、カルボジイミド化合物中にイソシアネート基を有する化合物が混入していないことを意味する。この場合、光反射体の黄変が更に抑制される。

イソシアネート基を有しないポリカルボジイミド化合物としては、日清紡ケミカル株式会社製の商品名カルボジライトＨＭＶ−１５ＣＡなどが、挙げられる。

尚、成形材料は、上記成分以外に、着色剤、増粘剤、難燃剤等の、適宜の添加剤を含有してもよい。

成形材料は、固体状であってよい。この場合、成形材料の保存安定性及びハンドリング性が高くなる。例えば成形材料は、粒状、粉末状等であってよい。特に成形材料が、３０℃以下で固体であることが好ましい。この場合、粉砕加工、押出しペレット加工等で、成形材料が粒状に容易に加工されうる。成形材料が、５０℃以下で保形性を有することも好ましい。この場合、成形材料の取扱い性、成形材料を使用する場合の作業性が、特に高くなる。

成形材料は、無溶媒で調製されうる。この場合、固体状の成形材料が容易に得られる。

成形材料の調製にあたっては、例えばまず上記のような原料が所定の割合で配合され、ミキサ−、ブレンダ−等の混合機で混合されることで、混合物が得られる。固体状の原料が用いられると、原料が混合機で容易に混合されうる。この混合物が加熱加圧可能な混練機、押出機等で混練される。混練機として、例えば加圧ニーダー、熱ロール、エクストル−ダ−等が用いられる。続いて混合物のバルク体が、粉砕・整粒され、或いは更に必要に応じて造粒されることで、粒状、粉末状、ペレット状等の成形材料が得られる。

成形材料の調製にあたって、例えばまずポリエステル又はポリアミドを含み且つ白色顔料及びワラストナイトを含まない原料が混練されることで、混合物が得られ、続いて混合物に白色顔料が配合されてから更に混練され、続いて混合物にワラストナイトが配合されてから更に混練されることが好ましい。すなわち、原料が配合されるにあたっては、ポリエステル又はポリアミドに白色顔料が配合されてからワラストナイトが配合されることが好ましい。この場合、光反射体の白色度及び光反射率が、更に向上する。そのためには、例えば少なくとも二つの供給口を備えるスクリュ式の混練押出機を用いて成形材料を調製することが好ましい。供給口は、混練押出機のシリンダに形成される。この供給口は、原料の押し出し方向に並んでいる。この混練押出機が用いられると、まずポリエステル又はポリアミドを含み且つ白色顔料及びワラストナイトを含まない原料が、シリンダ内で混練されながら押し出される。続いて、押し出し方向の上流側の供給口からシリンダ内へ白色顔料が供給される。続いて、押し出し方向の下流側の供給口からシリンダ内へ繊維状充填材が供給される。これにより、ポリエステル又はポリアミドを含む混合物が混練されながら、この混合物に白色顔料と繊維状充填材とが順次配合される。尚、この場合、ポリエステル又はポリアミド、白色顔料及び繊維状充填材以外の原料は、いかなるタイミングで配合されてもよい。

成形材料が成形されることで、照明器具に適用される光反射体が形成される。成形方法としては、特に制限されないが、例えば射出成形法が採用される。射出成形条件は適宜設定される。

成形材料が脂環式炭化水素構造を備えるポリエステルを含有する場合、射出成形時の樹脂温度は２９０〜３１０℃の範囲内、金型温度は１３０〜１６０℃の範囲内であることが好ましい。この範囲において、樹脂の結晶化が進行しやすくなり、このため、光反射体の寸法安定性が良好になる。また、樹脂温度が３１０℃以下であることで、樹脂の熱分解及び変色が特に抑制される。

また、成形材料が脂環式炭化水素構造を備えるポリアミドを含有する場合、射出成形時の樹脂温度は３３０〜３５０℃の範囲内、金型温度は１５０〜１６０℃の範囲内であることが好ましい。この範囲において、樹脂の結晶化が進行しやすくなり、このため、光反射体の寸法安定性が良好になる。また、樹脂温度が３５０℃以下であることで、樹脂の熱分解及び変色が特に抑制される
本実施形態では、白度が高く、光反射性に優れた光反射体が得られる。特に、成形直後の光反射体の、ＡＳＴＭ Ｅ３１３−７３によるハンター白度が、９２％以上であることが好ましく、９５％以上であれば更に好ましい。

