JP6178566B2

JP6178566B2 - 高周波美容処理装置

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Publication number: JP6178566B2
Application number: JP2012268834A
Authority: JP
Inventors: 山▲崎▼　岩男; 岩男山▲崎▼
Original assignee: Ya Man Ltd
Current assignee: Ya Man Ltd
Priority date: 2012-12-07
Filing date: 2012-12-07
Publication date: 2017-08-09
Anticipated expiration: 2032-12-07
Also published as: JP2014113272A

Description

本発明は、高周波美容処理装置に関する。

従来から、顔や手足などの皮膚に対して高周波電流を通電することにより、肌の老化防止やニキビの治癒、シミ・そばかすその他の皮膚のトラブルの改善を図ることが可能な高周波美容処理装置が知られている（例えば、特許文献１参照）。

国際公開第２０１１/１６２１７４号

上記した高周波美容処理装置を用いた場合、被施術者は、高周波電流の刺激を受けた筋肉が収縮することによって発生する熱（収縮熱）を感じて高周波美容処理装置の作用や効果を体感することができる。
しかし、これらの高周波美容処理装置では、高周波電流の通電開始から収縮熱によって筋肉が安定した一定温度に達するまでに時間がかかり、使用者が最適な効果を短時間で体感することができないという問題があった。
本発明は、上記した事情に鑑みてなされたものであり、体の内側及び皮膚の表面から暖めることによって、高周波美容処理装置の作用や効果をより速やかに体感することが可能な高周波美容処理装置を提供することを目的とする。

本発明の実施形態の高周波美容処理装置は、筐体と、前記筐体に一部を露出させて備えた、被施術者の筋肉に高周波電流による電気的刺激を与えるための対をなす回転電極と、
前記筐体の処理面の前記回転電極間に配置されたヒータと、前記ヒータ及び前記電極へ給電する電源装置と、前記ヒータ及び前記電極への給電を制御する給電制御装置とを備える。
前記給電制御装置は、筐体の前記ヒータ近傍に配置された温度検出器と、前記温度検出器の出力により前記ヒータへの給電を制御する給電制御手段とを含むことができる。
前記筐体の前記対をなす回転電極間には、開口が形成され、前記ヒータは前記開口の奥に前記開口を向けて配置されている。

本発明の実施形態の高周波美容処理装置は、前記筐体の前記回転電極間には、金属性の伝熱部が配置され、前記ヒータは前記伝熱部に接触し又は近接して配置されることがある。
前記対をなす回転電極間には、個々の回転電極を結ぶ線と直交する方向に所定の間隔をおいて固定電極が配置されている。前記固定電極は、前記金属製の電熱部により形成することができる。前記対をなす回転電極は、平行する一対のローラ電極又は一対の球電極で構成することができる。

本発明の実施形態の高周波美容処理装置は、前記固定電極が、外側に凸の湾曲面又は球面をなしていることがある。前記給電制御装置は、前記回転電極と、固定電極の給電制御を独立的に行うことが可能な給電制御手段を含むことが望ましい。前記給電制御装置が周波数変換部を備え、前記回転電極及び前記固定電極には同一又は異なる周波数の高周波電流を供給し、前記ヒータには直流又は所定の周波数の交流を供給するようにしてもよい。前記給電制御装置は、前記筐体の振動を検出する加速度センサと、前記加速度センサの出力により前記ヒータへの給電を独立的にオンオフする給電制御手段を含むこともできる。前記放熱孔には遠赤外線透過部材が配置されることが望ましい。

本発明の高周波美容処理装置によれば、筋肉に対する高周波電流の通電のみにより得られる体感温度に比べて、体感温度の実質的な上昇が早くなるので、効果をより速やかに実感することができる。

第１の実施形態の高周波美容処理装置１を示す斜視図。高周波美容処理装置１の一部の断面を拡大して示す拡大断面図。高周波美容処理装置１が備える印刷回路基板６０のブロック図。高周波美容処理装置１の動作を示すフローチャート。第２の実施形態の高周波美容処理装置２を示す斜視図。第３の実施形態の高周波美容処理装置３を示す斜視図。

