JP6194155B2 - RESIN COMPOSITION FOR REFLECTOR, RESIN FRAME FOR REFLECTOR, REFLECTOR, SEMICONDUCTOR LIGHT EMITTING DEVICE, AND MOLDING METHOD - Google Patents

RESIN COMPOSITION FOR REFLECTOR, RESIN FRAME FOR REFLECTOR, REFLECTOR, SEMICONDUCTOR LIGHT EMITTING DEVICE, AND MOLDING METHOD Download PDF

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Description

本発明は、リフレクター用樹脂組成物、リフレクター用樹脂フレーム、リフレクター、半導体発光装置、及びリフレクター用樹脂組成物を用いた成形方法に関する。   The present invention relates to a resin composition for reflectors, a resin frame for reflectors, a reflector, a semiconductor light emitting device, and a molding method using the resin composition for reflectors.

半導体発光装置の一つであるLED素子は、小型で長寿命であり、省電力性に優れることから、表示灯等の光源として広く利用されている。そして近年では、より輝度の高いLED素子が比較的安価に製造されるようになったことから、蛍光ランプ及び白熱電球に替わる光源としての利用が検討されている。このような光源に適用する場合、大きな照度を得るために、表面実装型LEDパッケージ、即ち、アルミニウム等の金属製の基板(LED実装用基板)上に複数のLED素子を配置し、各LED素子の周りに光を所定方向に反射させるリフレクター(反射体)を配設する方式が多用されている。   An LED element, which is one of semiconductor light emitting devices, is widely used as a light source for an indicator lamp or the like because it is small and has a long lifetime and is excellent in power saving. In recent years, LED elements with higher brightness have been manufactured at a relatively low cost, and therefore, use as a light source to replace fluorescent lamps and incandescent bulbs has been studied. When applying to such a light source, in order to obtain a large illuminance, a plurality of LED elements are arranged on a surface-mounted LED package, that is, a metal substrate (LED mounting substrate) such as aluminum, and each LED element. A system is often used in which a reflector (reflector) that reflects light in a predetermined direction is disposed around the.

しかし、LED素子は発光時に発熱を伴うため、このような方式のLED照明装置では、LED素子の発光時の温度上昇やLED素子からの直接の光によりリフレクターが劣化してその反射率が低下することで輝度が低下し、LED素子の短寿命化等を招くこととなる。従って、リフレクターには耐熱性・耐光性が要求されることとなる。   However, since the LED element generates heat during light emission, in such a type of LED lighting device, the reflector deteriorates due to the temperature rise during light emission of the LED element or direct light from the LED element, and the reflectance decreases. As a result, the luminance is lowered, and the life of the LED element is shortened. Therefore, the reflector is required to have heat resistance and light resistance.

上記耐熱性・耐光性の要求に応えるべく、特許文献1では、発光ダイオードのリフレクターに用いるポリマー組成物を提案し、具体的には、ポリフタルアミド、カーボンブラック、二酸化チタン、ガラス繊維、及び酸化防止剤を含むポリマー組成物を開示している。そして、当該組成物について熱老化後の反射率を測定し、カーボンブラックを含有しないポリマー組成物に比べて、当該組成物では良好な反射率が得られ、黄変も少ないことを示している。
また特許文献2では、トリアジン誘導体エポキシ樹脂、アルミナ、球状シリカ粒子を含むポリマー組成物を開示している。良好な反射率が得られ、黄変も少ないことを示している。
In order to meet the above requirements for heat resistance and light resistance, Patent Document 1 proposes a polymer composition used for a reflector of a light emitting diode, specifically, polyphthalamide, carbon black, titanium dioxide, glass fiber, and oxidation. Disclosed is a polymer composition comprising an inhibitor. And the reflectance after heat aging is measured about the said composition, Compared with the polymer composition which does not contain carbon black, the favorable reflectance is obtained with the said composition, and it has shown that there is also little yellowing.
Patent Document 2 discloses a polymer composition containing a triazine derivative epoxy resin, alumina, and spherical silica particles. It shows that good reflectance is obtained and yellowing is small.

特表2006−503160号公報JP-T-2006-503160 特開2009−149845号公報JP 2009-149845 A

しかし、特許文献1に記載のポリマー組成物の熱老化試験は170℃で3時間という短時間での評価であり、より長時間の実用的な条件での反射率変化で良好な結果が得られるかどうかは不明である。
特許文献2に記載のポリマー組成物の熱老化試験は150℃で500時間というより実用的な条件で検証しているが、硬化成形時間90秒、ポストキュア150℃2時間と長く、またプロセス時にバリが発生するなど量産化に問題があった。
However, the heat aging test of the polymer composition described in Patent Document 1 is an evaluation in 170 hours at a short time of 3 hours, and a good result can be obtained by changing the reflectance under a longer practical condition. Whether it is unknown.
The heat aging test of the polymer composition described in Patent Document 2 has been verified under a more practical condition of 150 hours at 150 ° C., but has a long curing molding time of 90 seconds and a post-cure 150 ° C. of 2 hours. There was a problem in mass production such as burrs.

以上から、本発明は、耐熱性・耐光性が高く、生産性にも優れるリフレクターを作製することが可能なリフレクター用樹脂組成物を提供することを目的とする。また、当該樹脂組成物を用いたリフレクター用樹脂フレーム、リフレクター、半導体発光装置、及び当該樹脂組成物を用いた成形方法を提供することを目的とする。   In light of the above, an object of the present invention is to provide a resin composition for a reflector that can produce a reflector having high heat resistance and light resistance and excellent productivity. Moreover, it aims at providing the molding method using the resin frame for reflectors using the said resin composition, a reflector, a semiconductor light-emitting device, and the said resin composition.

本発明者は、上記目的を達成するために鋭意研究を重ねた結果、下記の発明により当該目的を達成できることを見出した。すなわち、本発明は下記の通りである。   As a result of intensive studies to achieve the above object, the present inventor has found that the object can be achieved by the following invention. That is, the present invention is as follows.

