JP6219172B2 - ゲインを有する光検出器及びアップコンバージョン装置(ec) - Google Patents

ゲインを有する光検出器及びアップコンバージョン装置(ec) Download PDF

Info

Publication number
JP6219172B2
JP6219172B2 JP2013556797A JP2013556797A JP6219172B2 JP 6219172 B2 JP6219172 B2 JP 6219172B2 JP 2013556797 A JP2013556797 A JP 2013556797A JP 2013556797 A JP2013556797 A JP 2013556797A JP 6219172 B2 JP6219172 B2 JP 6219172B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
gain
infrared
layer
conversion device
ito
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2013556797A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2014514730A (ja
Inventor
ソ,フランキー
キム,ドヨン
バーベンドラ,プラダーン
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
University of Florida Research Foundation Inc
Nanoholdings LLC
Original Assignee
University of Florida Research Foundation Inc
Nanoholdings LLC
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by University of Florida Research Foundation Inc, Nanoholdings LLC filed Critical University of Florida Research Foundation Inc
Publication of JP2014514730A publication Critical patent/JP2014514730A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6219172B2 publication Critical patent/JP6219172B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/60OLEDs integrated with inorganic light-sensitive elements, e.g. with inorganic solar cells or inorganic photodiodes
    • H10K59/65OLEDs integrated with inorganic image sensors
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B23/00Telescopes, e.g. binoculars; Periscopes; Instruments for viewing the inside of hollow bodies; Viewfinders; Optical aiming or sighting devices
    • G02B23/12Telescopes, e.g. binoculars; Periscopes; Instruments for viewing the inside of hollow bodies; Viewfinders; Optical aiming or sighting devices with means for image conversion or intensification
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L31/00Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L31/02Details
    • H01L31/0232Optical elements or arrangements associated with the device
    • H01L31/02322Optical elements or arrangements associated with the device comprising luminescent members, e.g. fluorescent sheets upon the device
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L31/00Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L31/0248Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by their semiconductor bodies
    • H01L31/0256Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by their semiconductor bodies characterised by the material
    • H01L31/0264Inorganic materials
    • H01L31/028Inorganic materials including, apart from doping material or other impurities, only elements of Group IV of the Periodic Table
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L31/00Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L31/0248Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by their semiconductor bodies
    • H01L31/0256Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by their semiconductor bodies characterised by the material
    • H01L31/0264Inorganic materials
    • H01L31/0304Inorganic materials including, apart from doping materials or other impurities, only AIIIBV compounds
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L31/00Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L31/0248Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by their semiconductor bodies
    • H01L31/0256Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by their semiconductor bodies characterised by the material
    • H01L31/0264Inorganic materials
    • H01L31/032Inorganic materials including, apart from doping materials or other impurities, only compounds not provided for in groups H01L31/0272 - H01L31/0312
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L31/00Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L31/0248Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by their semiconductor bodies
    • H01L31/0256Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by their semiconductor bodies characterised by the material
    • H01L31/0264Inorganic materials
    • H01L31/032Inorganic materials including, apart from doping materials or other impurities, only compounds not provided for in groups H01L31/0272 - H01L31/0312
    • H01L31/0324Inorganic materials including, apart from doping materials or other impurities, only compounds not provided for in groups H01L31/0272 - H01L31/0312 comprising only AIVBVI or AIIBIVCVI chalcogenide compounds, e.g. Pb Sn Te
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L31/00Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L31/0248Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by their semiconductor bodies
    • H01L31/0352Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by their semiconductor bodies characterised by their shape or by the shapes, relative sizes or disposition of the semiconductor regions
    • H01L31/035209Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by their semiconductor bodies characterised by their shape or by the shapes, relative sizes or disposition of the semiconductor regions comprising a quantum structures
    • H01L31/035218Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by their semiconductor bodies characterised by their shape or by the shapes, relative sizes or disposition of the semiconductor regions comprising a quantum structures the quantum structure being quantum dots
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L31/00Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L31/08Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof in which radiation controls flow of current through the device, e.g. photoresistors
    • H01L31/10Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof in which radiation controls flow of current through the device, e.g. photoresistors characterised by potential barriers, e.g. phototransistors
    • H01L31/101Devices sensitive to infrared, visible or ultraviolet radiation
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K30/00Organic devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation
    • H10K30/20Organic devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation comprising organic-organic junctions, e.g. donor-acceptor junctions
    • H10K30/211Organic devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation comprising organic-organic junctions, e.g. donor-acceptor junctions comprising multiple junctions, e.g. double heterojunctions
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/60OLEDs integrated with inorganic light-sensitive elements, e.g. with inorganic solar cells or inorganic photodiodes
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K65/00Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element and at least one organic radiation-sensitive element, e.g. organic opto-couplers
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K2102/00Constructional details relating to the organic devices covered by this subclass
    • H10K2102/10Transparent electrodes, e.g. using graphene
    • H10K2102/101Transparent electrodes, e.g. using graphene comprising transparent conductive oxides [TCO]
    • H10K2102/103Transparent electrodes, e.g. using graphene comprising transparent conductive oxides [TCO] comprising indium oxides, e.g. ITO
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K30/00Organic devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation
    • H10K30/40Organic devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation comprising a p-i-n structure, e.g. having a perovskite absorber between p-type and n-type charge transport layers
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K39/00Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic radiation-sensitive element covered by group H10K30/00
    • H10K39/30Devices controlled by radiation
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K39/00Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic radiation-sensitive element covered by group H10K30/00
    • H10K39/30Devices controlled by radiation
    • H10K39/32Organic image sensors
    • H10K39/34Organic image sensors integrated with organic light-emitting diodes [OLED]
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K85/00Organic materials used in the body or electrodes of devices covered by this subclass
    • H10K85/60Organic compounds having low molecular weight
    • H10K85/615Polycyclic condensed aromatic hydrocarbons, e.g. anthracene
    • H10K85/621Aromatic anhydride or imide compounds, e.g. perylene tetra-carboxylic dianhydride or perylene tetracarboxylic di-imide
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02EREDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E10/00Energy generation through renewable energy sources
    • Y02E10/50Photovoltaic [PV] energy
    • Y02E10/549Organic PV cells

