JP6230477B2 - Cutting equipment - Google Patents

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Description

本発明は、一般的に切削装置に関し、特に、切削ブレードのセットアップ時にチャックテーブルの本体部を支持する支持構造に関する。   The present invention generally relates to a cutting apparatus, and more particularly to a support structure that supports a main body of a chuck table when setting up a cutting blade.

IC,LSI等の数多くのデバイスが表面に形成され、且つ個々のデバイスが分割予定ライン(ストリート)によって区画された半導体ウエーハ(以下、単にウエーハと略称することがある)は、研削装置によって裏面が研削されて所定の厚みに加工された後、切削装置(ダイシング装置)によって分割予定ラインを切削して個々のデバイスに分割され、分割されたデバイスは携帯電話、パソコン等の各種電子機器に広く利用されている。   A semiconductor wafer (hereinafter sometimes simply referred to as a wafer) in which a large number of devices such as IC and LSI are formed on the surface and each device is partitioned by a line to be divided (hereinafter simply abbreviated as a wafer) has a back surface formed by a grinding machine. After grinding and processing to a predetermined thickness, the line to be divided is cut by a cutting device (dicing device) and divided into individual devices. The divided devices are widely used in various electronic devices such as mobile phones and personal computers. Has been.

切削装置は、ウエーハを保持するチャックテーブルと、該チャックテーブルに保持されたウエーハを切削する切削ブレードが装着されたスピンドルを回転可能に支持する切削手段と、切削手段をチャックテーブルに対して相対的に切り込み方向に移動させる切り込み送り手段と、を備えている。   The cutting apparatus includes a chuck table for holding a wafer, a cutting means for rotatably supporting a spindle on which a cutting blade for cutting the wafer held by the chuck table is mounted, and the cutting means relative to the chuck table. And a notch feeding means for moving in the notch direction.

このような切削装置では、新たな切削ブレードをスピンドルに装着した際、切削ブレードの原点位置(基準位置)を検出するセットアップを行う必要がある。切削ブレードのセットアップは、切削ブレードとチャックテーブルの上面(保持面と面一な導電性部分)を接触させて、電気的導通をとることによってチャックテーブル上面の高さ位置と切削ブレードの原点位置を検出する。   In such a cutting apparatus, when a new cutting blade is mounted on the spindle, it is necessary to set up to detect the origin position (reference position) of the cutting blade. The cutting blade is set up by bringing the cutting blade and the upper surface of the chuck table (the conductive part flush with the holding surface) into contact with each other, thereby establishing the height position of the upper surface of the chuck table and the origin position of the cutting blade. To detect.

電気的導通により切削ブレード、スピンドル、チャックテーブルを結ぶ閉回路が形成されるので、セットアップ時にはチャックテーブルを他の導電性部品から絶縁する必要がある。そのため、従来のチャックテーブルの本体部(枠体)は、アルミナセラミックス等から形成された絶縁ベースで支持されている。   Since the electrical continuity forms a closed circuit connecting the cutting blade, spindle, and chuck table, it is necessary to insulate the chuck table from other conductive parts during setup. For this reason, the main body (frame) of the conventional chuck table is supported by an insulating base made of alumina ceramic or the like.

特開2009−238928号公報JP 2009-238928

チャックテーブルの本体部を支持する従来の絶縁ベースはアルミナセラミックスから形成されているため、十分な絶縁性があり温度変化による変形が少ないという特徴を有している。しかし、アルミナセラミックスから形成された絶縁ベースは比較的高価な部品であり、衝撃によって割れたりする恐れもあった。   Since the conventional insulating base that supports the main body of the chuck table is made of alumina ceramics, it has a feature that it has sufficient insulation and is less deformed by temperature changes. However, the insulating base formed from alumina ceramics is a relatively expensive part and may be broken by an impact.

本発明はこのような点に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、安価で剛性の高い絶縁ベースを備えた切削装置を提供することである。   This invention is made | formed in view of such a point, The place made into the objective is to provide the cutting device provided with the cheap and highly rigid insulation base.

