JP6233024B2 - Touch panel sensor, touch panel sensor manufacturing method, and display device with touch position detection function - Google Patents

Touch panel sensor, touch panel sensor manufacturing method, and display device with touch position detection function Download PDF

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Description

本発明は、タッチパネルセンサおよびタッチパネルセンサの製造方法に関する。また本発明は、タッチパネルセンサと表示装置とを組み合わせることによって得られるタッチ位置検出機能付き表示装置に関する。   The present invention relates to a touch panel sensor and a method for manufacturing a touch panel sensor. The present invention also relates to a display device with a touch position detection function obtained by combining a touch panel sensor and a display device.

今日、入力手段として、タッチパネル装置が広く用いられている。タッチパネル装置は、タッチパネルセンサ、タッチパネルセンサ上への接触位置を検出する制御回路、配線およびＦＰＣ（フレキシブルプリント基板）を含んでいる。タッチパネル装置は、多くの場合、液晶ディスプレイや有機ＥＬディスプレイ等の表示装置が組み込まれた種々の装置等（例えば、券売機、ＡＴＭ装置、携帯電話、ゲーム機）に対する入力手段として、表示装置とともに用いられている。このような装置においては、タッチパネルセンサが表示装置の表示面上に配置されており、これによって、表示装置に対する極めて直接的な入力が可能になっている。タッチパネルセンサのうち表示装置の表示領域に対面する領域は透明になっており、タッチパネルセンサのこの領域が、接触位置（接近位置）を検出し得るアクティブエリアを構成するようになる。   Today, touch panel devices are widely used as input means. The touch panel device includes a touch panel sensor, a control circuit that detects a contact position on the touch panel sensor, wiring, and an FPC (flexible printed circuit board). In many cases, the touch panel device is used together with the display device as an input means for various devices including a display device such as a liquid crystal display or an organic EL display (for example, a ticket vending machine, an ATM device, a mobile phone, a game machine). It has been. In such a device, the touch panel sensor is disposed on the display surface of the display device, thereby enabling extremely direct input to the display device. The area | region which faces the display area of a display apparatus among touch panel sensors is transparent, and this area | region of a touch panel sensor comprises the active area which can detect a contact position (approach position).

タッチパネルセンサとして、投影型容量結合方式のタッチパネルセンサが知られている。容量結合方式のタッチパネルセンサにおいては、位置を検知されるべき外部導体（典型的には、指）が誘電体を介してタッチパネルセンサに接触（接近）する際、新たに奇生容量が発生する。この奇生容量に起因する静電容量の変化に基づいて、タッチパネルセンサ上における外部導体の位置が検出される。このような投影型容量結合方式のタッチパネルセンサは例えば、基材と、基材の観察者側の面に設けられた複数の検出パターンと、を備えている。検出パターンは、例えば、透光性および導電性を有する透明導電材料から構成される。   As a touch panel sensor, a projection capacitive coupling type touch panel sensor is known. In the capacitive coupling type touch panel sensor, when an external conductor (typically, a finger) whose position is to be detected contacts (approaches) the touch panel sensor via a dielectric, a strange capacitance is newly generated. The position of the external conductor on the touch panel sensor is detected on the basis of the change in capacitance caused by this strange capacitance. Such a projected capacitively coupled touch panel sensor includes, for example, a base material and a plurality of detection patterns provided on the surface of the base material on the viewer side. The detection pattern is made of, for example, a transparent conductive material having translucency and conductivity.

また検出パターンの電気抵抗値を低くするため、検出パターンを構成する材料として、透明導電材料よりも高い導電性を有する銀や銅などの金属材料を用いることが提案されている（例えば、特許文献１参照）。検出パターンが金属材料から構成される場合、検出パターンには、表示装置からの映像光を適切な比率で透過させるための開口部が形成されている。例えば検出パターンは、金属材料からなり、網目状に配置された導線によって構成されている。   Further, in order to reduce the electric resistance value of the detection pattern, it has been proposed to use a metal material such as silver or copper having higher conductivity than the transparent conductive material as a material constituting the detection pattern (for example, Patent Documents). 1). When the detection pattern is made of a metal material, an opening for transmitting image light from the display device at an appropriate ratio is formed in the detection pattern. For example, the detection pattern is made of a metal material and is constituted by conductive wires arranged in a mesh shape.

特開２０１２−７９２３８号公報JP 2012-79238 A

検出パターンが金属材料からなる導線によって構成される場合、金属材料が有する金属光沢に起因して検出パターンが観察者（ユーザー）に視認されてしまうことが考えられる。金属光沢に起因する視認性の低下を防ぐため、黒化処理などの低反射処理を導線の表面に施すことが知られている。また導線の表面を荒らすことも提案されている。例えば上述の特許文献１においては、導線の黒化層の表面の表面粗さＲａを０．０５〜０．１４μｍの範囲内にすることが提案されている。   In the case where the detection pattern is constituted by a conductive wire made of a metal material, it is conceivable that the detection pattern is visually recognized by an observer (user) due to the metallic luster of the metal material. In order to prevent a reduction in visibility due to metallic luster, it is known to perform a low reflection treatment such as a blackening treatment on the surface of the conductive wire. It has also been proposed to roughen the surface of the conductor. For example, in the above-mentioned patent document 1, it is proposed that the surface roughness Ra of the surface of the conductive wire blackening layer is in the range of 0.05 to 0.14 μm.

導線の表面を荒らすための方法としては一般に、導線の表面の層をエッチングする方法が採用されている。この場合、エッチングが過剰に進行すると、導線の表面の層だけでなく、導線における導電性を主に実現するための本体層までもがエッチング液によって溶解され、導線の導電性などの特性が劣化してしまうことが考えられる。   As a method for roughening the surface of the conducting wire, a method of etching a layer on the surface of the conducting wire is generally employed. In this case, if etching proceeds excessively, not only the surface layer of the conductive wire but also the main body layer for mainly realizing the electrical conductivity in the conductive wire is dissolved by the etching solution, and the properties such as the conductive property of the conductive wire deteriorate. It is possible that

本発明は、このような課題を効果的に解決し得るタッチパネルセンサ、タッチパネルセンサの製造方法によびタッチ位置検出機能付き表示装置を提供することを目的とする。   An object of the present invention is to provide a touch panel sensor that can effectively solve such problems, a method for manufacturing the touch panel sensor, and a display device with a touch position detection function.

第１の本発明は、タッチパネルセンサであって、観察者側を向く第１面および表示装置側を向く第２面を含む基材と、前記基材の前記第１面上に設けられた複数の第１検出パターンと、を備え、前記第１検出パターンは、遮光性および導電性を有する第１導線であって、各第１導線の間に開口部が形成されるよう網目状に配置された第１導線から構成されており、前記第１導線は、金属からなる第１本体層と、前記第１本体層よりも観察者側に設けられ、金属からなる第１被覆層と、前記第１本体層と前記第１被覆層との間に設けられ、導電性を有する第１耐薬層と、を含み、前記第１被覆層の表面には凹凸が形成されており、第１被覆層用エッチング液に対する前記第１耐薬層の溶解速度は、前記第１被覆層用エッチング液に対する前記第１被覆層の溶解速度の１／１０以下であり、前記第１被覆層は、９９重量％以上の銅を含み、前記第１被覆層用エッチング液は、ギ酸を含む液、または、硫酸および過酸化水素の混合溶液からなる、タッチパネルセンサである。   1st this invention is a touchscreen sensor, Comprising: The base material containing the 1st surface which faces an observer side, and the 2nd surface which faces the display apparatus side, and the plurality provided on the said 1st surface of the said base material The first detection pattern is a first conductive wire having light shielding properties and electrical conductivity, and is arranged in a mesh shape so that an opening is formed between the first conductive wires. The first conductive wire is composed of a first body layer made of metal, a first covering layer made of metal, provided closer to the viewer than the first body layer, and the first conductor layer. A first chemical-resistant layer that is provided between the main body layer and the first coating layer and has conductivity, the surface of the first coating layer has irregularities, and is used for the first coating layer The dissolution rate of the first chemical resistant layer with respect to the etching solution is determined according to the first solution with respect to the first coating layer etching solution. The dissolution rate of the coating layer is 1/10 or less, the first coating layer contains 99% by weight or more of copper, and the first coating layer etching solution is a solution containing formic acid or sulfuric acid and peroxidation. It is a touch panel sensor made of a mixed solution of hydrogen.

第１の本発明によるタッチパネルセンサにおいて、前記第１被覆層の表面には、黒化処理が施されていてもよい。   In the touch panel sensor according to the first aspect of the present invention, the surface of the first coating layer may be blackened.

第１の本発明によるタッチパネルセンサにおいて、前記第１本体層および前記第１被覆層がいずれも、９９重量％以上の銅を含んでいてもよい。この場合、前記第１被覆層用エッチング液は、ギ酸を含む液、または、硫酸および過酸化水素の混合溶液からなっていてもよい。   In the touch panel sensor according to the first aspect of the present invention, both of the first main body layer and the first coating layer may contain 99% by weight or more of copper. In this case, the first coating layer etching solution may comprise a solution containing formic acid or a mixed solution of sulfuric acid and hydrogen peroxide.

第１の本発明によるタッチパネルセンサにおいて、前記第１導線は、前記第１本体層よりも表示装置側に設けられ、前記第１本体層よりも小さい厚みを有し、金属からなる第１下地層をさらに含んでいてもよい。この場合、前記第１下地層は、５０重量％以下の銅を含み、波長６００ｎｍの光を前記第１本体層および前記第１下地層に照射した場合の光の反射率をそれぞれＲ１０およびＲ１２とする場合、Ｒ１２≦０．５×Ｒ１０の関係が成立する。   In the touch panel sensor according to the first aspect of the present invention, the first conductive wire is provided closer to the display device than the first main body layer, has a smaller thickness than the first main body layer, and is made of metal. May further be included. In this case, the first underlayer contains copper of 50 wt% or less, and the reflectance of light when the first main body layer and the first underlayer are irradiated with light having a wavelength of 600 nm is R10 and R12, respectively. In this case, the relationship of R12 ≦ 0.5 × R10 is established.

第１の本発明によるタッチパネルセンサにおいて、前記基材の前記第２面上に設けられた複数の第２検出パターンをさらに備えていてもよい。この場合、前記第２検出パターンは、遮光性および導電性を有する第２導線であって、各第２導線の間に開口部が形成されるよう網目状に配置された第２導線から構成されており、前記第２導線は、金属からなる第２本体層と、前記第２本体層よりも観察者側に設けられ、前記第２本体層よりも小さい厚みを有し、金属からなる第２下地層と、を含んでいてもよい。この場合、波長６００ｎｍの光を前記第２本体層および前記第２下地層に照射した場合の光の反射率をそれぞれＲ２０およびＲ２２とする場合、Ｒ２２≦０．５×Ｒ２０の関係が成立する。   The touch panel sensor according to the first aspect of the present invention may further include a plurality of second detection patterns provided on the second surface of the base material. In this case, the second detection pattern is a second conducting wire having light shielding properties and conductivity, and is configured by a second conducting wire arranged in a mesh shape so that an opening is formed between the second conducting wires. The second conductor is provided on the viewer side of the second main body layer made of metal and the second main body layer, and has a thickness smaller than that of the second main body layer. And an underlayer. In this case, when the reflectance of light when the second main body layer and the second underlayer are irradiated with light having a wavelength of 600 nm is R20 and R22, the relationship of R22 ≦ 0.5 × R20 is established.

第１の本発明によるタッチパネルセンサにおいて、前記第１耐薬層および前記第２下地層が、同一の材料によって構成されていてもよい。   In the touch panel sensor according to the first aspect of the present invention, the first chemical resistant layer and the second underlayer may be made of the same material.

第１の本発明によるタッチパネルセンサにおいて、前記第２導線は、前記第２本体層よりも表示装置側に設けられ、金属からなる第２被覆層と、前記第２本体層と前記第２被覆層との間に設けられ、導電性を有する第２耐薬層と、をさらに含んでいてもよい。この場合、前記第２被覆層の表面には凹凸が形成されており、第２被覆層用エッチング液に対する前記第２耐薬層の溶解速度は、前記第２被覆層用エッチング液に対する前記第２被覆層の溶解速度の１／１０以下であってもよい。前記第２被覆層は、９９重量％以上の銅を含み、前記第２被覆層用エッチング液はギ酸を含む液、または、硫酸および過酸化水素の混合溶液からなる。   In the touch panel sensor according to the first aspect of the present invention, the second conductive wire is provided closer to the display device than the second main body layer, and includes a second covering layer made of metal, the second main body layer, and the second covering layer. And a second chemical resistant layer having electrical conductivity, may be further included. In this case, irregularities are formed on the surface of the second coating layer, and the dissolution rate of the second chemical resistant layer in the second coating layer etching solution is determined by the second coating layer in the second coating layer etching solution. It may be 1/10 or less of the dissolution rate of the layer. The second coating layer contains 99% by weight or more of copper, and the second coating layer etching solution comprises a solution containing formic acid or a mixed solution of sulfuric acid and hydrogen peroxide.

第２の本発明は、網目状に配置された第１導線からなる第１検出パターンを備えたタッチパネルセンサの製造方法であって、観察者側を向く第１面および表示装置側を向く第２面を含む基材と、前記基材の前記第１面側に設けられ、金属からなる第１本体層と、前記第１本体層の観察者側に設けられ、金属からなる第１被覆層と、前記第１本体層と前記第１被覆層との間に設けられ、導電性を有する第１耐薬層と、を含む積層体を準備する工程と、前記積層体の観察者側の面上に、前記第１導線に対応したパターンを有する第１感光層を形成する工程と、前記第１感光層をマスクとして、前記第１被覆層、前記第１耐薬層および前記第１本体層をエッチングする工程と、前記第１感光層を除去する工程と、第１被覆層用エッチング液を用いて前記第１被覆層をエッチングすることにより、前記第１被覆層の表面に凹凸を形成する工程と、を備え、第１被覆層用エッチング液に対する前記第１耐薬層の溶解速度は、前記第１被覆層用エッチング液に対する前記第１被覆層の溶解速度の１／１０以下である、タッチパネルセンサの製造方法である。   2nd this invention is a manufacturing method of the touch panel sensor provided with the 1st detection pattern which consists of 1st conducting wire arrange | positioned at mesh shape, Comprising: The 1st surface which faces an observer side, and 2nd which faces the display apparatus side A substrate including a surface; a first body layer made of metal provided on the first surface side of the substrate; a first coating layer made of metal provided on an observer side of the first body layer; A step of preparing a laminate including a first chemical-resistant layer that is provided between the first main body layer and the first covering layer and has conductivity; and on a viewer-side surface of the laminate. Forming a first photosensitive layer having a pattern corresponding to the first conductor, and etching the first covering layer, the first chemical resistant layer, and the first body layer using the first photosensitive layer as a mask. Using the step, the step of removing the first photosensitive layer, and the first coating layer etching solution Etching the first coating layer to form irregularities on the surface of the first coating layer, and the dissolution rate of the first chemical resistant layer in the first coating layer etching solution is It is a manufacturing method of a touch panel sensor which is 1/10 or less of the dissolution rate of the 1st covering layer to the etching liquid for covering layers.

第２の本発明によるタッチパネルセンサの製造方法は、前記第１被覆層の表面に黒化処理を施す工程をさらに含んでいてもよい。   The method for manufacturing a touch panel sensor according to the second aspect of the present invention may further include a step of blackening the surface of the first coating layer.

第２の本発明によるタッチパネルセンサの製造方法において、前記第１本体層および前記第１被覆層はいずれも、９９重量％以上の銅を含み、前記第１被覆層用エッチング液は、ギ酸を含む液、または、硫酸および過酸化水素の混合溶液からなっていてもよい。   In the method for manufacturing a touch panel sensor according to the second aspect of the present invention, each of the first main body layer and the first coating layer contains 99% by weight or more of copper, and the first coating layer etching solution contains formic acid. Or a mixed solution of sulfuric acid and hydrogen peroxide.