また、本実施形態では、光反射体の経時的な白色度及び光反射性の低下が、抑制される。特に、光反射体に１７０℃で２時間加熱処理が施されても、この処理後の光反射体の波長４６０ｎｍでの光反射率が９２％以上であることが好ましい。また、この処理後の光反射体のハンター白度が９２％以上であることが好ましい。これらの特性のうち、いずれか一方が充足されていれば好ましく、両方が充足されていれば更に好ましい。

また、光反射体に１５０℃で１００時間加熱処理が施されても、この処理後の光反射体の波長４６０ｎｍでの光反射率が８７％以上であることが好ましい。

また、成形直後の光反射体の、波長４６０ｎｍの光反射率が、９０％以上であることが好ましく、９２％以上であれば更に好ましい。

また、光反射体に、ＨＩＤランプ（高圧水銀灯）を光源としてＵＶ光が照射された状態で、１４０℃で１００時間加熱処理が施されても、この処理後の光反射体の波長４６０ｎｍでの光反射率が９２％以上であることが好ましい。また、この処理後のハンター白度が９２％以上であることが好ましい。これらの特性のうち、いずれか一方が充足されていれば好ましく、両方が充足されていれば更に好ましい。

尚、光反射体の光反射率およびハンター白度の測定は、ＪＩＳ Ｚ８７２２に準拠して、例えば測定装置としてコニカミノルタ社製分光光度計ＣＭ−３６００ｄを用いて、光源としてＤ６５光源、白色校正板としてコニカミノルタ株式会社製のＣＭ−Ａ１０３を用い、ＳＣＩ（正反射光込み）方式、測定径４ｍｍ、照明径７ｍｍ、ＳＡＶ設定という条件で、実施される。尚、この測定方法で、汎用的な白色標準板であるスペクトラロン（ＪＡＳＣＯ ６７０８−Ｈ００６Ａ）を測定すると、そのハンター白度は９８．２となる。

図１及び図２に、光反射体１ａを備える照明器具６ａの例を示す。この照明器具６ａは、光反射体１ａ、金属製リードフレーム２ａ及び発光素子３ａを備える。本例では、光反射体１ａに金属製リードフレーム２ａが埋め込まれていることで、光反射体１ａとリードフレーム２ａとが組み合わされている。尚、本実施形態に係る成形材料から形成される光反射体及び照明器具の構造は、本例のみには限られない。

光反射体１ａは、ベース部１１ａと、このベース部１１ａの上面から突出する突出部１２ａとを備える。突出部１２ａには、その上面で開口する凹所１３ａが形成されている。金属製リードフレーム２ａは、ベース部１１ａに埋め込まれている。金属製リードフレーム２ａは、第一のリード２１ａと第二のリード２２ａとを備える。第一のリード２１ａと第二のリード２２ａの各々は、凹所１３ａの底面で凹所１３ａ内に露出している。第一のリード２１ａと第二のリード２２ａは、ベース部１１ａ内で間隔をあけて配置されることで、第一のリード２１ａと第二のリード２２ａとの間が電気的に絶縁されている。第一のリード２１ａと第二のリード２２ａは、ベース部１１ａの下面でも外部に露出している。ベース部１１ａの下面上に、第一のリード２１ａ上から第二のリード２２ａ上に亘る位置に絶縁性の部材５ａが設けられ、この部材５ａが、第一のリード２１ａと第二のリード２２ａとの間の短絡を抑制する。

発光素子３ａとして、例えば発光ダイオードが用いられるが、これに限られない。発光素子３ａは、凹所１３ａ内で第一のリード２１ａ上に実装されている。更に凹所１３ａ内で、発光素子３ａと第一のリード２１ａとが第一のワイヤ４１ａで電気的に接続されると共に、発光素子３ａと第二のリード２２ａとが第二のワイヤ４２ａで接続されている。

この光反射体１ａの凹所１３ａの内周面１４ａは、凹所１３ａの内径が開口側ほど大きくなるように傾斜している。このため、発光素子３ａから発せられる光が、光反射体１ａにおける凹所１３ａの内周面１４ａで反射しやすくなり、その結果、照明器具６ａからの光の取り出し効率が高くなる。