[1] ポリアリレートと、白色顔料と、該白色顔料を除く無機粒子とを含み、
前記白色顔料が、有機シロキサン及び/又は無機化合物で表面処理されている酸化チタン、窒化ホウ素、及び、メラミンシアヌレートから選ばれる少なくとも1種であるリフレクター用樹脂組成物。
[2] 前記白色顔料以外の無機粒子がガラス繊維である[1]に記載のリフレクター用樹脂組成物。
[3] 上記[1]又は[2]に記載のリフレクター用樹脂組成物を成形してなるリフレクター用樹脂フレーム。
[4] 厚さが0.1〜3.0mmである[3]に記載のリフレクター用樹脂フレーム。
[5] 上記[1]又は[2]に記載のリフレクター用樹脂組成物を硬化してなるリフレクター。
[6] 光半導体素子と、前記光半導体素子の周りに設けられ、該光半導体素子からの光を所定方向に反射させるリフレクターとを基板上に有し、
前記リフレクターの光反射面が[1]又は[2]に記載のリフレクター用樹脂組成物の硬化物である半導体発光装置。
[7] 上記[1]又は[2]に記載のリフレクター用樹脂組成物を射出温度200〜400℃、金型温度20〜200℃で射出成形する成形方法。
[1] comprising polyarylate, a white pigment, and inorganic particles excluding the white pigment,
A resin composition for a reflector, wherein the white pigment is at least one selected from titanium oxide, boron nitride, and melamine cyanurate that are surface-treated with an organic siloxane and / or an inorganic compound.
[2] The resin composition for reflectors according to [1], wherein the inorganic particles other than the white pigment are glass fibers.
[3] A reflector resin frame obtained by molding the reflector resin composition according to [1] or [2].
[4] The reflector resin frame according to [3], which has a thickness of 0.1 to 3.0 mm.
[5] A reflector obtained by curing the resin composition for reflectors according to [1] or [2].
[6] An optical semiconductor element and a reflector that is provided around the optical semiconductor element and reflects light from the optical semiconductor element in a predetermined direction are provided on the substrate.
The semiconductor light-emitting device whose light reflection surface of the said reflector is a hardened | cured material of the resin composition for reflectors as described in [1] or [2].
[7] A molding method of injection-molding the reflector resin composition according to [1] or [2] at an injection temperature of 200 to 400 ° C. and a mold temperature of 20 to 200 ° C.

本発明によれば、耐熱性・耐光性が高く、生産性にも優れるリフレクターを作製することが可能なリフレクター用樹脂組成物を提供することができる。また、当該樹脂組成物を用いたリフレクター用樹脂フレーム、リフレクター、半導体発光装置、及び当該樹脂組成物を用いた成形方法を提供することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the resin composition for reflectors which can produce the reflector which is high in heat resistance and light resistance and excellent in productivity can be provided. Moreover, the resin frame for reflectors using the said resin composition, a reflector, a semiconductor light-emitting device, and the shaping | molding method using the said resin composition can be provided.

本発明の半導体発光装置の一例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows an example of the semiconductor light-emitting device of this invention. 本発明の半導体発光装置の一例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows an example of the semiconductor light-emitting device of this invention.

[1.リフレクター用樹脂組成物及び成形方法]
本発明のリフレクター用樹脂組成物は、ポリアリレートと、白色顔料と、前記白色顔料を除く無機粒子と、を含んでなる。
[1. Reflector resin composition and molding method]
The resin composition for reflectors of the present invention comprises polyarylate, a white pigment, and inorganic particles excluding the white pigment.

ポリアリレートとしては、芳香族ジカルボン酸とビスフェノール類のジアセテートとからなる共重合体である。芳香族ジカルボン酸としてはテレフタル酸、イソフタル酸、ナフタレンジカルボン酸等があり、これらは1種でもよく、また2種を混合してもよい。ビスフェノール類のジアセテートとしては2,2−ビス(4’−ヒドロキシフェニル)−プロパンのジアセテートすなわちビスフェノールAのジアセテート等が挙げられる。
ポリアリレートの数平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーによるポリスチレン換算で、300〜3×105程度、好ましくは500〜1×105程度、さらに好ましくは500〜5×104程度である。
また、一般的にポリアリレートは紫外光による樹脂の分子構造がベンゾフェノン構造に転位する光フリース転位を起こし着色するが、現行のLED素子の発光波長は可視光領域であるため起こりえない。万一、光フリース転位を起こした場合でも、初期はわずかに着色し反射率が一時的に低下するが、紫外線を吸収するため材料の物性、透過率等の劣化を抑制し、結果的に優れた耐光性を示すリフレクターとなる。
なお、後述する白色顔料として、窒化ホウ素やメラミンシアヌレートは紫外光を効果的に反射するため、ポリアリレートの光フリース転位を軽減することが可能である。
The polyarylate is a copolymer comprising an aromatic dicarboxylic acid and a bisphenol diacetate. Aromatic dicarboxylic acids include terephthalic acid, isophthalic acid, naphthalenedicarboxylic acid and the like, and these may be used alone or in combination. Examples of diacetates of bisphenols include diacetates of 2,2-bis (4′-hydroxyphenyl) -propane, that is, diacetates of bisphenol A.
The number average molecular weight of the polyarylate is about 300 to 3 × 10 5 , preferably about 500 to 1 × 10 5 , and more preferably about 500 to 5 × 10 4 in terms of polystyrene by gel permeation chromatography.
In general, polyarylate is colored by light fleece rearrangement in which the molecular structure of the resin by ultraviolet light rearranges to a benzophenone structure, but it cannot occur because the emission wavelength of the current LED element is in the visible light region. Even if optical fleece dislocation occurs, the initial color is slightly colored and the reflectivity temporarily decreases. However, since it absorbs ultraviolet rays, it suppresses deterioration of material properties, transmittance, etc., resulting in excellent results. It becomes a reflector showing high light resistance.
As white pigments described later, boron nitride and melamine cyanurate effectively reflect ultraviolet light, so that the light fleece rearrangement of polyarylate can be reduced.

本発明に係る白色顔料としては、「有機シロキサン及び/又は無機化合物で表面処理されている酸化チタン」、「窒化ホウ素」、及び「メラミンシアヌレート」のいずれかを使用する。
白色顔料の含有量は、ポリアリレート100質量部に対し、5〜200質量部であることが好ましく、10〜100質量部であることがより好ましく、20〜60質量部であることがさらに好ましい。
As the white pigment according to the present invention, any one of “titanium oxide surface-treated with organosiloxane and / or inorganic compound”, “boron nitride”, and “melamine cyanurate” is used.
The content of the white pigment is preferably 5 to 200 parts by mass, more preferably 10 to 100 parts by mass, and still more preferably 20 to 60 parts by mass with respect to 100 parts by mass of polyarylate.

白色顔料の平均粒径は成形性を考慮し高い反射率を得る観点から一次粒度分布において0.10〜0.50μmであることが好ましく、0.10〜0.40μmであることがより好ましく、0.21〜0.25μmであることがさらに好ましい。平均粒径は、レーザー光回折法による粒度分布測定における質量平均値D50として求めることができる。   The average particle diameter of the white pigment is preferably 0.10 to 0.50 μm, more preferably 0.10 to 0.40 μm in the primary particle size distribution from the viewpoint of obtaining high reflectance in consideration of moldability, More preferably, it is 0.21-0.25 micrometer. An average particle diameter can be calculated | required as mass average value D50 in the particle size distribution measurement by a laser beam diffraction method.