第３の本発明は、表示装置と、前記表示装置の表示面上に配置されたタッチパネルセンサと、を備え、前記タッチパネルセンサは、観察者側を向く第１面および表示装置側を向く第２面を含む基材と、前記基材の前記第１面上に設けられた複数の第１検出パターンと、を備え、前記第１検出パターンは、遮光性および導電性を有する第１導線であって、各第１導線の間に開口部が形成されるよう網目状に配置された第１導線から構成されており、前記第１導線は、金属からなる第１本体層と、前記第１本体層よりも観察者側に設けられ、金属からなる第１被覆層と、前記第１本体層と前記第１被覆層との間に設けられ、導電性を有する第１耐薬層と、を含み、前記第１被覆層の表面には凹凸が形成されており、第１被覆層用エッチング液に対する前記第１耐薬層の溶解速度は、前記第１被覆層用エッチング液に対する前記第１被覆層の溶解速度の１／１０以下であり、前記第１被覆層は、９９重量％以上の銅を含み、前記第１被覆層用エッチング液は、ギ酸を含む液、または、硫酸および過酸化水素の混合溶液からなる、タッチ位置検出機能付き表示装置である。   3rd this invention is equipped with the display apparatus and the touchscreen sensor arrange | positioned on the display surface of the said display apparatus, and the said touchscreen sensor is the 1st surface which faces an observer side, and the 2nd which faces the display apparatus side. A substrate including a surface, and a plurality of first detection patterns provided on the first surface of the substrate, wherein the first detection pattern is a first conductor having light shielding properties and conductivity. The first conductors are arranged in a mesh shape so that an opening is formed between the first conductors, and the first conductors include a first body layer made of metal and the first body. A first covering layer made of metal and provided between the first body layer and the first covering layer, and having conductivity, a first chemical resistant layer provided on the viewer side of the layer; Concavities and convexities are formed on the surface of the first coating layer, and the surface of the first coating layer is different from the etching solution for the first coating layer. The dissolution rate of the first chemical resistant layer is 1/10 or less of the dissolution rate of the first coating layer with respect to the first coating layer etching solution, and the first coating layer contains 99% by weight or more of copper. The first coating layer etching solution is a display device with a touch position detection function, which is made of a solution containing formic acid or a mixed solution of sulfuric acid and hydrogen peroxide.

第４の本発明は、タッチパネルセンサであって、タッチ位置を検出され得る領域に対応するアクティブエリアと、前記アクティブエリアＡａ１の周辺に位置する非アクティブエリアＡａ２と、を含む基材と、前記アクティブエリアに配置された第１検出パターンと、前記非アクティブエリアに配置され、前記第１検出パターンに電気的に接続された第１額縁配線と、前記第１額縁配線を覆うオーバーコート層と、を備え、前記第１額縁配線は、金属からなる第１本体層と、前記第１本体層よりも観察者側に設けられ、金属からなる第１被覆層と、前記第１本体層と前記第１被覆層との間に設けられ、導電性を有する第１耐薬層と、を含み、前記第１被覆層の表面には凹凸が形成されており、第１被覆層用エッチング液に対する前記第１耐薬層の溶解速度は、前記第１被覆層用エッチング液に対する前記第１被覆層の溶解速度の１／１０以下であり、前記第１被覆層は、９９重量％以上の銅を含み、前記第１被覆層用エッチング液は、ギ酸を含む液または、硫酸および過酸化水素の混合溶液からなる、タッチパネルセンサである。   4th this invention is a touch-panel sensor, Comprising: The base material containing the active area corresponding to the area | region where a touch position can be detected, and the inactive area Aa2 located in the periphery of the said active area Aa1, and the said active A first detection pattern disposed in an area, a first frame wiring disposed in the inactive area and electrically connected to the first detection pattern, and an overcoat layer covering the first frame wiring. The first frame wiring is provided on the viewer side of the first main body layer, the first covering layer made of metal, the first main body layer, and the first main layer. A first chemical resistant layer that is provided between the coating layer and has conductivity. The first coating layer has an uneven surface, and the first chemical resistance to the first coating layer etching solution. layer The dissolution rate is 1/10 or less of the dissolution rate of the first coating layer with respect to the first coating layer etching solution, and the first coating layer contains 99% by weight or more of copper, and the first coating layer The etching solution is a touch panel sensor made of a solution containing formic acid or a mixed solution of sulfuric acid and hydrogen peroxide.

第１乃至第３の本発明において、基材の観察者側に設けられた第１検出パターンを構成する第１導線は、金属からなる第１本体層と、第１本体層よりも観察者側に設けられ、金属からなる第１被覆層と、第１本体層と第１被覆層との間に設けられ、導電性を有する第１耐薬層と、を含んでいる。第１被覆層の表面には、凹凸が形成されている。このため、タッチパネルセンサに入射して第１被覆層に到達した外光を、凹凸によって様々な方向へ散乱させることができる。このことにより、第１検出パターンが観察者によって視認されてしまうことを抑制することができる。また、第１耐薬層は、第１被覆層用エッチング液に対する第１耐薬層の溶解速度が、第１被覆層用エッチング液に対する第１被覆層の溶解速度の１／１０以下になるよう、構成されている。このため、第１被覆層用エッチング液を用いて第１被覆層をエッチングすることにより第１被覆層の表面に凹凸を形成する際、エッチングが第１耐薬層を超えて進行することを抑制することができる。すなわち、第１本体層が第１被覆層用エッチング液によって溶解されてしまうことを抑制することができる。このことにより、第１被覆層の表面に凹凸を形成する工程に起因して第１導線の導電性などの特性が劣化してしまうことを防ぐことができる。例えば、第１導線の導電性が表面の凹凸に起因して変化してしまうことを抑制することができる。   In the first to third aspects of the present invention, the first conductive wire constituting the first detection pattern provided on the viewer side of the substrate includes a first body layer made of metal and an observer side of the first body layer. And a first covering layer made of metal, and provided between the first main body layer and the first covering layer, and including a first chemical resistant layer having conductivity. Irregularities are formed on the surface of the first coating layer. For this reason, the external light which entered the touch panel sensor and reached the first coating layer can be scattered in various directions by the unevenness. This can suppress the first detection pattern from being visually recognized by the observer. The first chemical resistant layer is configured so that the dissolution rate of the first chemical resistant layer in the first coating layer etching solution is 1/10 or less of the dissolution rate of the first coating layer in the first coating layer etching solution. Has been. For this reason, when forming an unevenness | corrugation in the surface of a 1st coating layer by etching a 1st coating layer using the etching liquid for 1st coating layers, it suppresses that an etching advances beyond a 1st chemical-resistant layer. be able to. That is, it can suppress that a 1st main body layer is melt | dissolved with the etching liquid for 1st coating layers. As a result, it is possible to prevent the characteristics such as the conductivity of the first conductor from deteriorating due to the step of forming irregularities on the surface of the first coating layer. For example, it can suppress that the electroconductivity of a 1st conducting wire changes due to the unevenness | corrugation of the surface.

第４の本発明において、オーバーコート層の下に設けられた第１額縁配線は、金属からなる第１本体層と、第１本体層よりも観察者側に設けられ、金属からなる第１被覆層と、第１本体層と第１被覆層との間に設けられ、導電性を有する第１耐薬層と、を含んでいる。第１被覆層の表面には、凹凸が形成されている。このため、オーバーコート層に対する第１額縁配線の密着性を高めることができる。   In the fourth aspect of the present invention, the first frame wiring provided below the overcoat layer is provided with a first main body layer made of metal and an observer side with respect to the first main body layer, and the first covering made of metal. And a first chemical resistant layer provided between the first body layer and the first covering layer and having conductivity. Irregularities are formed on the surface of the first coating layer. For this reason, the adhesiveness of the 1st frame wiring with respect to an overcoat layer can be improved.

図１は、本発明の第１の実施の形態におけるタッチ位置検出機能付き表示装置を示す展開図。FIG. 1 is a development view showing a display device with a touch position detection function according to a first embodiment of the present invention. 図２は、図１のタッチ位置検出機能付き表示装置におけるタッチパネルセンサを示す平面図。FIG. 2 is a plan view showing a touch panel sensor in the display device with a touch position detection function of FIG. 1. 図３Ａは、図２において符号IIIが付された一点鎖線で囲まれた部分における第１検出パターンを拡大して示す平面図。FIG. 3A is an enlarged plan view showing a first detection pattern in a portion surrounded by an alternate long and short dash line denoted by reference numeral III in FIG. 2. 図３Ｂは、図２において符号IIIが付された一点鎖線で囲まれた部分における第２検出パターンを拡大して示す平面図。FIG. 3B is an enlarged plan view showing a second detection pattern in a portion surrounded by an alternate long and short dash line denoted by reference numeral III in FIG. 2. 図３Ｃは、図３Ａに示す第１検出パターンおよび図３Ｂに示す第２検出パターンを重ねて示す平面図。3C is a plan view showing the first detection pattern shown in FIG. 3A and the second detection pattern shown in FIG. 3B in an overlapping manner. 図４は、タッチパネルセンサを図３ＣのIV線に沿って切断した場合を示す断面図。FIG. 4 is a cross-sectional view showing a case where the touch panel sensor is cut along line IV in FIG. 3C. 図５は、タッチパネルセンサを図３ＣのＶ線に沿って切断した場合を示す断面図。FIG. 5 is a cross-sectional view showing a case where the touch panel sensor is cut along the line V in FIG. 3C. 図６は、第１導線および第２導線を拡大して示す断面図。FIG. 6 is an enlarged cross-sectional view of the first conductor and the second conductor. 図７（ａ）〜（ｅ）は、タッチパネルセンサの製造方法を説明するための図。7A to 7E are views for explaining a method for manufacturing a touch panel sensor. 図８は、第１導線および第２導線の一変形例を示す断面図。FIG. 8 is a cross-sectional view showing a modification of the first conductor and the second conductor. 図９は、第１導線および第２導線の一変形例を示す断面図。FIG. 9 is a cross-sectional view showing a modification of the first conductor and the second conductor. 図１０は、第１導線および第２導線の一変形例を示す断面図。FIG. 10 is a cross-sectional view showing a modification of the first conductor and the second conductor. 図１１は、本発明の第２の実施の形態におけるタッチパネルセンサを示す断面図。FIG. 11 is a cross-sectional view showing a touch panel sensor according to a second embodiment of the present invention. 図１２は、本発明の第２の実施の形態におけるタッチパネルセンサを示す断面図。FIG. 12 is a cross-sectional view showing a touch panel sensor according to a second embodiment of the present invention. 図１３は、第１導線および第２導線を拡大して示す断面図。FIG. 13 is an enlarged cross-sectional view of the first conductor and the second conductor.

第１の実施の形態
以下、図１乃至図７（ａ）〜（ｅ）を参照して、本発明の第１の実施の形態の一例について説明する。なお、本明細書に添付する図面においては、図示と理解のしやすさの便宜上、適宜縮尺および縦横の寸法比等を、実物のそれらから変更し誇張してある。 First Embodiment Hereinafter, an example of a first embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 1 to 7A to 7E. In the drawings attached to the present specification, for the sake of illustration and ease of understanding, the scale, the vertical / horizontal dimension ratio, and the like are appropriately changed and exaggerated from those of the actual ones.

タッチパネル装置およびタッチ位置検出機能付き表示装置
はじめに図１を参照して、タッチパネルセンサ３０を備えたタッチ位置検出機能付き表示装置１０について説明する。図１に示すように、タッチ位置検出機能付き表示装置１０は、タッチパネルセンサ３０と、液晶ディスプレイや有機ＥＬディスプレイなどの表示装置１５とを組み合わせることによって構成されている。図示された表示装置１５は、フラットパネルディスプレイとして構成されている。表示装置１５は、表示面１６ａを有した表示パネル１６と、表示パネル１６に接続された表示制御部（図示せず）と、を有している。表示パネル１６は、映像を表示することができるアクティブエリアＡ１と、アクティブエリアＡ１を取り囲むようにしてアクティブエリアＡ１の外側に配置された非アクティブエリア（額縁領域とも呼ばれる）Ａ２と、を含んでいる。表示制御部は、表示されるべき映像に関する情報を処理し、映像情報に基づいて表示パネル１６を駆動する。表示パネル１６は、表示制御部の制御信号に基づいて、所定の映像を表示面１６ａに表示する。すなわち、表示装置１５は、文字や図等の情報を映像として出力する出力装置としての役割を担っている。 Touch Panel Device and Display Device with Touch Position Detection Function First, a display device 10 with a touch position detection function including a touch panel sensor 30 will be described with reference to FIG. As shown in FIG. 1, the display device with a touch position detection function 10 is configured by combining a touch panel sensor 30 and a display device 15 such as a liquid crystal display or an organic EL display. The illustrated display device 15 is configured as a flat panel display. The display device 15 includes a display panel 16 having a display surface 16 a and a display control unit (not shown) connected to the display panel 16. The display panel 16 includes an active area A1 that can display an image, and an inactive area (also referred to as a frame area) A2 that is disposed outside the active area A1 so as to surround the active area A1. . The display control unit processes information regarding the video to be displayed, and drives the display panel 16 based on the video information. The display panel 16 displays a predetermined image on the display surface 16a based on a control signal from the display control unit. That is, the display device 15 plays a role as an output device that outputs information such as characters and drawings as video.

図１に示すように、タッチパネルセンサ３０は、表示装置１５の表示面１６ａに、例えば接着層（図示せず）を介して接着されている。   As shown in FIG. 1, the touch panel sensor 30 is bonded to the display surface 16 a of the display device 15 via, for example, an adhesive layer (not shown).

タッチパネルセンサ
次に図２を参照して、タッチパネルセンサ３０について説明する。図２は、観察者側から見た場合のタッチパネルセンサ３０を示す平面図である。 Touch Panel Sensor Next, the touch panel sensor 30 will be described with reference to FIG. FIG. 2 is a plan view showing the touch panel sensor 30 when viewed from the observer side.

ここでは、タッチパネルセンサ３０が、投影型の静電容量結合方式のタッチパネルセンサとして構成される例について説明する。なお、「容量結合」方式は、タッチパネルの技術分野において「静電容量」方式や「静電容量結合」方式等とも呼ばれており、本件では、これらの「静電容量」方式や「静電容量結合」方式等と同義の用語として取り扱う。典型的な静電容量結合方式のタッチパネルセンサは、透光性を有する導電性のパターンを有しており、外部の導体（典型的には人間の指）がタッチパネルセンサに接近することにより、外部の導体とタッチパネルセンサの導電性のパターンとの間でコンデンサ（静電容量）が形成される。そして、このコンデンサの形成に伴った電気的な状態の変化に基づき、タッチパネルセンサ上において外部導体が接近している位置の位置座標が特定される。   Here, an example in which the touch panel sensor 30 is configured as a projection capacitive touch panel sensor will be described. The “capacitive coupling” method is also referred to as “capacitance” method or “capacitance coupling” method in the technical field of touch panels. It is treated as a term synonymous with the “capacitive coupling” method. A typical capacitive coupling type touch panel sensor has a light-transmitting conductive pattern, and an external conductor (typically a human finger) approaches the touch panel sensor to externally. A capacitor (capacitance) is formed between this conductor and the conductive pattern of the touch panel sensor. Based on the change in the electrical state accompanying the formation of the capacitor, the position coordinates of the position where the external conductor is approaching on the touch panel sensor are specified.

図２に示すように、タッチパネルセンサ３０は、観察者側を向く第１面３２ａおよび表示装置側を向く第２面３２ｂを含み、透光性を有する基材３２と、基材３２の第１面３２ａ上に設けられ、第１方向に延びる複数の第１検出パターン４１と、基材３２の第２面３２ｂ上に設けられ、第１方向に交差する、例えば第１方向に直交する第２方向に延びる複数の第２検出パターン４６と、を備えている。図２に示すように、第１検出パターン４１および第２検出パターン４６はそれぞれ帯状に延びている。また、複数の第１検出パターン４１は一定の配列ピッチで第２方向に並べられており、複数の第２検出パターン４６も一定の配列ピッチで第１方向に並べられている。通常は、第２方向における第１検出パターン４１の配列ピッチと、第１方向における第２検出パターン４６の配列ピッチとは同一になっている。第１検出パターン４１および第２検出パターン４６の配列ピッチは、タッチ位置の検出に関して求められる分解能に応じて定められるが、例えば数ｍｍになっている。なお図２においては、基材３２の第１面３２ａ側に設けられている構成要素が実線で表され、基材３２の第２面３２ｂ側に設けられている構成要素が点線で表されている。   As shown in FIG. 2, the touch panel sensor 30 includes a first surface 32 a facing the viewer side and a second surface 32 b facing the display device side, and has a translucent base material 32 and a first base material 32. A plurality of first detection patterns 41 provided on the surface 32a and extending in the first direction, and a second detection pattern 41 provided on the second surface 32b of the base material 32 and intersecting the first direction, for example, a second orthogonal to the first direction. And a plurality of second detection patterns 46 extending in the direction. As shown in FIG. 2, the first detection pattern 41 and the second detection pattern 46 each extend in a band shape. The plurality of first detection patterns 41 are arranged in the second direction at a constant arrangement pitch, and the plurality of second detection patterns 46 are also arranged in the first direction at a constant arrangement pitch. Usually, the arrangement pitch of the first detection patterns 41 in the second direction is the same as the arrangement pitch of the second detection patterns 46 in the first direction. The arrangement pitch of the first detection pattern 41 and the second detection pattern 46 is determined according to the resolution required for the detection of the touch position, and is, for example, several mm. In FIG. 2, the components provided on the first surface 32a side of the base material 32 are represented by solid lines, and the components provided on the second surface 32b side of the base material 32 are represented by dotted lines. Yes.