この照明器具６ａにおいて、必要により、凹所１３ａ内が透明な樹脂で封止されてもよく、凹所１３ａの開口が透明なカバ−で覆われてもよい。

このような金属製リードフレーム２ａが埋め込まれている光反射体１ａは、例えばインサート成形法で製造される。すなわち、例えば射出成形金型の内部に金属製のリードを配置し、この状態で、射出成形金型内で成形材料を射出成形することで、光反射体１ａが形成される。

図３及び図４に、光反射体１ｂを備える照明器具６ｂの別の例を示す。この照明器具は、光反射体１ｂ、二つの金属製端子２ｂ及び発光素子３ｂを備える。本例では、光反射体１ｂに金属製端子２ｂが埋め込まれていることで、光反射体１ｂと金属製端子２ｂとが組み合わされている。光反射体１ｂには、この光反射体１ｂの一つの面で開口する凹所１３ｂが形成されている。二つの金属製端子２ｂは、光反射体１ｂに埋め込まれ、且つ光反射体１ｂの外面に露出している。発光素子３ｂは、凹所１３ｂの底面上に実装されている。発光素子３ｂは、図示はされていないが、二つの金属製端子２ｂにワイヤ又は配線で電気的に接続されている。この照明器具６ｂは、例えば図４に示すように、プリント配線板等の部材３１ｂの上に配置され、半田３２ｂによって部材３１ｂ上に固定されると共に金属製端子２ｂと部材３１ｂとが電気的に接続される。本例では、光反射体１ｂの開口が、部材３１ｂにおける照明器具６ｂが配置されている面に沿った方向を向いている。このため、光反射体１ｂから発せられる光は、部材３１ｂにおける照明器具６ｂが配置されている面に沿った方向に向けて放射される。

光反射体の寸法は特に制限されないが、光反射体は小型・薄型であってよい。例えば光反射体における最も厚みが薄い部位の厚みが、０．３〜１．５ｍｍの範囲内（例えば０．５ｍｍ）であってよい。このような小型・薄型の光反射体１を製造する場合でも、本実施形態では成形材料が良好な薄型成形性を有するため、光反射体１における未充填等の成形不良が抑制されると共にその表面の凹凸が抑制される。また、ワラストナイトはガラス繊維ほどの補強作用を有さないが、光反射体１が小型・薄型であれば、ワラストナイトは光反射体１に充分に高い強度を付与することができる。

［実施例及び比較例］
後掲の表に示す原料を用い、次のようにして成形材料を調製した。押し出し方向に並ぶ複数の供給口を備えるスクリュ−式混練押出機（日本製鋼所製）を用い、まず白色顔料及び繊維状充填材以外の原料を混練して混合物を調製した。この混合物を更に混練しながら、供給口から混練押出機内へ白色顔料を投入した。続いて、この混合物を更に混練しながら、別の供給口から混練押出機内へ繊維状充填材を投入した。続いて、混合物を粉砕してから、ペレット状に成形した。これにより、ペレット状の成形材料を得た。

成形材料には、成形前に乾燥処理を施した。成形材料がポリエステルを含有する場合の乾燥条件は、１２０℃、３〜５時間であり、成形材料がポリアミドを含有する場合の乾燥条件は、真空下、１００〜１１０℃、３時間である。

［評価］
（比重ばらつき）
成形材料を射出成形することで、直径５０ｍｍ、厚み１ｍｍの円板状の評価用サンプルを作製した。尚、成形材料がポリエステルを含有する場合の成形条件は、シリンダ−温度３００℃、金型温度１３０℃とし、成形材料がポリアミドを含有する場合の成形条件は、シリンダ−温度３４０℃、金型温度１５０℃とした。この評価用サンプルを連続的に複数個作製した。この連続成形を開始してから、一定時間ごとに、完成直後の評価用サンプルを抽出した。これにより、合計５個の評価用サンプルを抽出した。この５個の評価用サンプルの比重を測定し、これらの評価用サンプル間の比重の差の最大値を導出した。

（成形性）
成形材料を射出成形することで、直径５０ｍｍ、厚み１ｍｍの薄型円盤状の評価用サンプルを作製した。尚、成形材料がポリエステルを含有する場合の成形条件は、シリンダ−温度３００℃、金型温度１３０℃とし、成形材料がポリアミドを含有する場合の成形条件は、シリンダ−温度３４０℃、金型温度１５０℃とした。これらの評価用サンプルを目視で観察することで未充填不良及びゲート部が欠ける不良の有無を確認すると共に、不良が確認されたサンプルの数をカウントした。その結果を、後掲の表に示す。