また、表面処理を施していない酸化チタンはポリアリレート樹脂を分解し易いが、本発明に係る酸化チタンは所定の表面処理が施されいるので、かかる分解が抑制される。
例えば、無機化合物で表面処理する場合、アルミナ水和物単独、又は、該アルミナ水和物とシリカ水和物及び/又はジルコニア化合物(ジルコニア水和物)との組み合せにより、酸化チタンを表面処理することが好ましい。
有機シロキサンで表面処理する場合、ポリオルガノシロキサン又はポリオール化合物、あるいはポリオルガノシロキサン及びポリオール化合物との組み合わせ(ポリオルガノシロキサン系の表面処理剤)により、表面処理を施すことが好ましい。
また、樹脂中の酸化チタンの分散状態を良好に保ちつつ、ポリアリレート樹脂の分解を抑制することができることから、無機化合物での表面処理及び有機シロキサンでの表面処理を併用することが好ましい。
In addition, titanium oxide not subjected to surface treatment easily decomposes the polyarylate resin. However, since the titanium oxide according to the present invention is subjected to predetermined surface treatment, such decomposition is suppressed.
For example, when the surface treatment is performed with an inorganic compound, the surface treatment of titanium oxide is performed by using alumina hydrate alone or a combination of the alumina hydrate and silica hydrate and / or zirconia compound (zirconia hydrate). It is preferable.
When the surface treatment is performed with an organosiloxane, it is preferable to perform the surface treatment with a polyorganosiloxane or a polyol compound, or a combination of a polyorganosiloxane and a polyol compound (polyorganosiloxane-based surface treatment agent).
Further, since the decomposition of the polyarylate resin can be suppressed while maintaining a good dispersion state of the titanium oxide in the resin, it is preferable to use a surface treatment with an inorganic compound and a surface treatment with an organic siloxane in combination.

表面処理方法としては、湿式法と乾式法といった方法が挙げられる。
湿式法は、例えば、ポリオルガノシロキサン系の表面処理剤と溶剤との混合物に、アルミナ水和物、さらに必要に応じてシリカ水和物及び/又はジルコニア化合物で前処理された二酸化チタンを加え、撹拌した後に脱溶媒を行い、更にその後100〜300℃で熱処理する方法である。
乾式法は、上記と同様に前処理された酸化チタンとポリオルガノシロキサン系の表面処理剤とを、ヘンシェルミキサー等で混合する方法、前処理された酸化チタンにポリオルガノシロキサン系の表面処理剤の有機溶液を噴霧して付着させ、100〜300℃で熱処理する方法である。
なお、上記のような表面処理が施された酸化チタンとしては、市販されたものを使用することもできる。
Examples of the surface treatment method include a wet method and a dry method.
In the wet method, for example, alumina hydrate, and if necessary, titanium dioxide pretreated with silica hydrate and / or zirconia compound are added to a mixture of a polyorganosiloxane-based surface treatment agent and a solvent, In this method, the solvent is removed after stirring, followed by heat treatment at 100 to 300 ° C.
In the dry method, the pretreated titanium oxide and the polyorganosiloxane surface treatment agent are mixed with a Henschel mixer or the like in the same manner as described above, and the pretreated titanium oxide is mixed with the polyorganosiloxane surface treatment agent. In this method, the organic solution is sprayed and adhered, and heat treatment is performed at 100 to 300 ° C.
In addition, as the titanium oxide subjected to the surface treatment as described above, a commercially available one can be used.

アルミナ水和物単独、又は、該アルミナ水和物とシリカ水和物及び/又はジルコニア化合物との組み合せによる処理量は、酸化チタンの光反射性、樹脂組成物の成形性を考慮すれば酸化チタンに対し0.1〜10.0質量%程度が適当である。   The amount of treatment by alumina hydrate alone or a combination of the alumina hydrate and silica hydrate and / or zirconia compound is determined by considering the light reflectivity of titanium oxide and the moldability of the resin composition. About 0.1-10.0 mass% is suitable with respect to it.

ポリオルガノシロキサンとしては、アルキル水素シリコーン、アルコキシシリコーン等が挙げられる。アルキル水素シリコーンとしては、例えば、メチル水素シリコーン、エチル水素シリコーン等がある。   Examples of the polyorganosiloxane include alkyl hydrogen silicone and alkoxy silicone. Examples of the alkyl hydrogen silicone include methyl hydrogen silicone and ethyl hydrogen silicone.

アルコキシシリコーンとしては、例えば、メトキシシリコーン、エトキシシリコーン等が挙げられる。特に好ましいアルコキシシリコーンは、アルコキシ基が直接又は二価炭化水素基を介してケイ素原子に結合したアルコキシシリル基を含むシリコーン化合物であり、例えば、直鎖状、環状、網状及び一部分岐を有する直鎖状のポリオルガノシロキサンが挙げられ、特に直鎖状ポリオルガノシロキサンが好ましい。さらに具体的には、シリコーン主鎖に対してメチレン鎖を介してアルコキシ基と結合する分子構造を有するポリオルガノシロキサンが好ましい。   Examples of the alkoxysilicone include methoxysilicone and ethoxysilicone. Particularly preferred alkoxysilicone is a silicone compound containing an alkoxysilyl group in which an alkoxy group is bonded to a silicon atom directly or via a divalent hydrocarbon group, for example, a straight chain having a linear shape, a cyclic shape, a network shape, and a partial branch. In particular, a linear polyorganosiloxane is preferable. More specifically, polyorganosiloxane having a molecular structure bonded to an alkoxy group via a methylene chain with respect to the silicone main chain is preferable.

このような成分としては、例えば、市販の東レ・ダウコーニング(株)製のSH1107、SR2402、BY16−160、BY16−161、BY16−160E、BY16−161E等を好適に使用することができる。
アルコキシシリコーンによる処理量は、酸化チタン成分100質量部に対して、0.05〜5.0質量部程度が好ましく、0.05〜3.0質量部であることがより好ましい。
As such a component, for example, commercially available SH1107, SR2402, BY16-160, BY16-161, BY16-160E, BY16-161E manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd. can be preferably used.
The treatment amount with alkoxysilicone is preferably about 0.05 to 5.0 parts by mass, and more preferably 0.05 to 3.0 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the titanium oxide component.

また、ポリオールは、水分の吸着量をある程度まで低下させる効果も有するため、酸化チタン粒子が疎水化され、樹脂との親和性が良好となる。ポリオール化合物としては、例えばトリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、トリプロパノールエタン、ペンタエリスリトール、及びペンタエリトリット等を挙げることができ、中でもトリメチロールエタン、トリメチロールプロパンが特に好ましい。ポリオールによる処理量は酸化チタン粒子に対し0.5〜5質量%程度が好ましい。   In addition, since the polyol also has an effect of reducing the moisture adsorption amount to a certain extent, the titanium oxide particles are hydrophobized and the affinity with the resin is improved. Examples of the polyol compound include trimethylol ethane, trimethylol propane, tripropanol ethane, pentaerythritol, and pentaerythritol. Among them, trimethylol ethane and trimethylol propane are particularly preferable. The treatment amount with the polyol is preferably about 0.5 to 5% by mass with respect to the titanium oxide particles.

また、本発明に係る窒化ホウ素粒子は、六方晶構造(h−BN)、閃亜鉛鉱構造(c−BN)、ウルツ鉱構造(w−BN)、及び菱面体構造(r−BN)のいずれも適用可能であるが、鱗片状のいわゆる六方晶構造の窒化ホウ素粒子であることが耐熱性やコストの点から好ましい。
本発明に係るメラミンシアヌレートとは、メラミン分子とシアヌル酸分子が水素結合により平面状に配列し、化学式Cで表される化合物のことをいう。
Further, the boron nitride particles according to the present invention may be any one of a hexagonal structure (h-BN), a zinc blende structure (c-BN), a wurtzite structure (w-BN), and a rhombohedral structure (r-BN). However, it is preferable to use boron nitride particles having a so-called hexagonal crystal structure in the form of scales from the viewpoint of heat resistance and cost.
The melamine cyanurate according to the present invention refers to a compound represented by the chemical formula C 6 H 9 N 9 O 3 in which melamine molecules and cyanuric acid molecules are arranged in a plane by hydrogen bonds.

