JP6171341B2 - 光導波路用部材、光導波路、光導波路の製造方法および電子機器 - Google Patents
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(1) コア部と、前記コア部の途中または延長線上に設けられ光反射により前記コア部の光路を変換するミラーと、を備える光導波路の製造に用いられる光導波路用部材であって、
コア部が形成されたコア層と、
前記コア層の一方の面側に積層された第1クラッド層と、
前記コア層の他方の面側に積層された第2クラッド層と、
前記第1クラッド層の前記コア層とは反対側に積層された第1保護層と、
前記第2クラッド層の前記コア層とは反対側に積層され、光透過性を有する第2保護層と、
を有し、
前記第1保護層は、一部が欠損してなる保護層欠損部を備えており、
前記第1クラッド層は、前記保護層欠損部に対応する一部が欠損してなるクラッド層欠損部を備えており、
前記コア層のうち前記クラッド層欠損部に対応する一部に前記ミラーとなる凹部が形成されるように用いられることを特徴とする光導波路用部材。
(3) 前記第1保護層および前記第2保護層は、その引張弾性率が前記コア層の引張弾性率の1.1〜3倍である上記(2)に記載の光導波路用部材。
前記コア層の前記保護層欠損部に対応する位置に設けられ、前記コア層の表面を凹没させてなる凹部の内壁面からなるミラーと、を有することを特徴とする光導波路。
(6) さらに前記保護層欠損部および前記凹部をそれぞれ充填するよう設けられた充填部を有する上記(5)に記載の光導波路。
前記クラッド層欠損部内に対応する前記コア部の途中または延長線上に凹部を形成する加工を施すことにより、光反射により前記コア部の光路を変換するミラーを得る工程と、
を有することを特徴とする光導波路の製造方法。
前記仮部材の一部を貫通加工して、前記クラッド層の一部が欠損してなるクラッド層欠損部と前記保護層の一部が欠損してなる保護層欠損部とを形成する工程と、
コア部が形成されたコア層の一方の面側に、前記クラッド層欠損部が前記コア部の位置に対応するように前記仮部材を積層し、光導波路用部材を得る工程と、
前記クラッド層欠損部内に対応する前記コア部に凹部を形成する加工を施す工程と、
を有することを特徴とする光導波路の製造方法。
また、本発明によれば、上記光導波路を備えた信頼性の高い電子機器が得られる。
<光導波路>
まず、本発明の光導波路の第1実施形態について説明する。
(コア層)
図1に示すコア層13中に形成されているコア部14は、クラッド部(側面クラッド部15および各クラッド層11、12)で囲まれており、コア部14に光を閉じ込めて伝搬することができる。
屈折率差(%)=|A/B−1|×100
クラッド層11、12の平均厚さは、コア層13の平均厚さの0.05〜1.5倍程度であるのが好ましく、0.1〜1.25倍程度であるのがより好ましい。具体的には、クラッド層11、12の平均厚さは、それぞれ1〜200μm程度であるのが好ましく、3〜100μm程度であるのがより好ましく、5〜60μm程度であるのがさらに好ましい。これにより、光導波路1が必要以上に厚膜化するのを防止しつつ、クラッド部としての機能が確保される。
また、図1に示す光導波路1は、最下層として支持フィルム2を、最上層としてカバーフィルム3を、それぞれ備えている。
カバーフィルム3には保護層欠損部172が、クラッド層12にはクラッド層欠損部173が、それぞれ形成されている。保護層欠損部172とクラッド層欠損部173とで構成される欠損部171により、コア層13の上面を露出させることができる。
次に、本発明の光導波路の製造方法の第1実施形態について説明する。
まず、支持基板101上に、カバーフィルム3とクラッド層12をこの順で積層する。これにより、図3(a)に示す仮部材100を得る。
次に、仮部材100の一部について、貫通させる加工を施す。これにより、クラッド層12にはクラッド層欠損部173を、カバーフィルム3には保護層欠損部172をそれぞれ形成し、図3(b)に示す欠損部171を形成する。
次に、欠損部171が形成された仮部材100に対し、コア層13を積層する。コア層13は、仮部材100のクラッド層12と接するよう積層される。
一方、支持基板103上に、支持フィルム2とクラッド層11をこの順で積層する(図4(e)参照)。これにより、積層体1200を得る。
次いで、欠損部171内において露出しているコア層13に対し、図4(f)に示すように、成形型5を押圧する。これにより、コア層13およびクラッド層11には、成形型5の凸部51の形状が転写されることとなり、図4(g)に示す凹部170が形成される。
次に、本発明の光導波路の第2実施形態について説明する。
次に、本発明の光導波路および本発明の光導波路用部材の第3実施形態について説明する。
