JP6201286B2 - 量子ドット型赤外線検出器のバイアス電圧決定システムとその製造方法、バイアス電圧決定方法及び制御プログラム - Google Patents
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Description
まず、本発明の実施の形態1にかかる量子ドット型赤外線検出器100について説明する。量子ドット型赤外線検出器100では、例えばInAsのS−K量子ドットが用いられる。InAsからなるS−K量子ドットは、GaAsよりも格子定数が大きいInAsからなる数原子層程度の薄い層(濡れ層とも称する)を、GaAs基板上に積層させることで、自発的に形成される。
次に、本発明の実施の形態2について説明する。本実施の形態は、量子ドット型赤外線検出器100のバイアス電圧の調整方法にかかるものである。本調整方法により、エネルギーオフセットΔεが0となるバイアス電圧を決定することができる。図10は、量子ドット型赤外線検出器100のバイアス電圧の調整するためのシステム構成を模式的に示すブロック図である。
次に、実施の形態3にかかる量子ドット型赤外線検出器300について説明する。量子ドット型赤外線検出器300は、量子ドット型赤外線検出器100の積層体11を積層体41に置換した構成を有する。図12は、実施の形態3にかかる量子ドット型赤外線検出器300の積層体41の構成を模式的に示す断面図である。積層体41は、積層体42が繰り返し積層された構造を有する。積層体42は、積層体11と同様の構成を有する。換言すれば、量子ドット型赤外線検出器300は、積層体11が複数積み重なった構造を有する。
2 i−GaAs緩衝層
3 下部n型コンタクト層
4 n−GaAs上部コンタクト層
5 上部コンタクト電極
6 受光窓
7 下部コンタクト電極
10 メサ部
11、41、42 積層体
12a、12b、12c GaAs中間層
13 第1の量子ドット層
13a 第1の量子ドット
14 第2の量子ドット層
14a 第2の量子ドット
15 二重量子ドット
16、17 フォトレジストパターン
31、32 基底状態
51 結合状態
52 反結合状態
100、300 量子ドット型赤外線検出器
201 コントローラ
202 バイアス電源
203 読み出し装置
204 分光器
205 参照光源
206 プログラム
S1〜S6 ステップ
Claims (9)
- 量子ドット型赤外線検出器と、
参照光を出力する参照光源と、
前記参照光源から特定の波長及び半値全幅を有する光を前記量子ドット型赤外線検出器に出力する分光手段と、
前記量子ドット型赤外線検出器にバイアス電圧を印可するバイアス電源と、
前記量子ドット型赤外線検出器の光電流の値を読み出す読み出し手段と、
前記分光手段に前記光を出力させ、前記バイアス電源に前記バイアス電圧を変化させながら、前記読み出し手段に前記量子ドット型赤外線検出器の光電流を測定させることにより、前記光電流がピーク構造をとる場合のバイアス電圧を、二重量子ドットのエネルギーオフセットを0にするバイアス電圧として決定するコントローラと、を備え、
前記量子ドット型赤外線検出器は、
半導体基板と、
半導体基板の上方に積層された受光層である積層体と、を備え、
前記積層体は、
前記半導体基板の上方に積層された第1の半導体層と、
前記第1の半導体層の上方に積層された厚みが10nm以下である第2の半導体層と、
前記第2の半導体層の上方に積層された第3の半導体層と、
前記第1の半導体層と前記第2の半導体層との間に積層され、前記第2の半導体層との間の界面に第1の量子ドットが形成された第1の量子ドット層と、
前記第2の半導体層と前記第3の半導体層との間に積層され、前記第1の量子ドット層の略上方に前記第1の量子ドットと前記二重量子ドットを構成する第2の量子ドットが前記第3の半導体層との間の界面に形成された第2の量子ドット層と、を備え、
前記積層体には、外部からバイアス電圧が印加される、
量子ドット型赤外線検出器のバイアス電圧決定システム。 - 前記受光層で検出される赤外線の波長は、前記エネルギーオフセットがゼロとなるバイアス電圧を基準として、前記バイアス電圧を変化させることで調整される、