本発明に係る無機粒子(上記白色顔料を除く)としては、通常熱可塑樹脂組成物及びエポキシ樹脂組成物に配合されるものを単独もしくは混合して、形状は特に限定されず使用することができる。例えば、ガラス繊維、溶融シリカ、溶融球状シリカ、結晶性シリカ等のシリカ類、アルミナ、窒化珪素、窒化アルミニウム、三酸化アンチモン等が挙げられる。なかでもガラス繊維が好ましく、含有量は、ポリアリレート100質量部に対し、10〜200質量部であることが好ましく、25〜150質量部であることがより好ましく、25〜120質量部であることがさらに好ましい。   As the inorganic particles according to the present invention (excluding the above white pigment), those usually blended in the thermoplastic resin composition and the epoxy resin composition may be used alone or mixed, and the shape is not particularly limited and can be used. . Examples thereof include silica such as glass fiber, fused silica, fused spherical silica, crystalline silica, alumina, silicon nitride, aluminum nitride, antimony trioxide, and the like. Among them, glass fiber is preferable, and the content is preferably 10 to 200 parts by mass, more preferably 25 to 150 parts by mass, and more preferably 25 to 120 parts by mass with respect to 100 parts by mass of polyarylate. Is more preferable.

無機粒子の形状は特に限定されるものではないが、樹脂の強度を向上させる観点から繊維状のもの(例えば、上記ガラス繊維)が好ましい。繊維状の場合、平均繊維長は30〜100μmであることが好ましく、平均繊維径は10〜20μmであることが好ましい。当該平均繊維長及び平均繊維径は、ガラス繊維積層体の任意な点からランダムに所定量のガラス繊維を抜き取り、抜き取った繊維を乳鉢等で粉砕し、画像処理装置により計測することで求めることができる。   The shape of the inorganic particles is not particularly limited, but a fibrous one (for example, the above glass fiber) is preferable from the viewpoint of improving the strength of the resin. In the case of a fiber, the average fiber length is preferably 30 to 100 μm, and the average fiber diameter is preferably 10 to 20 μm. The average fiber length and the average fiber diameter can be obtained by randomly extracting a predetermined amount of glass fiber from an arbitrary point of the glass fiber laminate, pulverizing the extracted fiber with a mortar or the like, and measuring with an image processing apparatus. it can.

本発明のリフレクター用樹脂組成物は、ポリアリレートと、白色顔料と白色顔料を除く無機粒子とを既述のような所定量で混合して作製することができる。混合方法としては、2本ロールあるいは3本ロール、単軸混練装置や2軸混練装置やポリラボシステムやラボプラストミル等の溶融混練機等の公知の手段を適用することができる。これらは常温、冷却状態、加熱状態、常圧、減圧状態、加圧状態のいずれで行ってもよい。
なお、本発明の効果を損なわない限り、種々の添加剤を含有させることができる。例えば、樹脂組成物の性質を改善する目的で種々のウィスカー、シリコーンパウダー、熱可塑性エラストマー、有機合成ゴム、脂肪酸エステル、グリセリン酸エステル、ステアリン酸亜鉛、ステアリン酸カルシウム等の内部離型剤や、ベンゾフェノン系、サリチル酸系、シアノアクリレート系、イソシアヌレート系、シュウ酸アニリド系、ベンゾエート系、ヒンダートアミン系、ベンゾトリアゾール系、フェノール系の酸化防止剤や、ヒンダードアミン系、ベンゾエート系の光安定剤といった添加剤を配合することができる。
The resin composition for a reflector of the present invention can be prepared by mixing polyarylate, white pigment, and inorganic particles excluding white pigment in a predetermined amount as described above. As the mixing method, known means such as a two-roll or three-roll, a single-screw kneader, a twin-screw kneader, a polylab system, or a melt kneader such as a lab plast mill can be applied. These may be performed at normal temperature, cooling state, heating state, normal pressure, reduced pressure state, or pressurized state.
Various additives can be added as long as the effects of the present invention are not impaired. For example, various whisker, silicone powder, thermoplastic elastomer, organic synthetic rubber, fatty acid ester, glycerate ester, zinc stearate, calcium stearate and other internal release agents for the purpose of improving the properties of the resin composition, benzophenone series Additives such as salicylic acid-based, cyanoacrylate-based, isocyanurate-based, oxalic acid anilide-based, benzoate-based, hindered amine-based, benzotriazole-based, phenol-based antioxidants, hindered amine-based and benzoate-based light stabilizers Can be blended.

本発明のリフレクター用樹脂組成物を用いることで、種々の成形体を成形することができ、より厚みの薄い成形体(例えば、リフレクター)を作製することができる。このような成形体は、本発明の成形方法により、すなわち、本発明のリフレクター用樹脂組成物を用い、射出温度を200〜400℃、金型温度を20〜200℃として作製することが好ましい。   By using the resin composition for a reflector of the present invention, various molded products can be molded, and a molded product having a thinner thickness (for example, a reflector) can be produced. Such a molded body is preferably produced by the molding method of the present invention, that is, by using the resin composition for a reflector of the present invention, with an injection temperature of 200 to 400 ° C. and a mold temperature of 20 to 200 ° C.

以上のような本発明のリフレクター用樹脂組成物は、基材上に塗布し硬化させた複合材料やリフレクター用樹脂組成物の硬化物として種々の用途に適用することができる。例えば、太陽電池の光反射シートやLEDを始めとした照明やテレビ用の光源のリフレクターとして適用することができる。   The reflector resin composition of the present invention as described above can be applied to various applications as a composite material coated on a substrate and cured, or as a cured product of a reflector resin composition. For example, it can be applied as a reflector of a light source for a light reflection sheet or LED for a solar cell or a television.

[2.リフレクター用樹脂フレーム]
本発明のリフレクター用樹脂フレームは既述の本発明のリフレクター用樹脂組成物を成形してなる。具体的には、本発明のリフレクター用樹脂をペレットとし、射出成形により所望の形状の樹脂フレームとすることで、本発明のリフレクター用樹脂フレームが製造される。リフレクター用樹脂フレームの厚さは0.1〜3.0mmであることが好ましい。
[2. Resin frame for reflectors]
The reflector resin frame of the present invention is formed by molding the above-described reflector resin composition of the present invention. Specifically, the resin frame for reflectors of the present invention is manufactured by using the resin for reflectors of the present invention as pellets and forming a resin frame of a desired shape by injection molding. The thickness of the reflector resin frame is preferably 0.1 to 3.0 mm.