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Sustainable Development (AREA)
  • Astronomy & Astrophysics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Electroluminescent Light Sources (AREA)
  • Light Receiving Elements (AREA)
  • Photometry And Measurement Of Optical Pulse Characteristics (AREA)
  • Solid State Image Pick-Up Elements (AREA)

Description

関連出願の相互参照
本出願は、2011年2月28日に出願された米国仮特許出願第61/447,406号明細書(その内容を一切の数値、表、又は図面を含めてその全体において参照によって本願明細書に組み入れる)の利益を請求する。
既存の暗視装置は、それら自体の光源に頼らずに既にある光を増強する複雑な電気光学装置である。典型的な構成において、対物レンズと呼ばれる従来のレンズが、周辺光及び特定の近赤外線を捕らえる。次に、集められた光が映像倍増管に送られる。映像倍増管は、光陰極を使用して光エネルギーの光子を電子に変換することができる。電子が管を通過するとき、より多くの電子を管内の原子から放出させ、電子の元の数を数千倍増やすことができ、しばしばマイクロチャネルプレート(MCP)を用いて達成することができる。映像倍増管は、カスケード状に落とされた電子が管の端部の燐光体でコートされたスクリーンに当たるように配置可能であり、そこにおいて電子は、それらが通過するチャネルの位置を保持する。電子のエネルギーによって燐光体が励起状態に達して光子を放出し、暗視の特性を決定することになる緑色画像をスクリーン上に形成する。緑色燐光体の画像を接眼レンズによって見ることができ、そこにおいて画像は拡大され、焦点を合わせられる。
近年、光アップコンバージョン装置は、暗視、距離測定、及びセキュリティ、ならびに半導体ウエハ検査のそれらの潜在的用途のために、研究の大きな関心を集めている。初期の近赤外線(NIR)アップコンバージョン装置は主に無機半導体のヘテロ接合構造に基いており、そこにおいて光検出部及び発光部は連続している。アップコンバージョン装置は主に、光検出の方法によって分類される。デバイスのアップコンバージョン効率は典型的に非常に低い。例えば、発光ダイオード(LED)を半導体ベースの光検出器と統合する1つの近赤外線〜可視光線アップコンバージョン装置は、たった0.048(4.8%)W/Wの最大外部変換効率を示すにすぎない。InGaAs/InP光検出器が有機発光ダイオード(OLED)に結合されている、ハイブリッド有機/無機アップコンバージョン装置は、0.7%W/Wの外部変換効率を示す。現在、無機及びハイブリッドアップコンバージョン装置は製造するのに費用がかかり、これらのデバイスを製造するために使用されるプロセスは大面積の用途に適合していない。より高い変換効率を有する低コストのアップコンバージョン装置を達成する試みがなされているが、実用的なアップコンバージョン装置のための十分な効率を可能にする装置は把握されていない。したがって、現在利用可能であり費用効果が高い方法で製造可能である赤外線光検出器及び発光体材料を使用することができるアップコンバージョン装置のさらに高い効率を達成する必要がある。
本発明の実施形態は、カソードと、赤外線増感材料層と、電荷増倍層(CML)と、アノードとを含む、ゲインを有する赤外線光検出器に関する。CMLが赤外線増感材料層をカソードから分離し、赤外線放射がない時にカソードのフェルミ準位よりも≧0.5eV高いLUMO準位を有する。代わりに、CMLが赤外線増感材料層をアノードから分離し、赤外線放射がない時にアノードのフェルミ準位よりも≧0.5eV低いHOMO準位を有する。本発明の実施形態において、赤外線増感材料層が、PCTDA、SnPc、SnPc:C60、AlPcCl、AlPcCl:C60、TiOPc、TiOPc:C60、PbSe QD、PbS QD、PbSe、PbS、InAs、InGaAs、Si、Ge、又はGaAsを含み、CMLが、ナフタレンテトラカルボン酸無水物(NTCDA)、2,9−ジメチル−4,7−ジフェニル−1,10−フェナンスロリン(BCP)、p−ビス(トリフェニルシリル)−ベンゼン(UGH2)、4,7−ジフェニル−1,10−フェナンスロリン(BPhen)、トリス−(8−ヒドロキシキノリン)アルミニウム(Alq)、3,5’−N,N’−ジカルバゾール−ベンゼン(mCP)、C60、トリス[3−(3−ピリジル)メシチル]−ボラン(3TPYMB)、ZnO又はTiOを含む。本発明の他の実施形態において、赤外線増感材料層がPbSe QD又はPbS QDを含み、CMLがオレイン酸、アクチルアミン、エタンチオール、エタンジチオール(EDT)、又はベンゼンジチオール(bensenedithiol)(BTD)を含む。ゲインを有する赤外線光検出器が、赤外線増感材料層をアノードから分離する正孔ブロッキング層をさらに含むことができる。