請求項1に記載の量子ドット型赤外線検出器のバイアス電圧決定システム。 - 前記第1の量子ドットの高さは、前記第2の量子ドットの高さと異なる、
請求項1又は2に記載の量子ドット型赤外線検出器のバイアス電圧決定システム。 - 前記第1の量子ドットの高さは、前記第2の量子ドットの高さよりも低い、
請求項3に記載の量子ドット型赤外線検出器のバイアス電圧決定システム。 - 前記第1の量子ドット層は、前記第1の半導体層よりも格子定数が大きく、
前記第2の量子ドット層は、前記第2の半導体層よりも格子定数が大きい、
請求項1乃至4のいずれか一項に記載の量子ドット型赤外線検出器のバイアス電圧決定システム。 - 前記積層体を複数備え、
複数の前記積層体は繰り返し積層される、
請求項1乃至5のいずれか一項に記載の量子ドット型赤外線検出器のバイアス電圧決定システム。 - 前記分光手段に、前記二重量子ドットのサブバンド間遷移波長を中心波長とする、半値全幅5μm以下の光を出力させる処理と、
前記光が入射された状態で、前記バイアス電源に前記バイアス電圧を変化させながら、前記読み出し手段に前記量子ドット型赤外線検出器の光電流を測定させる処理と、
前記光電流がピーク構造をとる場合のバイアス電圧を検出させる処理と、
前記検出されたバイアス電圧を、前記二重量子ドットのエネルギーオフセットを0にするバイアス電圧として決定させる処理と、を請求項1乃至6のいずれか一項に記載の前記量子ドット型赤外線検出器のバイアス電圧決定システムの前記コントローラに実行させる、
量子ドット型赤外線検出器のバイアス電圧決定システムの制御プログラム。 - 請求項1乃至6のいずれか一項に記載の前記量子ドット型赤外線検出器のバイアス電圧決定システムに、前記二重量子ドットのサブバンド間遷移波長を中心波長とする、半値全幅5μm以下の光を入射させ、
前記光が入射された状態で、前記バイアス電圧を変化させながら前記量子ドット型赤外線検出器の光電流を測定し、
前記光電流がピーク構造をとる場合のバイアス電圧を検出し、
前記検出されたバイアス電圧を、前記二重量子ドットのエネルギーオフセットを0にするバイアス電圧として決定する、
量子ドット型赤外線検出器のバイアス電圧決定システムのバイアス電圧決定方法。 - 量子ドット型赤外線検出器と、
参照光を出力する参照光源と、
前記参照光源から特定の波長及び半値全幅を有する光を前記量子ドット型赤外線検出器に出力する分光手段と、
前記量子ドット型赤外線検出器にバイアス電圧を印可するバイアス電源と、
前記量子ドット型赤外線検出器の光電流の値を読み出す読み出し手段と、
前記分光手段に前記光を出力させ、前記バイアス電源に前記バイアス電圧を変化させながら、前記読み出し手段に前記量子ドット型赤外線検出器の光電流を測定させることにより、前記光電流がピーク構造をとる場合のバイアス電圧を、二重量子ドットのエネルギーオフセットを0にするバイアス電圧として決定するコントローラと、を設け、
半導体基板の上方に、受光層である積層体を積層し、
前記積層体の積層に際して、
前記半導体基板の上に第1の半導体層を積層し、
前記第1の半導体層の上に、前記第1の半導体層よりも格子定数が大きい第1の量子ドット層を積層することにより第1の量子ドットを形成し、
前記第1の量子ドット層の上に、厚みが10nm以下である第2の半導体層を積層し、
前記第2の半導体層の上に、前記第2の半導体層よりも格子定数が大きい第2の量子ドット層を積層することにより第2の量子ドットを形成し、
前記第2の量子ドット層の上に、第3の半導体層を積層して、前記量子ドット型赤外線検出器を形成し、
前記積層体には、外部からバイアス電圧が印加される、
量子ドット型赤外線検出器のバイアス電圧決定システムの製造方法。
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JP2012205533A JP6201286B2 (ja) | 2012-09-19 | 2012-09-19 | 量子ドット型赤外線検出器のバイアス電圧決定システムとその製造方法、バイアス電圧決定方法及び制御プログラム |
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