次に、本発明の光導波路および本発明の光導波路用部材の第4実施形態について説明する。
かかる第4実施形態も、第1実施形態と同様の作用、効果を奏する。
次に、本発明の光導波路用部材の第5実施形態について説明する。
上述したような本発明の光導波路は、光伝送効率に優れたものである。このため、本発明の光導波路を備えることにより、2点間で高品質の光通信を行い得る信頼性の高い電子機器が得られる。
例えば、支持フィルムは省略されてもよく、また、欠損部はクラッド層の層厚の途中まで形成されていてもよい。
また、カバーフィルムに形成される保護層欠損部とクラッド層に形成されるクラッド層欠損部とは、その形成領域が互いに一致していなくてもよい。
10 導波部
11、12 クラッド層
13 コア層
14 コア部
15 側面クラッド部
17 ミラー
170 凹部
171 欠損部
172 保護層欠損部
173 クラッド層欠損部
18 金属膜
19 充填部
2 支持フィルム
3 カバーフィルム
5 成形型
51 凸部
100 仮部材
101、102、103 支持基板
1000 光導波路用部材
1100、1200 積層体
Claims (11)
- コア部と、前記コア部の途中または延長線上に設けられ光反射により前記コア部の光路を変換するミラーと、を備える光導波路の製造に用いられる光導波路用部材であって、
コア部が形成されたコア層と、
前記コア層の一方の面側に積層された第1クラッド層と、
前記コア層の他方の面側に積層された第2クラッド層と、
前記第1クラッド層の前記コア層とは反対側に積層された第1保護層と、
前記第2クラッド層の前記コア層とは反対側に積層され、光透過性を有する第2保護層と、
を有し、
前記第1保護層は、一部が欠損してなる保護層欠損部を備えており、
前記第1クラッド層は、前記保護層欠損部に対応する一部が欠損してなるクラッド層欠損部を備えており、
前記コア層のうち前記クラッド層欠損部に対応する一部に前記ミラーとなる凹部が形成されるように用いられることを特徴とする光導波路用部材。 - 前記第1保護層および前記第2保護層は、その引張弾性率が前記コア層より高いものである請求項1に記載の光導波路用部材。
- 前記第1保護層および前記第2保護層は、その引張弾性率が前記コア層の引張弾性率の1.1〜3倍である請求項2に記載の光導波路用部材。
- 請求項1ないし3のいずれか1項に記載の光導波路用部材と、
前記コア層の前記保護層欠損部に対応する位置に設けられ、前記コア層の表面を凹没させてなる凹部の内壁面からなるミラーと、を有することを特徴とする光導波路。 - 前記凹部の内壁面に成膜された金属膜を有する請求項4に記載の光導波路。
- さらに前記保護層欠損部および前記凹部をそれぞれ充填するよう設けられた充填部を有する請求項5に記載の光導波路。
- 前記凹部は、成形型の転写成形痕、ダイシング加工痕およびレーザー加工痕のうちのいずれかである請求項4ないし6のいずれか1項に記載の光導波路。
- コア部が形成されたコア層の一方の面側に、前記コア部の位置に対応する一部が欠損してなるクラッド層欠損部を備える第1クラッド層と前記クラッド層欠損部に対応して一部が欠損してなる保護層欠損部を備える第1保護層とを前記コア層側からこの順で積層するとともに、前記コア層の他方の面側に、第2クラッド層と光透過性を有する第2保護層とを前記コア層側からこの順で積層し、光導波路用部材を得る工程と、
前記クラッド層欠損部内に対応する前記コア部の途中または延長線上に凹部を形成する加工を施すことにより、光反射により前記コア部の光路を変換するミラーを得る工程と、
を有することを特徴とする光導波路の製造方法。 - 成形型の転写成形、ダイシング加工およびレーザー加工のうちのいずれかにより前記凹部を形成する請求項8に記載の光導波路の製造方法。
- クラッド層と保護層とを積層し、仮部材を得る工程と、
前記仮部材の一部を貫通加工して、前記クラッド層の一部が欠損してなるクラッド層欠損部と前記保護層の一部が欠損してなる保護層欠損部とを形成する工程と、
コア部が形成されたコア層の一方の面側に、前記クラッド層欠損部が前記コア部の位置に対応するように前記仮部材を積層し、光導波路用部材を得る工程と、
前記クラッド層欠損部内に対応する前記コア部に凹部を形成する加工を施す工程と、
を有することを特徴とする光導波路の製造方法。 - 請求項4ないし7のいずれか1項に記載の光導波路を備えることを特徴とする電子機器。
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JP2012288996A JP6171341B2 (ja) | 2012-12-28 | 2012-12-28 | 光導波路用部材、光導波路、光導波路の製造方法および電子機器 |
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