図１に示すように、タッチパネルセンサ３０の基材３２は、タッチ位置を検出され得る領域に対応する矩形状のアクティブエリアＡａ１と、アクティブエリアＡａ１の周辺に位置する矩形枠状の非アクティブエリアＡａ２と、を含んでいる。アクティブエリアＡａ１および非アクティブエリアＡａ２はそれぞれ、表示パネル１６のアクティブエリアＡ１および非アクティブエリアＡ２に対応して区画されたものである。   As shown in FIG. 1, the base material 32 of the touch panel sensor 30 includes a rectangular active area Aa1 corresponding to a region where a touch position can be detected, and a rectangular frame-shaped inactive area Aa2 located around the active area Aa1. And. The active area Aa1 and the inactive area Aa2 are respectively partitioned corresponding to the active area A1 and the inactive area A2 of the display panel 16.

図２を参照して、タッチパネルセンサ３０の基材３２上に設けられた構成要素について詳細に説明する。上述の第１検出パターン４１および第２検出パターン４６は、アクティブエリアＡａ１内に配置されている。また非アクティブエリアＡａ２のうち基材３２の第１面３２ａ上には、各第１検出パターン４１に電気的に接続された複数の第１額縁配線４３と、基材３２の外縁近傍に配置され、各第１額縁配線４３に電気的に接続された複数の第１端子部４４と、が設けられている。さらに、非アクティブエリアＡａ２のうち基材３２の第２面３２ｂ上には、各第２検出パターン４６に電気的に接続された複数の第２額縁配線４８と、基材３２の外縁近傍に配置され、各第２額縁配線４８に電気的に接続された複数の第２端子部４９と、が設けられている。   With reference to FIG. 2, the component provided on the base material 32 of the touch panel sensor 30 is demonstrated in detail. The first detection pattern 41 and the second detection pattern 46 described above are arranged in the active area Aa1. In addition, on the first surface 32 a of the base material 32 in the inactive area Aa 2, a plurality of first frame wirings 43 electrically connected to the first detection patterns 41 and the vicinity of the outer edge of the base material 32 are arranged. A plurality of first terminal portions 44 electrically connected to each first frame wiring 43 are provided. Further, a plurality of second frame wirings 48 electrically connected to the respective second detection patterns 46 and the vicinity of the outer edge of the base material 32 are arranged on the second surface 32b of the base material 32 in the inactive area Aa2. A plurality of second terminal portions 49 that are electrically connected to the respective second frame wirings 48 are provided.

図示はしないが、タッチパネルセンサ３０は、第１額縁配線４３を覆うとともに、第１端子部４４を少なくとも部分的に露出させるよう設けられ、絶縁性を有するオーバーコート層をさらに備えていてもよい。オーバーコート層は、非アクティブエリアＡａ２にのみ設けられていてもよく、若しくは、非アクティブエリアＡａ２およびアクティブエリアＡａ１の両方にまたがるよう設けられていてもよい。オーバーコート層がアクティブエリアＡａ１にも設けられる場合、オーバーコート層を構成する材料としては、透光性を有する絶縁性材料が用いられる。オーバーコート層は、例えば、はじめにオーバーコート層用の材料を含む塗布液を、コーターなどを用いて第１額縁配線４３上にコーティングし、その後、塗布液を硬化させることによって形成される。塗布液を硬化させる方法としては、加熱、電子線照射や光照射などが挙げられる。またオーバーコート層は、透光性を有するフィルムをラミネートする方法や、透光性を有するフォトレジストを貼り付け、次に光照射によってフォトレジストを硬化させ、そして現像するという方法によっても形成され得る。   Although not shown, the touch panel sensor 30 may further include an insulating overcoat layer that covers the first frame wiring 43 and is provided to at least partially expose the first terminal portion 44. The overcoat layer may be provided only in the inactive area Aa2, or may be provided so as to extend over both the inactive area Aa2 and the active area Aa1. When the overcoat layer is also provided in the active area Aa1, an insulating material having translucency is used as a material constituting the overcoat layer. The overcoat layer is formed, for example, by first coating a coating solution containing a material for the overcoat layer on the first frame wiring 43 using a coater or the like, and then curing the coating solution. Examples of the method for curing the coating solution include heating, electron beam irradiation, and light irradiation. The overcoat layer can also be formed by a method of laminating a translucent film or a method of applying a translucent photoresist, then curing the photoresist by light irradiation, and developing. .

以下、タッチパネルセンサ３０の各構成要素について説明する。   Hereinafter, each component of the touch panel sensor 30 will be described.

（基材）
基材３２は、タッチパネルセンサ３０において誘電体として機能するものである。基材３２を構成する材料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、シクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）やガラスなど、十分な透光性を有する材料が用いられる。なお第１検出パターン４１、第２検出パターン４６、額縁配線４３，４８や端子部４４，４９を適切に保持することができる限りにおいて、基材３２の具体的な構成が特に限られることはない。例えば、ＰＥＴ層などの表面に設けられたハードコート層がさらに基材３２に含まれていてもよい。すなわち本実施の形態において、基材３２とは、何らかの具体的な構造や材料を意味するものではなく、タッチパネルセンサ３０を構成する第１検出パターン４１や第２検出パターン４６などのパターンの下地となるものを意味するに過ぎない。 (Base material)
The base material 32 functions as a dielectric in the touch panel sensor 30. As a material constituting the base material 32, for example, a material having sufficient translucency such as polyethylene terephthalate (PET), cycloolefin polymer (COP) or glass is used. In addition, as long as the 1st detection pattern 41, the 2nd detection pattern 46, the frame wiring 43 and 48, and the terminal parts 44 and 49 can be hold | maintained appropriately, the specific structure of the base material 32 is not specifically limited. . For example, the base material 32 may further include a hard coat layer provided on the surface such as a PET layer. That is, in the present embodiment, the base material 32 does not mean any specific structure or material, but a base of a pattern such as the first detection pattern 41 or the second detection pattern 46 that constitutes the touch panel sensor 30. It just means something.

（第１検出パターン）
次に図３Ａ乃至図５を参照して、第１検出パターン４１について説明する。図３Ａは、図２において符号IIIが付された一点鎖線で囲まれた部分における第１検出パターン４１を、観察者側から見た場合を示す平面図であり、図３Ｂは、図２において符号IIIが付された一点鎖線で囲まれた部分における第２検出パターン４６を、観察者側から見た場合、すなわち基材３２を透かして第２検出パターン４６を見た場合を示す平面図である。また図３Ｃは、図３Ａに示す第１検出パターン４１および図３Ｂに示す第２検出パターン４６を重ねて示す平面図である。また図４および図５はそれぞれ、タッチパネルセンサ３０を図３ＣのIV線およびＶ線に沿って切断した場合を示す断面図である。なお図３Ｃにおいては、第１導線５１が実線で示され、第２導線５６が点線で示されている。 (First detection pattern)
Next, the first detection pattern 41 will be described with reference to FIGS. 3A to 5. 3A is a plan view showing a case where the first detection pattern 41 in a portion surrounded by a one-dot chain line denoted by reference numeral III in FIG. 2 is viewed from the observer side, and FIG. 3B is a reference numeral in FIG. It is a top view which shows the case where the 2nd detection pattern 46 in the part enclosed with the dashed-dotted line to which III was attached | subjected was seen from the observer side, ie, the case where the 2nd detection pattern 46 was seen through the base material 32. . FIG. 3C is a plan view showing the first detection pattern 41 shown in FIG. 3A and the second detection pattern 46 shown in FIG. 3B in an overlapping manner. 4 and 5 are cross-sectional views showing the case where the touch panel sensor 30 is cut along the IV and V lines in FIG. 3C, respectively. In FIG. 3C, the first conducting wire 51 is indicated by a solid line, and the second conducting wire 56 is indicated by a dotted line.

本実施の形態において、第１検出パターン４１は、遮光性および導電性を有する第１導線５１であって、各第１導線５１の間に開口部５１ａが形成されるよう網目状に配置された第１導線５１から構成されている。同様に、第２検出パターン４６は、遮光性および導電性を有する第２導線５６であって、各第２導線５６の間に開口部５６ａが形成されるよう網目状に配置された第２導線５６から構成されている。   In the present embodiment, the first detection pattern 41 is a first conductive wire 51 having light shielding properties and conductivity, and is arranged in a mesh shape so that an opening 51 a is formed between the first conductive wires 51. The first conducting wire 51 is used. Similarly, the second detection pattern 46 is a second conductive wire 56 having light shielding properties and conductivity, and the second conductive wire is arranged in a mesh shape so that an opening 56 a is formed between the second conductive wires 56. 56.

第１検出パターン４１全体の面積のうち開口部５１ａによって占められる面積の比率（以下、開口率と称する）が十分に高くなり、これによって、表示装置１５からの映像光が適切な透過率でタッチパネルセンサ３０のアクティブエリアＡａ１を透過することができる限りにおいて、第１導線５１の寸法や形状が特に限られることはない。例えば図３Ａおよび図３Ｃに示す例において、第１検出パターン４１は、菱形に形成された第１導線５１を第１方向に沿って並べることによって構成されている。この場合、菱形の内角のうち鋭角になる内角が第１方向に沿って並ぶよう、第１導線５１が構成されている。開口率の範囲は、表示装置から放出される映像光の特性などに応じて適宜設定される。   The ratio of the area occupied by the opening 51a (hereinafter referred to as the aperture ratio) in the entire area of the first detection pattern 41 is sufficiently high, so that the image light from the display device 15 can be touched with an appropriate transmittance. As long as it can pass through the active area Aa1 of the sensor 30, the size and shape of the first conducting wire 51 are not particularly limited. For example, in the example shown in FIGS. 3A and 3C, the first detection pattern 41 is configured by arranging the first conductive wires 51 formed in a diamond shape along the first direction. In this case, the 1st conducting wire 51 is comprised so that the inside angle which becomes an acute angle among the inside angles of a rhombus may line up along a 1st direction. The range of the aperture ratio is appropriately set according to the characteristics of the image light emitted from the display device.

第１導線５１の線幅は、求められる開口率などに応じて設定されるが、例えば第１導線５１の幅は１〜１０μｍの範囲内、より好ましくは２〜７μｍの範囲内に設定されている。これによって、観察者が視認する映像に対して第１導線５１が及ぼす影響を、無視可能な程度まで低くすることができる。第１導線５１の厚みは、第１検出パターン４１に対して求められる電気抵抗値などに応じて適宜設定されるが、例えば０．１〜２．０μｍの範囲内となっている。なお本明細書において、「〜」という記号によって表現される数値範囲は、「〜」という符号の前後に置かれた数値を含んでいる。例えば、「０．１〜２．０μｍの範囲内」という表現によって画定される数値範囲は、「０．１μｍ以上かつ２．０μｍ以下」という表現によって画定される数値範囲と同一である。   The line width of the first conducting wire 51 is set according to the required aperture ratio and the like. For example, the width of the first conducting wire 51 is set within a range of 1 to 10 μm, more preferably within a range of 2 to 7 μm. Yes. Thereby, the influence which the 1st conducting wire 51 has with respect to the image | video which an observer visually recognizes can be made low to a negligible level. Although the thickness of the 1st conducting wire 51 is suitably set according to the electrical resistance value calculated | required with respect to the 1st detection pattern 41, it exists in the range of 0.1-2.0 micrometers, for example. In the present specification, the numerical range represented by the symbol “to” includes numerical values placed before and after the symbol “to”. For example, the numerical range defined by the expression “within 0.1 to 2.0 μm” is the same as the numerical range defined by the expression “0.1 μm or more and 2.0 μm or less”.

（第２検出パターン）
第１導線５１の場合と同様に、第２導線５６においても、第２検出パターン４６全体の面積のうち開口部５６ａによって占められる面積の比率を十分に確保することができる限りにおいて、第２導線５６の寸法や形状が特に限られることはない。例えば図３Ｂおよび図３Ｃに示す例において、第２検出パターン４６は、菱形に形成された第２導線５６を第２方向に沿って並べることによって構成されている。この場合、菱形の内角のうち鈍角になる内角が第２方向に沿って並ぶよう、第２導線５６が構成されている。 (Second detection pattern)
As in the case of the first conductor 51, the second conductor 56 also has the second conductor 56 as long as the ratio of the area occupied by the opening 56 a in the entire area of the second detection pattern 46 can be sufficiently secured. The size and shape of 56 are not particularly limited. For example, in the example shown in FIGS. 3B and 3C, the second detection pattern 46 is configured by arranging the second conductive wires 56 formed in a diamond shape along the second direction. In this case, the 2nd conducting wire 56 is comprised so that the inside angle which becomes an obtuse angle among the inside angles of a rhombus may line up along a 2nd direction.

好ましくは、図３Ｃに示すように、第１導線５１の一部と第２導線５６の一部とが平面視で重なるよう、第１導線５１および第２導線５６が構成されている。これによって、第２導線５６が基材３２を介して観察者から視認されてしまうことを部分的に抑制することができる。   Preferably, as shown to FIG. 3C, the 1st conducting wire 51 and the 2nd conducting wire 56 are comprised so that a part of 1st conducting wire 51 and a part of 2nd conducting wire 56 may overlap in planar view. Thereby, it is possible to partially suppress the second conductive wire 56 from being visually recognized by the observer through the base material 32.

（第１導線および第２導線の層構成）
次に図６を参照して、第１検出パターン４１を構成する第１導線５１および第２検出パターン４６を構成する第２導線５６の層構成について説明する。なお図６は、第１導線５１および第２導線５６の層構成を説明するために描かれた図であり、実際のタッチパネルセンサ３０における第１導線５１および第２導線５６の位置関係には必ずしも対応していない。 (Layer configuration of the first conductor and the second conductor)
Next, with reference to FIG. 6, the layer structure of the 1st conducting wire 51 which comprises the 1st detection pattern 41, and the 2nd conducting wire 56 which comprises the 2nd detection pattern 46 is demonstrated. 6 is a diagram drawn for explaining the layer configuration of the first conductor 51 and the second conductor 56, and the positional relationship between the first conductor 51 and the second conductor 56 in the actual touch panel sensor 30 is not necessarily limited. Not supported.

〔第１導線〕
図６に示すように、第１導線５１は、金属からなる第１本体層６１と、第１本体層６１よりも観察者側に設けられ、金属からなる第１被覆層６２と、第１本体層６１と第１被覆層６２との間に設けられ、導電性を有する第１耐薬層６４と、第１本体層６１よりも表示装置側に設けられ、第１本体層６１よりも小さい厚みを有し、金属からなる第１下地層６３と、を含んでいる。 [First conductor]
As shown in FIG. 6, the first conducting wire 51 includes a first main body layer 61 made of metal, a first covering layer 62 made of metal, provided closer to the viewer than the first main body layer 61, and a first main body. Provided between the layer 61 and the first covering layer 62, the conductive first chemical resistant layer 64, provided on the display device side of the first main body layer 61, and having a thickness smaller than that of the first main body layer 61. And a first underlayer 63 made of metal.

このうち第１本体層６１は、第１導線５１における導電性を主に実現するための層である。第１本体層６１は、９９重量％以上の銅を含んでおり、かつ、０．３〜２．０μｍの範囲内の厚みを有している。このような構成の第１本体層６１が第１導線５１に設けられることにより、第１導線５１における高い導電性を確保することができる。   Among these, the first main body layer 61 is a layer for mainly realizing conductivity in the first conductive wire 51. The 1st main body layer 61 contains 99 weight% or more of copper, and has the thickness in the range of 0.3-2.0 micrometers. By providing the first main body layer 61 having such a configuration on the first conducting wire 51, high conductivity in the first conducting wire 51 can be ensured.