本発明の他の実施形態は、ゲインを有する赤外線光検出器と有機発光ダイオード(OLED)とを含むゲインを有するアップコンバージョン装置に関する。OLEDがカソードと、電子輸送層(ETL)と、発光層(LEL)と、正孔輸送層(HTL)と、アノードとを含む。ETLが、トリス[3−(3−ピリジル)−メシチル]ボラン(3TPYMB)、2,9−ジメチル−4,7−ジフェニル−1,10−フェナンスロリン(BCP)、4,7−ジフェニル−1,10−フェナンスロリン(BPhen)、又はトリス−(8−ヒドロキシキノリン)アルミニウム(Alq)を含む。発光層(LEL)が、トリス−(2−フェニルピジン(phenylpyidine))イリジウム、Ir(ppy)、ポリ−[2−メトキシ、5−(2’−エチル−ヘキシルオキシ)フェニレンビニレン](MEH−PPV)、トリス−(8−ヒドロキシキノリン)アルミニウム(Alq)、又はイリジウム(III)ビス−[(4,6−ジ−フルオロフェニル)−ピリジネート−N,C2’]ピコリネート(FIrpic)を含む。HTLが、1,1−ビス[(ジ−4−トリルアミノ)フェニル]シクロヘキサン(TAPC)、N,N’−ジフェニル−N,N’(2−ナフチル)−(1,1’−フェニル)−4,4’−ジアミン(NPB)、又はN,N’−ジフェニル−N,N’−ジ(m−トリル)ベンジジン(TPD)を含む。ゲインを有するアップコンバージョン装置が、ゲインを有する赤外線光検出器をOLEDから分離する相互接続層をさらに含むことができる。相互接続層が、薄い金属又は積層相互接続層を含む。
図1は、赤外線増感層とアノードとの間にa)正孔ブロッキング層を有さない及びb)正孔ブロッキング層を有する、本発明の実施形態によるゲインを有する赤外線光検出器のエネルギー帯略図を示す。 図2は、a)暗闇で印加電圧下、b)初期の赤外線照射時に印加電圧下、及びc)印加電圧及び赤外線照射下の、本発明の実施形態によるゲインを有する赤外線光検出器のエネルギー帯略図を示し、そこにおいて電荷増倍層(CML)の正孔蓄積がエネルギー準位の差を低減し、そのLUMOとカソードのフェルミ準位との間のエネルギーの差を低減又は除去し、それはカソードからの電子注入を促進する。 図3は、a)本発明の実施形態による、有機赤外線増感層を有する赤外線光検出器と電圧の関数として光検出器のゲインのプロット、及びb)、本発明の実施形態による、無機赤外線増感層を有する赤外線光検出器と様々な印加電圧において波長の関数として光検出器のゲインのプロットを示す。 図4は、本発明の実施形態による、ゲインを有する赤外線〜可視光線アップコンバージョン装置のエネルギー帯略図を示す。 図5は、a)暗闇で印加電圧下、b)初期の赤外線照射時に印加電圧下、及びc)印加電圧及び赤外線照射下の本発明の実施形態によるゲインを有する赤外線〜可視光線アップコンバージョン装置のエネルギー帯略図を示し、そこにおいてCMLの正孔蓄積がエネルギー準位の差を低減し、そのLUMOとカソードのフェルミ準位との間のエネルギーの差を低減又は除去し、その結果、カソードによって注入され光検出器によって発生された電子が、可視光線発光層(LEL)に提供される。
本発明の実施形態は、ゲインを有する光検出器を含むアップコンバージョン装置に関する。ゲインを加えることによって赤外線光検出器からの信号を増幅させることができ、その結果、アップコンバージョン装置の発光体はより大きなコントラストでより高い強度を放射する。本発明の実施形態は、光検出器を電荷増倍層(CML)と結合することによってゲインを達成することを目的としている。ゲインを有する光検出器の略図を図1aに示し、そこにおいて、赤外線放射がない時に少なくとも0.5eVの注入バリアをもたらす、カソードの仕事関数に対して深い最高被占分子軌道(HOMO)及びエネルギー準位を有する最低空分子軌道(LUMO)を特徴とするCMLによって赤外線増感層、光検出器がカソードから分離される。任意選択により、本発明の実施形態において、正孔ブロッキング層(HBL)が図1bに示されるように赤外線増感層とアノードとの間に位置される。
本発明の実施形態によるゲインを有する光検出器が作用する仕方が図2aに図式的に示される。暗闇でバイアスを印加して、赤外線放射が赤外線増感層を照射しない場合、図2aに示されるようにCMLの≧0.5eVバリアのためにカソードからの電子の注入はほとんど又は全くない。図2に示されるように、デバイスは電子の単電荷デバイスとして作用する。このデバイス及び本開示の大部分のデバイスは電子の単電荷デバイスに関するが、赤外線放射がない時に正孔の単電荷デバイスとして作用するデバイスは反対の電気バイアスを加えること及びCML(そこにおいてアノードの仕事関数に対してエネルギー準位が正孔ではなく電子の蓄積を促進する)によってゲインを有するデバイスのための同様な方法で構成されてもよいことは当業者によって理解されるはずである。赤外線照射時に赤外線増感層が電子・正孔対を生じ、図2bに示されるように、印加バイアスのために電子がアノードに流れる。光発生された正孔の逆流がCMLにおいて正孔の蓄積をもたらし、それが図2cにおいて示されるように0.5eV未満までCMLへの電子注入のバリアを減少させ、印加バイアス下でアノードへの電子電流を著しく増加させる。
本発明の実施形態において、赤外線光検出層(IR photodecting layer)は無機系であり得る。典型的なアップコンバージョン装置において、PbSe量子ドット(QD)の層を赤外線光検出器として使用することができ、MEH−PPVをエレクトロルミネセントOLEDとして使用することができる。PbSeの他に、使用することができる他のQDにはPbSがあるがそれらに限定されない。赤外線光検出器として使用することができる他の無機材料にはPbSe、PbS、InAs、InGaAs、Si、Ge、又はGaAsの連続した薄いフィルムがあるがそれらに限定されない。本発明の実施形態において、赤外線光検出器は、ペリレン−3,4,9,10−テトラカルボン酸−3,4,9,10−二無水物(PTCDA)、スズ(II)フタロシアニン(SnPc)、SnPc:C60、アルミニウムフタロシアニンクロリド(AlPcCl)、AlPcCl:C60、チタニルフタロシアニン(TiOPc)、及びTiOPc:C60などがあるがそれらに限定されない材料を含む有機物又は有機金属である。