［第１の実施形態］
以下、本発明に係る第１の実施形態を図１〜４に基づいて説明する。図１は、高周波美容処理装置１を示す斜視図である。図２は、高周波美容処理装置１の一部の断面を拡大して示す拡大断面図である。図３は、高周波美容処理装置１が備える印刷回路基板６０のブロック図である。図４は、高周波美容処理装置１の動作を示すフローチャートである。
（高周波美容処理装置１について）
図１に示すように第１の実施形態の高周波美容処理装置１は、一端側が処理部Ａ、他端側が把持部Ｂとされた細長いハウジング１０を備えている。
処理部Ａ側には、矩形の開口（放熱孔）１２ａ及び回転軸４１をハウジング１０の長手方向と直交させたローラ電極４０が周面の一部をハウジング１０から露出させて回転可能に装着されている。

開口１２ａの奥には主放熱面２０ａを開口１２ａ側に向けてヒータ２０が配置されている。
一対のローラ電極４０を構成する個々の円柱状の電極４０ａ,４０ｂ間には、開口１２ａを挟んで固定電極５０が周面の一部を高さがローラ電極４０の高さと略等しくなるようにハウジング１０から露出させて固定されている。
ハウジング１０の把持部Ｂ側には、二次電池３０と、この二次電池３０の電流を所定の周波数に変換するなどしてヒータ２０、ローラ電極４０、固定電極５０への給電をＯＮ・ＯＦＦする半導体装置などを搭載した印刷回路基板６０が収容される。ハウジング１０には、二次電池３０の充電回路を商用電源に接続するための電源コード７０が着脱自在に取り付けられる。

この実施形態の高周波美容処理装置１によれば、施術者が、被施術者の皮膚に対してローラ電極４０及び固定電極５０を当接させることによって、高周波電流を被施術者の皮膚に通電させることができる。さらにこの実施形態の高周波美容処理装置１によれば、ヒータ２０によって被施術者の肌面を暖めることができる。
（高周波美容処理装置１の説明）
以下、高周波美容処理装置１の各部を詳細に説明する。
ハウジング１０は、プラスチックを射出成形することにより直方体形状に形成されている。ハウジング１０は、塩化ビニル樹脂、ポリエチレン及びポリカーボネートなどを難燃性化したプラスチックにより形成することが望ましい。

ハウジング１０の処理部Ａ側には、被施術者の皮膚側に対向する面１２とこの面１２の反対側の操作ボタンなどが配設される操作面１３が設けられる。
面１２には、ローラ電極４０を露出するための長方形の一対の穴１２ｂがハウジング１０の長手方向に沿って互いに平行に形成される。さらに面１２には、開口１２ａを挟んでその両側に固定電極５０がその一部を露出して配置されている。
図２に拡大断面図に示すように、開口１２ａ近傍には、検知部１７ａを開口１２ａに臨ませてサーミスタのような温度計１７が配置される。この温度計１７は、図１に示す印刷回路基板６０と電気的に接続されている。

開口１２ａは、ヒータ２０から放射された遠赤外線を透過させる遠赤外線透過窓１８で覆われている。遠赤外線透過窓１８を構成する材料としては、例えば反射防止コートが施されたカルコゲナイドガラスなどが適している。遠赤外線透過窓１８を構成する材料は、遠赤外線を高い透過率（例えば９０％以上の透過率）で透過させるものであれば特に限定されず、例えば石英ガラスを用いてもよい。また例えば、シリコン窓、サファイア窓を遠赤外線透過窓１８として用いることもできる。
遠赤外線透過窓１８によれば、ヒータ２０から放射された遠赤外線を高周波美容処理装置１外部に放出しつつ、高周波美容処理装置１外部からの化粧液などの水分やゴミなどが開口１２ａから高周波美容処理装置１内に侵入することを防止することができる。遠赤外線透過窓１８は、必要に応じて取り外すこともできる。
図１に示す操作面１３には、ローラ電極４０及び又は固定電極５０への電流の供給をＯＮ・ＯＦＦするための物理的なスイッチを突出させるための孔が設けられている（図示せず）。

「スイッチ」は、液晶パネルに表示されたタッチ式のスイッチであってもよい。この場合には、操作面１３には小型の液晶パネルが配設される。
ヒータ２０は、板状に形成されたセラミックヒータである。ヒータ２０は、交流電圧または直流電圧を印加されることによって発熱する。ヒータ２０の発熱温度は、印刷回路基板６０によって制御される。ヒータ２０の発熱可能範囲は常温〜５００℃程度である。ただし、この実施の形態では、ヒータ２０は、発熱温度が最高６０℃前後となるように印刷回路基板６０によって制御される。なお、ヒータ２０は、セラミックヒータに限定されず、遠赤外線を効率よく放射する物であればよい。例えば、ヒータ２０をハロゲンヒータ、カーボンヒータ、ニクロム線ヒータまたはセラミックのプレートに高温に発熱する発熱体を密着させたものなどで構成することもできる。