ところで銅などの金属材料は、高い導電性を有する一方で、上述のように金属光沢を示す。このため、未処理の金属材料が第１導線５１として用いられると、表示装置１５からの映像光の視認性が、第１導線５１の金属光沢によって妨げられることになる。特に銅は、銅に特有の赤味を帯びた色を示すため、銀などのその他の金属材料に比べて目立ち易く、このため表示装置１５からの映像光の視認性がより妨げられることになる。このような銅特有の金属光沢を和らげるため、例えば上述の特許文献１においては、銅層に酸化処理を施して銅層の表面に酸化銅の層を形成し、これによって銅層の表面を黒色化（黒化）することが提案されている。しかしながら、酸化銅などの酸化物の導電性は一般に乏しい。このため、酸化処理によって金属光沢を和らげる場合、第１導線５１の導電性の低下を引き起こすことになる。   By the way, while metal materials, such as copper, have high electroconductivity, they show metallic luster as mentioned above. For this reason, when an untreated metal material is used as the first conducting wire 51, the visibility of the image light from the display device 15 is hindered by the metallic luster of the first conducting wire 51. In particular, since copper exhibits a reddish color peculiar to copper, it is more conspicuous than other metal materials such as silver, and thus the visibility of image light from the display device 15 is further hindered. . In order to reduce such metallic luster peculiar to copper, for example, in Patent Document 1 described above, the copper layer is oxidized to form a copper oxide layer on the surface of the copper layer, whereby the surface of the copper layer is blackened. It has been proposed to make it black (black). However, the conductivity of oxides such as copper oxide is generally poor. For this reason, when the metallic luster is reduced by the oxidation treatment, the conductivity of the first conductor 51 is reduced.

このような課題を考慮し、本件発明者らは、第１導線５１の第１本体層６１の黒化処理ではなく、第１本体層６１の観察者側の面に、および任意には第１本体層６１の表示装置側の面に、第１本体層６１に比べて金属光沢が抑制された層を設けることにより、第１導線５１の金属光沢を軽減することを提案する。すなわち上述の第１被覆層６２および第１下地層６３はそれぞれ、第１導線５１の金属光沢を軽減するために、第１本体層６１の観察者側および表示装置側に設けられる層である。以下、第１被覆層６２および第１下地層６３について詳述する。   In consideration of such a problem, the inventors of the present invention do not blacken the first main body layer 61 of the first conductor 51, but on the surface of the first main body layer 61 on the viewer side, and optionally the first main body layer 61. It is proposed to reduce the metallic luster of the first conducting wire 51 by providing a layer on the display device side of the main body layer 61 with a metallic luster suppressed as compared with the first main body layer 61. That is, the first covering layer 62 and the first ground layer 63 described above are layers provided on the observer side and the display device side of the first main body layer 61 in order to reduce the metallic luster of the first conducting wire 51. Hereinafter, the first covering layer 62 and the first underlayer 63 will be described in detail.

［第１被覆層］
図６に示すように、第１被覆層６２の表面には多数の凹凸６２ａが形成されている。このため後述するように、第１被覆層６２が観察者によって視認されてしまうことを抑制することができる。このような凹凸６２ａは、第１被覆層６２を溶解することができる第１被覆層用のエッチング液を用いて第１被覆層６２の表面を荒らすことによって形成される。 [First coating layer]
As shown in FIG. 6, a large number of irregularities 62 a are formed on the surface of the first covering layer 62. For this reason, as will be described later, it is possible to suppress the first covering layer 62 from being visually recognized by an observer. Such irregularities 62 a are formed by roughening the surface of the first coating layer 62 using an etching solution for the first coating layer that can dissolve the first coating layer 62.

第１被覆層６２の表面における凹凸の程度は、第１被覆層６２の表面に到達した光が散乱され、これによって第１被覆層６２が目立たなくなるよう、適切に設定されている。例えば第１被覆層６２の表面における算術平均粗さＲａは０．０１７〜０．０７２μｍの範囲内になっている。第１被覆層６２の厚みは、上述の算術平均粗さＲａを有する凹凸６２ａがその表面に形成され得るよう、適切に設定される。   The degree of unevenness on the surface of the first coating layer 62 is appropriately set so that the light reaching the surface of the first coating layer 62 is scattered, thereby making the first coating layer 62 inconspicuous. For example, the arithmetic average roughness Ra on the surface of the first coating layer 62 is in the range of 0.017 to 0.072 μm. The thickness of the 1st coating layer 62 is set appropriately so that the unevenness | corrugation 62a which has the above-mentioned arithmetic mean roughness Ra can be formed in the surface.

また、第１被覆層６２の表面における凹凸の程度は、波長６００ｎｍの光を第１被覆層６２に照射した場合の光の反射率が所望の基準を満たすよう、設定されていてもよい。例えば、波長６００ｎｍの光を第１本体層６１および第１被覆層６２に照射した場合の光の反射率をそれぞれＲ１０およびＲ１１とする場合、Ｒ１１≦０．５×Ｒ１０の関係が成立するよう、第１被覆層６２の表面における凹凸の程度が設定されていてもよい。ここで「波長６００ｎｍ」の光は、赤味に対応する光として選択されたものである。なお、波長６００ｎｍの光に対する第１本体層６１および第１被覆層６２の反射率は、例えば、村上色彩技術研究所（株）製の反射・透過率計ＨＲ−１００型を用いて測定することができる。   The degree of unevenness on the surface of the first coating layer 62 may be set so that the reflectance of light when the first coating layer 62 is irradiated with light having a wavelength of 600 nm satisfies a desired standard. For example, when the light reflectance when irradiating the first body layer 61 and the first covering layer 62 with light having a wavelength of 600 nm is R10 and R11, respectively, the relationship of R11 ≦ 0.5 × R10 is established. The degree of unevenness on the surface of the first coating layer 62 may be set. Here, the light of “wavelength 600 nm” is selected as light corresponding to reddish. The reflectance of the first main body layer 61 and the first covering layer 62 with respect to light having a wavelength of 600 nm is measured using, for example, a reflection / transmittance meter HR-100 manufactured by Murakami Color Research Laboratory Co., Ltd. Can do.

ところで、第１被覆層６２と基材３２との間には、第１導線５１における導電性を主に実現するための第１本体層６１が設けられている。また、第１被覆層６２を構成する材料としては一般に、第１本体層６１を構成する材料と同一または類似の材料が用いられる。このため、第１被覆層用エッチング液を用いて第１被覆層６２の表面を荒らす際、エッチングが過剰に進行すると、第１被覆層６２だけでなく第１本体層６１までもが溶解されてしまうことが考えられる。第１本体層６１が溶解されてしまうと、第１導線５１の導電性などの特性が劣化してしまうことになる。このような課題を考慮し、図６に示すように本実施の形態においては、第１被覆層６２と第１本体層６１との間に上述の第１耐薬層６４が設けられている。   By the way, between the 1st coating layer 62 and the base material 32, the 1st main body layer 61 for mainly implement | achieving the electroconductivity in the 1st conducting wire 51 is provided. In general, the material constituting the first covering layer 62 is the same as or similar to the material constituting the first main body layer 61. Therefore, when the etching proceeds excessively when the surface of the first coating layer 62 is roughened using the first coating layer etching solution, not only the first coating layer 62 but also the first main body layer 61 is dissolved. It is possible to end up. When the first main body layer 61 is dissolved, the characteristics such as the conductivity of the first conductor 51 are deteriorated. In consideration of such a problem, as shown in FIG. 6, the first chemical resistant layer 64 described above is provided between the first covering layer 62 and the first main body layer 61 in the present embodiment.

第１耐薬層６４は、第１被覆層用エッチング液に対する第１耐薬層６４の溶解速度が、第１被覆層用エッチング液に対する第１被覆層６２の溶解速度の１／１０以下になるよう、構成された層である。このような第１耐薬層６４を第１被覆層６２と第１本体層６１との間に設けることにより、第１被覆層６２の表面を荒らす際に、エッチングが第１本体層６１まで進行してしまうことを防ぐことができる。また第１耐薬層６４が導電性を有するため、第１耐薬層６４および第１被覆層６２にも電流が流れることができる。このため、第１導線５１が観察者によって視認されることを防ぎながら、第１導線５１の導電性を向上させることができる。   In the first chemical resistant layer 64, the dissolution rate of the first chemical resistant layer 64 in the first coating layer etching solution is 1/10 or less of the dissolution rate of the first coating layer 62 in the first coating layer etching solution. It is a structured layer. By providing such a first chemical resistant layer 64 between the first covering layer 62 and the first main body layer 61, the etching proceeds to the first main body layer 61 when the surface of the first covering layer 62 is roughened. Can be prevented. Further, since the first chemical resistant layer 64 has conductivity, a current can also flow through the first chemical resistant layer 64 and the first covering layer 62. For this reason, the electroconductivity of the 1st conducting wire 51 can be improved, preventing the 1st conducting wire 51 being visually recognized by the observer.

第１被覆層用エッチング液の進行を防ぐことができる限りにおいて、第１耐薬層６４の厚みは特には限られないが、例えば第１耐薬層６４の厚みは６〜１２ｎｍの範囲内になっている。   The thickness of the first chemical resistant layer 64 is not particularly limited as long as the progress of the etching solution for the first coating layer can be prevented. For example, the thickness of the first chemical resistant layer 64 is in the range of 6 to 12 nm. Yes.

第１耐薬層６４を構成する材料は、第１被覆層用エッチング液の種類に応じて適切に選択される。また、第１被覆層用エッチング液は、第１被覆層６２を構成する材料に応じて適切に選択される。例えば、第１被覆層６２が、第１本体層６１と同様に９９重量％以上の銅を含む場合、第１被覆層用エッチング液はギ酸を含む液からなる。この場合、第１耐薬層６４は、５０重量％以下の銅を含むよう構成されている。これによって、ギ酸を含む第１被覆層用エッチング液に対する第１耐薬層６４の溶解速度を、ギ酸を含む第１被覆層用エッチング液に対する第１被覆層６２の溶解速度の１／１０以下にすることができる。第１耐薬層６４に含まれるその他の構成元素は特には限られないが、例えば第１耐薬層６４は、５０重量％以下の銅と、４０重量％以上のニッケルと、を含んでいてもよい。また第１耐薬層６４は、５０重量％以下の銅と、４０重量％以上のニッケルと、１０重量％以上のクロムと、を含んでいてもよい。   The material constituting the first chemical resistant layer 64 is appropriately selected according to the type of the first coating layer etching solution. Further, the first coating layer etching solution is appropriately selected according to the material constituting the first coating layer 62. For example, when the 1st coating layer 62 contains 99 weight% or more of copper like the 1st main body layer 61, the etching liquid for 1st coating layers consists of a liquid containing formic acid. In this case, the first chemical resistant layer 64 is configured to contain 50% by weight or less of copper. Thus, the dissolution rate of the first chemical resistant layer 64 in the first coating layer etching solution containing formic acid is set to 1/10 or less of the dissolution rate of the first coating layer 62 in the first coating layer etching solution containing formic acid. be able to. Other constituent elements included in the first chemical resistant layer 64 are not particularly limited. For example, the first chemical resistant layer 64 may include 50 wt% or less of copper and 40 wt% or more of nickel. . The first chemical resistant layer 64 may contain 50 wt% or less of copper, 40 wt% or more of nickel, and 10 wt% or more of chromium.

［第１下地層］
次に第１下地層６３について説明する。第１下地層６３は、その銅の含有量が、第１本体層６１における銅の含有量よりも少なくなるよう構成された層である。例えば第１下地層６３は、５０重量％以下の銅を含むよう構成されている。このため、第１下地層６３における金属光沢は、第１本体層６１における金属光沢に比べて軽減されており、特に、銅に特有の赤味を帯びた色が軽減されている。具体的には、波長６００ｎｍの光を第１本体層６１および第１下地層６３に照射した場合の光の反射率をそれぞれＲ１０およびＲ１２とする場合、Ｒ１２≦０．５×Ｒ１０の関係が成立している。反射率は、上述の第１被覆層６２の場合と同様に、村上色彩技術研究所（株）製の反射・透過率計ＨＲ−１００型を用いて測定することができる。 [First underlayer]
Next, the first underlayer 63 will be described. The first underlayer 63 is a layer configured such that the copper content is less than the copper content in the first main body layer 61. For example, the first underlayer 63 is configured to contain 50% by weight or less of copper. For this reason, the metallic luster in the first underlayer 63 is reduced as compared with the metallic luster in the first main body layer 61, and in particular, the reddish color peculiar to copper is reduced. Specifically, when the light reflectance is R10 and R12 when the first main body layer 61 and the first underlayer 63 are irradiated with light having a wavelength of 600 nm, the relationship of R12 ≦ 0.5 × R10 is established. doing. The reflectance can be measured using a reflection / transmittance meter HR-100 manufactured by Murakami Color Research Laboratory Co., Ltd., as in the case of the first covering layer 62 described above.

反射率Ｒ１０およびＲ１２に関する上述の関係が成立する限りにおいて、第１下地層６３の具体的な組成は特には限られないが、例えば第１下地層６３は、５０重量％以下の銅と、４０重量％以上のニッケルと、を含んでいる。これによって、第１下地層６３における赤味を、第１本体層６１に比べて十分に低減することができる。より好ましくは、第１下地層６３は、５０重量％以下の銅と、４０重量％以上のニッケルと、１０重量％以上のクロムと、を含んでいてもよい。第１下地層６３が、銅−ニッケル−クロムの三元合金からなる場合、その組成として例えば、銅５０重量％、ニッケル４０重量％およびクロム１０重量％というものを採用することができる。銅、ニッケルおよびクロムを含む三元合金は、銅に比べて高い耐腐食性および耐変色性を有している。   The specific composition of the first underlayer 63 is not particularly limited as long as the above-described relationship with respect to the reflectances R10 and R12 is established. For example, the first underlayer 63 includes 50% by weight or less of copper, 40% And nickel by weight. Thereby, the redness in the first underlayer 63 can be sufficiently reduced as compared with the first main body layer 61. More preferably, the first underlayer 63 may contain 50 wt% or less of copper, 40 wt% or more of nickel, and 10 wt% or more of chromium. When the first underlayer 63 is made of a ternary alloy of copper-nickel-chromium, for example, a composition of 50 wt% copper, 40 wt% nickel, and 10 wt% chromium can be employed. A ternary alloy containing copper, nickel and chromium has higher corrosion resistance and discoloration resistance than copper.

なお第１下地層６３の役割は、第１本体層６１に起因する赤味を帯びた反射光が生成されることを抑制することである。ここで上述のように第１下地層６３は金属材料から構成されているため、第１下地層６３が第１本体層６１に比べて非常に小さい厚みを有する場合であっても、光が第１本体層６１に到達することを十分に抑制することができる。従って、赤味を帯びた反射光が生成されることを抑制することができる。例えば第１下地層６３の厚みは、１００ｎｍ以下や２０ｎｍ以下になっていてもよく、さらに薄く、例えば９ｎｍになっていてもよい。このような薄い第１下地層６３は、スパッタリング法を用いることによって形成され得る。   The role of the first base layer 63 is to suppress the generation of reddish reflected light due to the first main body layer 61. Here, since the first underlayer 63 is made of a metal material as described above, even if the first underlayer 63 has a very small thickness as compared with the first main body layer 61, the light is transmitted through the first underlayer 63. Reaching the one main body layer 61 can be sufficiently suppressed. Therefore, it is possible to suppress generation of reddish reflected light. For example, the thickness of the first base layer 63 may be 100 nm or less or 20 nm or less, or may be thinner, for example, 9 nm. Such a thin first underlayer 63 can be formed by using a sputtering method.

なお上述の説明においては、波長６００ｎｍの光に対する反射率に基づいて第１本体層６１および第１下地層６３の光学特性を規定したが、銅特有の金属光沢を軽減することができる限りにおいて、光学特性の規定法が特に限られることはない。例えば第１下地層６３の光学特性が、Ｌ＊ａ＊ｂ＊表色系に基づいて規定されてもよい。Ｌ＊ａ＊ｂ＊表色系においては、Ｌ＊が明度を表し、ａ＊が赤緑の色相と彩度を表し、ｂ＊が黄青の色相と彩度を表している。銅に特有の赤味は、主にａ＊に反映される。従って、ａ＊に基づいて、第１本体層６１および第１下地層６３を規定することもできる。例えば、好ましくは、第１下地層６３におけるａ＊は、第１本体層６１におけるａ＊の１／２以下になっている。具体的には、９９重量％以上の銅を含む第１本体層６１におけるａ＊の値は１５．７〜１６．７の範囲内になっており、一方、５０重量％以下の銅と、４０重量％以上のニッケルとを含む第１下地層６３におけるａ＊の値は約１．５になっている。ａ＊は、例えば日本電色工業（株）製の測色色差計ＺＥ−２０００型を用いて測定することができる。 In the above description, the optical characteristics of the first main body layer 61 and the first underlayer 63 are defined based on the reflectance with respect to light having a wavelength of 600 nm, but as long as the metallic luster peculiar to copper can be reduced, There are no particular restrictions on the method of defining optical characteristics. For example, the optical characteristics of the first underlayer 63 may be defined based on the L * a * b * color system. In the L * a * b * color system, L * represents lightness, a * represents red-green hue and saturation, and b * represents yellow-blue hue and saturation. The redness peculiar to copper is mainly reflected in a * . Therefore, the first main body layer 61 and the first underlayer 63 can also be defined based on a * . For example, preferably, a * in the first base layer 63 is ½ or less of a * in the first main body layer 61. Specifically, the value of a * in the first main body layer 61 containing 99% by weight or more of copper is in the range of 15.7 to 16.7, while 50% or less of copper, The value of a * in the first underlayer 63 containing nickel of not less than wt% is about 1.5. a * can be measured using, for example, a colorimetric color difference meter ZE-2000 manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd.