CMLを含有することによって赤外線光検出器はゲインを示し、その結果、アップコンバージョン装置の効率は改良される。典型的なCMLはナフタレンテトラカルボン酸無水物(NTCDA)である。本発明の実施形態において使用することができる他のCMLには、2,9−ジメチル−4,7−ジフェニル−1,10−フェナンスロリン(BCP)、p−ビス(トリフェニルシリル)ベンゼン(UGH2)、4,7−ジフェニル−1,10−フェナンスロリン(BPhen)、トリス−(8−ヒドロキシキノリン)アルミニウム(Alq)、3,5’−N,N’−ジカルバゾール−ベンゼン(mCP)、C60、トリス[3−(3−ピリジル)−メシチル]ボラン(3TPYMB)、ZnO、又はTiOなどがあるがそれらに限定されない。赤外線光検出器が無機系であるとき、CMLは、無機感光性材料をキャップするオレイン酸などの有機配位子であり得る。CMLを含有することによって光検出器の効率を著しく改良する。例えば、図3aに示されるように、PTCDA 赤外線増感層及びNTCDA CMLを使用して、−20Vの電位が電極の両端に印加される時に100超のゲインが観察される。光検出器としてPbSe QD及びオレイン酸、有機配位子を使用して、図3bに示されるように近赤外線において6倍までのゲインを生じるために小さな電位、−1.5Vが十分である。
本発明の他の実施形態は、CMLを含有することによってゲインを有する光検出器を有するアップコンバージョン装置に関する。本発明の実施形態によるアップコンバージョン装置の典型的なエネルギー帯略図は、図4において説明される。赤外線光検出器及びCMLの他に、アップコンバージョン装置はアノード、カソード、発光層、正孔輸送層及び電子輸送層を含む。アノードは、インジウムスズ酸化物(ITO)、インジウム亜鉛酸化物(IZO)、アルミニウムスズ酸化物(ATO)、アルミニウム亜鉛酸化物(AZO)、カーボンナノチューブ、及び銀ナノワイヤであり得るがそれらに限定されない。発光層として使用することができる材料には、トリス−(2−フェニルピジン(phenylpyidine))イリジウム、Ir(ppy)、ポリ−[2−メトキシ、5−(2’−エチル−ヘキシルオキシ)フェニレンビニレン](MEH−PPV)、トリス−(8−ヒドロキシキノリン)アルミニウム(Alq)、及びイリジウム(III)ビス[(4,6−ジ−フルオロフェニル)−ピリジネート−N,C2’]ピコリネート(FIrpic)などがあるがそれらに限定されない。カソードはLiF/Alであってもよく、又はAg、Ca、Mg、LiF/Al/ITO、Ag/ITO、CsCO/ITO及びBa/Alなどがあるがそれらに限定されない適切な仕事関数を有する任意の導体であってもよい。電子輸送層として使用することができる材料には、トリス[3−(3−ピリジル)−メシチル]ボラン(3TPYMB)、2,9−ジメチル−4,7−ジフェニル−1,10−フェナンスロリン(BCP)、4,7−ジフェニル−1,10−フェナンスロリン(BPhen)、及びトリス−(8−ヒドロキシキノリン)アルミニウム(Alq)などがあるがそれらに限定されない。正孔輸送層として使用することができる材料には、1,1−ビス[(ジ−4−トリルアミノ)フェニル]シクロヘキサン(TAPC)、N,N’−ジフェニル−N,N’(2−ナフチル)−(1,1’−フェニル)−4,4’−ジアミン(NPB)、及びN,N’−ジフェニル−N,N’−ジ(m−トリル)ベンジジン(TPD)などがあるがそれらに限定されない。アノード、カソード、赤外線光検出器、発光層、正孔輸送層、及び電子輸送層の適切な組み合わせをそれらの相対的な仕事関数、HOMO及びLUMO準位、層の相容性、及びそれらの製造の間に使用された任意の望ましい堆積方法の性質によって当業者は容易に特定することができる。また、図5に示されるように、相互接続層が含有されてもよく、そこにおいて相互接続層がアップコンバージョン装置の赤外線光検出部分をデバイスの発光部分に接続する。存在している場合、相互接続層は薄い金属(例えば厚さ約0.5〜3nmのAl、Ag、又はAu)であるか又はn型ドープト有機層/薄い金属相互接続層/p型ドープト有機層を含む積層相互接続層であってもよく、そこにおいてn型ドープト有機層はCsCOドープトBphen、CsCOドープトBCP、CsCOドープトZnO、LiドープトBphen、LiドープトBCP、LiFドープトBphen、LiFドープトBCPであってもよいがそれらに限定されず、薄い金属相互接続層は厚さ約0.5〜3nmのAl、Ag、又はAuであってもよく、p型ドープト有機層はMoOドープトTAPC、MoOドープトNPB、HAT CNドープトTAPC、又はHAT CNドープトNPBであってもよいがそれらに限定されない。
図5に示されるように、アップコンバージョン装置は赤外線感知層(IR sensing layer)が正孔及び電子を発生する時にだけ発光層(LEL)への電子の流れを可能にし、その結果、CMLは、赤外線感知層によって発生された電子に加えてカソードからの電子の流れによってゲインを促進する。図5において、電子輸送層はまた、赤外線感知層に対して正孔ブロッキング層として機能する。図5に示されるように、相互接続層は、図5に図示されるように電子の単電荷デバイスにおいて光検出器からの電子輸送を提供する。当業者によって理解され得るように、正孔の単電荷デバイスの相互接続層は正孔輸送を提供する。