本発明によると、被加工物を保持する保持面を有するチャックテーブルと、該チャックテーブルに保持された被加工物を切削ブレードで切削する切削手段と、該切削手段を該チャックテーブルに対して相対的に切り込み方向に移動させる切り込み送り手段と、該チャックテーブルの表面に該切削ブレードを接触させて電気的導通により切り込み方向の基準位置を検出するセットアップ手段と、を備えた切削装置であって、該チャックテーブルは、該保持面と面一のセットアップ部を有する導電性の本体部と、該本体部を支持する絶縁ベースと、を含み、該絶縁ベースは、表面がセラミックコーティングにより絶縁処理されていることを特徴とする切削装置が提供される。   According to the present invention, a chuck table having a holding surface for holding a workpiece, a cutting means for cutting the workpiece held on the chuck table with a cutting blade, and the cutting means relative to the chuck table. A cutting device comprising: a cutting feed means for automatically moving in the cutting direction; and a setup means for detecting a reference position in the cutting direction by electrical conduction by bringing the cutting blade into contact with the surface of the chuck table, The chuck table includes a conductive main body having a set-up portion flush with the holding surface, and an insulating base that supports the main body, and the insulating base has a surface that is insulated by a ceramic coating. A cutting device is provided.

好ましくは、絶縁ベースはステンレス鋼がセラミックコーティングされて形成されている。好ましくは、チャックテーブルは、切削ブレードをドレッシングするドレスボードを保持するドレステーブルから構成される。   Preferably, the insulating base is formed by ceramic coating of stainless steel. Preferably, the chuck table is composed of a dress table holding a dress board for dressing the cutting blade.

本発明の切削装置は、チャックテーブルを支持する絶縁ベースとして、ステンレス鋼の表面をセラミックコーティングして表面を絶縁性に処理したものを用いているため、安価で剛性の高い絶縁ベースを提供できるという効果を奏する。   Since the cutting apparatus of the present invention uses an insulating base that supports the chuck table, the surface of the stainless steel is ceramic coated and the surface is processed to be insulative, so that an inexpensive and highly rigid insulating base can be provided. There is an effect.

本発明実施形態に係る切削装置の斜視図である。It is a perspective view of the cutting device concerning the embodiment of the present invention. チャックテーブルのセットアップを説明する一部断面側面図である。It is a partial cross section side view explaining the setup of a chuck table.

以下、本発明の実施形態を図面を参照して詳細に説明する。図1を参照すると、本発明実施形態に係る絶縁ベースを備えた切削装置の斜視図が示されている。切削装置2の前面側には、オペレータが加工条件等の装置に対する指示を入力するための操作パネル4が設けられている。装置上部には、オペレータに対する案内画面や後述する撮像ユニットによって撮像された画像が表示されるCRT等の表示モニタ6が設けられている。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. Referring to FIG. 1, a perspective view of a cutting device having an insulating base according to an embodiment of the present invention is shown. On the front side of the cutting apparatus 2, an operation panel 4 is provided for an operator to input instructions to the apparatus such as machining conditions. In the upper part of the apparatus, a display monitor 6 such as a CRT on which a guidance screen for an operator and an image captured by an imaging unit described later are displayed is provided.

半導体ウエーハ(以下、単にウエーハと略称することがある)11は、環状フレームFに装着されたダイシングテープTに貼着された後、ウエーハカセット8中に複数枚収容される。ウエーハカセット8は上下動可能なカセットエレベータ9上に載置される。   A plurality of semiconductor wafers (hereinafter sometimes simply referred to as wafers) 11 are attached to a dicing tape T attached to an annular frame F, and then housed in a wafer cassette 8. The wafer cassette 8 is placed on a cassette elevator 9 that can move up and down.

ウエーハカセット8の後方には、ウエーハカセット8から切削前のウエーハ11を搬出するとともに、切削後のウエーハをウエーハカセット8に搬入する搬出入ユニット10が配設されている。   Behind the wafer cassette 8, a loading / unloading unit 10 is provided for unloading the wafer 11 from the wafer cassette 8 and loading the wafer after cutting into the wafer cassette 8.

ウエーハカセット8と搬出入ユニット10との間には、搬出入対象のウエーハ11が一時的に載置される領域である仮置き領域12が設けられており、仮置き領域12には、ウエーハ11を一定の位置に位置合わせする位置合わせ機構14が配設されている。   Between the wafer cassette 8 and the carry-in / out unit 10, a temporary placement area 12, which is an area on which the wafer 11 to be carried in / out, is temporarily placed, is provided. An alignment mechanism 14 is provided for aligning the position at a certain position.