二次電池３０は、一般的には充放電可能な二次電池が用いられるが、燃料電池やキャパシタを使用することもできる。
ローラ電極４０は、ローラ状に形成されている。ローラ電極４０は、それぞれ一部の表面を穴１２ｂから露出させて回転軸４１によって軸支されてハウジング１０内部に回転自在に設けられる。
ローラ電極４０は、穴１２ｂに設けられた図示はしない摺動電極を介して印刷回路基板６０と電気的に接続される。ローラ電極４０は、被施術者の肌面上を転動しつつ施術者の皮膚に対して高周波電流を通電させる。被施術者は、ローラ電極４０を肌面上で転動させることによって肌を伸ばしたり押したりすることができ、このことによるマッサージ効果を得ることもできる。

固定電極５０は、ローラ電極４０の露出した一部の表面と面一になるように表面を露出して設けられる。固定電極５０は、印刷回路基板６０と電気的に接続されている。固定電極５０は、被施術者の皮膚に対して高周波電流を通電させる。固定電極５０は、少なくとも穴１２ｃから露出する表面が、ハウジング１０の外側に湾曲するように丸みを帯びた形状を有するように形成されることが望ましい。このような丸みを帯びた形状を有することによって、被施術者の皮膚との接触面積を小さくすることができる。この結果、被施術者の肌面に接触したときの、肌面に対するストレスを低減することができる。
図３に示すように、印刷回路基板６０には、それぞれ制御部６１、電流制御部６２、ヒータ制御部６３及びセンサ部６４として機能する種々の制御回路が形成される。制御部６１は、電流制御部６２、ヒータ制御部６３及びセンサ部６４を制御する制御回路で構成される。
制御部６１は、温度計１７の出力を換算してヒータ２０によって暖められた人の肌面の温度を算出することができる。

制御部６１は、ハウジング１０の移動やローラ電極４０の振動の有無を示す検知信号をセンサ部６４が備える加速度センサ６４ａから受信する。制御部６１は、受信した検知信号や温度計１７の出力に基づいて電流制御部６２及びヒータ制御部６３を制御して、ローラ電極４０及び又は固定電極５０への給電のＯＮ・ＯＦＦ及びヒータ２０のＯＮ・ＯＦＦを制御する。
図３に示す電流制御部６２は、印刷回路基板６０に設けた制御部６１の一部をなしており、二次電池３０から得られ、ヒータ２０、ローラ電極４０及び又は固定電極５０に供給される電流の周波数変換をおこなったり、各部に対する給電をＯＮ・ＯＦＦしたりする。例えば、ローラ電極４０及び又は固定電極５０に供給される電流として、電流制御部６２は、二次電池３０から供給される電流を所定の周波数（例えば、３００ｋＨｚ〜１０ＭＨｚ）に変換する。ヒータ２０に対しては、二次電池から給電される直流をそのまま供給してもよいし、任意の周波数（例えば、０〜１０ＭＨｚ）に変換し、供給してもよい。

ローラ電極４０及び固定電極５０へ供給される電流の周波数は、同一周波数であってもよいし、異なる周波数としてもよい。それぞれ異なった周波数の電流をローラ電極４０及び又は固定電極５０に給電することにより、周波数に応じた固有の電気的刺激を被施術者の皮膚に供給することができる。
ヒータ制御部６３は、制御部６１に制御されてヒータ２０をＯＮ・ＯＦＦする。この制御は、温度計１７により検出された温度が所定の設定温度よりも低くなった場合に、ヒータ２０への給電回路を閉じ、温度計１７により検出された温度が高くなった場合には、ヒータ２０への給電回路を開くことで行う。

（遠赤外線の放射について）
次に図２を用いて、ヒータ２０の構造及び作用を詳しく説明する。
ヒータ２０は、断熱層１５及び反射層１６が配設された開口１２ａに対向する壁面１０ａ〜１０ｃに囲まれた凹部の空間１４の奥に配置される。
ヒータ２０の主放熱面２０ａから放射された遠赤外線の一部（図中の「ＦｉｒＡ」：Far infrared rays Ａ参照。）は、遠赤外線透過窓１８を透過して、開口１２ａの外部に放出される。ヒータ２０の主放熱面２０ａ以外の部位（例えば、裏面２０ｂ）から放射された遠赤外線（図中の「ＦｉｒＢ」：Far infrared rays Ｂ参照。）は、反射層１６によって反射される。この反射された遠赤外線が、赤外線透過窓１８から外部に放出される。

