JP6188782B2 - 連続的な全チップ3次元depセルソーター、及び関連する製造方法 - Google Patents
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Description
本出願は、両方とも参照によりその全体が本明細書に組み込まれる、2012年3月27日に出願された“CONTINUOUS WHOLE−CHIP 3−DIMENSIONAL DEP CELL SORTER AND ITS FABRICATION”と題する米国仮特許出願第61/616,385号明細書、及び、2013年3月15日に出願された“CONTINUOUS WHOLE−CHIP 3−DIMENSIONAL DEP CELL SORTER AND RELATED FABRICATION METHOD”と題する米国仮特許出願第61/799,451号明細書に対して、35U.S.C.119(e)の下で優先権を主張する。
本発明は、全米科学財団によって認められた助成金No.0901154の下で米国政府のサポートによって為された。米国政府は、本発明において特定の権利を有する。
実施形態1:3次元誘電泳動(DEP)ソーティングデバイスであって、デバイスは:第一電極;第二電極;第一電極と第二電極との間に挟まれた電気絶縁層を含み、電気絶縁層は、第一電極及び第二電極によって部分的に囲まれた壁を備える分離通路を含み、電気絶縁層は、断面厚みが分離通路よりも小さく、第一電極及び第二電極の間の電極間位置に位置する収集通路を含み、分離通路は、誘電泳動効果を引き起こして、収集通路の電極間位置に実質的に相当する第一電極と第二電極との間の位置へと、反応するセル、又は微粒子を引き寄せる電磁場を生成するように成形され、収集通路、及び分離通路は、分離通路における第一電極と第二電極との間の電極間位置に引き寄せられたセル、又は微粒子が、その後、収集通路内へと流れるように構成される、デバイス。
Claims (31)
- 3次元誘電泳動(DEP)ソーティングデバイスであって、デバイスは:
第一電極層;
第二電極層;
第一電極層と第二電極層との間に介在し、第一サブ層、及び第二サブ層を有する電気絶縁層;
第一サブ層に位置する第一通路;及び
第二サブ層に位置する第二通路を含み、
第一電極層、第二電極層、及び電気絶縁層は、平面の組み立てを形成し、
第一サブ層が第一電極層と第二サブ層との間に介在し、
第二サブ層が第二電極層と第一サブ層との間に介在し、
第一通路、及び第二通路は、電気絶縁層のDEP分離領域内の共通路を進み、DEP分離領域内で互いに直接の流体連結であり、
第一通路、及び第二通路は各々、共通路に垂直な、且つ平面の組み立ての法線に垂直な異なる断面幅を有し、
第一通路は、DEP分離後領域において第二通路から分岐し、DEP分離後領域がDEP分離領域の下流に位置する、3次元誘電泳動(DEP)ソーティングデバイス。 - 電気絶縁層の第三サブ層;及び
第三サブ層に位置する第三通路をさらに含み、
第二サブ層は、第一サブ層と第三サブ層との間に介在し、
第三サブ層は、第二サブ層と第二電極層との間に介在し、
第三通路は、DEP分離領域内で共通路を進み、DEP分離領域内で第二通路と直接の流体連結であり、
第三通路は、共通路に垂直な、且つ、平面の組み立ての法線に垂直な、第二通路の断面幅とは異なる断面幅を有し、
第三通路は、DEP分離後領域において第二通路から分岐する、請求項1に記載の3次元DEPソーティングデバイス。 - 第二通路の断面幅が、第一通路、及び第三通路の断面幅よりも小さい、請求項2に記載の3次元DEPソーティングデバイス。
- 第二通路の断面幅が、第一通路、及び第三通路の断面幅よりも大きい、請求項2に記載の3次元DEPソーティングデバイス。
- 第一通路、第二通路、及び第三通路は、共通路に垂直な、且つ平面の組み立てに平行な方向において、互いに中央に配される、請求項2から4の何れか一項に記載の3次元DEPソーティングデバイス。
- 一以上の追加の通路をさらに含み、各々が追加のサブ層に位置し、
一以上の追加の通路は、第三通路を含み、
一以上の追加の通路は、電気絶縁層のDEP分離領域内で共通路を進み、DEP分離領域内で互いに、第一通路と、第二通路と直接の流体連結であり、
一以上の追加の通路は各々、共通路に垂直な、且つ平面の組み立ての法線に垂直な断面幅を有し、
各特定の追加の通路の断面幅は、特定の追加の通路に隣接する各追加の通路の断面幅とは異なり、
一以上の追加の通路の内の少なくとも一つは、DEP分離後領域において第二通路から分岐する、請求項1に記載の3次元DEPソーティングデバイス。 - 第一電極層、及び第二電極層は、DEP分離領域においてパターニングされた電極を含む、請求項1から4及び6の何れか一項に記載の3次元DEPソーティングデバイス。
- 第一電極層、及び第二電極層は、電気絶縁層に面する導電性表面を備える平坦なプレートである、請求項1から4及び6の何れか一項に記載の3次元DEPソーティングデバイス。
- 導電性表面が、電気絶縁層の全てにわたって伸びる、請求項8に記載の3次元DEPソーティングデバイス。
- 導電性表面は、第一通路の側壁と、DEP分離領域とによって囲まれた領域、又は、第二通路の側壁と、DEP分離領域とによって囲まれた領域において均一である、請求項8に記載の3次元DEPソーティングデバイス。
- 導電性表面の内の一つ、又は両方が、厚さ2μm未満の非導電性コーティングによって被覆される、請求項8に記載の3次元DEPソーティングデバイス。
- 電気絶縁層が、ポリジメチルシロキサン(PDMS)構造体である、請求項1から4及び6の何れか一項に記載の3次元DEPソーティングデバイス。