（曲げ強度評価及び曲げ弾性率評価）
成形材料を射出成形することで、ＡＳＴＭ Ｄ７９０に準拠した１２７ｍｍ×１３ｍｍ×３．１ｍｍの寸法の評価用サンプルを作製した。尚、成形材料がポリエステルを含有する場合の成形条件は、シリンダ−温度３００℃、金型温度１３０℃とし、成形材料がポリアミドを含有する場合の成形条件は、シリンダ−温度３４０℃、金型温度１５０℃とした。この評価用サンプルの曲げ強度及び曲げ弾性率を、ＡＳＴＭ Ｄ７９０に準拠して測定した。その結果を、後掲の表に示す。

（光反射率）
１．初期
成形材料を射出成形することで、評価用サンプルを作製した。尚、成形材料がポリエステルを含有する場合の成形条件は、シリンダ−温度３００℃、金型温度１３０℃とし、成形材料がポリアミドを含有する場合の成形条件は、シリンダ−温度３４０℃、金型温度１５０℃とした。

この評価用サンプルの、波長４６０ｎｍでの光反射率を、コニカミノルタ社製の分光測色計ＣＭ−３５００ｄを用いて測定した。

２．加熱処理後
評価用サンプルに、１５０℃で１００時間加熱処理を施してから、このサンプルの光反射率を測定した。

３．紫外線照射・加熱処理後
評価用サンプルに、ＨＩＤランプ（高圧水銀灯）を光源としてＵＶ光を照射しながら、１４０℃で１００時間加熱処理を施した。続いて、このサンプルの光反射率を測定した。

これらの結果を後掲の表に示す。

（ハンター白度）
１．初期
成形材料を射出成形することで、評価用サンプルを作製した。尚、成形材料がポリエステルを含有する場合の成形条件は、シリンダ−温度３００℃、金型温度１３０℃とし、成形材料がポリアミドを含有する場合の成形条件は、シリンダ−温度３４０℃、金型温度１５０℃とした。

この評価用サンプルの、波長４６０ｎｍでのハンター白度を、コニカミノルタ社製の分光測色計ＣＭ−３５００ｄを用いて測定した。

２．加熱処理後
評価用サンプルに、１５０℃で１００時間加熱処理を施してから、このサンプルのハンター白度を測定した。

３．紫外線照射・加熱処理後
評価用サンプルに、ＨＩＤランプ（高圧水銀灯）を光源としてＵＶ光を照射しながら、１４０℃で１００時間加熱処理を施した。続いて、このサンプルのハンター白度を測定した。

これらの結果を後掲の表に示す。

（リフロー耐熱性）
成形材料を射出成形することで、評価用サンプルを作製した。尚、成形材料がポリエステルを含有する場合の成形条件は、シリンダ−温度３００℃、金型温度１３０℃とし、成形材料がポリアミドを含有する場合の成形条件は、シリンダ−温度３４０℃、金型温度１５０℃とした。

この評価用サンプルを、エアリフローはんだ装置を用いて加熱した。この場合、評価用サンプルの表面温度が２６０℃となるように、エアリフローはんだ装置のピーク温度を設定した。処理後の評価用サンプルの表面におけるブリスター発生の有無を確認し、ブリスター発生が認められない場合を「良」、認められた場合を「不良」と、評価した。

（金属密着性評価）
成形材料を射出成形することで、評価用サンプルを作製した。尚、成形材料がポリエステルを含有する場合の成形条件は、シリンダ−温度３００℃、金型温度１３０℃とし、成形材料がポリアミドを含有する場合の成形条件は、シリンダ−温度３４０℃、金型温度１５０℃とした。この場合、銀メッキが施された銅フレーム（インサート部分：幅０．６ｍｍ×厚み０．２５ｍｍ）を用いたインサート成形をおこなった。