（高周波美容処理装置１の動作について）
次に、図４を参照して、高周波美容処理装置１の動作について説明する。
（１）動作開始（ステップＳ１０１〜ステップＳ１０３）
施術者が操作面１３に配置された種々のスイッチの内、高周波美容処理装置１の作動スイッチを押下したことに対応して、制御部６１は、ヒータ制御部６３を制御してヒータ２０への給電を開始させる（ステップＳ１０１、１０２）。この結果、電力を供給されたヒータ２０は発熱し、遠赤外線が開口１２ａから放射される。
ヒータ２０の放射熱によって温度計１７の電気抵抗が変化する。制御部６１は、温度計１７からの出力に基づいて、ヒータ２０の発熱温度が予め設定された目標温度に達したか否かを検知する。

ヒータ２０の発熱温度が目標温度に達していなかった場合、制御部６１は、ヒータ２０の発熱温度が目標温度に達するまでヒータ２０への給電が継続されるように制御する（ステップＳ１０３）。
（２）ＯＮ・ＯＦＦ制御（ステップＳ１０４〜Ｓ１０８のＮｏ）
制御部６１は、温度計１７の出力をヒータ２０によって暖められた人の肌面の温度に換算する。換算された肌面の温度が予め設定された温度より上だった場合、制御部６１は、ヒータ２０をＯＦＦに制御する（ステップＳ１０４のＮｏ、ステップＳ１０５）。この結果、ヒータ２０の温度が徐々に低下する。
次に、制御部６１は、ローラ電極４０及び固定電極５０への高周波電流の給電をＯＦＦにする（ステップＳ１０６）。

制御部６１は、人の肌面の温度が設定された温度以下になるまで、ステップＳ１０４〜Ｓ１０６の処理を繰り返す。
制御部６１は、人の肌面の温度が設定された温度以下だった場合、ヒータ２０をＯＮに制御する（ステップＳ１０７）。この結果、ヒータ２０の温度は上昇する。
制御部６１は、ステップＳ１０４〜Ｓ１０７の処理を加速度センサ６４ａによって高周波美容処理装置１が移動状態であることが検知されるまで繰り返す（ステップＳ１０８Ｎｏ）。ステップＳ１０４〜Ｓ１０７の処理が繰り返されることで、ヒータ２０の温度はほぼ一定（例えば４２℃）に保たれる。

（３）高周波電流供給ＯＮ制御（ステップＳ１０８のＹｅｓ及びステップＳ１０９）
制御部６１は、加速度センサ６４ａからの検知信号を受信した場合（ステップＳ１０８のＹｅｓ）、ローラ電極４０及び固定電極５０への給電をＯＮに制御する（ステップＳ１０９）。
（４）停止処理（ステップＳ１１０、Ｓ１１１）
制御部６１は、施術者によって、停止操作がされるまでステップＳ１０４〜Ｓ１０９の処理を繰り返す（ステップＳ１１０のＮｏ）。
制御部６１は、施術者によって停止操作がされたことを検知した場合（ステップＳ１１０のＹｅｓ）、ヒータ２０、ローラ電極４０及び固定電極５０への給電をＯＦＦに制御する（ステップＳ１１１）。

以上のように動作する高周波美容処理装置１によれば、ローラ電極４０及び固定電極５０を被施術者の肌面に接触させた状態でハウジング１０を移動させることによって、被施術者の肌面に、高周波電流を流すことができる。そして、高周波美容処理装置１によれば、開口１２ａから放出された遠赤外線を肌に放射することによって肌面を即座に暖めることができる。
この結果、被施術者は、高周波電流の通電のみにより得られる体感温度に比べて、体感温度の実質的な上昇が早くなり、効果をより速やかに実感することができる。

ローラ電極４０及び固定電極５０が開口１２ａを挟むように配置されているので、被施術者はあたかもローラ電極４０及び固定電極５０によって流れる高周波電流の作用によって皮膚が温められていると感じることができる。
高周波美容処理装置１によれば、検知信号を受信しなかった場合には、ローラ電極４０及び固定電極５０への給電が行われないので、高周波美容処理装置１が被施術者の肌面上で静止状態になった場合に、高周波電流が皮膚に供給され続けることを防止できる。この結果として、高周波電流が皮膚の一か所に流れ続けることによって皮膚が火傷してしまうことを防止することができる。