次に第１本体層６１、第１被覆層６２、第１耐薬層６４および第１下地層６３の形状について説明する。図６に示すように、第１耐薬層６４は、第１本体層６１よりも大きい幅を有していてもよい。例えば図６に示すように、第１耐薬層６４は、第１本体層６１の側面よりもΔＷ１だけ側方に突出していてもよい。この場合、後述するように、基材３２の法線方向に対して傾斜した方向からタッチパネルセンサ３０に入射した外光が第１本体層６１の側面に到達することを、第１耐薬層６４によって防ぐことができる。第１耐薬層６４は上述のように、５０重量％以下の銅を含むよう構成されている。このため、第１本体層６１に起因する、赤味を帯びた反射光が生成されることを防ぐことができる。   Next, the shapes of the first main body layer 61, the first covering layer 62, the first chemical resistant layer 64, and the first underlayer 63 will be described. As shown in FIG. 6, the first chemical resistant layer 64 may have a larger width than the first main body layer 61. For example, as shown in FIG. 6, the first chemical resistant layer 64 may protrude laterally from the side surface of the first main body layer 61 by ΔW1. In this case, as will be described later, the first chemical resistant layer 64 indicates that the external light incident on the touch panel sensor 30 from the direction inclined with respect to the normal direction of the base material 32 reaches the side surface of the first main body layer 61. Can be prevented. As described above, the first chemical resistant layer 64 is configured to contain 50% by weight or less of copper. For this reason, it can prevent that the reddish reflected light resulting from the 1st main body layer 61 is produced | generated.

第１本体層６１に対する第１耐薬層６４の突出幅ΔＷ１は、想定される外光の入射角の範囲や、第１本体層６１の厚みに応じて適宜設定されるが、好ましくは、突出幅ΔＷ１は第１本体層６１の厚み以上となっている。この場合、０〜４５°の範囲内の入射角で第１導線５１に到達する外光は、第１本体層６１の側面に到達することなく第１耐薬層６４によって反射されることになる。このため、赤味を帯びた反射光が生成されて観察者によって視認されてしまうことを十分に抑制することができる。   The protrusion width ΔW1 of the first chemical resistant layer 64 with respect to the first main body layer 61 is appropriately set according to the assumed range of the incident angle of external light and the thickness of the first main body layer 61, but preferably the protrusion width ΔW1 is equal to or greater than the thickness of the first main body layer 61. In this case, external light that reaches the first conducting wire 51 at an incident angle in the range of 0 to 45 ° is reflected by the first chemical resistant layer 64 without reaching the side surface of the first main body layer 61. For this reason, it can fully suppress that the reddish reflected light is produced | generated and visually recognized by the observer.

第１耐薬層６４と同様に、第１下地層６３も、第１本体層６１よりも大きい幅を有していてもよい。これによって、後述するように、基材３２の法線方向に対して傾斜した方向からタッチパネルセンサ３０に入射した表示装置１５からの映像光が第１本体層６１の側面に到達することを、第１下地層６３によって防ぐことができる。第１本体層６１に対する第１下地層６３の突出幅は、第１耐薬層６４の場合と同等に設定され得る。   Similar to the first chemical resistant layer 64, the first foundation layer 63 may also have a larger width than the first main body layer 61. Thus, as described later, the fact that the image light from the display device 15 that has entered the touch panel sensor 30 from the direction inclined with respect to the normal direction of the base material 32 reaches the side surface of the first main body layer 61 is This can be prevented by the first underlayer 63. The protruding width of the first base layer 63 relative to the first main body layer 61 can be set to be equal to that of the first chemical resistant layer 64.

〔第２導線〕
次に第２導線５６について説明する。図６に示すように、第２導線５６は、金属からなる第２本体層６６と、第２本体層６６よりも観察者側に設けられ、金属からなる第２下地層６８と、第２本体層６６よりも表示装置側に設けられ、金属からなる第２被覆層６７と、第２本体層６６と第２被覆層６７との間に設けられ、導電性を有する第２耐薬層６９と、を含んでいる。 [Second conductor]
Next, the second conducting wire 56 will be described. As shown in FIG. 6, the second conductive wire 56 includes a second main body layer 66 made of metal, a second base layer 68 made of metal, provided closer to the viewer than the second main body layer 66, and a second main body. A second covering layer 67 made of metal and provided between the second main body layer 66 and the second covering layer 67, and provided on the display device side of the layer 66; and a conductive second chemical resistant layer 69 having conductivity. Is included.

第２本体層６６は、第１導線５１の第１本体層６１と同様に、第２導線５６における導電性を主に実現するための層である。第２本体層６６は、９９重量％以上の銅を含んでおり、かつ、０．３〜２．０μｍの範囲内の厚みを有している。   The second main body layer 66 is a layer for mainly realizing conductivity in the second conductive wire 56, similarly to the first main body layer 61 of the first conductive wire 51. The 2nd main body layer 66 contains 99 weight% or more of copper, and has the thickness in the range of 0.3-2.0 micrometers.

第２被覆層６７の表面には、第１導線５１の第１被覆層６２と同様に多数の凹凸６７ａが形成されている。このため、第１被覆層６２の場合と同様に、第２被覆層６７の表面に到達した光を散乱させることができる。また第２耐薬層６９は、第１導線５１の第１耐薬層６４と同様に、第２被覆層用エッチング液を用いて第２被覆層６７の表面を荒らす際に、エッチングが第２本体層６６まで進行してしまうことを防ぐための層である。第２被覆層６７および第２耐薬層６９の構成は、第１被覆層６２および第１耐薬層６４の構成と同一であるので、詳細な説明を省略する。   On the surface of the second covering layer 67, a large number of irregularities 67 a are formed in the same manner as the first covering layer 62 of the first conducting wire 51. For this reason, similarly to the case of the first covering layer 62, the light reaching the surface of the second covering layer 67 can be scattered. Similarly to the first chemical resistant layer 64 of the first conductor 51, the second chemical resistant layer 69 is etched when the surface of the second coating layer 67 is roughened using the second coating layer etching solution. It is a layer for preventing the progression to 66. Since the structure of the 2nd coating layer 67 and the 2nd chemical resistant layer 69 is the same as the structure of the 1st coating layer 62 and the 1st chemical resistant layer 64, detailed description is abbreviate | omitted.

また第２下地層６８は、第１導線５１の第１下地層６３と同様に、第２導線５６の金属光沢を軽減するために設けられる層である。すなわち第２下地層６８は、５０重量％以下の銅を含むよう構成されている。このため、波長６００ｎｍの光を第２本体層６６および第２下地層６８に照射した場合の光の反射率をそれぞれＲ２０およびＲ２２とする場合、Ｒ２２≦０．５×Ｒ２０の関係が成立している。このような第２下地層６８の構成は、第１下地層６３の構成と同一であるので、詳細な説明を省略する。なお第１下地層６３、第１耐薬層６４、第２下地層６８および第２耐薬層６９は、同一の材料によって構成されていてもよい。   The second underlayer 68 is a layer provided to reduce the metallic luster of the second conductor 56, similarly to the first underlayer 63 of the first conductor 51. That is, the second underlayer 68 is configured to contain 50% by weight or less of copper. For this reason, when the reflectance of light when the light having a wavelength of 600 nm is irradiated onto the second main body layer 66 and the second underlayer 68 is R20 and R22, respectively, the relationship of R22 ≦ 0.5 × R20 is established. Yes. Since the configuration of the second ground layer 68 is the same as that of the first ground layer 63, detailed description thereof is omitted. The first foundation layer 63, the first chemical resistant layer 64, the second foundation layer 68, and the second chemical resistant layer 69 may be made of the same material.

図６に示すように、第２下地層６８は、第２本体層６６よりも大きい幅を有していてもよい。例えば図６に示すように、第２下地層６８は、第２本体層６６の側面よりもΔＷ２だけ側方に突出していてもよい。この場合、後述するように、基材３２の法線方向に対して傾斜した方向からタッチパネルセンサ３０に入射した外光が第２本体層６６の側面に到達することを、第２下地層６８によって防ぐことができる。このため、第２本体層６６に起因する赤味を帯びた反射光が生成されることを防ぐことができる。   As shown in FIG. 6, the second base layer 68 may have a width larger than that of the second main body layer 66. For example, as shown in FIG. 6, the second underlayer 68 may protrude laterally from the side surface of the second main body layer 66 by ΔW2. In this case, as will be described later, the second base layer 68 indicates that the external light incident on the touch panel sensor 30 from the direction inclined with respect to the normal direction of the base material 32 reaches the side surface of the second main body layer 66. Can be prevented. For this reason, it is possible to prevent the reddish reflected light caused by the second main body layer 66 from being generated.

第２本体層６６に対する第２下地層６８の突出幅ΔＷ２は、上述の突出幅ΔＷ１の場合と同様に、好ましくは第２本体層６６の厚み以上となっている。また図６に示すように、第２耐薬層６９も、第２本体層６６よりも大きい幅を有していてもよい。第２本体層６６に対する第２耐薬層６９の突出幅は、第２下地層６８の場合と同等に設定され得る。   The protrusion width ΔW2 of the second base layer 68 with respect to the second main body layer 66 is preferably equal to or greater than the thickness of the second main body layer 66, as in the case of the protrusion width ΔW1 described above. Further, as shown in FIG. 6, the second chemical resistant layer 69 may also have a width larger than that of the second main body layer 66. The protruding width of the second chemical resistant layer 69 relative to the second main body layer 66 can be set to be equal to that of the second base layer 68.

（額縁配線および端子部）
第１検出パターン４１に接続されている第１額縁配線４３および第１端子部４４、並びに、第２検出パターン４６に接続されている第２額縁配線４８および第２端子部４９は、第１検出パターン４１並びに第２検出パターン４６からの信号をタッチパネルセンサ３０の外部に取り出すために設けられたものである。信号を適切に伝達することができる限りにおいて、第１額縁配線４３および第１端子部４４並びに第２額縁配線４８および第２端子部４９の具体的な構成が特に限られることはない。例えば第１額縁配線４３および第１端子部４４は、第１導線５１と同一の層構成で第１導線５１と同時に形成されるものであってもよい。同様に、第２額縁配線４８および第２端子部４９は、第２導線５６と同一の層構成で第２導線５６と同時に形成されるものであってもよい。 (Frame wiring and terminal part)
The first frame wiring 43 and the first terminal portion 44 connected to the first detection pattern 41 and the second frame wiring 48 and the second terminal portion 49 connected to the second detection pattern 46 are detected by the first detection. This is provided to extract signals from the pattern 41 and the second detection pattern 46 to the outside of the touch panel sensor 30. As long as signals can be appropriately transmitted, the specific configurations of the first frame wiring 43 and the first terminal portion 44, the second frame wiring 48 and the second terminal portion 49 are not particularly limited. For example, the first frame wiring 43 and the first terminal portion 44 may be formed at the same time as the first conductive wire 51 with the same layer configuration as the first conductive wire 51. Similarly, the second frame wiring 48 and the second terminal portion 49 may be formed at the same time as the second conductive wire 56 with the same layer configuration as the second conductive wire 56.

タッチパネルセンサの製造方法
次に、以上のような構成からなるタッチパネルセンサ３０を製造する方法について、図７（ａ）〜（ｅ）を参照して説明する。 Method for Manufacturing Touch Panel Sensor Next, a method for manufacturing the touch panel sensor 30 having the above configuration will be described with reference to FIGS.

はじめに図７（ａ）に示すように、タッチパネルセンサ３０を作製するための元材としての積層体６０（ブランクとも呼ばれる）を準備する。積層体６０は、基材３２と、基材３２の第１面３２ａ側に、基材３２から観察者側に向かって順に設けられた第１下地層６３、第１本体層６１、第１耐薬層６４および第１被覆層６２と、基材３２の第２面３２ｂ側に、基材３２から表示装置１５側に向かって順に設けられた第２下地層６８、第２本体層６６、第２耐薬層６９および第２被覆層６７と、を含んでいる。各層６１〜６４は、例えばスパッタリング法によって、基材３２の第１面３２ａ側に設けられる。同様に各層６６〜６９は、スパッタリング法によって、基材３２の第２面３２ｂ側に設けられる。   First, as shown in FIG. 7A, a laminated body 60 (also referred to as a blank) as a base material for producing the touch panel sensor 30 is prepared. The laminate 60 includes a base material 32, a first base layer 63, a first main body layer 61, and a first chemical resistant agent provided in this order from the base material 32 toward the viewer side on the first surface 32a side of the base material 32. The second base layer 68, the second main body layer 66, the second layer 64, the first covering layer 62, and the second surface layer 32 b of the base material 32, which are sequentially provided from the base material 32 toward the display device 15 side. A chemical resistant layer 69 and a second covering layer 67. Each layer 61-64 is provided in the 1st surface 32a side of the base material 32 by sputtering method, for example. Similarly, each layer 66-69 is provided in the 2nd surface 32b side of the base material 32 by sputtering method.

好ましくは、各層６１〜６４，６６〜６９は、積極的に酸素を導入はしない環境下においスパッタリングを実施することにより形成される。このため各層６１〜６４，６６〜６９を、導電性を有するとともに酸化物ではないもの、すなわち金属膜として形成することができる。これによって、各層６１〜６４，６６〜６９の導電性を高くすることができる。また、基材３２と第１導線５１および第２導線５６との間の密着性を高めることができる。   Preferably, each of the layers 61 to 64 and 66 to 69 is formed by performing sputtering in an environment where oxygen is not actively introduced. Therefore, each of the layers 61 to 64 and 66 to 69 can be formed as a metal film that has conductivity and is not an oxide. Thereby, the conductivity of each of the layers 61 to 64 and 66 to 69 can be increased. Moreover, the adhesiveness between the base material 32 and the 1st conducting wire 51 and the 2nd conducting wire 56 can be improved.

積層体６０を準備した後、図７（ｂ）に示すように、第１被覆層６２上に第１感光層７１を所定のパターンで形成するとともに、第２被覆層６７上に第２感光層７６を所定のパターンで形成する。第１感光層７１および第２感光層７６は、特定波長域の光、例えば紫外線に対する感光性を有している。感光層７１，７６のタイプが特に限られることはない。例えば光溶解型の感光層が用いられてもよく、若しくは光硬化型の感光層が用いられてもよい。ここでは、光溶解型の感光層が用いられる例について説明する。
第１感光層７１は、第１導線５１のパターンに対応したパターンで形成されている。また第２感光層７６は、第２導線５６のパターンに対応したパターンで形成されている。感光層７１，７６は、例えば、はじめに、積層体６０の表面上にコーターを用いて感光性材料をコーティングするか、または、ラミネート装置を用いて、感光性材料からなるシートを積層体６０の表面上にラミネートし、次に、感光性材料を所定のパターンで露光して現像することによって形成される。 After preparing the laminated body 60, as shown in FIG. 7B, the first photosensitive layer 71 is formed in a predetermined pattern on the first coating layer 62, and the second photosensitive layer is formed on the second coating layer 67. 76 is formed in a predetermined pattern. The first photosensitive layer 71 and the second photosensitive layer 76 have photosensitivity to light in a specific wavelength range, for example, ultraviolet rays. The type of the photosensitive layers 71 and 76 is not particularly limited. For example, a photodissolvable photosensitive layer may be used, or a photocurable photosensitive layer may be used. Here, an example in which a photodissolvable photosensitive layer is used will be described.
The first photosensitive layer 71 is formed in a pattern corresponding to the pattern of the first conductive wire 51. The second photosensitive layer 76 is formed in a pattern corresponding to the pattern of the second conductor 56. For example, the photosensitive layers 71 and 76 may be formed by first coating a photosensitive material on the surface of the laminate 60 using a coater or by using a laminating apparatus to apply a sheet made of the photosensitive material to the surface of the laminate 60. It is formed by laminating on top and then exposing and developing the photosensitive material in a predetermined pattern.