仮置き領域12の近傍には、ウエーハ11を吸着して搬送する旋回アームを有する搬送ユニット16が配設されており、仮置き領域12に搬出されて位置合わせされたウエーハ11は、搬送ユニット16により吸着されてチャックテーブル18上に搬送され、このチャックテーブル18に吸引保持される。   A transport unit 16 having a swivel arm that sucks and transports the wafer 11 is disposed in the vicinity of the temporary placement area 12, and the wafer 11 that has been transported to the temporary placement area 12 and aligned is transported by the transport unit 16. Is sucked and conveyed onto the chuck table 18 and sucked and held by the chuck table 18.

チャックテーブル18は、回転可能且つ図示しない加工送り機構によりX軸方向に往復動可能に構成されており、チャックテーブル18のX軸方向の移動経路の上方には、ウエーハ11の切削すべき領域を検出するアライメントユニット22が配設されている。20は環状フレームFをクランプするクランプである。   The chuck table 18 is configured to be rotatable and reciprocally movable in the X-axis direction by a machining feed mechanism (not shown). An area to be cut of the wafer 11 is formed above the movement path of the chuck table 18 in the X-axis direction. An alignment unit 22 for detection is provided. Reference numeral 20 denotes a clamp for clamping the annular frame F.

アライメントユニット22は、ウエーハ11の表面を撮像する撮像ユニット24を備えており、撮像により取得した画像に基づき、パターンマッチング等の処理によって切削すべき領域を検出することができる。撮像ユニット24によって取得された画像は、表示モニタ6に表示される。   The alignment unit 22 includes an imaging unit 24 that images the surface of the wafer 11, and can detect a region to be cut by processing such as pattern matching based on an image acquired by imaging. The image acquired by the imaging unit 24 is displayed on the display monitor 6.

アライメントユニット22の左側には、チャックテーブル18に保持されたウエーハ11に対して切削加工を施す切削ユニット26が配設されている。切削ユニット26はアライメントユニット22と一体的に構成されており、両者が連動してY軸方向及びZ軸方向に移動する。   On the left side of the alignment unit 22, a cutting unit 26 for cutting the wafer 11 held on the chuck table 18 is disposed. The cutting unit 26 is configured integrally with the alignment unit 22, and both move together in the Y-axis direction and the Z-axis direction.

切削ユニット26は、回転可能なスピンドル28の先端に外周に切刃を有する切削ブレード30が装着されて構成され、Y軸方向及びZ軸方向に移動可能となっている。切削ブレード30は撮像ユニット24のX軸方向の延長線上に位置している。切削ユニット26のY軸方向の移動は図示しない割り出し送り機構により達成される。   The cutting unit 26 is configured by mounting a cutting blade 30 having a cutting edge on the outer periphery of the end of a rotatable spindle 28 and is movable in the Y-axis direction and the Z-axis direction. The cutting blade 30 is located on the extended line of the imaging unit 24 in the X-axis direction. The movement of the cutting unit 26 in the Y-axis direction is achieved by an index feed mechanism (not shown).

34は切削加工の終了したウエーハ11を洗浄するスピンナ洗浄ユニットであり、切削加工の終了したウエーハ11は搬送ユニット32によりスピンナ洗浄ユニット34まで搬送され、スピンナ洗浄ユニット34でスピン洗浄及びスピン乾燥される。   Reference numeral 34 denotes a spinner cleaning unit that cleans the wafer 11 that has been subjected to the cutting process. The wafer 11 that has been subjected to the cutting process is transported to the spinner cleaning unit 34 by the transport unit 32, and is subjected to spin cleaning and spin drying by the spinner cleaning unit 34. .

チャックテーブル18に隣接して、切削ブレード30をドレッシングするドレスボードを吸引保持するドレステーブル36が配設されている。ドレステーブル36はステンレス鋼等の金属から形成され、その表面にはドレスボードを吸引保持する吸引溝が形成されている。   Adjacent to the chuck table 18, a dress table 36 for sucking and holding a dress board for dressing the cutting blade 30 is disposed. The dress table 36 is made of a metal such as stainless steel, and a suction groove for sucking and holding the dress board is formed on the surface of the dress table 36.