本発明のリフレクター用樹脂フレームは、これにLEDチップを載せてさらに公知に封止剤により封止を行い、ダイボンディングを行なって所望の形状にすることで、半導体発光装置とすることができる。なお、本発明のリフレクター用樹脂フレームは、リフレクターとして作用するが、半導体発光装置を支える枠としても機能する。   The resin frame for a reflector of the present invention can be made into a semiconductor light emitting device by placing an LED chip on this, further sealing with a known sealing agent, and performing die bonding to obtain a desired shape. In addition, although the resin frame for reflectors of this invention acts as a reflector, it functions also as a frame which supports a semiconductor light-emitting device.

[3.リフレクター]
本発明のリフレクターは、既述の本発明のリフレクター用樹脂組成物を硬化してなる。
当該リフレクターは、後述する半導体発光装置と組み合わせて用いてよいし、他の材料からなる半導体発光装置(LED実装用基板)と組み合わせて用いてもよい。
本発明のリフレクターは、主として、半導体発光装置のLED素子からの光をレンズ(出光部)の方へ反射させる作用を有する。リフレクターの詳細については、本発明の半導体発光装置に適用されるリフレクター(後述するリフレクター12)と同じであるためここでは省略する。
[3. Reflector]
The reflector of the present invention is formed by curing the above-described resin composition for a reflector of the present invention.
The reflector may be used in combination with a semiconductor light-emitting device to be described later, or may be used in combination with a semiconductor light-emitting device (LED mounting substrate) made of another material.
The reflector of the present invention mainly has an action of reflecting light from the LED element of the semiconductor light emitting device toward the lens (light emitting portion). The details of the reflector are the same as those of the reflector (reflector 12 described later) applied to the semiconductor light emitting device of the present invention, and are omitted here.

[4.半導体発光装置]
本発明の半導体発光装置は、図1に例示するように、光半導体素子(例えばLED素子)10と、この光半導体素子10の周りに設けられ、光半導体素子10からの光を所定方向に反射させるリフレクター12とを基板14上に有してなる。そして、リフレクター12の光反射面の少なくとも一部(図1の場合は全部)が既述の本発明のリフレクター組成物の硬化物で構成されてなる。
[4. Semiconductor light emitting device]
As illustrated in FIG. 1, the semiconductor light emitting device of the present invention is provided around an optical semiconductor element (for example, an LED element) 10 and the optical semiconductor element 10, and reflects light from the optical semiconductor element 10 in a predetermined direction. A reflector 12 is provided on the substrate 14. And at least one part (all in the case of FIG. 1) of the light reflection surface of the reflector 12 is comprised with the hardened | cured material of the reflector composition of the above-mentioned this invention.

光半導体素子10は、放射光(一般に、白色光LEDにおいてはUV又は青色光)を放出する、例えば、AlGaAs、AlGaInP、GaP又はGaNからなる活性層を、n型及びp型のクラッド層により挟んだダブルヘテロ構造を有する半導体チップ(発光体)であり、例えば、一辺の長さが0.5mm程度の六面体の形状をしている。そして、ワイヤーボンディング実装の形態の場合には、リード線16を介して不図示の電極(接続端子)に接続されている。   The optical semiconductor element 10 emits radiated light (generally UV or blue light in a white light LED), for example, an active layer made of AlGaAs, AlGaInP, GaP or GaN sandwiched between n-type and p-type cladding layers. It is a semiconductor chip (light emitter) having a double heterostructure, and has a hexahedral shape with a side length of about 0.5 mm, for example. In the case of wire bonding mounting, it is connected to an electrode (connection terminal) (not shown) via a lead wire 16.

リフレクター12の形状は、レンズ18の端部(接合部)の形状に準じており、通常、角形、円形、楕円形等の筒状又は輪状である。図1の概略断面図においては、リフレクター12は、筒状体(輪状体)であり、リフレクター12のすべての端面が基板14の表面に接触、固定されている。
なお、リフレクター12の内面は、光半導体素子10からの光の指向性を高めるために、テーパー状に上方に広げられていてもよい(図1参照)。
また、リフレクター12は、レンズ18側の端部を、当該レンズ18の形状に応じた形に加工された場合には、レンズホルダーとしても機能させることができる。
The shape of the reflector 12 conforms to the shape of the end portion (joint portion) of the lens 18 and is usually a cylindrical shape such as a square shape, a circular shape, or an oval shape, or an annular shape. In the schematic cross-sectional view of FIG. 1, the reflector 12 is a cylindrical body (annular body), and all the end faces of the reflector 12 are in contact with and fixed to the surface of the substrate 14.
In addition, in order to improve the directivity of the light from the optical semiconductor element 10, the inner surface of the reflector 12 may be expanded upward in a tapered shape (see FIG. 1).
The reflector 12 can also function as a lens holder when the end portion on the lens 18 side is processed into a shape corresponding to the shape of the lens 18.

リフレクター12は、図2に示すように、光反射面側だけを本発明のリフレクター用樹脂組成物からなる光反射層12aとしてもよい。この場合、光反射層12aの厚さは、熱抵抗を低くする等の観点から、500μm以下とすることが好ましく、300μm以下とすることがより好ましい。光反射層12aが形成される部材12bは、公知の耐熱性樹脂で構成することができる。   As shown in FIG. 2, the reflector 12 is good also considering only the light reflection surface side as the light reflection layer 12a which consists of the resin composition for reflectors of this invention. In this case, the thickness of the light reflection layer 12a is preferably 500 μm or less, and more preferably 300 μm or less, from the viewpoint of reducing the thermal resistance. The member 12b on which the light reflecting layer 12a is formed can be made of a known heat resistant resin.

既述のようにリフレクター12上にはレンズ18が設けられているが、これは通常樹脂製であり、目的、用途等により様々な構造が採用され、着色されることもある。   As described above, the lens 18 is provided on the reflector 12, but this is usually made of a resin, and various structures may be adopted and colored depending on the purpose and application.

基板14とリフレクター12とレンズ18とで形成される空間部は、透明封止部であってよいし、必要により空隙部であってもよい。この空間部は、通常、透光性及び絶縁性を与える材料等が充填された透明封止部であり、ワイヤーボンディング実装において、リード線16に直接接触することにより加わる力、及び、間接的に加わる振動、衝撃等により、光半導体素子10との接続部、及び/又は、電極との接続部からリード線16が外れたり、切断したり、短絡したりすることによって生じる電気的な不具合を防止することができる。また、同時に、湿気、塵埃等から光半導体素子10を保護し、長期間に渡って信頼性を維持することができる。   The space formed by the substrate 14, the reflector 12, and the lens 18 may be a transparent sealing portion, or may be a gap if necessary. This space portion is usually a transparent sealing portion filled with a light-transmitting and insulating material, and the force applied by directly contacting the lead wire 16 in wire bonding mounting and indirectly. Prevents electrical defects caused by the lead wire 16 being disconnected, cut, or short-circuited from the connection portion with the optical semiconductor element 10 and / or the connection portion with the electrode due to applied vibration, impact, etc. can do. At the same time, the optical semiconductor element 10 can be protected from moisture, dust, etc., and the reliability can be maintained over a long period of time.