次に、第１感光層７１をマスクとして第１被覆層６２、第１耐薬層６４、第１本体層６１および第１下地層６３をエッチングするとともに、第２感光層７６をマスクとして第２被覆層６７、第２本体層６６、第２耐薬層６９および第２下地層６８をエッチングする。なお上述のように、基材３２の第１面３２ａ側の各層６１〜６４および基材３２の第２面３２ｂ側の各層６６〜６９のいずれも、銅を含むよう構成されている。このため、銅を溶解させることができるエッチング液を用いて、各層６１〜６４および各層６６〜６９を同時にエッチングすることができる。エッチング液としては、銅を選択的に溶解させることができる液が用いられ、例えば塩化第２鉄溶液が用いられる。   Next, the first coating layer 62, the first chemical resistant layer 64, the first main body layer 61 and the first underlayer 63 are etched using the first photosensitive layer 71 as a mask, and the second coating is used using the second photosensitive layer 76 as a mask. The layer 67, the second body layer 66, the second chemical resistant layer 69, and the second underlayer 68 are etched. As described above, each of the layers 61 to 64 on the first surface 32a side of the base material 32 and each of the layers 66 to 69 on the second surface 32b side of the base material 32 is configured to contain copper. For this reason, each layer 61-64 and each layer 66-69 can be etched simultaneously using the etching liquid which can dissolve copper. As the etching solution, a solution capable of selectively dissolving copper is used, and for example, a ferric chloride solution is used.

ところで上述のように、第１耐薬層６４および第１下地層６３における銅の含有量は、第１本体層６１および第１被覆層６２における銅の含有量よりも小さくなっている。同様に、第２耐薬層６９および第２下地層６８における銅の含有量は、第２本体層６６および第２被覆層６７における銅の含有量よりも小さくなっている。このため、塩化第２鉄溶液などの、銅を選択的に溶解させるエッチング液が用いられる場合、第１本体層６１、第１被覆層６２、第２本体層６６および第２被覆層６７のエッチング速度は、第１下地層６３、第１耐薬層６４、第２下地層６８および第２耐薬層６９のエッチング速度に比べて高くなっている。例えば、塩化第２鉄溶液を用いて同一条件下で各層６１〜６４および各層６６〜６９をエッチングした場合、第１本体層６１、第１被覆層６２、第２本体層６６および第２被覆層６７のエッチング速度Ｒ１は、第１下地層６３、第１耐薬層６４、第２下地層６８および第２耐薬層６９のエッチング速度Ｒ２の１．４倍以上となっている。すなわち、第１本体層６１、第１被覆層６２、第２本体層６６および第２被覆層６７のエッチングの方が、第１下地層６３、第１耐薬層６４、第２下地層６８および第２耐薬層６９のエッチングに比べて速く進行する。この結果、図７（ｃ）に示すように、第１耐薬層６４および第１下地層６３は、第１本体層６１および第１被覆層６２よりも大きい幅を有するようになる。同様に、第２耐薬層６９および第２下地層６８は、第２本体層６６および第２被覆層６７よりも大きい幅を有するようになる。   Incidentally, as described above, the copper content in the first chemical resistant layer 64 and the first underlayer 63 is smaller than the copper content in the first main body layer 61 and the first coating layer 62. Similarly, the copper content in the second chemical resistant layer 69 and the second underlayer 68 is smaller than the copper content in the second main body layer 66 and the second coating layer 67. Therefore, when an etching solution that selectively dissolves copper, such as a ferric chloride solution, is used, the first body layer 61, the first coating layer 62, the second body layer 66, and the second coating layer 67 are etched. The speed is higher than the etching speed of the first base layer 63, the first chemical resistant layer 64, the second base layer 68, and the second chemical resistant layer 69. For example, when the layers 61 to 64 and the layers 66 to 69 are etched under the same conditions using a ferric chloride solution, the first body layer 61, the first coating layer 62, the second body layer 66, and the second coating layer are used. The etching rate R1 of 67 is 1.4 times or more higher than the etching rate R2 of the first base layer 63, the first chemical resistant layer 64, the second base layer 68, and the second chemical resistant layer 69. That is, the etching of the first main body layer 61, the first covering layer 62, the second main body layer 66, and the second covering layer 67 is performed by the first base layer 63, the first chemical resistant layer 64, the second base layer 68, and the second base layer 68. 2 Proceeds faster than etching of the chemical resistant layer 69. As a result, as shown in FIG. 7C, the first chemical resistant layer 64 and the first base layer 63 have a larger width than the first main body layer 61 and the first covering layer 62. Similarly, the second chemical resistant layer 69 and the second base layer 68 have a larger width than the second main body layer 66 and the second covering layer 67.

次に、被覆層６２，６７上に残っている感光層７１，７６を含む、エッチング加工済みの積層体を、アルカリ性水溶液に浸漬させる。これによって、図７（ｄ）に示すように、感光層７１，７６を除去することができる。   Next, the etched laminate including the photosensitive layers 71 and 76 remaining on the coating layers 62 and 67 is immersed in an alkaline aqueous solution. As a result, the photosensitive layers 71 and 76 can be removed as shown in FIG.

その後、被覆層用のエッチング液、例えばギ酸を含む液を用いて被覆層６２，６７をエッチングすることにより、図７（ｅ）に示すように、被覆層６２，６７の表面に凹凸６２ａ，６７ａを形成する。このようにしてタッチパネルセンサ３０を得ることができる。   Thereafter, the coating layers 62 and 67 are etched using a coating layer etching solution, for example, a solution containing formic acid, so that the surfaces of the coating layers 62 and 67 have irregularities 62a and 67a as shown in FIG. Form. In this way, the touch panel sensor 30 can be obtained.

次に図６を参照して、このようにして得られたタッチパネルセンサ３０の作用効果について説明する。   Next, with reference to FIG. 6, the effect of the touch panel sensor 30 obtained in this way is demonstrated.

はじめに図６において符号Ｌ１およびＬ２で示すように、基材３２の法線方向に沿ってタッチパネルセンサ３０に入射した外光が第１導線５１および第２導線５６に到達する場合について説明する。
この場合、第１導線５１に到達した外光Ｌ１は、第１導線５１の第１被覆層６２によって反射されて反射光Ｌ１’となる。ここで上述のように、第１被覆層６２の表面には凹凸６２ａが形成されている。従って、凹凸６２ａによる散乱のため、反射光Ｌ１’は様々な方向に向かうことになる。このため、観察者からは第１被覆層６２の色味が見えにくくなる。例えば、散乱によって第１被覆層６２が白っぽく見えるようになる。すなわち、第１被覆層６２を構成する銅の色が薄くなる。このことにより、第１導線５１が観察者によって視認されてしまうことを抑制することができる。
また、第２導線５６に到達した外光Ｌ２は、第２導線５６の第２下地層６８によって反射されて反射光Ｌ２’となる。ここで上述のように第２下地層６８は、波長６００ｎｍの光に対する反射率Ｒ２２が、第２本体層６６における反射率Ｒ２０の０．５以下になるよう構成されたものである。このため、赤味を帯びた反射光が観察者に到達してしまうことを抑制することができる。このことにより、第２導線５６が観察者によって視認されてしまうことを抑制することができる。 First, the case where external light that has entered the touch panel sensor 30 along the normal direction of the base material 32 reaches the first conductive wire 51 and the second conductive wire 56 will be described as indicated by reference numerals L1 and L2 in FIG.
In this case, the external light L1 that has reached the first conducting wire 51 is reflected by the first coating layer 62 of the first conducting wire 51 to become reflected light L1 ′. Here, as described above, irregularities 62 a are formed on the surface of the first covering layer 62. Therefore, the reflected light L1 ′ travels in various directions due to scattering by the unevenness 62a. For this reason, it becomes difficult for the observer to see the color of the first coating layer 62. For example, the first covering layer 62 appears whitish due to scattering. That is, the color of copper constituting the first covering layer 62 becomes light. Thereby, it can suppress that the 1st conducting wire 51 is visually recognized by the observer.
Further, the external light L2 that has reached the second conducting wire 56 is reflected by the second underlayer 68 of the second conducting wire 56 to become reflected light L2 ′. Here, as described above, the second underlayer 68 is configured such that the reflectance R22 with respect to light having a wavelength of 600 nm is 0.5 or less of the reflectance R20 in the second main body layer 66. For this reason, it can suppress that the reddish reflected light reaches an observer. Thereby, it can suppress that the 2nd conducting wire 56 is visually recognized by the observer.

次に図６において符号Ｌ３およびＬ４で示すように、基材３２の法線方向から傾斜した方向に沿ってタッチパネルセンサ３０に入射した外光が第１導線５１および第２導線５６に到達する場合について説明する。ここで上述のように、第１耐薬層６４は、第１本体層６１の側面よりもΔＷ１だけ側方に突出している。このため、第１導線５１に到達した外光Ｌ３は、第１本体層６１に到達することなく第１耐薬層６４によって反射される。同様に、第２下地層６８は、第２本体層６６の側面よりもΔＷ２だけ側方に突出している。このため、第２導線５６に到達した外光Ｌ３は、第２本体層６６に到達することなく第２下地層６８によって反射される。このため、第１本体層６１や第２本体層６６に起因する赤味を帯びた反射光が生成されることを抑制することができる。   Next, as indicated by reference numerals L3 and L4 in FIG. 6, external light that has entered the touch panel sensor 30 along the direction inclined from the normal direction of the base material 32 reaches the first conductive wire 51 and the second conductive wire 56. Will be described. Here, as described above, the first chemical resistant layer 64 protrudes laterally from the side surface of the first main body layer 61 by ΔW1. For this reason, the external light L3 that has reached the first conducting wire 51 is reflected by the first chemical resistant layer 64 without reaching the first main body layer 61. Similarly, the second underlayer 68 protrudes to the side by ΔW 2 from the side surface of the second main body layer 66. For this reason, the external light L3 reaching the second conducting wire 56 is reflected by the second base layer 68 without reaching the second main body layer 66. For this reason, it can suppress that the reddish reflected light resulting from the 1st main body layer 61 or the 2nd main body layer 66 is produced | generated.

次に図６において符号Ｌ５およびＬ６で示すように、基材３２の法線方向に沿ってタッチパネルセンサ３０に入射した表示装置１５からの映像光が第１導線５１および第２導線５６に到達する場合について説明する。この場合、第１導線５１に到達した映像光Ｌ５は、第１導線５１の第１下地層６３によって反射されて反射光Ｌ５’となる。また、第２導線５６に到達した映像光Ｌ６は、第２導線５６の第２被覆層６７によって散乱されて反射光Ｌ６’となる。このため、表示装置１５からの光が導線５１，５６によって反射されることによって生じ得る、赤味を帯びた光が、表示装置１５側に戻った後に表示装置１５の構成要素によって再び反射されて観察者に到達してしまう、という現象が生じることを抑制することができる。   Next, as indicated by reference numerals L5 and L6 in FIG. 6, the image light from the display device 15 that has entered the touch panel sensor 30 along the normal direction of the base material 32 reaches the first conductive wire 51 and the second conductive wire 56. The case will be described. In this case, the video light L5 that has reached the first conducting wire 51 is reflected by the first ground layer 63 of the first conducting wire 51 to become reflected light L5 '. Further, the image light L6 that has reached the second conducting wire 56 is scattered by the second coating layer 67 of the second conducting wire 56 to become reflected light L6 '. For this reason, the reddish light that may be generated when the light from the display device 15 is reflected by the conductive wires 51 and 56 is reflected again by the components of the display device 15 after returning to the display device 15 side. It is possible to suppress the occurrence of the phenomenon of reaching the observer.

次に図６において符号Ｌ７およびＬ８で示すように、基材３２の法線方向から傾斜した方向に沿ってタッチパネルセンサ３０に入射した表示装置１５からの映像光が第１導線５１および第２導線５６に到達する場合について説明する。ここで上述のように、第１下地層６３は、第１本体層６１の側面よりも側方に突出している。このため、第１導線５１に到達した映像光Ｌ７は、第１本体層６１に到達することなく第１下地層６３によって反射される。同様に、第２耐薬層６９は、第２本体層６６の側面よりも側方に突出している。このため、第２導線５６に到達した映像光Ｌ８は、第２本体層６６に到達することなく第２耐薬層６９によって反射される。このため、表示装置１５からの光が導線５１，５６によって反射されることによって生じ得る、赤味を帯びた光が、表示装置１５側に戻った後に表示装置１５の構成要素によって再び反射されて観察者に到達してしまう、という現象が生じることを抑制することができる。   Next, as indicated by reference numerals L7 and L8 in FIG. 6, the video light from the display device 15 incident on the touch panel sensor 30 along the direction inclined from the normal direction of the base material 32 is the first conductor 51 and the second conductor. The case of reaching 56 will be described. Here, as described above, the first base layer 63 protrudes laterally from the side surface of the first main body layer 61. For this reason, the video light L7 that has reached the first conducting wire 51 is reflected by the first base layer 63 without reaching the first main body layer 61. Similarly, the second chemical resistant layer 69 protrudes laterally from the side surface of the second main body layer 66. For this reason, the image light L <b> 8 that has reached the second conducting wire 56 is reflected by the second chemical resistant layer 69 without reaching the second main body layer 66. For this reason, the reddish light that may be generated when the light from the display device 15 is reflected by the conductive wires 51 and 56 is reflected again by the components of the display device 15 after returning to the display device 15 side. It is possible to suppress the occurrence of the phenomenon of reaching the observer.

なお、上述した実施の形態に対して様々な変更を加えることが可能である。以下、図面を参照しながら、いくつかの変形例について説明する。以下の説明および以下の説明で用いる図面では、上述した実施の形態と同様に構成され得る部分について、上述の実施の形態における対応する部分に対して用いた符号と同一の符号を用いることとし、重複する説明を省略する。また、上述した実施の形態において得られる作用効果が変形例においても得られることが明らかである場合、その説明を省略することもある。   Note that various modifications can be made to the above-described embodiment. Hereinafter, some modifications will be described with reference to the drawings. In the following description and the drawings used in the following description, the same reference numerals as those used for the corresponding parts in the above embodiment are used for the parts that can be configured in the same manner as in the above embodiment. A duplicate description is omitted. In addition, when it is clear that the operational effects obtained in the above-described embodiment can be obtained in the modified example, the description thereof may be omitted.

金属光沢をさらに和らげ、かつ、第１導線５１および第２導線５６の反射率をさらに低減するため、各層６１〜６４をパターニングすることによって得られた第１導線５１、並びに、各層６６〜６９をパターニングすることによって得られた第２導線５６に対して、黒化処理などの低反射処理をさらに施してもよい。例えば、第１導線５１および第２導線５６の各層の面に黒色の層をめっきしたり、第１導線５１および第２導線５６の各層を酸化処理または硫化処理したりして黒色化するという黒化処理がさらに施され得る。なお被覆層６２，６７が銅やニッケルからなる場合、被覆層６２，６７の表面に凹凸６２ａ，６７ａを形成するためのエッチングの際に、被覆層６２，６７の表面が酸化して黒化することになると考えられる。従って、被覆層６２，６７が銅やニッケルからなる場合、追加の黒化処理は特に必要無いと考えられる。   In order to further soften the metallic luster and further reduce the reflectivity of the first conductor 51 and the second conductor 56, the first conductor 51 obtained by patterning the layers 61 to 64 and the layers 66 to 69 Low reflection processing such as blackening processing may be further performed on the second conductive wire 56 obtained by patterning. For example, a black layer that is blackened by plating a black layer on the surface of each layer of the first conductor 51 and the second conductor 56 or oxidizing or sulfurating each layer of the first conductor 51 and the second conductor 56. Further processing can be performed. When the covering layers 62 and 67 are made of copper or nickel, the surfaces of the covering layers 62 and 67 are oxidized and blackened during the etching for forming the irregularities 62a and 67a on the surfaces of the covering layers 62 and 67. It is thought that it will be. Therefore, when the coating layers 62 and 67 are made of copper or nickel, it is considered that no additional blackening treatment is particularly necessary.