［第２の実施形態］
次に図５を参照して、第２の実施形態について説明する。図５に示すように、この実施形態は、第１の実施形態が備えるローラ電極４０を球状の球状電極１４０に置き換えたものであり、その他の構成は第1の実施形態と同様である。したがって、第１の実施形態と共通する部分については、対応する箇所に同一の符号を付して重複する説明を省略する。

この実施形態の面１２には球状電極１４０の一部の表面が露出する球状電極露出孔１１２ｂが設けられる。球状電極露出孔１１２ｂは、開口１２ａを上下から挟みつつ穴１２ｃの配置方向に略直交するように略一直線状に並んで配置される。球状電極露出孔１１２ｂは、面１２の表面からハウジング１１０内部に向けて貫通する。

球状電極１４０は、被施術者の肌面に対して滑らかに転動する。球状電極１４０は、被施術者の皮膚に対して高周波電流を通電させる。球状電極１４０は、球状電極露出孔１１２ｂに設けられた図示はしない摺動電極と接触しており、常時印刷回路基板６０と電気的に接続される。
高周波美容処理装置２によれば、球状電極１４０が球状に形成されているので、球状電極１４０が被施術者の肌面上を転動する際の接触面積を小さくでき、被施術者の肌面に接触したときの、肌面に対するストレスをさらに低減することができる。そして、球状電極１４０によって、電気的刺激が局所的に集中すると共に押圧及び転動による物理的刺激が強くなり、第1の実施形態とは異なる美容効果を得ることができる。

［第３の実施形態］
次に図６を参照して、第３の実施形態について説明する。第３の実施形態に係る高周波美容処理装置３を示す斜視図である。図６に示すように、この実施形態は、固定電極５０及び開口１２ａに換えて伝熱端子２５０を面１２に配設し、伝熱端子２５０自体を加熱してヒータとして用いたものである。
また、この実施形態では、伝熱端子２５０の裏面側にヒータ２０が貼り付けられている。そして、温度計１７は、伝熱端子２５０の温度を測定する。
その他の構成は第１及び第２の実施形態と同様である。したがって、第１及び第２の実施形態と共通する部分については、対応する箇所に同一の符号を付して重複する説明を省略する。
この実施形態の面１２には、伝熱端子２５０の被施術者の肌面に当接される面が露出する穴２１２ｃが設けられる。

穴２１２ｃは、面１２においてローラ電極４０に挟まれて幅方向に並んで配置されている。
伝熱端子２５０は、例えば、かまぼこ型に成形された薄い金属板の内側にヒータ２０が配置されて構成されている。
したがって、ヒータ２０に給電することにより、伝熱端子２５０は内面から加熱され、加熱面が被施術者の皮膚面に当接されることによって、温熱による美容効果が発現される。なお、伝熱端子２５０に対する給電の制御は、第１及び第２の実施形態と同様である。

高周波美容処理装置３によれば、被施術者に対して、ヒータ２０によって暖められた伝熱端子２５０から供給される熱とローラ電極４０から供給される高周波電流によって、体の内部及び外部から同時に熱を与えることができる。

［その他の実施の形態］
以上、本発明の第１〜第３の実施形態に係る高周波美容処理装置１〜３について説明したが、本発明は上記の実施の形態にのみ限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々の変更が可能である。
例えば、制御部６１は、施術者が何らかの異常を感じて高周波美容処理装置１を持つ手を動かした場合、ヒータ２０をＯＦＦに制御してもよい。この場合、個々のスイッチの操作をすることなく、ヒータ２０への給電が遮断され、ヒータ２０がＯＦＦに制御されるため、施術者は安心して処理を続けることができる。制御部６１は、この制御を加速度センサ６４ａからの検知信号を受信したことに対応して行う。

また、第１の実施形態の高周波美容処理装置１では、温度計１７によって検知されたヒータ２０の温度に基づいて、ヒータ２０への電圧のＯＮ・ＯＦＦを制御していた。これに換えて、印刷回路基板６０が時間を計時するタイマ部を備え、タイマの計時した時間に基づいてヒータ２０への電圧のＯＮ・ＯＦＦを制御するようにしてもよい。
この場合、図４のステップＳ１０１、Ｓ１０２において、高周波美容処理装置１の作動スイッチが押下されたことに対応して、制御部６１がヒータ２０への電力供給をＯＮに制御すると同時に、制御部６１がタイマ部に計時を開始させる。