この透光性及び絶縁性を与える材料(透明封止剤組成物)としては、通常、シリコーン樹脂、エポキシシリコーン樹脂、エポキシ系樹脂、アクリル系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリカーボネート樹脂等が挙げられる。これらのうち、耐熱性、耐候性、低収縮性及び耐変色性の観点から、シリコーン樹脂が好ましい。   Examples of the material (transparent encapsulant composition) that imparts light-transmitting properties and insulating properties usually include silicone resins, epoxy silicone resins, epoxy resins, acrylic resins, polyimide resins, polycarbonate resins, and the like. Of these, silicone resins are preferred from the viewpoints of heat resistance, weather resistance, low shrinkage, and discoloration resistance.

以下に、図1に示す半導体発光装置の製造方法の一例について説明する。
まず、上記本発明の反射材樹脂組成物を、所定形状のキャビティ空間を備える金型を用いた圧縮成形、射出成形等により、所定形状のリフレクター12を成形する。その後、別途、準備した光半導体素子10、電極及びリード線16を、接着剤又は接合部材により基板14に固定し、さらにリフレクター12に基板14上に固定する。次いで、基板14及びリフレクター12により形成された凹部に、シリコーン樹脂等を含む透明封止剤組成物を注入し、加熱、乾燥等により硬化させて透明封止部とする。その後、透明封止部上にレンズ18を配設して、図1に示す半導体発光装置が得られる。
なお、透明封止剤組成物が未硬化の状態でレンズ18を載置してから、組成物を硬化させてもよい。
Below, an example of the manufacturing method of the semiconductor light-emitting device shown in FIG. 1 is demonstrated.
First, the reflector 12 having a predetermined shape is molded from the reflective resin composition of the present invention by compression molding, injection molding, or the like using a mold having a cavity space having a predetermined shape. Thereafter, the separately prepared optical semiconductor element 10, electrodes and lead wires 16 are fixed to the substrate 14 with an adhesive or a bonding member, and further fixed to the reflector 12 on the substrate 14. Next, a transparent sealant composition containing a silicone resin or the like is poured into the recess formed by the substrate 14 and the reflector 12, and cured by heating, drying, or the like to obtain a transparent sealing portion. Thereafter, the lens 18 is disposed on the transparent sealing portion to obtain the semiconductor light emitting device shown in FIG.
In addition, after mounting the lens 18 in a state where the transparent sealant composition is uncured, the composition may be cured.

次に、本発明を実施例によりさらに詳細に説明するが、本発明はこれらの例によってなんら限定されるものではない。なお、本実施例1〜9及び比較例1〜8において使用した材料は下記の通りである。   EXAMPLES Next, although an Example demonstrates this invention further in detail, this invention is not limited at all by these examples. In addition, the material used in the present Examples 1-9 and Comparative Examples 1-8 is as follows.

(1)透明樹脂
・ポリアリレート:Uポリマー U−100、ユニチカ(株)製、ガラス転移点193℃
・ポリメチルペンテン樹脂:TPX RT18、三井化学(株)製、融点232℃
・ノルボルネン重合体:ZEONOR 1600、日本ゼオン(株)製、ガラス転移点 163℃
・半芳香族ポリアミド(2−メチルペンタメチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン及びテレフタル酸をそれぞれ25モル%、25モル%及び50モル%の割合で重合してなる半芳香族ポリアミド):ザイテルHTN501、デュポン(株)製、融点305℃、ガラス転移温度125℃
・液晶ポリマー:ベクトラC950RX、ポリプラスチックス(株)製、融点325℃
(1) Transparent resin / polyarylate: U polymer U-100, manufactured by Unitika Ltd., glass transition point 193 ° C.
Polymethylpentene resin: TPX RT18, manufactured by Mitsui Chemicals, mp 232 ° C
Norbornene polymer: ZEONOR 1600, manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd., glass transition point 163 ° C.
Semi-aromatic polyamide (semi-aromatic polyamide obtained by polymerizing 2-methylpentamethylenediamine, hexamethylenediamine and terephthalic acid in proportions of 25 mol%, 25 mol% and 50 mol%, respectively): Zytel HTN501, DuPont ( Co., Ltd., melting point 305 ° C, glass transition temperature 125 ° C
Liquid crystal polymer: Vectra C950RX, manufactured by Polyplastics Co., Ltd., melting point 325 ° C.

(2)白色顔料
・酸化チタン粒子:PC−3(石原産業(株)製 ルチル型構造 平均粒径0.21μm、ルチル型、比重4.2、表面処理成分:アルミナ水和物、シリカ水和物、ポリオール化合物、ポリオルガノシロキサン)
・酸化チタン粒子:CR−90(石原産業(株)製 ルチル型構造 平均粒径0.21μm、ルチル型、比重4.2、表面処理成分:アルミナ水和物、シリカ水和物)
・酸化チタン粒子:PF−690(石原産業(株)製 ルチル型構造 平均粒径0.21μm、ルチル型、比重4.2、表面処理成分:アルミナ水和物、シリカ水和物、ポリオール化合物)
・酸化チタン粒子(表面未処理):酸化チタン(和光純薬工業(株) ルチル型構造 平均粒径0.21μm、比重4.2、表面処理成分:無し)
・窒化ホウ素粒子:UHP−S1(昭和電工(株)製 鱗片状の六方晶構造、体積平均粒径1.5μm、表面処理成分:無し)
・メラミンシアヌレート粒子:MC−6000(日産化学(株)製 平均粒径2.0μm、表面処理成分:無し)
・酸化亜鉛粒子:LP−ZINC2(堺化学工業(株)製 平均粒径2μm、表面処理成分:無し)
・酸化マグネシウム粒子:酸化マグネシウム(和光純薬工業(株)製 平均粒径0.2μm、表面処理成分:無し)
・酸化アルミニウム粒子:CBP−02(昭和電工(株)製 平均粒径2μm、表面処理成分:無し)
・水酸化マグネシウム粒子:マグシーズN−6(神島化学(株)製 平均粒径1.1μm、表面処理成分:有機脂肪酸)
・タルク粒子:ハイミクロンHE5(竹原化学工業(株)製 平均粒径1.6μm、表面処理成分:無し)
・炭酸カルシウム粒子:WS−2200(竹原化学工業(株)製 平均粒径1.3μm)
・硫酸バリウム粒子:硫酸バリウム(和光純薬工業(株)製 平均粒径1.5μm、表面処理成分:無し)
(2) White pigment / titanium oxide particles: PC-3 (Ishihara Sangyo Co., Ltd. Rutile structure average particle size 0.21 μm, rutile type, specific gravity 4.2, surface treatment components: alumina hydrate, silica hydration Product, polyol compound, polyorganosiloxane)
-Titanium oxide particles: CR-90 (Ishihara Sangyo Co., Ltd. made rutile type structure average particle size 0.21 μm, rutile type, specific gravity 4.2, surface treatment components: alumina hydrate, silica hydrate)
Titanium oxide particles: PF-690 (Ishihara Sangyo Co., Ltd. Rutile structure average particle size 0.21 μm, rutile type, specific gravity 4.2, surface treatment components: alumina hydrate, silica hydrate, polyol compound)
-Titanium oxide particles (surface untreated): Titanium oxide (Wako Pure Chemical Industries, Ltd. rutile structure average particle size 0.21 μm, specific gravity 4.2, surface treatment components: none)
Boron nitride particles: UHP-S1 (manufactured by Showa Denko KK, scaly hexagonal crystal structure, volume average particle size 1.5 μm, surface treatment component: none)
Melamine cyanurate particles: MC-6000 (Nissan Chemical Co., Ltd. average particle size 2.0 μm, surface treatment component: none)
-Zinc oxide particles: LP-ZINC2 (manufactured by Sakai Chemical Industry Co., Ltd., average particle size 2 μm, surface treatment component: none)
Magnesium oxide particles: Magnesium oxide (Wako Pure Chemical Industries, Ltd. average particle size 0.2 μm, surface treatment component: none)
・ Aluminum oxide particles: CBP-02 (manufactured by Showa Denko KK, average particle diameter of 2 μm, surface treatment component: none)
Magnesium hydroxide particles: Magseeds N-6 (manufactured by Kamishima Chemical Co., Ltd., average particle size 1.1 μm, surface treatment component: organic fatty acid)
-Talc particle: Hi-micron HE5 (Takehara Chemical Industries, Ltd. average particle size 1.6 μm, surface treatment component: none)
Calcium carbonate particles: WS-2200 (Takehara Chemical Co., Ltd. average particle size 1.3 μm)
Barium sulfate particles: Barium sulfate (Wako Pure Chemical Industries, Ltd. average particle size 1.5 μm, surface treatment component: none)