また上述の本実施の形態において、第１耐薬層６４および第１下地層６３が第１本体層６１および第１被覆層６２よりも大きい幅を有し、第２耐薬層６９および第２下地層６８が第２本体層６６および第２被覆層６７よりも大きい幅を有する例を示した。しかしながら、これに限られることはなく、図８に示すように、第１耐薬層６４および第１下地層６３の幅が第１本体層６１や第１被覆層６２の幅とほぼ同一であり、第２耐薬層６９および第２下地層６８の幅が第２本体層６６および第２被覆層６７の幅とほぼ同一であってもよい。この場合も、図８に示すように、基材３２の法線方向に沿ってタッチパネルセンサ３０に入射した外光Ｌ１，Ｌ２が導線５１，５６によって反射されて赤味を帯びた光になってしまうことを、第１被覆層６２および第２下地層６８によって抑制することができる。また、基材３２の法線方向に沿ってタッチパネルセンサ３０に入射した表示装置１５からの映像光Ｌ５，Ｌ６が導線５１，５６によって反射されて赤味を帯びた光になってしまうことを、第１下地層６３および第２被覆層６７によって抑制することができる。   In the above-described embodiment, the first chemical resistant layer 64 and the first ground layer 63 have a width larger than that of the first main body layer 61 and the first covering layer 62, and the second chemical resistant layer 69 and the second ground layer are formed. In the example, 68 has a width larger than that of the second main body layer 66 and the second covering layer 67. However, the present invention is not limited to this, and as shown in FIG. 8, the widths of the first chemical resistant layer 64 and the first underlayer 63 are substantially the same as the widths of the first main body layer 61 and the first covering layer 62, The widths of the second chemical resistant layer 69 and the second base layer 68 may be substantially the same as the widths of the second main body layer 66 and the second covering layer 67. Also in this case, as shown in FIG. 8, the external lights L1 and L2 incident on the touch panel sensor 30 along the normal direction of the base material 32 are reflected by the conductive wires 51 and 56 to become reddish light. This can be suppressed by the first coating layer 62 and the second underlayer 68. In addition, the video lights L5 and L6 from the display device 15 incident on the touch panel sensor 30 along the normal direction of the base material 32 are reflected by the conductive wires 51 and 56 to become reddish light. It can be suppressed by the first underlayer 63 and the second covering layer 67.

また上述の本実施の形態において、第１導線５１が、第１本体層６１よりも表示装置側に設けられた第１下地層６３を含み、第２導線５６が、第２本体層６６よりも表示装置側に設けられた第２被覆層６７を含む例を示した。しかしながら、これに限られることはなく、図９または図１０に示すように、第１導線５１は、第１本体層６１と、第１本体層６１よりも観察者側に設けられた第１被覆層６２と、第１本体層６１と第１被覆層６２との間に設けられた第１耐薬層６４と、を少なくとも含んでいればよい。また第２導線５６は、第２本体層６６と、第２本体層６６よりも観察者側に設けられた第２下地層６８と、を少なくとも含んでいればよい。これによって、図９または図１０に示すように、基材３２の法線方向に沿ってタッチパネルセンサ３０に入射した外光Ｌ１，Ｌ２に起因する反射光が観察者に到達してしまうことを、第１被覆層６２および第２下地層６８によって抑制することができる。また図９に示すように、第１耐薬層６４が第１本体層６１よりも大きい幅を有し、第２下地層６８が第２本体層６６よりも大きい幅を有する場合、基材３２の法線方向から傾斜した方向に沿ってタッチパネルセンサ３０に入射した外光Ｌ３，Ｌ４に起因する反射光が観察者に到達してしまうことを、第１耐薬層６４および第２下地層６８によって抑制することができる。   In the above-described embodiment, the first conductor 51 includes the first base layer 63 provided on the display device side with respect to the first body layer 61, and the second conductor 56 is more than the second body layer 66. The example including the second coating layer 67 provided on the display device side is shown. However, the present invention is not limited to this. As shown in FIG. 9 or FIG. 10, the first conductor 51 includes a first body layer 61 and a first covering provided on the viewer side with respect to the first body layer 61. The layer 62 and the 1st chemical | medical-resistant layer 64 provided between the 1st main body layer 61 and the 1st coating layer 62 should just be included at least. The second conductive wire 56 only needs to include at least the second main body layer 66 and the second base layer 68 provided closer to the viewer than the second main body layer 66. Thereby, as shown in FIG. 9 or FIG. 10, the reflected light caused by the external lights L1 and L2 incident on the touch panel sensor 30 along the normal direction of the base material 32 reaches the observer. It can be suppressed by the first covering layer 62 and the second underlayer 68. As shown in FIG. 9, when the first chemical resistant layer 64 has a larger width than the first main body layer 61 and the second underlayer 68 has a larger width than the second main body layer 66, The first chemical resistant layer 64 and the second underlayer 68 prevent the reflected light caused by the external lights L3 and L4 incident on the touch panel sensor 30 along the direction inclined from the normal direction from reaching the observer. can do.

また図示はしないが、タッチパネルセンサ３０は、隣接する２つの第１検出パターン４１の間に設けられ、かつ第１検出パターン４１に電気的に接続されていないダミーパターンをさらに備えていてもよい。ダミーパターンは、第１額縁配線４３に電気的に接続されていてもよく、若しくは、第１額縁配線４３に電気的に接続されていなくてもよい。同様に、タッチパネルセンサ３０は、隣接する２つの第２検出パターン４６の間に設けられ、かつ第２検出パターン４６に電気的に接続されていないダミーパターンをさらに備えていてもよい。ダミーパターンは、第２額縁配線４８に電気的に接続されていてもよく、若しくは、第２額縁配線４８に電気的に接続されていなくてもよい。   Although not shown, the touch panel sensor 30 may further include a dummy pattern that is provided between two adjacent first detection patterns 41 and that is not electrically connected to the first detection patterns 41. The dummy pattern may be electrically connected to the first frame wiring 43 or may not be electrically connected to the first frame wiring 43. Similarly, the touch panel sensor 30 may further include a dummy pattern that is provided between two adjacent second detection patterns 46 and that is not electrically connected to the second detection patterns 46. The dummy pattern may be electrically connected to the second frame wiring 48 or may not be electrically connected to the second frame wiring 48.

なお、上述した実施の形態に対するいくつかの変形例を説明してきたが、当然に、複数の変形例を適宜組み合わせて適用することも可能である。   In addition, although some modified examples with respect to the above-described embodiment have been described, naturally, a plurality of modified examples can be applied in combination as appropriate.

第２の実施の形態
次に図１１乃至図１３を参照して、本発明の第２の実施の形態について説明する。図１１乃至図１３に示す第２の実施の形態において、タッチ位置を検出するための検出パターンは、基材の観察者側の面上にのみ設けられており、基材の表示装置側の面上には設けられていない。図１１乃至図１３に示す第２の実施の形態において、上述の第１の実施の形態と同一部分には同一符号を付して詳細な説明は省略する。また、第１の実施の形態において得られる作用効果が本実施の形態においても得られることが明らかである場合、その説明を省略することもある。 Second Embodiment Next, a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. In the second embodiment shown in FIGS. 11 to 13, the detection pattern for detecting the touch position is provided only on the surface of the base material on the viewer side, and the surface of the base material on the display device side. It is not provided above. In the second embodiment shown in FIG. 11 to FIG. 13, the same reference numerals are given to the same parts as those in the first embodiment, and the detailed description is omitted. Moreover, when it is clear that the effect obtained in the first embodiment can be obtained in the present embodiment, the description thereof may be omitted.

本実施の形態によるタッチパネルセンサ３０の、平面視の場合の構成は、図２乃至３Ｃに示す上述の第１の実施の形態におけるタッチパネルセンサ３０と同一であるので、説明を省略する。一方、本実施の形態におけるタッチパネルセンサ３０は、第１の実施の形態におけるタッチパネルセンサ３０とは異なる断面構成を有している。図１１および図１２はそれぞれ、本実施の形態によるタッチパネルセンサ３０を図３ＣのIV線およびＶ線に沿って切断した場合に対応する断面図である。   The configuration of the touch panel sensor 30 according to the present embodiment in plan view is the same as that of the touch panel sensor 30 in the first embodiment shown in FIGS. On the other hand, touch panel sensor 30 in the present embodiment has a different cross-sectional configuration from touch panel sensor 30 in the first embodiment. 11 and 12 are cross-sectional views corresponding to the case where the touch panel sensor 30 according to the present embodiment is cut along the IV and V lines in FIG. 3C.

本実施の形態において、タッチパネルセンサ３０は、第１タッチパネルセンサ３０Ａおよび第２タッチパネルセンサ３０Ｂを、接着層３４などを介して接合することによって構成されている。このうち第１タッチパネルセンサ３０Ａは、図１１および図１２に示すように、観察者側を向く第１面３２ａおよび表示装置側を向く第２面３２ｂを含む基材３２と、基材３２の第１面３２ａ上に設けられた複数の第１検出パターン４１と、を備えている。また第２タッチパネルセンサ３０Ｂは、図１１および図１２に示すように、観察者側を向く第１面３３ａおよび表示装置側を向く第２面３３ｂを含む基材３３と、基材３３の第１面３３ａ上に設けられた複数の第２検出パターン４６と、を備えている。このように本実施の形態において、タッチ位置を検出するための第１検出パターン４１および第２検出パターン４６はいずれも、基材３２および基材３３の観察者側の第１面３２ａ，３３ａ上に設けられている。   In the present embodiment, the touch panel sensor 30 is configured by joining the first touch panel sensor 30A and the second touch panel sensor 30B via the adhesive layer 34 or the like. Among these, as shown in FIGS. 11 and 12, the first touch panel sensor 30 </ b> A includes a base material 32 including a first surface 32 a facing the observer side and a second surface 32 b facing the display device side, and a first of the base material 32. A plurality of first detection patterns 41 provided on one surface 32a. Further, as shown in FIGS. 11 and 12, the second touch panel sensor 30 </ b> B includes a base material 33 including a first surface 33 a facing the observer side and a second surface 33 b facing the display device side, and a first of the base material 33. And a plurality of second detection patterns 46 provided on the surface 33a. Thus, in the present embodiment, the first detection pattern 41 and the second detection pattern 46 for detecting the touch position are both on the first surfaces 32a and 33a on the viewer side of the base material 32 and the base material 33. Is provided.

第１検出パターン４１は、遮光性および導電性を有する第１導線５１であって、各第１導線５１の間に開口部５１ａが形成されるよう網目状に配置された第１導線５１から構成されている。同様に、第２検出パターン４６は、遮光性および導電性を有する第２導線５６であって、各第２導線５６の間に開口部５６ａが形成されるよう網目状に配置された第２導線５６から構成されている。   The first detection pattern 41 is a first conductive wire 51 having light shielding properties and electrical conductivity, and includes first conductive wires 51 arranged in a mesh shape so that an opening 51 a is formed between the first conductive wires 51. Has been. Similarly, the second detection pattern 46 is a second conductive wire 56 having light shielding properties and conductivity, and the second conductive wire is arranged in a mesh shape so that an opening 56 a is formed between the second conductive wires 56. 56.

次に図１３を参照して、第１検出パターン４１を構成する第１導線５１および第２検出パターン４６を構成する第２導線５６の層構成について説明する。なお図１３は、第１導線５１および第２導線５６の層構成を説明するために描かれた図であり、実際のタッチパネルセンサ３０における第１導線５１および第２導線５６の位置関係には必ずしも対応していない。   Next, with reference to FIG. 13, the layer structure of the 1st conducting wire 51 which comprises the 1st detection pattern 41, and the 2nd conducting wire 56 which comprises the 2nd detection pattern 46 is demonstrated. FIG. 13 is a diagram drawn for explaining the layer configuration of the first conductor 51 and the second conductor 56, and the positional relationship between the first conductor 51 and the second conductor 56 in the actual touch panel sensor 30 is not necessarily limited. Not supported.

図１３に示すように、第１導線５１および第２導線５６はいずれも、第１本体層６１と、第１本体層６１よりも観察者側に設けられた第１被覆層６２と、第１本体層６１と第１被覆層６２との間に設けられた第１耐薬層６４と、を含んでいる。第１本体層６１、第１被覆層６２および第１耐薬層６４の構成は、上述の第１の実施の形態における第１本体層６１、第１被覆層６２および第１耐薬層６４の構成と同一であるので、詳細な説明を省略する。   As shown in FIG. 13, each of the first conducting wire 51 and the second conducting wire 56 includes a first main body layer 61, a first covering layer 62 provided closer to the viewer than the first main body layer 61, And a first chemical resistant layer 64 provided between the main body layer 61 and the first covering layer 62. The configurations of the first main body layer 61, the first covering layer 62, and the first chemical resistant layer 64 are the same as the configurations of the first main body layer 61, the first covering layer 62, and the first chemical resistant layer 64 in the first embodiment described above. Since they are the same, detailed description is omitted.

本実施の形態によれば、図１３に示すように、基材３２の法線方向に沿ってタッチパネルセンサ３０に入射した外光Ｌ１，Ｌ２が導線５１，５６によって反射されて観察者に到達してしまうことを、第１導線５１の第１被覆層６２の表面に形成された凹凸６２ａおよび第２導線５６の第１被覆層６２の表面に形成された凹凸６２ａによって抑制することができる。このため、第１本体層６１の側面に黒化処理などの低反射処理が施されていない場合であっても、映像の視認性が低下することを抑制することができる。また第１耐薬層６４を設けることにより、第１被覆層６２の表面に凹凸６２ａを形成する際に第１本体層６１が損傷してしまうことを抑制することができる。   According to the present embodiment, as shown in FIG. 13, the external lights L <b> 1 and L <b> 2 incident on the touch panel sensor 30 along the normal direction of the base material 32 are reflected by the conductive wires 51 and 56 and reach the observer. This can be suppressed by the unevenness 62a formed on the surface of the first covering layer 62 of the first conducting wire 51 and the unevenness 62a formed on the surface of the first covering layer 62 of the second conducting wire 56. For this reason, even if it is a case where low reflection processes, such as a blackening process, are not given to the side surface of the 1st main body layer 61, it can suppress that the visibility of an image | video falls. Further, by providing the first chemical resistant layer 64, it is possible to prevent the first main body layer 61 from being damaged when the irregularities 62 a are formed on the surface of the first covering layer 62.

なお上述の各実施の形態において、被覆層６２，６７が９９重量％以上の銅を含み、被覆層用エッチング液がギ酸を含む液からなる例を示したが、これに限られることはない。被覆層６２，６７の表面に、光を散乱させることができる凹凸６２ａ，６７ａを形成することができる限りにおいて、被覆層６２，６７を構成する材料と、被覆層用エッチング液とを適切に選択することができる。
例えば、被覆層６２，６７が９９重量％以上の銅を含む場合、被覆層用エッチング液は、硫酸および過酸化水素の混合溶液からなっていてもよい。 In each of the above-described embodiments, the coating layers 62 and 67 contain 99% by weight or more of copper, and the coating layer etching solution is made of a solution containing formic acid. However, the present invention is not limited to this. As long as the irregularities 62a and 67a capable of scattering light can be formed on the surfaces of the coating layers 62 and 67, the material constituting the coating layers 62 and 67 and the coating layer etching solution are appropriately selected. can do.
For example, when the coating layers 62 and 67 contain 99% by weight or more of copper, the coating layer etching solution may be a mixed solution of sulfuric acid and hydrogen peroxide.

また上述の各実施の形態において、第１本体層６１、第１耐薬層６４および第１被覆層６２が、検出パターン４１を構成するために用いられる例を示した。しかしながら、これに限られることはなく、第１本体層６１、第１耐薬層６４および第１被覆層６２が、第１額縁配線４３や第１端子部４４を構成するために用いられていてもよい。すなわち、第１額縁配線４３や第１端子部４４が、金属からなる第１本体層６１と、第１本体層６１よりも観察者側に設けられ、金属からなる第１被覆層６２と、第１本体層６１と第１被覆層６２との間に設けられ、導電性を有する第１耐薬層６４と、を含んでいてもよい。この場合、第１被覆層６２の表面に形成されている凹凸６２ａのため、オーバーコート層用の材料を含む塗布液と、第１被覆層６２の表面との間の接触面積を増加させることができる。このため、オーバーコート層に対する第１額縁配線４３の密着性を高めることができる。
第１額縁配線４３と同様に、第２額縁配線４８も、金属からなる第２本体層６６と、第２本体層６６よりも表示装置側に設けられ、金属からなる第２被覆層６７と、第２本体層６６と第２被覆層６７との間に設けられ、導電性を有する第２耐薬層６９と、を含んでいてもよい。この場合も、第２額縁配線４８上に設けられるオーバーコート層に対する、第２額縁配線４８の密着性を高めることができる。 In each of the above-described embodiments, the example in which the first main body layer 61, the first chemical resistant layer 64, and the first covering layer 62 are used to configure the detection pattern 41 has been shown. However, the present invention is not limited to this. Even if the first main body layer 61, the first chemical resistant layer 64, and the first covering layer 62 are used to configure the first frame wiring 43 and the first terminal portion 44. Good. That is, the first frame wiring 43 and the first terminal portion 44 are provided on the viewer side of the first main body layer 61 made of metal, the first covering layer 62 made of metal, 1 main body layer 61 and the 1st coating layer 62 are provided, and the 1st chemical-resistant layer 64 which has conductivity may be included. In this case, due to the unevenness 62a formed on the surface of the first coating layer 62, the contact area between the coating liquid containing the material for the overcoat layer and the surface of the first coating layer 62 can be increased. it can. For this reason, the adhesiveness of the 1st frame wiring 43 with respect to an overcoat layer can be improved.
Similar to the first frame wiring 43, the second frame wiring 48 is also provided with a second main body layer 66 made of metal, a second covering layer 67 made of metal, provided closer to the display device than the second main body layer 66, A second chemical resistant layer 69 provided between the second main body layer 66 and the second covering layer 67 and having conductivity may be included. Also in this case, the adhesion of the second frame wiring 48 to the overcoat layer provided on the second frame wiring 48 can be improved.