最近、本発明者の一部を含む研究グループは、2010年5月24日に出願された米国仮特許出願第61/347,696号明細書(参照によって本願に組み込まれる)において、アノードと赤外線検出層との間に位置された正孔ブロッキング層(HBL)を有する改良された効率を有する赤外線〜緑色光アップコンバージョン装置を開示している。例えば、HBL層をITOアノードとSnPc:C60赤外線増感層との間に配置することができ、その結果、ITOアノードからの正孔キャリアが効率的にブロックされ、十分に高い電圧及び赤外線照射が適用されるまでアップコンバージョン装置の可視輝度を抑える。本発明の実施形態においてそれはHBLを含有し、HBLは有機化合物又は無機化合物であり得る。有機HBLは暗闇及び赤外線照射下で、例えば2,9−ジメチル−4,7−ジフェニル−1,10−フェナンスロリン(BCP)又はp−ビス(トリフェニルシリル)ベンゼン(UGH2)を含むことができる。これらのHBL材料は深いHOMO準位を有する。これらの材料はまた、小さなLUMOエネルギーを有するので、正孔ブロッキング層と赤外線増感層との間の電荷発生はごく僅かである。BCP及びUGH2の他に、本発明の実施形態において使用することができる他の有機正孔ブロッキング層には、4,7−ジフェニル−1,10−フェナンスロリン(BPhen)、トリス−(8−ヒドロキシキノリン)アルミニウム(Alq)、3,5’−N,N’−ジカルバゾール−ベンゼン(mCP)、C60、及びトリス[3−(3−ピリジル)−メシチル]ボラン(3TPYMB)などがあるがそれらに限定されない。無機HBLを含有する本発明の実施形態において、無機化合物はZnO又はTiOであり得る。電子輸送層として使用することができる材料には、トリス[3−(3−ピリジル)−メシチル]ボラン(3TPYMB)、2,9−ジメチル−4,7−ジフェニル−1,10−フェナンスロリン(BCP)、4,7−ジフェニル−1,10−フェナンスロリン(BPhen)、及びトリス−(8−ヒドロキシキノリン)アルミニウム(Alq)などがあるがそれらに限定されない。
本発明の実施形態は、赤外線(IR)放射を検出して可視出力を提供するための方法及び装置に関する。軽量で凹凸のある可撓性プラスチック基材とのそれらの適合性のために、本発明の実施形態によるアップコンバージョン装置は、暗視、距離測定、セキュリティ、及び半導体ウエハ検査などがあるがそれらに限定されない多数の用途のために、構成成分として、例えばピクセルとして使用され得る。
方法及び材料
0.04cmの面積を有する、ゲインを有する有機光検出器を20Ω/スクエアのシート抵抗を有するパターン化されたITO基材上に製造した。ITO基材を超音波洗浄器内でアセトン及びイソプロパノールで清浄化し、脱イオン水で洗浄し、Nガスでブロー乾燥し、UVオゾンで15分間処理した。PTCDA及びNTCDAをトレイン昇華によって2回以上精製した。ゲインを有する有機光検出器は構造ITO/NTCDA(50nm)/PTCDA(300nm)/NTCDA(50nm)/Au(100nm)を有し、そこにおいて上部の3層PTCDA、NTCDA及びAuはそれぞれ光増感層、CML、及び上部電極であり、1×10−6トールの圧力において1A/sの率で真空蒸着された。全ての層が1×10−6トールの圧力において真空蒸着された。
電流密度対電圧(J−V)特性を暗闇で及びLasermate Group,Inc.製の532nmの波長の緑色レーザーを用いて照射下で測定した。100μW/cmの光の強さを中性フィルター及びNewport Optical Power Meter 840−Eを用いて制御した。ゲインは、光照射によってデバイス中を流れる電荷キャリアの数の、有機フィルムによって吸収された光子の数に対する比として計算された。Au電極を接地し、電圧バイアスをITO電極上に印加した。デバイスの測定は、封入せずに空気中で行なわれた。
0.04cmの面積を有する、ゲインを有する無機光検出器を20Ω/スクエアのシート抵抗を有するパターン化されたITO基材上に製造した。オレイン酸キャッピング基を有するPbSeナノ結晶を窒素グローブボックス内のUV−オゾン処理されたITO被覆ガラス基材上にスピンコートした。厚さ100nmのAlカソードを4mmの作用面積を有するシャドウマスクを通して約10−6トールの圧力において熱堆積した。最終デバイスは、ITO/PbSeの構造を有し、オレイン酸キャッピング配位子/Alを有する。
デバイスの電流−電圧(I−V)特性をKeithley 4200半導体パラメーター分析器を用いて測定した。Orielソーラーシミュレーターを供給源として使用してNewportモノクロメーターからの単色光でデバイスを照射した。照射強度を2つの較正Newport 918D光ダイオードを1つはスペクトルの可視部及び他の1つは赤外線部のために用いて測定した。一組の中性フィルターを用いて入射照射の強度を変化させた。光検出器のスペクトル応答を得るために、モノクロメーターからの光を400Hzにおいて細断して光信号を調整した。バイアス電圧の関数としての光電流応答をStanford Research System SR810 DSPロックイン増幅器を用いて測定した。
本明細書の明示的教示と矛盾しない程度に、全ての数値及び表を含めて、本明細書において参照されるか又は引用された全ての特許、特許出願、仮出願、及び出版物をそれらの全体において参照によって組み入れるものとする。
本明細書に記載された実施例及び実施形態は例示目的にすぎず、それらを考慮に入れて様々な修正又は変更が当業者に提案され、本出願の精神及び範囲内に含まれることは理解されるはずである。