(3)無機充填剤
・ガラス繊維:CS 3J−941(日東紡(株)製、繊維長3mm)
・ガラス繊維:CSG3PA−830(日東紡(株)製、繊維長3mm)
(3) Inorganic filler / glass fiber: CS 3J-941 (manufactured by Nittobo Co., Ltd., fiber length: 3 mm)
Glass fiber: CSG3PA-830 (manufactured by Nittobo Co., Ltd., fiber length 3 mm)

(4)添加剤
・シランカップリング剤:KBM−303(信越化学(株)製)
・酸化防止剤 :IRGANOX1010(BASF・ジャパン(株)製)
・加工安定剤 :IRGAFOS168(BASF・ジャパン(株)製)
・離型剤 :SZ−2000(堺化学(株)製)
(4) Additive / Silane coupling agent: KBM-303 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.)
Antioxidant: IRGANOX 1010 (BASF Japan Ltd.)
・ Processing stabilizer: IRGAFOS168 (manufactured by BASF Japan)
Mold release agent: SZ-2000 (manufactured by Sakai Chemical Co., Ltd.)

[実施例1〜9、比較例1〜16]
下記表1に示す配合において、透明樹脂(ポリアリレート)及び各種粒子を配合、混練し、リフレクター用樹脂組成物を得た。なお、混練はロールで行った。
[Examples 1 to 9, Comparative Examples 1 to 16]
In the blending shown in Table 1 below, a transparent resin (polyarylate) and various particles were blended and kneaded to obtain a reflector resin composition. The kneading was performed with a roll.

これらの組成物につき、310〜370℃、10秒の条件で、750mm×750mm×厚さ1mmにプレス成形し、成形体を作製した。この成形体について下記諸特性を評価した。結果を下記表1に示す。   These compositions were press-molded into 750 mm × 750 mm × thickness 1 mm under conditions of 310 to 370 ° C. and 10 seconds to produce molded bodies. The following various characteristics of this molded product were evaluated. The results are shown in Table 1 below.

(評価1)
・分散性:外観、光反射率
成形体の表面の色を目視で観察した。波長230〜780nmにおける光反射率を分光光度計UV−2550(島津製作所製)を使用して測定した。
(Evaluation 1)
-Dispersibility: Appearance, light reflectance The color of the surface of the molded body was visually observed. The light reflectance at a wavelength of 230 to 780 nm was measured using a spectrophotometer UV-2550 (manufactured by Shimadzu Corporation).

(評価2)
・耐熱性:外観の黄変化、光反射率の変化
成形体を150℃で500時間、1,000時間放置した後で、波長230〜780nmにおける光反射率を分光光度計UV−2550(島津製作所製)を使用して測定した。
表1及び表2には、波長450nmでの結果を示す。
(Evaluation 2)
-Heat resistance: yellow change in appearance, change in light reflectance After the molded body was left at 150 ° C for 500 hours and 1,000 hours, the light reflectance at a wavelength of 230 to 780 nm was measured with a spectrophotometer UV-2550 (Shimadzu Corporation). ).
Tables 1 and 2 show the results at a wavelength of 450 nm.

・耐光性:外観の黄変性
成形体を100℃で500時間、400nm以下の波長をカットしたXe光で照射する前と照射した後で、その表面の色の変化を目視で観察した。放置前の白色を保っていれば良好な耐光性を有することになる。表中の「○」は白色を保っていることを示し、「△」は多少黄色身を帯びているが白色を保っていることを示し、「×」は黄変していることを示す。なお、「○」及び「△」が実用上問題ないレベルである。
Light resistance: yellowing of appearance The molded body was visually observed for 500 hours at 100 ° C. before and after irradiation with Xe light with a wavelength of 400 nm or less cut, and then the surface color change was visually observed. If the white color before being left is maintained, it has good light resistance. In the table, “◯” indicates that white is maintained, “Δ” indicates that the body is slightly yellowish but white is maintained, and “X” indicates yellowing. In addition, “◯” and “Δ” are levels at which there is no practical problem.

・成形性:外観の反り
シリンダー温度300〜370℃、射出圧力260MPa、射出保圧時間4.5s、冷却時間5.0s、金型温度160℃にて、射出成形によりリフレクター付きLEDフレームを作製し、反りより比較した。表中の「○」は反りが無い状態であり、「△」は反りは有るが実用上問題ないレベル、「×」は反りが有り実用不可能なレベルを示す。なお、「○」及び「△」が実用上問題ないレベルである。
-Formability: Warpage of appearance Prepare LED frame with reflector by injection molding at cylinder temperature 300-370 ° C, injection pressure 260MPa, injection hold time 4.5s, cooling time 5.0s, mold temperature 160 ° C. Compared with warp. “◯” in the table indicates a state where there is no warp, “Δ” indicates a level where there is a warp but there is no practical problem, and “x” indicates a level where there is a warp and is not practical. In addition, “◯” and “Δ” are levels at which there is no practical problem.

・耐リフロー性:外観の反り
成形後の試料を、試料表面の最高温度が260℃で10秒保持するように設定した小型窒素雰囲気リフロー装置RN−S(松下電工製)を通し、変形度合いより評価した。表中の「○」は反りが無い状態であり、「△」は反りは有るが実用上問題ないレベル、「×」は反りが有り実用不可能なレベルを示す。なお、「○」及び「△」が実用上問題ないレベルである。
・ Reflow resistance: Warping of appearance The sample after molding is passed through a small nitrogen atmosphere reflow device RN-S (manufactured by Matsushita Electric Works) set so that the maximum temperature of the sample surface is maintained at 260 ° C for 10 seconds. evaluated. “◯” in the table indicates a state where there is no warp, “Δ” indicates a level where there is a warp but there is no practical problem, and “x” indicates a level where there is a warp and is not practical. In addition, “◯” and “Δ” are levels at which there is no practical problem.