なお、上述した実施の形態に対するいくつかの変形例を説明してきたが、当然に、複数の変形例を適宜組み合わせて適用することも可能である。   In addition, although some modified examples with respect to the above-described embodiment have been described, naturally, a plurality of modified examples can be applied in combination as appropriate.

１０ タッチ位置検出機能付き表示装置
１５ 表示装置
３０ タッチパネルセンサ
３０Ａ 第１タッチパネルセンサ
３０Ｂ 第２タッチパネルセンサ
３２ 基材
３３ 基材
４１ 第１検出パターン
４６ 第２検出パターン
５１ 第１導線
５６ 第２導線
６０ 積層体
６１ 第１本体層
６２ 第１被覆層
６２ａ 凹凸
６３ 第１下地層
６４ 第１耐薬層
６６ 第２本体層
６７ 第２被覆層
６７ａ 凹凸
６８ 第２下地層
６９ 第２耐薬層 DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Display apparatus with a touch position detection function 15 Display apparatus 30 Touch panel sensor 30A 1st touch panel sensor 30B 2nd touch panel sensor 32 Base material 33 Base material 41 1st detection pattern 46 2nd detection pattern 51 1st conducting wire 56 2nd conducting wire 60 Lamination | stacking Body 61 First body layer 62 First covering layer 62a Concavity and convexity 63 First foundation layer 64 First chemical resistant layer 66 Second body layer 67 Second coating layer 67a Concavity and convexity 68 Second foundation layer 69 Second chemical resistant layer

Claims (13)

タッチパネルセンサであって、
観察者側を向く第１面および表示装置側を向く第２面を含む基材と、
前記基材の前記第１面上に設けられた複数の第１検出パターンと、を備え、
前記第１検出パターンは、遮光性および導電性を有する第１導線であって、各第１導線の間に開口部が形成されるよう網目状に配置された第１導線から構成されており、
前記第１導線は、金属からなる第１本体層と、前記第１本体層よりも観察者側に設けられ、金属からなる第１被覆層と、前記第１本体層と前記第１被覆層との間に設けられ、導電性を有する第１耐薬層と、を含み、
前記第１被覆層の表面には凹凸が形成されており、
第１被覆層用エッチング液に対する前記第１耐薬層の溶解速度は、前記第１被覆層用エッチング液に対する前記第１被覆層の溶解速度の１／１０以下であり、
前記第１被覆層は、９９重量％以上の銅を含み、
前記第１被覆層用エッチング液は、ギ酸を含む液、または、硫酸および過酸化水素の混合溶液からなる、タッチパネルセンサ。 A touch panel sensor,
A base material including a first surface facing the viewer side and a second surface facing the display device side;
A plurality of first detection patterns provided on the first surface of the base material,
The first detection pattern is a first conductive wire having light shielding properties and electrical conductivity, and includes first conductive wires arranged in a mesh shape so that an opening is formed between the first conductive wires.
The first conducting wire is provided on a viewer side of the first main body layer made of metal, the first main body layer, the first main body layer, and the first covering layer. And a first chemical resistant layer having electrical conductivity,
Unevenness is formed on the surface of the first coating layer,
The dissolution rate of the first chemical resistant layer in the first coating layer etching solution is 1/10 or less of the dissolution rate of the first coating layer in the first coating layer etching solution,
The first coating layer contains 99% by weight or more of copper,
The first coating layer etching solution is a touch panel sensor made of a solution containing formic acid or a mixed solution of sulfuric acid and hydrogen peroxide. 前記第１被覆層の表面には、黒化処理が施されている、請求項１に記載のタッチパネルセンサ。   The touch panel sensor according to claim 1, wherein the surface of the first coating layer is blackened. 前記第１本体層および前記第１被覆層はいずれも、９９重量％以上の銅を含み、前記第１被覆層用エッチング液は、ギ酸を含む液からなる、請求項１または２に記載のタッチパネルセンサ。   3. The touch panel according to claim 1, wherein each of the first main body layer and the first coating layer contains 99% by weight or more of copper, and the first coating layer etching solution is made of a solution containing formic acid. Sensor. 前記第１本体層および前記第１被覆層はいずれも、９９重量％以上の銅を含み、
前記第１被覆層用エッチング液は、硫酸および過酸化水素の混合溶液からなる、請求項１または２に記載のタッチパネルセンサ。 Both the first body layer and the first coating layer contain 99% by weight or more of copper,
The touch panel sensor according to claim 1, wherein the first coating layer etching solution is a mixed solution of sulfuric acid and hydrogen peroxide. 前記第１導線は、前記第１本体層よりも表示装置側に設けられ、前記第１本体層よりも小さい厚みを有し、金属からなる第１下地層をさらに含み、
前記第１下地層は、５０重量％以下の銅を含み、
波長６００ｎｍの光を前記第１本体層および前記第１下地層に照射した場合の光の反射率をそれぞれＲ１０およびＲ１２とする場合、
Ｒ１２≦０．５×Ｒ１０
の関係が成立する、請求項１乃至４のいずれか一項に記載のタッチパネルセンサ。 The first conductive wire is further provided on the display device side than the first main body layer, has a smaller thickness than the first main body layer, and further includes a first underlayer made of metal,
The first underlayer includes 50% by weight or less of copper,
When the reflectance of light when irradiating the first main body layer and the first underlayer with light having a wavelength of 600 nm is R10 and R12, respectively,
R12 ≦ 0.5 × R10
The touch panel sensor according to any one of claims 1 to 4, wherein the relationship is established. 前記基材の前記第２面上に設けられた複数の第２検出パターンをさらに備え、
前記第２検出パターンは、遮光性および導電性を有する第２導線であって、各第２導線の間に開口部が形成されるよう網目状に配置された第２導線から構成されており、
前記第２導線は、金属からなる第２本体層と、前記第２本体層よりも観察者側に設けられ、前記第２本体層よりも小さい厚みを有し、金属からなる第２下地層と、を含み、
波長６００ｎｍの光を前記第２本体層および前記第２下地層に照射した場合の光の反射率をそれぞれＲ２０およびＲ２２とする場合、
Ｒ２２≦０．５×Ｒ２０
の関係が成立する、請求項１乃至５のいずれか一項に記載のタッチパネルセンサ。 A plurality of second detection patterns provided on the second surface of the substrate;
The second detection pattern is a second conductive wire having light shielding properties and electrical conductivity, and is configured by a second conductive wire arranged in a mesh shape so that an opening is formed between the second conductive wires.
The second conductive wire is provided with a second main body layer made of metal, a second base layer made of metal, which is provided closer to the viewer than the second main body layer, has a smaller thickness than the second main body layer, and Including,
In the case where the reflectance of light when the second main body layer and the second underlayer are irradiated with light having a wavelength of 600 nm is R20 and R22, respectively,
R22 ≦ 0.5 × R20
The touch panel sensor according to claim 1, wherein the relationship is established. 前記第１耐薬層および前記第２下地層が、同一の材料によって構成されている、請求項６に記載のタッチパネルセンサ。   The touch panel sensor according to claim 6, wherein the first chemical resistant layer and the second base layer are made of the same material. 前記第２導線は、前記第２本体層よりも表示装置側に設けられ、金属からなる第２被覆層と、前記第２本体層と前記第２被覆層との間に設けられ、導電性を有する第２耐薬層と、をさらに含み、
前記第２被覆層の表面には凹凸が形成されており、
第２被覆層用エッチング液に対する前記第２耐薬層の溶解速度は、前記第２被覆層用エッチング液に対する前記第２被覆層の溶解速度の１／１０以下であり、
前記第２被覆層は、９９重量％以上の銅を含み、
前記第２被覆層用エッチング液は、ギ酸を含む液、または、硫酸および過酸化水素の混合溶液からなる、請求項６または７に記載のタッチパネルセンサ。 The second conducting wire is provided closer to the display device than the second main body layer, and is provided between the second covering layer made of metal and the second main body layer and the second covering layer, and has conductivity. And further comprising a second chemical resistant layer,
Concavities and convexities are formed on the surface of the second coating layer,
The dissolution rate of the second chemical resistant layer in the second coating layer etching solution is 1/10 or less of the dissolution rate of the second coating layer in the second coating layer etching solution,
The second coating layer contains 99% by weight or more of copper,
The touch panel sensor according to claim 6 or 7, wherein the second coating layer etching solution is composed of a solution containing formic acid or a mixed solution of sulfuric acid and hydrogen peroxide. 網目状に配置された第１導線からなる第１検出パターンを備えたタッチパネルセンサの製造方法であって、
観察者側を向く第１面および表示装置側を向く第２面を含む基材と、前記基材の前記第１面側に設けられ、金属からなる第１本体層と、前記第１本体層の観察者側に設けられ、金属からなる第１被覆層と、前記第１本体層と前記第１被覆層との間に設けられ、導電性を有する第１耐薬層と、を含む積層体を準備する工程と、
前記積層体の観察者側の面上に、前記第１導線に対応したパターンを有する第１感光層を形成する工程と、
前記第１感光層をマスクとして、前記第１被覆層、前記第１耐薬層および前記第１本体層をエッチングする工程と、
前記第１感光層を除去する工程と、
第１被覆層用エッチング液を用いて前記第１被覆層をエッチングすることにより、前記第１被覆層の表面に凹凸を形成する工程と、を備え、
第１被覆層用エッチング液に対する前記第１耐薬層の溶解速度は、前記第１被覆層用エッチング液に対する前記第１被覆層の溶解速度の１／１０以下である、タッチパネルセンサの製造方法。 A method for manufacturing a touch panel sensor having a first detection pattern comprising first conductive wires arranged in a mesh shape,
A base material including a first surface facing the viewer side and a second surface facing the display device side, a first main body layer provided on the first surface side of the base material and made of metal, and the first main body layer A laminated body including a first covering layer made of metal and a first chemical resistant layer having conductivity and provided between the first main body layer and the first covering layer. A preparation process;
Forming a first photosensitive layer having a pattern corresponding to the first conductor on the surface of the laminate on the viewer side;
Etching the first coating layer, the first chemical-resistant layer and the first body layer using the first photosensitive layer as a mask;
Removing the first photosensitive layer;
Etching the first coating layer using an etching solution for the first coating layer, thereby forming irregularities on the surface of the first coating layer, and
The method for manufacturing a touch panel sensor, wherein the dissolution rate of the first chemical resistant layer in the first coating layer etching solution is 1/10 or less of the dissolution rate of the first coating layer in the first coating layer etching solution. 前記第１被覆層の表面に黒化処理を施す工程をさらに含む、請求項９に記載のタッチパネルセンサの製造方法。   The method for manufacturing a touch panel sensor according to claim 9, further comprising a step of performing a blackening process on a surface of the first covering layer. 前記第１本体層および前記第１被覆層はいずれも、９９重量％以上の銅を含み、
前記第１被覆層用エッチング液は、ギ酸を含む液、または、硫酸および過酸化水素の混合溶液からなる、請求項９または１０に記載のタッチパネルセンサの製造方法。 Both the first body layer and the first coating layer contain 99% by weight or more of copper,
11. The method for manufacturing a touch panel sensor according to claim 9, wherein the first coating layer etching solution comprises a solution containing formic acid or a mixed solution of sulfuric acid and hydrogen peroxide. 表示装置と、
前記表示装置の表示面上に配置されたタッチパネルセンサと、を備え、
前記タッチパネルセンサは、
観察者側を向く第１面および表示装置側を向く第２面を含む基材と、
前記基材の前記第１面上に設けられた複数の第１検出パターンと、を備え、
前記第１検出パターンは、遮光性および導電性を有する第１導線であって、各第１導線の間に開口部が形成されるよう網目状に配置された第１導線から構成されており、
前記第１導線は、金属からなる第１本体層と、前記第１本体層よりも観察者側に設けられ、金属からなる第１被覆層と、前記第１本体層と前記第１被覆層との間に設けられ、導電性を有する第１耐薬層と、を含み、
前記第１被覆層の表面には凹凸が形成されており、
第１被覆層用エッチング液に対する前記第１耐薬層の溶解速度は、前記第１被覆層用エッチング液に対する前記第１被覆層の溶解速度の１／１０以下であり、
前記第１被覆層は、９９重量％以上の銅を含み、
前記第１被覆層用エッチング液は、ギ酸を含む液、または、硫酸および過酸化水素の混合溶液からなる、タッチ位置検出機能付き表示装置。 A display device;
A touch panel sensor disposed on a display surface of the display device,
The touch panel sensor
A base material including a first surface facing the viewer side and a second surface facing the display device side;
A plurality of first detection patterns provided on the first surface of the base material,
The first detection pattern is a first conductive wire having light shielding properties and electrical conductivity, and includes first conductive wires arranged in a mesh shape so that an opening is formed between the first conductive wires.
The first conducting wire is provided on a viewer side of the first main body layer made of metal, the first main body layer, the first main body layer, and the first covering layer. And a first chemical resistant layer having electrical conductivity,
Unevenness is formed on the surface of the first coating layer,
The dissolution rate of the first chemical resistant layer in the first coating layer etching solution is 1/10 or less of the dissolution rate of the first coating layer in the first coating layer etching solution,
The first coating layer contains 99% by weight or more of copper,
The display device with a touch position detection function, wherein the first coating layer etching solution is made of a solution containing formic acid or a mixed solution of sulfuric acid and hydrogen peroxide. タッチパネルセンサであって、
タッチ位置を検出され得る領域に対応するアクティブエリアと、前記アクティブエリアＡａ１の周辺に位置する非アクティブエリアＡａ２と、を含む基材と、
前記アクティブエリアに配置された第１検出パターンと、
前記非アクティブエリアに配置され、前記第１検出パターンに電気的に接続された第１額縁配線と、
前記第１額縁配線を覆うオーバーコート層と、を備え、
前記第１額縁配線は、金属からなる第１本体層と、前記第１本体層よりも観察者側に設けられ、金属からなる第１被覆層と、前記第１本体層と前記第１被覆層との間に設けられ、導電性を有する第１耐薬層と、を含み、
前記第１被覆層の表面には凹凸が形成されており、
第１被覆層用エッチング液に対する前記第１耐薬層の溶解速度は、前記第１被覆層用エッチング液に対する前記第１被覆層の溶解速度の１／１０以下であり、
前記第１被覆層は、９９重量％以上の銅を含み、
前記第１被覆層用エッチング液は、ギ酸を含む液、または、硫酸および過酸化水素の混合溶液からなる、タッチパネルセンサ。 A touch panel sensor,
A base material including an active area corresponding to an area where a touch position can be detected, and an inactive area Aa2 located around the active area Aa1,
A first detection pattern disposed in the active area;
A first frame wiring disposed in the inactive area and electrically connected to the first detection pattern;
An overcoat layer covering the first frame wiring,
The first frame wiring is provided on a viewer side of the first body layer made of metal, the first body layer made of metal, the first body layer, and the first coating layer. And a first chemical resistant layer having electrical conductivity,
Unevenness is formed on the surface of the first coating layer,
The dissolution rate of the first chemical resistant layer in the first coating layer etching solution is 1/10 or less of the dissolution rate of the first coating layer in the first coating layer etching solution,
The first coating layer contains 99% by weight or more of copper,
The first coating layer etching solution is a touch panel sensor made of a solution containing formic acid or a mixed solution of sulfuric acid and hydrogen peroxide.
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