Claims (18)

  1. カソードと、無機赤外線増感材料層と、電荷増倍層(CML)と、アノードとを含む、ゲインを有する赤外線光検出器であって、当該赤外線光検出器が多層の縦型構造を有しており、前記CMLが前記赤外線増感材料層を前記カソードから分離し、赤外線放射がない時に前記カソードのフェルミ準位よりも≧0.5eV高いLUMO準位を有するか又は前記CMLが前記赤外線増感材料層を前記アノードから分離し、赤外線放射がない時に前記アノードのフェルミ準位よりも≧0.5eV低いHOMO準位を有しており、
    前記カソードがAg、Ca、Mg、インジウムスズ酸化物(ITO)、インジウム亜鉛酸化物(IZO)、アルミニウムスズ酸化物(ATO)、アルミニウム亜鉛酸化物(AZO)、LiF/Al/ITO、Ag/ITO、CsCO /ITO、カーボンナノチューブ、又は銀ナノワイヤを含むことを特徴とするゲインを有する赤外線光検出器。
  2. 請求項1に記載のゲインを有する赤外線光検出器において、前記赤外線増感材料層が、PbSe QD、PbS QD、PbSe、PbS、InAs、InGaAs、Si、Ge、又はGaAsを含むことを特徴とするゲインを有する赤外線光検出器。
  3. 請求項1に記載のゲインを有する赤外線光検出器において、前記CMLがナフタレンテトラカルボン酸無水物(NTCDA)、2,9−ジメチル−4,7−ジフェニル−1,10−フェナンスロリン(BCP)、p−ビス(トリフェニルシリル)ベンゼン(UGH2)、4,7−ジフェニル−1,10−フェナンスロリン(BPhen)、トリス−(8−ヒドロキシキノリン)アルミニウム(Alq )、3,5’−N,N’−ジカルバゾール−ベンゼン(mCP)、C 60 、トリス[3−(3−ピリジル)−メシチル]ボラン(3TPYMB)、ZnO又はTiO を含むことを特徴とするゲインを有する赤外線光検出器。
  4. 請求項1に記載のゲインを有する赤外線光検出器において、前記アノードがAg、Au、Ca、Mg、インジウムスズ酸化物(ITO)、インジウム亜鉛酸化物(IZO)、アルミニウムスズ酸化物(ATO)、アルミニウム亜鉛酸化物(AZO)、LiF/Al/ITO、Ag/ITO、CsCO /ITO、カーボンナノチューブ、又は銀ナノワイヤを含むことを特徴とするゲインを有する赤外線光検出器。
  5. 請求項1に記載のゲインを有する赤外線光検出器において、前記赤外線増感材料層がPbSe QD又はPbS QDを含み、前記CMLがオレイン酸、アクチルアミン、エタンチオール、エタンジチオール(EDT)、又はベンゼンジチオール(bensenedithiol)(BTD)を含むことを特徴とするゲインを有する赤外線光検出器。
  6. 請求項1に記載のゲインを有する赤外線光検出器において、前記赤外線増感材料層を前記アノードから分離する正孔ブロッキング層をさらに含むことを特徴とするゲインを有する赤外線光検出器。
  7. 請求項6に記載のゲインを有する赤外線光検出器において、前記正孔ブロッキング層が2,9−ジメチル−4,7−ジフェニル−1,10−フェナンスロリン(BCP)、p−ビス(トリフェニルシリル)ベンゼン(UGH2)、4,7−ジフェニル−1,10−フェナンスロリン(BPhen)、トリス−(8−ヒドロキシキノリン)アルミニウム(Alq )、3,5’−N,N’−ジカルバゾール−ベンゼン(mCP)、C 60 、トリス[3−(3−ピリジル)−メシチル]ボラン(3TPYMB)、ZnO、又はTiO を含むことを特徴とするゲインを有する赤外線光検出器。
  8. 請求項1に記載のゲインを有する赤外線光検出器と、有機発光ダイオード(OLED)とを含むことを特徴とするゲインを有するアップコンバージョン装置。
  9. 請求項8に記載のゲインを有するアップコンバージョン装置において、前記OLEDが前記カソードと、電子輸送層(ETL)と、発光層(LEL)と、正孔輸送層(HTL)と、前記アノードとを含むことを特徴とするゲインを有するアップコンバージョン装置。
  10. 請求項9に記載のゲインを有するアップコンバージョン装置において、前記カソードがAg、Ca、Mg、インジウムスズ酸化物(ITO)、インジウム亜鉛酸化物(IZO)、アルミニウムスズ酸化物(ATO)、アルミニウム亜鉛酸化物(AZO)、LiF/Al/ITO、Ag/ITO、CsCO /ITO、カーボンナノチューブ、又は銀ナノワイヤを含むことを特徴とするゲインを有するアップコンバージョン装置。
  11. 請求項9に記載のゲインを有するアップコンバージョン装置において、前記ETLがトリス[3−(3−ピリジル)−メシチル]ボラン(3TPYMB)、2,9−ジメチル−4,7−ジフェニル−1,10−フェナンスロリン(BCP)、4,7−ジフェニル−1,10−フェナンスロリン(BPhen)、又はトリス−(8−ヒドロキシキノリン)アルミニウム(Alq )を含むことを特徴とするゲインを有するアップコンバージョン装置。
  12. 請求項9に記載のゲインを有するアップコンバージョン装置において、前記発光層(LEL)がトリス−(2−フェニルピジン(phenylpyidine))イリジウム、Ir(ppy) 、ポリ−[2−メトキシ、5−(2’−エチル−ヘキシルオキシ)フェニレンビニレン](MEH−PPV)、トリス−(8−ヒドロキシキノリン)アルミニウム(Alq )、又はイリジウム(III)ビス[(4,6−ジ−フルオロフェニル)−ピリジネート−N,C2`]ピコリネート(FIrpic)を含むことを特徴とするゲインを有するアップコンバージョン装置。
  13. 請求項9に記載のゲインを有するアップコンバージョン装置において、前記HTLが1,1−ビス[(ジ−4−トリルアミノ)フェニル]シクロヘキサン(TAPC)、N,N’−ジフェニル−N,N’(2−ナフチル)−(1,1’−フェニル)−4,4’−ジアミン(NPB)、又はN,N’−ジフェニル−N,N’−ジ(m−トリル)ベンジジン(TPD)を含むことを特徴とするゲインを有するアップコンバージョン装置。
  14. 請求項9に記載のゲインを有するアップコンバージョン装置において、前記アノードがインジウムスズ酸化物(ITO)、インジウム亜鉛酸化物(IZO)、アルミニウムスズ酸化物(ATO)、アルミニウム亜鉛酸化物(AZO),カーボンナノチューブ、又は銀ナノワイヤを含むことを特徴とするゲインを有するアップコンバージョン装置。
  15. 請求項8に記載のゲインを有するアップコンバージョン装置において、請求項1に記載のゲインを有する赤外線光検出器を前記OLEDから分離する相互接続層をさらに含むことを特徴とするゲインを有するアップコンバージョン装置。
  16. 請求項15に記載のゲインを有するアップコンバージョン装置において、前記相互接続層が薄い金属又は積層相互接続層を含むことを特徴とするゲインを有するアップコンバージョン装置。
  17. 請求項16に記載のゲインを有するアップコンバージョン装置において、前記薄い金属がAl、Ag、及びAuを含み、0.1〜3nmの厚さを有することを特徴とするゲインを有するアップコンバージョン装置。
  18. 請求項16に記載のゲインを有するアップコンバージョン装置において、前記積層相互接続層がn型ドープト有機層、薄い金属層、及びp型ドープト有機層を含み、前記n型ドープト有機層がCs CO ドープトBphen、Cs CO ドープトBCP、Cs CO ドープトZnO、LiドープトBphen、LiドープトBCP、LiFドープトBphen、又はLiFドープトBCPを含み、前記薄い金属がAl、Ag、又はAuの厚さ0.1〜3nmの層を含み、及びp型ドープト有機層がMoO ドープトTAPC、MoO ドープトNPB、HAT CNドープトTAPC、又はHAT CNドープトNPBを含むことを特徴とするゲインを有するアップコンバージョン装置。
JP2013556797A 2011-02-28 2012-02-28 ゲインを有する光検出器及びアップコンバージョン装置(ec) Expired - Fee Related JP6219172B2 (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US201161447406P 2011-02-28 2011-02-28
US61/447,406 2011-02-28
PCT/US2012/026920 WO2013028232A1 (en) 2011-02-28 2012-02-28 Photodetector and upconversion device with gain (ec)