Figure 0006194155
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[比較例17]
実施例1において、ポリアリレートの代わりに市販されているエポキシ樹脂(トリグリシジルイソシアヌレートとヘキサヒドロ無水フタル酸とをエポキシ樹脂へ当量となるよう溶解混合した混合物に、硬化触媒テトラ−n−ブチルホスホニウム−o,o−ジエチルホスホロジオチオエートが含有された樹脂)を使用し、150℃で時間90秒硬化、さらに150℃2時間のポストキュアより直径50mm×厚さ3mmの硬化物に成形し、これを上記実施例と同様に、成形直後、耐熱試験後(150℃で24時間、500時間)の光反射率を測定したところ、それぞれ95%(耐熱試験前)、90%(24時間後)、78%(500時間後)であった。反りは1mm(「反り」の評価では「△」に相当)であった。
[Comparative Example 17]
In Example 1, instead of polyarylate, a commercially available epoxy resin (triglycidyl isocyanurate and hexahydrophthalic anhydride dissolved in an epoxy resin in an equivalent amount was mixed with a curing catalyst tetra-n-butylphosphonium- o, o-diethyl phosphorodiothioate-containing resin), and cured at 150 ° C. for 90 seconds, further molded into a cured product having a diameter of 50 mm × thickness of 3 mm from post-curing at 150 ° C. for 2 hours, In the same manner as in the above example, the light reflectance was measured immediately after molding and after the heat test (24 hours at 500 ° C., 500 hours), and was 95% (before the heat test) and 90% (after 24 hours), respectively. 78% (after 500 hours). The warpage was 1 mm (corresponding to “Δ” in the evaluation of “warp”).

表1より、本発明の樹脂組成物は、無機化合物、有機シロキサン処理で表面処理されている酸化チタンを用いた際に分散性、光反射率に優れていることが確認できた。また、表面処理がなくとも窒化ホウ素、メラミンシアヌレートとの分散性、光反射率に優れていることが確認できた。また、耐熱性・耐光性に優れることも確認できた。
表2より、本発明の樹脂組成物は他の樹脂組成物よりも耐熱性に優れ、同等レベルの耐光性を示し、LEDリフレクターとして必要な成形性および耐リフロー性にも優れることが確認された。また、市販の熱可塑性樹脂組成物と同等レベルの生産性を備えて耐熱性に優れ、熱硬化性樹脂組成物と同等レベルの耐熱性を備えて、生産性に優れていることが確認された。
以上から、本発明の樹脂組成物は、リフレクターや半導体発光装置用の反射材に有用であるといえる。
From Table 1, it was confirmed that the resin composition of the present invention was excellent in dispersibility and light reflectance when using titanium oxide surface-treated with an inorganic compound and an organic siloxane treatment. In addition, it was confirmed that the dispersibility with boron nitride and melamine cyanurate and the light reflectance were excellent even without surface treatment. It was also confirmed that the heat resistance and light resistance were excellent.
From Table 2, it was confirmed that the resin composition of the present invention is superior in heat resistance to other resin compositions, exhibits an equivalent level of light resistance, and is excellent in moldability and reflow resistance required as an LED reflector. . In addition, it was confirmed that the product has the same level of productivity as a commercially available thermoplastic resin composition and is excellent in heat resistance, and has the same level of heat resistance as a thermosetting resin composition and is excellent in productivity. .
From the above, it can be said that the resin composition of the present invention is useful for reflectors and reflectors for semiconductor light emitting devices.

10・・・光半導体素子
12・・・リフレクター
14・・・基板
16・・・リード線
18・・・レンズ
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Optical semiconductor element 12 ... Reflector 14 ... Board | substrate 16 ... Lead wire 18 ... Lens

Claims (9)

芳香族ジカルボン酸とビスフェノールのジアセテートとからなる共重合体であるポリアリレートと、白色顔料と、該白色顔料を除く無機粒子とを含み、
前記白色顔料が、窒化ホウ素、メラミンシアヌレート、並びに少なくともポリオール化合物び無機化合物で表面処理されている酸化チタンから選ばれる少なくとも1種であるリフレクター用樹脂組成物。
A polyarylate which is a copolymer comprising an aromatic dicarboxylic acid and a bisphenol diacetate, a white pigment, and inorganic particles excluding the white pigment,
The white pigment, boron nitride, melamine cyanurate, and at least a polyol compoundbeauty free machine compounds reflector resin composition is at least one selected titanium oxide emissions or et al., Which is surface-treated with.
前記芳香族ジカルボン酸が、テレフタル酸、イソフタル酸及びナフタレンジカルボン酸から選ばれる1種又は2種であり、前記ビスフェノールが、2,2−ビス(4’−ヒドロキシフェニル)−プロパンである請求項1に記載のリフレクター用樹脂組成物。   2. The aromatic dicarboxylic acid is one or two selected from terephthalic acid, isophthalic acid and naphthalenedicarboxylic acid, and the bisphenol is 2,2-bis (4′-hydroxyphenyl) -propane. The resin composition for reflectors described in 1. 前記白色顔料以外の無機粒子がガラス繊維である請求項1に記載のリフレクター用樹脂組成物。   The resin composition for a reflector according to claim 1, wherein the inorganic particles other than the white pigment are glass fibers. 前記酸化チタンが、さらに有機シロキサンで表面処理されたものである請求項1に記載のリフレクター用樹脂組成物。 The titanium oxide, reflectors resin composition according to claim 1 in which surface-treated with further organic Siloxane. 請求項1〜4のいずれかに記載のリフレクター用樹脂組成物を成形してなるリフレクター用樹脂フレーム。   The resin frame for reflectors which shape | molds the resin composition for reflectors in any one of Claims 1-4. 厚さが0.1〜3.0mmである請求項5に記載のリフレクター用樹脂フレーム。   The resin frame for a reflector according to claim 5, wherein the thickness is 0.1 to 3.0 mm. 請求項1〜4のいずれかに記載のリフレクター用樹脂組成物を硬化してなるリフレクター。   The reflector formed by hardening | curing the resin composition for reflectors in any one of Claims 1-4. 光半導体素子と、前記光半導体素子の周りに設けられ、該光半導体素子からの光を所定方向に反射させるリフレクターとを基板上に有し、
前記リフレクターの光反射面が請求項1〜4のいずれかに記載のリフレクター用樹脂組成物の硬化物である半導体発光装置。
An optical semiconductor element and a reflector provided around the optical semiconductor element and reflecting light from the optical semiconductor element in a predetermined direction on a substrate;
The light-emitting surface of the said reflector is a semiconductor light-emitting device which is the hardened | cured material of the resin composition for reflectors in any one of Claims 1-4.
請求項1〜4のいずれかに記載のリフレクター用樹脂組成物を射出温度200〜400℃、金型温度20〜200℃で射出成形する成形方法。   The molding method which injection-molds the resin composition for reflectors in any one of Claims 1-4 at the injection temperature of 200-400 degreeC, and the mold temperature of 20-200 degreeC.
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