- 電気絶縁層が、複数の個別のPDMS層を一緒に接合することによって形成されたポリジメチルシロキサン(PDMS)構造体である、請求項1から4及び6の何れか一項に記載の3次元DEPソーティングデバイス。
- 第一サブ層が、一以上の個別のPDMS層によって形成され、
第二サブ層が、一以上の個別のPDMS層によって形成される、請求項13に記載の3次元DEPソーティングデバイス。 - 電気絶縁層が、異なる材料の組み合わせを含む複合構造体である、請求項13に記載の3次元DEPソーティングデバイス。
- 電気絶縁層が、PDMSにおいて浮遊する非PDMS材料を含む複合構造体である、請求項15に記載の3次元DEPソーティングデバイス。
- 第一サブ層が、およそ1μmから100μmの厚さを有し、第二サブ層が、およそ10μmから100μmの厚さを有する、請求項1から4及び6の何れか一項に記載の3次元DEPソーティングデバイス。
- 第一サブ層が、およそ100μmから500μmの厚さを有し、第二サブ層が、およそ100μmから500μmの厚さを有する、請求項1から4及び6の何れか一項に記載の3次元DEPソーティングデバイス。
- 第一通路が、少なくとも1μmの断面幅を有し、第二通路及び第二通路が、少なくとも2μmの断面幅を有する、請求項1から4及び6の何れか一項に記載の3次元DEPソーティングデバイス。
- 第一通路が、1μm未満の断面幅を有し、第二通路が、2μm未満の断面幅を有する、請求項1から4及び6の何れか一項に記載の3次元DEPソーティングデバイス。
- 第一通路、及び第三通路が、異なる断面幅を有する、請求項2から4及び6の何れか一項に記載の3次元DEPソーティングデバイス。
- 第一通路、第二通路、及び第三通路が、DEP分離領域内で脇道“H”の形状である集合体の断面を有し、それによって、交流電圧が第一電極層と第二電極層との間に適用される際に、流体に取り込まれる正のDEPを備える微粒子、又はセルを第二通路に集めさせる、請求項2から4及び6の何れか一項に記載の3次元DEPソーティングデバイス。
- 第一通路、第二通路、及び第三通路が、DEP分離領域内で“+”の形状である集合体の断面を有し、それによって、交流電圧が第一電極層と第二電極層との間に適用される際に、流体に取り込まれる負のDEPを備える微粒子、又はセルを第二通路に集めされる、請求項2から4及び6の何れか一項に記載の3次元DEPソーティングデバイス。
- 第一電極層、及び第二電極層にわたる交流(AC)電圧の適用が、DEP分離領域内で第一通路、及び第二通路を通って流れる流体内で不均一な電磁場を発達させ、不均一な電磁場が、第一通路、又は第二通路の内の一つへ向かって偏る強度を有する、請求項1から4及び6の何れか一項に記載の3次元DEPソーティングデバイス。
- 3次元DEPソーティングデバイスが、手動操作デバイスに組み込まれる、請求項1から4及び6の何れか一項に記載の3次元DEPソーティングデバイス。
- 3次元DEPソーティングデバイスが、ソーティングデバイスの第一通路、及び第二通路を通って流体サンプルを送るように構成された手動ポンプデバイスに結合される、請求項1から4及び6の何れか一項に記載の3次元DEPソーティングデバイス。
- 3次元誘電泳動(DEP)ソーティングデバイスであって、デバイスは:
第一電極;
第二電極;及び
第一電極と第二電極との間に挟まれた電気絶縁層を含み、
電気絶縁層は、第一電極と第二電極とによって部分的に囲まれた壁を備える分離通路を含み、
電気絶縁層は、断面厚さが分離通路よりも小さく、第一電極と第二電極との間の電極間位置に位置する収集通路を含み、
分離通路は、誘電泳動効果を引き起こして、反応する複数のセル又は複数の微粒子を、収集通路の電極間位置に相当する、第一電極と第二電極との間の位置に引き寄せる電磁場を製造するように形成され、
収集通路、及び分離通路は、分離通路において第一電極と第二電極との間の電極間位置に引き寄せられる複数のセル又は複数の微粒子が、その後、収集通路内に流れるように構成される、3次元誘電泳動(DEP)ソーティングデバイス。 - 3次元誘電泳動(DEP)ソーティングデバイスであって、デバイスは:
第一電極;
第二電極;及び
第一電極と第二電極との間に挟まれた電気絶縁層を含み、
電気絶縁層は:
第一電極と第二電極とによって部分的に画定された断面を有する流体流路と、
デバイスのDEP分離領域内で流体流路に平行であり、第一の薄い、変形可能な壁によって流体流路から離隔される第一側通路と、
DEP分離領域内で流体流路に平行であり、第二の薄い、変形可能な壁によって流体流路から離隔される第二側通路と、を含み、
第一側通路、及び第二側通路は、流体流路から密閉され、
第一側通路、及び第二側通路への加圧ガス、又は流体の適用は、第一の薄い、変形可能な壁、及び第二の薄い、変形可能な壁を流体流路内へ膨張させる、3次元誘電泳動(DEP)ソーティングデバイス。 - 第一側通路、及び第二側通路を真空に引くことが、第一の薄い、変形可能な壁、及び第二の薄い、変形可能な壁を側通路へ膨張させる、請求項28に記載の3次元DEPソーティングデバイス。
- 側通路が、液体又はゲルで満たされる、請求項28又は29に記載の3次元DEPソーティングデバイス。
- 液体又はゲルが、圧縮された後に固体形状へと硬化されるので、薄い、変形可能な壁を流体流路内へと膨張させる、又は、真空を受けるので、薄い、変形可能な壁を側通路内へ膨張させる、請求項30に記載の3次元DEPソーティングデバイス。
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