JP6189257B2 - 基板液処理装置及び基板液処理方法 - Google Patents
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Description
3110 処理槽(内槽)
3120 基板保持具(ウエハガイド)
3121 保持棒
3124A 第1保持部(第1保持溝)
3124B 第2保持部(第2保持溝)
3190 ノズル(薬液供給ノズル)
3191A 第1吐出口
3191B 第2吐出口
Claims (5)
- 複数の基板を、起立姿勢で水平方向に間隔を空けて配列された状態で保持する基板保持具と、
前記基板保持具に保持された前記基板が浸漬される処理液を貯留する処理槽と、
前記処理槽内に設けられ、前記基板保持具により保持された前記基板の下方から前記基板に向けて処理液を吐出するノズルと、
を備え、
前記基板保持具は、前記複数の基板のうち第1のグループの基板を、第1の高さ位置で保持する第1保持部と、前記複数のうち第2のグループの基板を前記第1の高さ位置より低い第2の高さ位置で保持する第2保持部とを有しており、
前記ノズルは、前記基板保持具により保持される前記基板の配列方向に配列された複数の吐出口を有しており、前記複数の吐出口は、前記基板保持具に保持された基板の配列ピッチの2倍の配列ピッチで配列された複数の第1吐出口を含んでおり、前記各第1吐出口は、隣接して対をなす2枚の基板の間の隙間に向けて処理液を吐出するように設けられており、
前記ノズルの前記複数の吐出口は、前記基板保持具に保持された基板の配列ピッチの2倍の配列ピッチで配列された複数の第2吐出口を含んでおり、前記各第2吐出口は、一つの対をなす2枚の基板のうちの一方の基板と、当該基板に隣接する他の対をなす基板のうちの一方の基板との間の隙間に向けて処理液を吐出するように設けられており、
前記第1吐出口から吐出される処理液の指向性が、前記第2吐出口から吐出される処理液の指向性よりも高いように、前記第1及び第2吐出口が形成されている、基板液処理装置。 - 前記基板保持具は、前記複数の基板が配列される方向に延びる棒状体を有しており、前記第1保持部は、前記棒状体に形成された前記第1の高さ位置で基板を保持する第1の保持溝により提供され、前記第2保持部は、前記棒状体に形成された前記第1の保持溝より深い第2の保持溝により提供される、請求項1記載の基板液処理装置。
- 前記第1の保持溝と前記第2の保持溝とが、前記棒状体の長手方向に交互に形成されている、請求項2記載の基板液処理装置。
- 半導体デバイスが形成される第1面と、前記第1面の反対側の第2面とを各々が有する複数の基板を、これらの複数の基板が起立姿勢で水平方向に間隔を空けて配列された状態で基板保持具により保持させる工程と、
前記基板保持具により保持された前記複数の基板を、処理槽内に貯留された処理液中に浸漬する工程と、
前記処理槽内に設けられたノズルにより、前記基板の下方から前記基板に向けて処理液を吐出する工程と、を備え、
前記複数の基板のうちの第1のグループの基板が第1の高さ位置で前記基板保持具に保持されるとともに前記複数の基板のうちの第2グループの基板が前記第1の高さ位置よりも低い第2の高さ位置で前記基板保持具に保持され、かつ、前記複数の基板が、隣接する二枚の基板における互いに対向する面のいずれかが前記第1面である場合にはこれら隣接する二枚の基板の高さ位置が異なるように、前記基板保持具に保持され、
前記複数の基板は、隣接して対をなす各2枚の基板の第1面同士が互いに対面するように、前記基板保持具に保持され、
前記ノズルは、前記基板保持具により保持される前記基板の配列方向に配列された複数の吐出口を有しており、前記複数の吐出口は、前記基板保持具に保持された基板の配列ピッチの2倍の配列ピッチで配列された複数の第1吐出口を含んでおり、前記各第1吐出口が、第1面同士が対面して互いに対をなす2枚の基板の間の隙間に向けて処理液を吐出し、
前記ノズルの前記複数の吐出口は、前記基板保持具に保持された基板の配列ピッチの2倍の配列ピッチで配列された複数の第2吐出口を含んでおり、前記各第2吐出口は、第2面同士が対面している2枚の基板の間の隙間に向けて処理液を吐出し、
前記第1吐出口から吐出される処理液の指向性が、前記第2吐出口から吐出される処理液の指向性よりも高い、基板液処理方法。 - 前記基板保持具は、前記複数の基板が配列される方向に延びる棒状体を有しており、前記棒状体は、前記第1の高さ位置で基板を保持する第1の保持溝と、前記第2の高さ位置で基板を保持する前記第1の保持溝より深い第2の保持溝とを有する、請求項4記載の基板液処理方法。
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