得られた１００個の評価用サンプルを観察し、評価用サンプルと銅フレームとの間の剥離が認められた場合を不良と評価して、不良の発生数をカウントした。

本実施例及び比較例で使用した原料の詳細を、下記に示す。
・ＰＣＴ樹脂Ａ：ポリジメチレンシクロヘキサンテレフタレート樹脂、極限粘度０.８ｄｌ／ｇ。
・ＰＣＴ樹脂Ｂ：ポリジメチレンシクロヘキサンテレフタレート樹脂、極限粘度０．５ｄｌ／ｇ。
・ＰＣＴ樹脂Ｃ：ポリジメチレンシクロヘキサンテレフタレート樹脂、極限粘度１．２ｄｌ／ｇ。
・ＰＣＴ樹脂Ｄ：ポリジメチレンシクロヘキサンテレフタレート樹脂、極限粘度０．４ｄｌ／ｇ。
・ＰＣＴ樹脂Ｅ：ポリジメチレンシクロヘキサンテレフタレート樹脂、極限粘度１．３ｄｌ／ｇ。
・ポリアミドＡ：１，４−シクロヘキサンジカルボン酸を含むジカルボン酸と、１，９−ノナンジアミン及び／又は２−メチル−１，８−オクタンジアミンを含むジアミンとを重合させたポリアミド、トランス異性体比率５１〜８５％、融点３２５℃、ガラス転移点１４５℃。
・ワラストナイトＡ：ナイコミネラルズ社製、品番４Ｗ、平均繊維長６３μｍ、平均繊維径７μｍ、ハンター白度９４．０。
・ワラストナイトＢ：ナイコミネラルズ社製、品番８、平均繊維長１５６μｍ、平均繊維径１２μｍ、ハンター白度９４．１。
・ガラス繊維：平均繊維長３ｍｍ、平均繊維径１０μｍのガラス繊維に、アミノシラン系収束剤による表面処理を施して得られた処理品。
・炭酸カルシウムウィスカー：丸尾カルシウム社製、品名ウィスカルＡ、合成品、繊維長２０〜３０μｍ、繊維径０．５〜１．０μｍ、ハンター白度９７．５。
・酸化チタンＡ：平均粒径０．３１μｍ、アルミナ・シリカ系コーティング処理品、ハンター白度９１．０。
・酸化チタンＢ：平均粒径０．２８μｍ、アルミナ・シリカ系コーティング処理品、ハンター白度９２．６。
・酸化チタンＣ：平均粒径０．２１μｍ、アルミナ・シリカ系コーティング処理品、ハンター白度９２．０。
・タルク：竹原化学工業社製、品名ハイトロンＡ、天然物の粉砕品、平均粒径３μｍ、ハンター白度９５．４。
・非晶質シリカＡ：多孔質球状シリカ（富士シリシア化学社製、製品名サイロスフィアＣ−１５０４）平均粒径：３μｍ、見掛け密度：０．５８ｇ／ｍｌ、比表面積：３００ｍ²／ｇ）、ハンター白度９７．８。
・エラストマーＡ：ポリエチレン−エチルアクリレート共重合体（日本ユニカー社製、品番ＮＵＣ６５７０）。
・エラストマーＢ：エチレン／アクリル酸／無水マレイン酸ターポリマー（エチレン６８質量％、アクリル酸エチル３０質量％、及び無水マレイン酸２質量％の共重合体）、アルケマ社製、品番ＢＯＮＤＩＮ ＭＡＨ ＡＸ８３９０。
・離型剤Ａ：ポリエチレンワックス、三井化学社製、品番１１６０Ｈ、融点１０４℃。
・離型剤Ｂ：Ｓｉ含有ポリエステルワックス（シリコーンポリエステル共重合体）、ベルポリエステルプロダクツ社製、Ｓｉ含有量１０％、融点２５１℃。
・離型剤Ｃ：Ｓｉ含有ポリエステルワックス（シリコーンポリエステル共重合体、ジオール成分としてＣＨＤＡ（シクロヘキサンジカルボン酸）を２５％含む）、ベルポリエステルプロダクツ社製。
・酸化防止剤Ａ：ヒンダートフェノール系酸化防止剤、ＢＡＳＦ社製、品番Ｉｒｇａｎｏｘ１３３０。
・酸化防止剤Ｂ：ヒンダートフェノール系酸化防止剤、アデカ社製、品番ＡＯ−８０。
・酸化防止剤Ｃ：ヒンダートフェノール系酸化防止剤、ＢＡＳＦ社製、品番Ｉｒｇａｎｏｘ１０９８。
・酸化防止剤Ｄ：リン系酸化防止剤、堺化学社製、品番ＧＳＹ−Ｐ１０１。
・酸化防止剤Ｅ：リン系酸化防止剤、アデカ社製、品番ＰＥＰ−３６。
・光安定剤Ａ：トリアジン系光安定剤、ＢＡＳＦ社製、品番ＴＩＮＵＶＩＮ１６００。
・光安定剤Ｂ：ヒンダードアミン系光安定剤、ＢＡＳＦ社製、品番ＣＨＩＭＡＳＳＯＲＢ２０２０。
・光安定剤Ｃ：ヒンダードアミン系光安定剤、クラリアント社製、品番ナイロスタブＳ-ＥＥＤ。
・蛍光増白剤Ａ：４，４’−ビス（２−ベンゾキサゾリル）スチルベンのメチル化物、主として４−（２−ベンゾキサゾリル）−４’−（５−メチル−２−ベンゾキサゾリル）スチルベン、異性体として４，４’−ビス（５−メチル−２−ベンゾキサゾリル）スチルベンおよび４，４’−ビス（２−ベンゾキサゾリル）スチルベンを含有する。クラリアントジャパン社製、品名ＨＯＳＴＡＬＵＸ ＫＳ−Ｎ。
・環状カルボジイミド化合物：下記構造式に示す構造を有する環状カルボジイミド化合物。