そして所定時間（例えば２０秒）が経過したら制御部６１が、ヒータ２０への給電をＯＦＦに制御する。さらにヒータ２０への給電のＯＦＦ後に、制御部６１がタイマ部に再度計時を開始させ、所定時間経過後に再びヒータ２０への給電をＯＮに制御してもよい。この場合、高周波美容処理装置１の作動を停止させるスイッチが押下されるまで、タイマ部による計時に基づいたヒータ２０への給電のＯＮ・ＯＦＦの制御を繰り返えし行うことが望ましい。

さらなる変形例として、制御部６１がローラ電極４０及び固定電極５０への給電をＯＦＦに制御している場合には、ヒータ２０への給電をＯＮに制御し、制御部６１が検知信号を受信したことによって、ローラ電極４０及び固定電極５０への給電をＯＮに制御している場合には、ヒータ２０への給電をＯＦＦに制御するように構成することもできる。
このように、ローラ電極４０及び固定電極５０への給電のＯＮ・ＯＦＦの制御及びヒータ２０への給電のＯＮ・ＯＦＦの制御を交互に行うことにより、高周波電流とヒータ２０からの遠赤外線による熱の供給によって、皮膚が過剰に発熱してしまうことを防止できる。

１〜３…高周波美容処理装置、１０，１１０，２１０…ハウジング、１０ａ〜１０ｃ…壁面、１２…面、１２ａ…開口、１２ｂ，１１２ｂ…穴、１２ｃ…穴、１３…操作面、１４…空間、１５…断熱層、１６…反射層、１７…温度計、検知部１７ａ、１８…遠赤外線透過窓、２０…ヒータ、２０ａ…主放熱面、２０ｂ…裏面、３０…二次電池、４０，１４０…ローラ電極、４１…回転軸、５０…固定電極、６０…印刷回路基板、６１…制御部、６３…ヒータ制御部、６４…センサ部、６４ａ…加速度センサ、７０…電源コード。

Claims

筐体と、
前記筐体に設けられ、被施術者の皮膚に高周波電流による電気的刺激を与えるための対をなす回転電極と、
前記回転電極間に配置された金属性の伝熱部と、
前記伝熱部に熱的に接続するヒータと、
前記ヒータ及び前記回転電極への電力供給を制御する給電制御装置と
を備えたことを特徴とする高周波美容処理装置。
前記給電制御装置は、筐体の前記ヒータ近傍に配置された温度検出器と、
前記温度検出器の出力により前記ヒータへの給電を制御する給電制御手段とを含むことを特徴とする請求項１記載の高周波美容処理装置。
前記給電制御装置に制御されて前記ヒータ及び前記回転電極へ電力を給電する電源をさらに備えたことを特徴とする請求項１又は２に記載の高周波美容処理装置。
前記伝熱部は、前記回転電極間に少なくとも２つ配置され、当該２つの伝熱部は、前記回転電極が並ぶ方向と直交する方向に沿って互いに所定の間隔をおいて位置することを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の高周波美容処理装置。
前記給電制御装置が、前記2つの伝熱部への電力供給を制御することを特徴とする請求項４に記載の高周波美容処理装置。
前記回転電極は、平行する一対のローラ電極又は一対の球電極であることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか1項に記載の高周波美容処理装置。
前記伝熱部が、外側に凸の湾曲面又は球面を備えることを特徴とする請求項１乃至６のいずれか1項に記載の高周波美容処理装置。
前記給電制御装置は、前記回転電極と、前記伝熱部への電力供給制御をそれぞれ独立的に行うことが可能な給電制御手段を含むことを特徴とする請求項５乃至７のいずれか１項に記載の高周波美容処理装置。
前記給電制御装置が周波数変換部を備え、前記回転電極及び前記伝熱部には同一又は異なる周波数の高周波電流を供給し、前記ヒータには直流又は所定の周波数の交流を供給することを特徴とする請求項１乃至８のいずれか１項に記載の高周波美容処理装置。
前記給電制御装置は、前記筐体の振動を検出する加速度センサと、前記加速度センサの出力により前記ヒータへの給電を独立的にオンオフする給電制御手段を含むことを特徴とする請求項１乃至９のいずれか1項記載の高周波美容処理装置。