次に、図2を参照して、チャックテーブル18及びドレステーブル36のセットアップについて説明する。チャックテーブル18はSUSから形成された本体部(枠体)38と、ポーラスセラミックス等の多孔性部材から形成された吸引保持部40とから構成される。吸引保持部40の表面と本体部38のセットアップ部である表面38aとは面一に形成されている。   Next, the setup of the chuck table 18 and the dress table 36 will be described with reference to FIG. The chuck table 18 includes a main body portion (frame body) 38 formed of SUS and a suction holding portion 40 formed of a porous member such as porous ceramics. The surface of the suction holding unit 40 and the surface 38a which is a set-up unit of the main body unit 38 are formed flush with each other.

チャックテーブル18は、ベース42上に搭載されたモータ44により回転駆動される。チャックテーブル18はモータ44上に配設された絶縁ベース46上に搭載されている。絶縁ベース46は、SUS等の金属から形成されており、その表面が符号50で示すようにセラミックコーティングにより絶縁処理されている。   The chuck table 18 is rotationally driven by a motor 44 mounted on the base 42. The chuck table 18 is mounted on an insulating base 46 disposed on the motor 44. The insulating base 46 is made of a metal such as SUS, and its surface is insulated by a ceramic coating as indicated by reference numeral 50.

一方、ドレステーブル36は絶縁ベース54上に搭載されており、絶縁ベース54はベース42に立設された支柱52の上端部に固定されている。絶縁ベース54はSUS等の金属から形成され、その表面は符号58で示すようにセラミックコーティングにより絶縁処理されている。   On the other hand, the dress table 36 is mounted on an insulating base 54, and the insulating base 54 is fixed to an upper end portion of a column 52 erected on the base 42. The insulating base 54 is made of a metal such as SUS, and its surface is insulated by a ceramic coating as indicated by reference numeral 58.

チャックテーブル18を支持する絶縁ベース46のセラミックコーティングはセラミックの溶射により実施される。同様に、ドレステーブル36を支持する絶縁ベース54のセラミックコーティングはセラミックの溶射により実施される。   The ceramic coating of the insulating base 46 that supports the chuck table 18 is performed by ceramic spraying. Similarly, ceramic coating of the insulating base 54 that supports the dress table 36 is performed by ceramic spraying.

次に、切削ブレード30のチャックテーブル18に対するセットアップについて説明する。このセットアップ時には、スイッチ62を接点A側に切り替える。そして、切削ユニット26をZ軸方向に移動する切り込み送り手段を作動して、回転している切削ブレード30を下降させてチャックテーブル18のセットアップ部38aに接触させる。   Next, the setup for the chuck table 18 of the cutting blade 30 will be described. At the time of this setup, the switch 62 is switched to the contact A side. Then, the cutting feed means for moving the cutting unit 26 in the Z-axis direction is actuated to lower the rotating cutting blade 30 and bring it into contact with the setup portion 38 a of the chuck table 18.

これにより、切削ブレード30、スピンドル28及びチャックテーブル18の本体部38を接続する閉回路64が形成される。この閉回路64には電源66及び電流計68が直列に接続されているため、オペレータは電流計68で閉回路64に電流が流れることを観察することにより、切削ブレード30とチャックテーブル18との電気的導通が取られたことを確認することができる。電気的導通が取られた時の切削ブレード30の高さをZ方向の原点位置(基準位置)として検出し、この原点位置を切削装置2のコントローラのメモリに記憶する。   Thus, a closed circuit 64 that connects the cutting blade 30, the spindle 28, and the main body 38 of the chuck table 18 is formed. Since the power source 66 and the ammeter 68 are connected in series to the closed circuit 64, the operator observes the current flowing through the closed circuit 64 with the ammeter 68, so that the cutting blade 30 and the chuck table 18 are connected. It can be confirmed that electrical conduction has been achieved. The height of the cutting blade 30 when the electrical continuity is taken is detected as an origin position (reference position) in the Z direction, and this origin position is stored in the memory of the controller of the cutting device 2.

切削ブレード30のチャックテーブル18に対するセットアップ手段60は、切削ブレード30をチャックテーブル18のセットアップ部38aに接触させて形成される閉回路64により構成される。   The setup means 60 for the chuck table 18 of the cutting blade 30 is configured by a closed circuit 64 formed by bringing the cutting blade 30 into contact with the setup portion 38 a of the chuck table 18.

一方、切削ブレード30のドレステーブル36に対するセットアップ時には、スイッチ62を接点B側に切り替える。そして、切り込み送り手段を作動して切削ユニット26を下降させ、回転している切削ブレード30をドレステーブル36の表面に接触させる。   On the other hand, when the cutting blade 30 is set up for the dress table 36, the switch 62 is switched to the contact B side. Then, the cutting feed means is operated to lower the cutting unit 26 and bring the rotating cutting blade 30 into contact with the surface of the dress table 36.

これにより、切削ブレード30、スピンドル28及びドレステーブル36を接続する閉回路72が形成され、電流計68を観察することにより閉回路72に電流が流れたことを検出することができ、切削ブレード30とドレステーブル36との電気的導通が取られたことを確認することができる。この時の切削ブレード30のZ方向の高さ位置を切削ブレード30のドレステーブル36に対する原点位置としてコントローラのメモリに記憶する。   As a result, a closed circuit 72 that connects the cutting blade 30, the spindle 28, and the dress table 36 is formed. By observing the ammeter 68, it can be detected that a current has flowed through the closed circuit 72. It can be confirmed that electrical continuity is taken with the dress table 36. The height position in the Z direction of the cutting blade 30 at this time is stored in the memory of the controller as the origin position of the cutting blade 30 with respect to the dress table 36.

切削ブレード30のドレステーブル36に対するセットアップ手段70は、切削ブレード30をドレステーブル36に接触させて形成される閉回路72により構成される。   The set-up means 70 for the dressing table 36 of the cutting blade 30 is constituted by a closed circuit 72 formed by bringing the cutting blade 30 into contact with the dressing table 36.

上述した実施形態によると、チャックテーブル18を支持する絶縁ベース46及びドレステーブル36を支持する絶縁ベース54をSUS等の金属から形成し、その表面をセラミックコーティングにより絶縁処理したので、安価で剛性の高い絶縁ベース46,54を実現することができる。   According to the above-described embodiment, the insulating base 46 that supports the chuck table 18 and the insulating base 54 that supports the dress table 36 are formed from a metal such as SUS, and the surface thereof is insulated by ceramic coating. High insulating bases 46 and 54 can be realized.

18 チャックテーブル
26 切削ユニット
28 スピンドル
30 切削ブレード
36 ドレステーブル
38 本体部(枠体)
38a セットアップ部
40 吸引保持部
44 モータ
46,54 絶縁ベース
50,58 セラミックコーティング
60,70 セットアップ手段
62 スイッチ
64,72 閉回路
18 Chuck table 26 Cutting unit 28 Spindle 30 Cutting blade 36 Dress table 38 Main body (frame)
38a Setup part 40 Suction holding part 44 Motor 46, 54 Insulation base 50, 58 Ceramic coating 60, 70 Setup means 62 Switch 64, 72 Closed circuit

Claims (3)

被加工物を保持する保持面を有するチャックテーブルと、該チャックテーブルに保持された被加工物を切削ブレードで切削する切削手段と、該切削手段を該チャックテーブルに対して相対的に切り込み方向に移動させる切り込み送り手段と、該チャックテーブルの表面に該切削ブレードを接触させて電気的導通により切り込み方向の基準位置を検出するセットアップ手段と、を備えた切削装置であって、
該チャックテーブルは、
該保持面と面一のセットアップ部を有する導電性の本体部と、
該本体部を支持する絶縁ベースと、を含み、
該絶縁ベースは、表面がセラミックコーティングにより絶縁処理されていることを特徴とする切削装置。
A chuck table having a holding surface for holding a workpiece, a cutting means for cutting the workpiece held on the chuck table with a cutting blade, and the cutting means in a cutting direction relative to the chuck table A cutting device comprising: a cutting feed means for moving; and a setup means for detecting a reference position in a cutting direction by electrical conduction by bringing the cutting blade into contact with the surface of the chuck table,
The chuck table
A conductive body having a set-up portion flush with the holding surface;
An insulating base that supports the main body,
The insulating base has a surface that is insulated with a ceramic coating.
該絶縁ベースは、ステンレス鋼がセラミックコーティングされて形成されている請求項1記載の切削装置。   The cutting apparatus according to claim 1, wherein the insulating base is formed by ceramic coating of stainless steel. 前記チャックテーブルは、該切削ブレードをドレッシングするドレスボードを保持するドレステーブルから構成される請求項1又は2記載の切削装置。   The cutting apparatus according to claim 1, wherein the chuck table includes a dress table that holds a dress board that dresses the cutting blade.
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