・カルボジイミド化合物Ａ：イソシアネート基を有するカルボジイミド化合物、ポリ（４，４’−ジシクロヘキシルメタンカルボジイミド）、カルボジイミド当量２４８、カルボジイミド基：イソシアネート基のモル比１５：２、日清紡ケミカル株式会社製 ＬＡ−１。
・カルボジイミド化合物Ｂ：イソシアネート基を有さないカルボジイミド化合物、カルボジイミド当量２６２、日清紡ケミカル株式会社製、ＨＭＶ−１５ＣＡ。

１ 光反射体

Claims (13)

1. 光反射体を製造するための熱可塑性の光反射体用成形材料であって、
   ポリシクロへキシレンジメチレンテレフタレートと、
   白色顔料と、
   ワラストナイトと、
   一分子中に一つのカルボジイミド基と、前記カルボジイミド基における二つの窒素のいずれにも結合している基とを備える環状カルボジイミド化合物と
   を含有することを特徴とする光反射体用成形材料。
2. 前記ワラストナイトの白色度が９３．０以上である請求項１に記載の光反射体用成形材料。
3. 前記ワラストナイトの平均アスペクト比が、５〜２０の範囲内である請求項１又は２に記載の光反射体用成形材料。
4. 無機充填材を含有し、前記無機充填材が、合成品及び化学処理により純度が向上された天然品からなる群から選択される一種以上の材料を含有する請求項１乃至３のいずれか一項に記載の光反射体用成形材料。
5. 前記白色顔料が、酸化チタンを含有する請求項１乃至４のいずれか一項に記載の光反射体用成形材料。
6. 離型剤を含有し、前記離型剤が、Ｓｉ含有ポリエステルワックス及びポリエチレンワックスのうち少なくとも一方を含有する請求項１乃至５のいずれか一項に記載の光反射体用成形材料。
7. オレフィン系樹脂を含有する請求１乃至６のいずれか一項に記載の光反射体用成形材料。
8. 単量体成分が重合してなるエチレン系共重合体を含有し、前記単量体成分は、前記単量体成分に対して５０〜９０質量％のエチレン、前記単量体成分に対して３〜４９質量％のα，β−不飽和カルボン酸アルキルエステル、及び前記単量体成分に対して０．５〜１０質量％の無水マレイン酸を含有する請求項１乃至７のいずれか一項に記載の光反射体用成形材料。
9. フェノール系酸化防止剤及びリン系酸化防止剤からなる群から選択される一種以上の化合物を含有する請求項１乃至８のいずれか一項に記載の光反射体用成形材料。
10. スチルベンベンズオキサゾールを含有する請求項１乃至９のいずれか一項に記載の光反射体用成形材料。
11. 非晶質シリカを含有する請求項１乃至１０のいずれか一項に記載の光反射体用成形材料。
12. 請求項１乃至１１のいずれか一項に記載の光反射体用成形材料を成形してなる光反射体。
13. 請求項１２に記載の光反射体を備える照明器具。