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2014514730A JP2014514730A (ja) 2014-06-19
JP6219172B2 true JP6219172B2 (ja) 2017-10-25

Family

ID=47746746

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2013556797A Expired - Fee Related JP6219172B2 (ja) 2011-02-28 2012-02-28 ゲインを有する光検出器及びアップコンバージョン装置(ec)

Country Status (11)

Country Link
US (3) US8829498B2 (ja)
EP (1) EP2666191A4 (ja)
JP (1) JP6219172B2 (ja)
KR (1) KR20140025359A (ja)
CN (1) CN105742395B (ja)
AU (1) AU2012299422A1 (ja)
BR (1) BR112013021833A2 (ja)
CA (1) CA2828364A1 (ja)
RU (1) RU2013139230A (ja)
SG (1) SG192277A1 (ja)
WO (1) WO2013028232A1 (ja)

Families Citing this family (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101513406B1 (ko) 2006-09-29 2015-04-17 유니버시티 오브 플로리다 리서치 파운데이션, 인크. 적외선 감지 및 표시를 위한 방법 및 장치
EP2577747B1 (en) 2010-05-24 2018-10-17 University of Florida Research Foundation, Inc. Method and apparatus for providing a charge blocking layer on an infrared up-conversion device
AU2012299422A1 (en) 2011-02-28 2013-09-12 Nanoholdings, Llc Photodetector and upconversion device with gain (EC)
RU2014102650A (ru) 2011-06-30 2015-08-10 Юниверсити Оф Флорида Рисеч Фаундэйшн, Инк. Усиливающий инфракрасный фотодетектор и его применение для обнаружения ик-излучения
KR20160078954A (ko) * 2013-08-29 2016-07-05 유니버시티 오브 플로리다 리서치 파운데이션, 아이엔씨. 용액-처리된 무기 반도체로부터의 공기 안정성 적외선 광검출기
WO2015193875A1 (en) * 2014-06-16 2015-12-23 B. G. Negev Technologies And Applications Ltd., At Ben-Gurion University Swir to visible image up-conversion integrated device
EP3308113A4 (en) 2015-06-11 2019-03-20 University of Florida Research Foundation, Incorporated MONODISPERSED IR ABSORPTION NANOPARTICLES AND METHODS AND DEVICES THEREOF
EP3347915A4 (en) 2015-09-11 2019-05-08 University of Florida Research Foundation, Inc. VERTICAL FIELD EFFECT TRANSISTOR
WO2017044805A1 (en) * 2015-09-11 2017-03-16 University Of Florida Research Foundation, Incorporated Light emitting phototransistor
WO2017132568A1 (en) * 2016-01-29 2017-08-03 University Of Florida Research Foundation, Incorporated Organic light-emitting diodes comprising grating structures and light extraction layers
JP2017175714A (ja) * 2016-03-22 2017-09-28 公益財団法人神奈川科学技術アカデミー 電流電圧測定システム及び電流電圧測定方法
CN108428801A (zh) * 2018-03-13 2018-08-21 华南理工大学 一种有机上转换器件
JP7163803B2 (ja) * 2019-02-01 2022-11-01 住友電気工業株式会社 半導体受光デバイス
CN110265561A (zh) * 2019-06-17 2019-09-20 深圳扑浪创新科技有限公司 一种纯量子点上转换发光器件及其制备方法

