JP6227123B2 - 放射源の制御方法およびこの放射源を備えたリソグラフィ装置 - Google Patents
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Description
[0001] 本出願は、参照により全体が本明細書に組み込まれる2013年5月20日に出願の米国仮特許出願第61/825,300号の利益を主張する。
一組以上のシステムパラメータおよび基板上の1つ以上の位置について、放射源の変数に適用されている変調による、この位置に送られるエネルギドーズへの寄与の指標である数量を計算することであって、エネルギドーズへの寄与は、放射バンドのプロファイルと、放射源によって送られる放射の照射量への寄与との畳み込みとして計算されることと、
一組以上のシステムパラメータのそれぞれ、および、基板上の1つ以上の位置のそれぞれについての数量が特定の基準を満たすような変調周波数を選択することと、を含む。
放射源によって生成される放射ビームの照射量を測定することであって、放射源は、当該放射源の出力パワーまたは照射量を変動させるように変動し得る1つ以上の変数を有し、これら1つ以上の変数のうちの1つ以上には周期的な変調が適用されることと、
1つ以上の変数と測定された放射ビームの照射量との間の関係を決定することと、
放射ビームの照射量を制御するために、決定された関係に従って放射源の1つ以上の変数の値を制御することと、
パターニングデバイスを使用して、放射ビームの断面にパターンを付与することと、
パターンが付与された放射ビームを、放射バンドとして、基板のターゲット部分上に投影することと、を含み、
周期的な変調の周波数は、本明細書に記載された方法に従って選択される。
放射源の変数の値を制御し、かつ変調が適用される制御信号を放射源に出力するように構成されたコントローラと、
放射源によって生成された放射ビームの照射量を測定するように構成された放射センサと、
放射ビームの断面にパターンを付与するように機能するパターニングデバイスを支持するように構成されたサポート構造と、
基板を支持するように構成された基板テーブルと、
基板のターゲット部分上にパターン付与された放射ビームを投影するように構成された投影システムと、を備え、
コントローラは、さらに、
放射源の変数と放射ビームの照射量との間の関係を計算し、かつ、
放射ビームの照射量を制御するために、計算された関係に従って制御信号を制御するように構成され、
適用される変調の周波数は、本明細書に記載される方法に従って選択される。
‐放射ビームPB(例えば、紫外線またはDUV放射)を調整する照明システム(イルミネータ)ILと、
‐パターニングデバイス(例えば、マスク)MAを支持し、かつ要素PLに対してパターニングデバイスを正確に位置決めするための第1位置決めデバイスPMに連結されたサポート構造(例えば、マスクテーブル)MTと、
‐基板(例えば、レジストコートウェーハ)Wを保持し、かつ要素PLに対して基板を正確に位置決めするための第2位置決めデバイスPWに連結された基板テーブル(例えば、ウェーハテーブル)WTと、
‐パターニングデバイスMAによって放射ビームPBに付けられたパターンを基板Wのターゲット部分C(例えば、1つ以上のダイを含む)上に結像するように構成された投影システム(例えば、屈折投影レンズシステム)PLと、を備える。
I(r,t)=Iso(t)×s(r,t)×m(r) (2)
上記式において、Iso(t)は放射ビームの照射量であり、s(r,t)は放射バンドの空間プロファイルを表す無次元分布であり、m(r)は、パターニングデバイスMAによって放射ビームに付与されるパターンを表す無次元分布である。以下、説明を単純化するために、パターニングデバイスMAによって放射ビームに付与されたパターンから生じるエネルギドーズへの寄与は無視されている。したがって、以下の説明では、mの値はm=1に設定されている。
s(r,t)=f(y−vst) (3)
上記式において、f(z)により表される一般形状は、実際上、(例えば、基板が実質的に静止した放射ビームの“下を”移動するため)速度vsでスキャン方向yに基板Wを横断する。
ISO(t)=ISO,continuous(t)×p(t) (5)
上記式において、ISO,continuous(t)は放射源の照射量であり、p(t)は無次元パルス波形である。ISO,continuous(t)は、等価平均(equivalent continuous)放射源の照射量としてみなされ得るものであり、パルス波形は、等価平均放射源の照射量がパルス周波数fpでどのようにサンプリングされるかを表す。
E=O+G×V (6)
上記式において、レーザの利得GおよびオフセットOは、較正プロセス中に決定され得るパラメータである。電圧の範囲が大きい場合、電圧Vと照射量Eとの間の関係をパラメータ化するには、より多くの調節可能パラメータを含むより高次の多項式が必要になり得る。
V(t)=V0+Adsin(2πfdt+φd) (8)
であり、上記式において、V0は一定のオフセット電圧であり、Ad、fd、およびφdは、振幅、周波数、および変調の位相である。電圧Vと放射ビームの照射量との間に線形関係があると想定し、ノイズの影響を無視すると、ビームの照射量は以下の式により得られる(式5参照のこと)。
Iso(t)=[I0+I1sin(2πfdt+φd)]×[p(t)] (9)
上記式において、I0は一定のオフセット照射量であり、I1は電圧V(t)に適用されたディザによる照射量への寄与の振幅である。
E(y)=E0(y)+Ed(y) (10)
上記式において、E0(y)は、変調が適用されない場合(つまり、Ad=0の場合)に同ポイントに送られることになるドーズであり、変調Ed(y)によるドーズへの寄与は、以下の式により得られる。
ファイルが所与のポイントを通り過ぎるのに要する時間が、ディザ変調の整数周期よりもディザ変調の半周期分大きい時、寄与Ed(y)は最大になり得る。したがって、このような非現実的な構成の場合、変調周波数fdの関数としてEd(y)のグラフをプロットしようとすると、変調周波数fd内に規則的な間隔で最小値が観測されることが予測される。しかし、以下においてさらに詳述するように、通常、(a)非均一なスリットプロファイルが使用される場合、または、(b)パルス型の放射源が使用される場合、このパターンは変わることになる。
Claims (40)
- 放射源の変数に適用される周期的な変調を選択する方法であって、
前記放射源は、放射を放射バンドとして基板上へ投影するためにリソグラフィ装置に送るように動作可能であり、前記リソグラフィ装置は、前記基板と前記放射とをスキャン速度で相対移動させるように動作可能であり、
前記方法は、
一組のシステムパラメータおよび前記基板上のある位置について、前記放射源の前記変数に適用されている前記変調による、前記位置に送られるエネルギドーズへの寄与の指標である数量を計算することであって、前記エネルギドーズへの寄与は、前記放射バンドのプロファイルと、前記放射源により送られる放射の照射量への寄与と、の畳み込みとして計算されることと、
前記一組のシステムパラメータおよび前記基板上の前記位置に対する前記数量が特定の基準を満たすような変調周波数を選択することと、を含み、
前記変調は、ディザ変調であり、
前記基準は、前記数量を特定の閾値未満にすること、および、前記変調周波数を前記数量が極小値であるときの値とすること、の少なくとも何れか一つを要件とする、方法。
- 前記変調は、正弦変調である、請求項1に記載の方法。
- 前記放射源は、レーザである、請求項1または2に記載の方法。
- 前記レーザは、エキシマレーザである、請求項3に記載の方法。
- 前記変調は、前記放射源の出力パワーまたは照射量の振幅に適用される、請求項1〜4のいずれか一項に記載の方法。
- 前記放射源は、前記放射源の出力パワーまたは照射量を変動させるように変動することができる変数を有し、
前記変調は、前記変数に適用される、請求項1〜5のいずれか一項に記載の方法。 - 前記放射源は、ガスレーザであり、
前記変調は、一対の放電導体間に印加される電圧に適用される、請求項6に記載の方法。 - 前記放射バンドの前記プロファイルは、非均一である、請求項1〜7のいずれか一項に記載の方法。
- 前記放射バンドの前記プロファイルは、隆起した中心部と、より低いエッジ部分と、を含む、請求項1〜8のいずれか一項に記載の方法。
- 前記放射バンドの前記プロファイルは、台形である、請求項9に記載の方法。
- 前記放射バンドの前記プロファイルは、切頭ガウシアン(truncated Gaussian)形状である、請求項9に記載の方法。
- 前記システムパラメータは、前記放射バンドが前記基板上のある位置を通り過ぎるのに要する時間を含む、請求項1〜11のいずれか一項に記載の方法。
- 前記システムパラメータは、前記放射バンドの前記プロファイルのサイズおよび形状を含む、請求項1〜12のいずれか一項に記載の方法。
- 前記システムパラメータは、前記スキャン速度を含む、請求項1〜13のいずれか一項に記載の方法。
- 前記システムパラメータは、前記変調の位相を含む、請求項1〜14のいずれか一項に記載の方法。
- 前記放射源によって生成された前記放射は、パルス周波数を有するパルス状の放射ビームである、請求項1〜15のいずれか一項に記載の方法。
- 前記システムパラメータは、前記パルス周波数を含む、請求項16に記載の方法。
- 前記システムパラメータは、前記パルス状の放射ビームの位相を含む、請求項16または17に記載の方法。
- 前記システムパラメータは、エネルギドーズに寄与するパルスの数を含む、請求項16〜18のいずれか一項に記載の方法。
- 前記システムパラメータは、前記スキャン速度対前記パルス周波数の比を含む、請求項16〜19のいずれか一項に記載の方法。
- 前記数量は、前記基板上の前記ポイントで受けられる前記エネルギドーズにおける変調の振幅であって、平均エネルギドーズのパーセンテージとして表される振幅である、請求項1〜20のいずれか一項に記載の方法。
- 前記数量は、変調が適用されない場合に前記基板上の前記位置に送られるであろうエネルギドーズに対する、前記変調による前記基板上の前記位置に送られるエネルギドーズへの前記寄与の比に比例する、請求項1〜21のいずれか一項に記載の方法。
- 前記数量は、前記放射源の変数に適用される前記変調の前記振幅によって正規化される、請求項1〜22のいずれか一項に記載の方法。
- 前記数量は、前記放射源の変数に適用される前記変調の前記振幅であって、前記変数の平均値のパーセンテージとして表される振幅によって正規化される、請求項1〜23のいずれか一項に記載の方法。
- 前記変調は、前記放射ビームバンドが前記基板上に投影されている間に、前記放射源の前記変数に適用される、請求項1〜24のいずれか一項に記載の方法。
- さらに、前記放射源の前記変数に適用される前記変調を使用して、リソグラフィ装置を較正することを含む、請求項1〜25のいずれか一項に記載の方法。
- 前記リソグラフィ装置の前記較正は、放射ビームの照射量を測定することと、これを、前記変調が適用される放射源の前記変数の値と比較することと、を含む、請求項26に記載の方法。
- 放射源によって生成される放射ビームの照射量を測定することであって、前記放射源は、当該放射源の前記出力パワーまたは前記照射量を変動させるように変動することができる変数を有し、前記変数には周期的な変調が適用されることと、
前記変数と前記放射ビームの前記測定された照射量との間の関係を決定することと、
前記放射ビームの前記照射量を制御するために、前記決定された関係に従って前記変数の値を制御することと、
パターニングデバイスを使用して前記放射ビームの断面にパターンを付与することと、
前記パターンが付与された放射ビームを放射バンドとして基板のターゲット部分上に投影することと、を含み、
前記周期的な変調の前記周波数は、請求項1〜27のいずれか一項に従って選択される、
方法。 - 前記放射ビームの前記照射量は、前記放射源の前記変数の多項式関数としてパラメータ化され、
前記リソグラフィ装置の較正は、前記多項式関数のパラメータの値を決定することを含む、請求項27または28に記載の方法。 - 前記放射ビームの前記照射量は、前記放射源の前記変数の一次関数としてパラメータ化され、
前記パラメータの値を決定することは、利得の前記値と、前記一次関数のオフセットと、を決定することを含む、請求項29に記載の方法。 - 前記パラメータの前記値を決定することは、前記放射源の前記変数に対する前記放射ビームの前記照射量の差分を決定することを含む、請求項29または30に記載の方法。
- 前記パラメータの前記値は、ロックイン増幅器を使用して決定される、請求項29〜31のいずれか一項に記載の方法。
- 前記パラメータの前記値は、スペクトル分析を使用して決定される、請求項29〜32のいずれか一項に記載の方法。
- 前記スペクトル分析は、前記放射源の前記変数の周波数成分の前記係数と、前記放射ビームの前記照射量の前記係数と、を比較することを含む、請求項33に記載の方法。
- 前記係数は、ゲーツェル(Goertzel)アルゴリズムを使用して決定される、請求項34に記載の方法。
- 前記係数は、高速フーリエ変換アルゴリズムを使用して決定される、請求項34に記載の方法。
- 前記変調の前記周波数は、エイリアシング作用が、前記パラメータの決定に無視できる程度の作用しか与えないように選択される、請求項29〜36のいずれか一項に記載の方法。
- 前記周期的な変調の最高周波数成分は、前記パルス周波数の半分よりも低い、請求項16〜37のいずれか一項に記載の方法。
- 前記較正方法は、オンラインで実行される、請求項29〜38のいずれか一項に記載の方法。
- 放射源の変数の前記値を制御し、かつ変調が適用される制御信号を前記放射源に出力するコントローラと、
前記放射源によって生成された放射ビームの前記照射量を測定する放射センサと、
基板を保持する基板テーブルと、
前記基板のターゲット部分上に前記放射ビームを投影する投影システムと、を備え、
前記コントローラは、さらに、
前記放射源の前記変数と前記放射ビームの前記照射量との間の関係を計算し、かつ、
前記放射ビームの前記照射量を制御するために、前記計算された関係に従って前記制御信号を制御し、
前記適用される変調の周波数は、請求項1〜39のいずれか一項に従って選択される、
リソグラフィ装置。
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