Family Cites Families (23)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11329736A (ja) * 1998-05-20 1999-11-30 Futaba Corp 光変調鏡
JP2000349365A (ja) * 1999-06-07 2000-12-15 Futaba Corp 光電流増倍素子
JP2001006876A (ja) * 1999-06-25 2001-01-12 Futaba Corp 光−光変換素子
US20030052365A1 (en) 2001-09-18 2003-03-20 Samir Chaudhry Structure and fabrication method for capacitors integratible with vertical replacement gate transistors
US20040031965A1 (en) * 2002-08-16 2004-02-19 Forrest Stephen R. Organic photonic integrated circuit using an organic photodetector and a transparent organic light emitting device
US6869699B2 (en) * 2003-03-18 2005-03-22 Eastman Kodak Company P-type materials and mixtures for electronic devices
US7053412B2 (en) * 2003-06-27 2006-05-30 The Trustees Of Princeton University And Universal Display Corporation Grey scale bistable display
US6881502B2 (en) 2003-09-24 2005-04-19 Eastman Kodak Company Blue organic electroluminescent devices having a non-hole-blocking layer
US6972431B2 (en) * 2003-11-26 2005-12-06 Trustees Of Princeton University Multilayer organic photodetectors with improved performance
US7300731B2 (en) 2004-08-10 2007-11-27 E.I. Du Pont De Nemours And Company Spatially-doped charge transport layers
WO2007017475A1 (de) * 2005-08-08 2007-02-15 Siemens Aktiengesellschaft Organischer photodetektor mit erhöhter empfindlichkeit, sowie verwendung eines triarylmin-fluoren-polymers als zwischenschicht in einem photodetektor
JP2009509129A (ja) * 2005-08-25 2009-03-05 エドワード・サージェント 高利得及び高感度の量子ドット光学デバイス及びその作製方法
JP2008016831A (ja) * 2006-06-09 2008-01-24 Sumitomo Chemical Co Ltd 光−光変換デバイス
KR101513406B1 (ko) * 2006-09-29 2015-04-17 유니버시티 오브 플로리다 리서치 파운데이션, 인크. 적외선 감지 및 표시를 위한 방법 및 장치
US20100044676A1 (en) * 2008-04-18 2010-02-25 Invisage Technologies, Inc. Photodetectors and Photovoltaics Based on Semiconductor Nanocrystals
US7821807B2 (en) * 2008-04-17 2010-10-26 Epir Technologies, Inc. Nonequilibrium photodetectors with single carrier species barriers
JP5258037B2 (ja) * 2008-09-08 2013-08-07 国立大学法人京都大学 光電変換素子、その製造方法、及び太陽電池
WO2010120393A2 (en) * 2009-01-12 2010-10-21 The Regents Of The University Of Michigan Enhancement of organic photovoltaic cell open circuit voltage using electron/hole blocking exciton blocking layers
TWI380490B (en) 2009-05-05 2012-12-21 Univ Nat Chiao Tung Organic photosensitive photoelectric device
EP2504675A4 (en) * 2009-11-24 2016-08-17 Univ Florida METHOD AND APPARATUS FOR DETECTING INFRARED RADIATION
EP2577747B1 (en) 2010-05-24 2018-10-17 University of Florida Research Foundation, Inc. Method and apparatus for providing a charge blocking layer on an infrared up-conversion device
AU2011332300A1 (en) * 2010-11-23 2013-06-06 Nanoholdings, Llc IR photodetectors with high detectivity at low drive voltage
AU2012299422A1 (en) 2011-02-28 2013-09-12 Nanoholdings, Llc Photodetector and upconversion device with gain (EC)

Also Published As

Publication number Publication date
KR20140025359A (ko) 2014-03-04
CN105742395B (zh) 2019-02-15
AU2012299422A1 (en) 2013-09-12
BR112013021833A2 (pt) 2017-03-28
US20140217365A1 (en) 2014-08-07
CN105742395A (zh) 2016-07-06
SG192277A1 (en) 2013-09-30
US9196661B2 (en) 2015-11-24
CA2828364A1 (en) 2013-02-28
US8829498B2 (en) 2014-09-09
EP2666191A4 (en) 2018-01-03
EP2666191A1 (en) 2013-11-27
WO2013028232A8 (en) 2013-09-19
RU2013139230A (ru) 2015-04-10
US9214502B2 (en) 2015-12-15
CN103443935A (zh) 2013-12-11
JP2014514730A (ja) 2014-06-19
US20150171149A1 (en) 2015-06-18
US20140353502A1 (en) 2014-12-04
WO2013028232A1 (en) 2013-02-28
CN103443935B (zh) 2016-03-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6219172B2 (ja) ゲインを有する光検出器及びアップコンバージョン装置(ec)
US20120126204A1 (en) Ir photodetectors with high detectivity at low drive voltage
US20170117335A1 (en) Method and apparatus for detecting infrared radiation with gain
US9997571B2 (en) Method and apparatus for providing a charge blocking layer on an infrared up-conversion device
US20140111652A1 (en) Infrared imaging device integrating an ir up-conversion device with a cmos image sensor
US20140060613A1 (en) Method and apparatus for integrating an infrared (ir) photovoltaic cell on a thin film photovoltaic cell
US10483325B2 (en) Light emitting phototransistor
Guo Low noise, high detectivity photodetectors based on organic materials

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20150226

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20160129

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20160202

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20160502

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20160629

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20160728

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20170131

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20170531

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821

Effective date: 20170601

A911 Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911

Effective date: 20170807

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20170829

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20170927

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6219172

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees