JP6170879B2 - 歪みゲージ圧力センサ - Google Patents

歪みゲージ圧力センサ Download PDF

Info

Publication number
JP6170879B2
JP6170879B2 JP2014110839A JP2014110839A JP6170879B2 JP 6170879 B2 JP6170879 B2 JP 6170879B2 JP 2014110839 A JP2014110839 A JP 2014110839A JP 2014110839 A JP2014110839 A JP 2014110839A JP 6170879 B2 JP6170879 B2 JP 6170879B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
diaphragm
neck
base
pressure sensor
wire bonding
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2014110839A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2015225002A5 (ja
JP2015225002A (ja
Inventor
エス ペトラルカ ネイル
エス ペトラルカ ネイル
Original Assignee
センサータ テクノロジーズ インコーポレーテッド
センサータ テクノロジーズ インコーポレーテッド
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by センサータ テクノロジーズ インコーポレーテッド, センサータ テクノロジーズ インコーポレーテッド filed Critical センサータ テクノロジーズ インコーポレーテッド
Priority to JP2014110839A priority Critical patent/JP6170879B2/ja
Publication of JP2015225002A publication Critical patent/JP2015225002A/ja
Publication of JP2015225002A5 publication Critical patent/JP2015225002A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6170879B2 publication Critical patent/JP6170879B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Description

本発明は、電気信号を生成するために流体システムの圧力変化を感知する歪みゲージ技術を実施する圧力トランスデューサに関し、このトランスデューサを組み立てるためのパッケージ構造および方法に関する。
マイクロフューズドシリコン歪みゲージ技術を組み込む圧力感知トランスデューサは、多くの環境で、また様々な用途で使用が増加している。トランスデューサは、空間的な制限が1つの要因となる環境でたびたび使用され、この結果、このトランスデューサはサイズが小さいことが望ましく、例えば、直径約1センチメートル以下(例えば、6〜8mm)程度で、直径の約2〜3倍の長さとすることができる。このようなトランスデューサの多くの用途は、自動車産業において、例えば、燃料システム、ブレーキシステム、車両安定システム等の圧力を感知するものを含む。このトランスデューサは、通常、監視されるべき圧力源(圧力環境)を圧力反応ダイアフラムに伝える、少なくとも1つの流体通路を含む。歪みゲージのような少なくとも1つの感知素子は、通常このダイアフラムの表面に搭載され、ダイアフラムの撓みに応答する。歪みゲージは、トランスデューサハウジング内に搭載されたプリント回路基板上の導体パッドに細長いワイヤにより接続される。回路基板は電子部品および回路を備えて、監視されているシステムの流体圧力を示す電気的出力信号を生成する。回路基板からの出力信号は、トランスデューサのハウジングを介して利用可能な電気的接続により、トランスデューサの外部で取り出される。ハウジング内のトランスデューサの構成要素の形状は、トランスデューサ全体のサイズに影響を与え、トランスデューサの性能および機能を損なうことなく、パッケージ全体のサイズを削減することができるように、これらの構成要素をパッケージングすることが望ましい。さらに、トランスデューサの内部構成要素の配置は、トランスデューサの完全性および信頼性に影響を与えることがある。本発明は、このようなトランスデューサの改良された構造および方法を提供する。
トランスデューサの組み立ては、一体型のベースを含む圧力ポートおよびこのベースから延在するネックを備える。ベースは、圧力環境と関連する、もしくは、圧力環境を含むかまたは圧力環境に通じるその他の装置と関連する接続金具に接続可能である。圧力ポートのベースは、圧力環境に通じるように構成された開口部を有し、内部の流体通路はこの開口部からネックへ延在する。ネックの一部が、流体通路内の流体圧力の変動に応答して弾性的に撓むことのできる薄い弾性のダイアフラムを、ネックの側部に沿って規定するように、流体通路およびネックは構成される。ダイアフラムは、トランスデューサの縦軸に沿って、またはこれと実質的に平行に延在する面に沿って置かれるように構成される。1つまたは複数の歪みゲージがダイアフラムの外面に固定され、圧力環境の流体圧力に応じたダイアフラム上の歪みに応答するように構成される。
プリント回路基板を含む電子部品パッケージは、導電性リードフレームおよび一体型の非導電性支持レフームから成る支持アセンブリを含む配置により、トランスデューサ内に支持される。トランスデューサ用の回路を含むプリント回路基板は、金属製のリードフレームに搭載される。支持アセンブリは、圧力ポートのベース部分に搭載され、ダイアフラムを含め、圧力ポートのネックを受け取る。支持アセンブリは、プリント回路基板を支持するように圧力ポートに対して配置されるので、それにより、歪みゲージに接続される、PC基板上のワイヤボンディングパッドは、ダイアフラムの表面およびダイアフラムに搭載される歪みゲージに実質的に平行な面に沿って配置される。PC基板は、好ましくは、ワイヤボンディングパッドにより歪みゲージに近接して配置される。PC基板のワイヤボンディングパッドの表面を、ダイアフラムの表面および歪みゲージに実質的に平行に配置することにより、従来のワイヤボンディングパッド機構を用いた、歪みゲージに対するPC基板のワイヤボンディングが容易となる。この配置は、より短いボンディングワイヤの使用を可能にし、これらに関連するPC基板上の導体パッドおよび歪みゲージに対して、ボンディングワイヤを電気的および機械的により確実に接続することを提供する。さらに、ダイアフラム、歪みゲージおよびPC基板のワイヤボンディングパッドを平行な面に配向することにより、歪みゲージとPC基板のワイヤボンディングパッドを電気的に接続するための設計および組立方法が簡略化する。この配置により、PC基板はトランスデューサの縦方向に延在することができ、これによりPC基板がダイアフラムの表面および歪みゲージに垂直に配向された場合に結果的に生じる、PC基板のサイズの制限を避けることができる。
本発明の目的および利点は、添付の図面を参照して、本発明の以下の説明からさらに十分に理解されよう。
代表的なトランスデューサの等角図である。
図1に示したトランスデューサのベースの底部の図である。
図1のトランスデューサの頂部の平面図である。
長手方向の直径面に沿った、トランスデューサの一実施形態の縦断面図である。
図4の実施形態の支持アセンブリの等角図である。
図4の実施形態のリードフレームの等角図である。
図5と同様であるが、図5の支持アセンブリに搭載されたプリント回路基板を備える図である。
圧力孔の一実施形態の等角図である。
図8の圧力孔の縦断面図である。
本発明の原則を包含するトランスデューサの別の実施形態の縦断面図である。
カバーが取り除かれた状態の、図10の組み立てられた実施形態の図である。
図10の圧力孔の等角図である。
図10の圧力孔の縦断面図である。
本発明の第3の実施形態の側面図である。
図14の実施形態の縦断面図である。
リードフレームが支持フレームに取り付けられた、図15の支持アセンブリの等角図である。
図14〜図16のリードフレームの等角図である。
図15の圧力孔の等角図である。
図15の圧力孔の断面図である。
圧力孔の別の実施形態の等角図である。
図20の圧力孔の縦断面図である。
図20の圧力孔を使用するトランスデューサの縦断面図である。
PC基板のワイヤボンディングパッドおよびダイアフラムが平行に、離間された平面に置かれ、歪みゲージとPC基板のボンディングパッドとの間のワイヤボンディングが効果的である方法を示す、代表的なトランスデューサの等角図である。
図1は、圧力ポート12と、圧力ポートのベース16に取り付けられ、かつ出力信号が送信および利用され得る電気接点またはコネクタ内の上端18で終端する、上方に延在するハウジング14とを有するトランスデューサ10を示す。この実施形態では、電気接点は、装置の上端に形成されたソケット22を介してアクセス可能な接触パッド20の形状とすることができる。
図4、図8および図9に示すように、圧力ポート12は、様々な材料から単一のモノリシックの部分として形成されることができ、その材料は17‐4ステンレス鋼であることが好ましい。圧力ポートは、ベース16および上方に延在するネック24を含む。ベース16およびネック24の下部は、閉じた上端28で終端する流体通路26を含むように形成される。ネックの下部は、1つまたは複数の歪みゲージ(32に鎖線で示す)が搭載されるネックの側部に沿った平坦な外面30を含むように形成される。流体通路26の少なくとも上部は、平面30と協働する平坦な内面33を規定する断面を有するように形成されて、薄くフレキシブルなダイアフラム34をネックの領域に沿って規定する。この実施形態では、通路の断面は、図2に示すように長楕円とすることができる。通路の長楕円の断面形状は、ベースおよびネックの下部を介して孔を開け、かつ穴開けツールを水平方向に移動させることによって形成され得る。通路の長楕円の断面により、平坦な外面30と協働する長手方向に延在する平坦な内面33は、ダイアフラム34の細長の構成を規定することができる。
ネック24の上部は平坦であり、かつ平面30の面から窪むことができ、図4に示すように、プリント回路基板38上に搭載された電気部品36に空間を提供することができる。ネック24の最上部は、支持アッセンブリをネックに固定するのに役立つように使用され得るスナップインコネクタ素子40を規定するように形成されることができる。
図5は、PC基板38をトランスデューサ内で支持する支持アセンブリ42を示す。支持アセンブリ42は、導電性リードフレーム44および非導電性支持フレーム46を含み、これらは相互に一体に固定される。リードフレームは、導電性がありかつ十分に構造的に堅牢な適切な材料から形成されることができる。例えば、リードフレームは、1枚のシート状のステンレス鋼からスタンピングされかつ形成され得る。リードフレームは、めっきされることが望ましい部分を有して、この部分の電気的な導電性を増大させることができる。支持フレームは、例えば液晶ポリマーのような、任意の様々なポリマー材料または設計材料から形成されることができる。リードフレームは、支持フレームと共にインサート成型されることができる。装置が組み立てられると、支持アッセンブリ42は、圧力ポート12のネック24の周辺に配置され、下端はベース16に固定される。この実施形態では、リードフレーム44の下端の弓形のセグメント48は支持アセンブリ42の下端を規定する。弓形のセグメント48は、ベース16の輪郭と一致し、レーザー溶接されるか、またはベースに固定されることができる。この実施形態では、支持フレーム46は、リードフレーム44の上端に取り付けられ、また、支持フレーム46(図6)内に形成されたソケット22を介してアクセス可能な接触パッド18に接続された、いくつかの付随する導電性タブ50を支持する。タブ50は、リードフレーム44の一部として初めに形成され、タブ50を規定する部分が支持フレーム46にしっかりと搭載された後に、フレームから切断される。切断されたタブ50は、PC基板から、外部でアクセス可能な接触パッド20までの電気的に絶縁された導電経路を提供する。
PC基板38は、リードフレーム44に、好ましくは両者の間をはんだ付け接続することによって取り付けられる。そのため、リードフレームに面するPC基板の表面は、金属製の構造的に堅牢な面を含み、この面はリードフレームの直面する面52にはんだ付けされることができる。リードフレームへの接続はまた、PC基板回路のための接地としての役割も果たすことができる。同様に、PC基板上に形成された接触パッドは、支持フレーム46によって支持される導電性タブ50と整合して配向され、これにより、接触パッドが導電性タブ50にはんだ付けされることができる。リードフレームは、支持フレームおよびベースに固定され、これにより、PC基板が固定される直面する面52は、ネックの平坦な面30およびダイアフラム34と平行である面に沿って位置するように配置される。図7は、適所に搭載されたPC基板を有する支持アセンブリを示す。この実施形態では、PC基板は、基板の開口56の周辺に配置されたいくつかのワイヤボンディングパッド54を含む。開口56は、歪みゲージ32整合する(図4)。ボンディングパッド54は、ダイアフラム34の面および歪みゲージと平行な面に配置される。この配置により、ワイヤボンディングマシン(例えば、図23参照)は、ボンディングワイヤ55の端部をPC基板の選択されたボンディングパッド54に位置させかつ取り付けることができ、これらの端部を開口56を通過させて、それらのもう一方の端部を歪みゲージ上の選択されたポイントに取り付けることができる。ワイヤボンディング接続が完了した後に、ワイヤ、歪みゲージおよびワイヤボンディングパッドは、接続を保護するために、ゲル57または他の適切な材料で封止されることができる。歪みゲージ、ダイアフラムおよびPC基板のワイヤボンディングパッドを平行な面に配向することによって、PC基板を歪みゲージに接続するために特別に設計されたコネクタ素子を有する必要がないという点で、トランスデューサの設計が簡素化される。
図10から図13は、圧力ポートを介する流体通路が異なる方法で形成され、圧力ポートのベースが圧力環境に通じる対応する接続金具と係合するように構成されるニップルを含むという点で、図1から図9とは異なる本発明の別の実施形態を示す。トランスデューサは、任意のタイプの圧力環境に接続するために様々に構成されるベースを有するように形成されることができ、また、特別に形成されたベースを含むことができ、図面に示されたこのようなベースが例示的なものに過ぎないことを理解すべきである。
図12および図13は、図11の圧力ポート60を示す。圧力ポートは、ベース62と、ベース62から上方へ延在するネック64とを含むように形成される。ネック64は、歪みゲージが搭載される平坦な外面66を含むように形成される。流体通路68は、ベースおよびネックの底部を介して長手方向に形成される。この実施形態において、通路断面は、流体通路68がネックの下部の上部付近で終端していることを含む。ダイアフラム69は、流体通路68の上端に近接するネックの後部を介して孔70を機械加工して、完成した内面72を残すことによって、ネックの側部に沿って規定され、結果として生じるダイアフラム69の厚さは、外面66と内面72の間の距離に対応する。孔70はその後、例えばプラグ74によって閉じられ、孔をしっかりと封止するように溶接されてもよい。PC基板38に空間を提供するために、ネック64の上部75は、外面66の平面から窪むことができる。この実施形態に示すように、PC基板38の構成要素は、外側に面するように配置されることができる。この実施形態では、支持アセンブリ76は、前述する実施形態の支持アセンブリと同様であり、必要であれば内部部品の寸法および構成に適用するように修正される。図11および図12に示すように、PC基板は、ダイアフラム69と実質的に同じ面に置かれるワイヤボンディングパッド78を備える。この実施形態では、ボンディングワイヤ77は、比較的短くすることができ、比較的ほとんど曲げを必要とせず、これにより、ボンディング中および使用中のワイヤ損傷のリスクが減少する。
図14から図19は、圧力ポート80が先端が削除されたネック82を有する本発明の第3の実施形態を示す。圧力ポート80が、相互に接合された、2つの別々に形成されたピースから作られることができることを、この実施形態は示している。これは例えば、ベースを介する流体通路の横断面が、ダイアフラムが規定されるネックの流体通路よりも小さくなければならない適用例において望ましい。この場合、ベース部81が個別に形成されて、次いでネック部82に接続され得る。ここで、ネックを介した通路83は横断面を長楕円とすることができ、ベースを介した通路85は、横断面を円形とすることができる。図18および図19に示すように、ダイアフラムは、ネック82の平坦な外面84に沿って規定される。ネックの上部86は、PC基板上で支持される電気部品用にネック82の上に空間を残すために短い。
支持アセンブリが図16に示され、この支持アセンブリは、リードフレーム88と、このリードフレームに組み込まれる支持フレームとを含む。図16および図17に示すように、この実施形態では、ワイヤボンディングパッド54がネック82の下部上のダイアフラム84と平行な面に配置されるように、PC基板34は支持される。この実施形態では、支持フレーム90は、リードフレーム88のほぼ全長に延在するように示されている。前述の実施形態のように、リードフレーム88(図17)は、PC基板がはんだ付けされ得るボンディング表面92と、PC基板上の対応する接触パッドに接続可能な接触パッド94およびタブ96とを含む。この実施形態では、図16および図17に示すように、ダイアフラム84の面およびPC基板上のワイヤボンディングパッド54の面は、相互にオフセットされた平行の面に配置される。
図20、図21および図22は、図15から図19と同様に先端が削除されたネックを有するが、流体通路およびダイアフラムが図11から図14の実施形態と同様の方法で形成されている、本発明のさらに別の実施形態を示す。この実施形態では、ポート100は、モノリシックのベース102およびネック104を含み、かつベースおよびネックの両方を貫通する通路106を有する一体構造とすることができる。ダイアフラム108は、通路106に通じ、ダイアフラム108の内面110を形成するように、ネック104の後部を介して開口を創出することによって形成される。開口は次いで、適所にレーザー溶接されるプラグ109によって密封される。この実施形態では、本発明の原理を包含するトランスデューサのすべての実施形態と同様に、リードフレーム112および支持フレーム114を含む支持アセンブリは、装置の構成要素を収容するための堅牢な支持を提供するように、また、特定の用途に必要とされるような電気的接続を提供するように構成される。この実施形態において、ダイアフラムおよび歪みゲージは、PC基板上のワイヤボンディングパッドとおおよそ同じ面に置かれて、上述の利点を達成することに留意されたい。
図23は、アセンブリ工程のワイヤボンディングの部分の際の、図14から図19に示したようなトランスデューサを示す。ワイヤ122が案内される供給ヘッド120を有するコンピュータ制御の機械は、歪みゲージ32と、PC基板38上のワイヤボンディングパッド54の間のワイヤボンディングをもたらす。機械は、近接する超音波ボンディングハンマー124を含む。供給ヘッドおよびボンディングハンマーは、ワイヤボンディングパッドおよび歪みゲージの面と平行の方向に移動可能であり、これらを、歪みゲージ上の特定の接触パッドまたは接触点に位置するように配向させる。供給パッドおよびハンマーは、PC基板上のボンディングパッドまたは歪みゲージ上のポイントに関してこれらを適切に位置決めする。機械は、供給ヘッドを介してある長さのワイヤを供給して、ワイヤの端部を歪みゲージ上の一点に配置し、超音波ハンマーが次いで下方にもたらされて、ワイヤを歪みゲージの接点にクランプする。クランプされると、超音波溶接エネルギーがハンマーに加えられて、ワイヤの端部を接蝕点に溶融させるのに十分な熱を発生させる。動作は、ワイヤのもう一方の端部に繰り返され、パッドに位置決めしてボンディングし、ワイヤ供給からワイヤを切断する。このプロセスは、歪みゲージをPC基板上の残りのワイヤボンディングパッドに接続するように繰り返される。
“圧力環境”という用語が、任意の一定程度の高圧力または低圧力を示すようには意図されておらず、また、“頂部”、“底”、“上”、“低”、“前”、“後”のような方向を示す用語はトランスデューサの構成要素の相対的な配向を説明するように意図されており、表面構造またはともに使用されるシステムに関して、トランスデューサそれ自体の配向に言及するものではないことを理解すべきである。すべてのこのような用語は、本発明を説明する上で単に便宜のために使用される。
上記より、本発明は、感知素子に応答する出力信号を発生させるために、感知素子と電子回路の間の電気的な結合を簡素化する、圧力トランスデューサの構成要素を支持およびパッケージングするための配置および方法を提供することが理解されよう。本発明により、細長いワイヤがワイヤボンディングパッドと感知素子上の接点を結合することができ、ワイヤ損傷のリスクが減少する。
また、本発明の前述の説明は例示的であることを単に意図しており、他の実施形態、目的、利点等が本発明の原則を逸脱することなく当業者にとって明らかであることを理解すべきである。

Claims (20)

  1. ベースと、当該ベースから上方に延在するネックを有する圧力ポートであって、前記ネックが側壁を備える、前記圧力ポートと、
    前記ベースを介して前記ネック内に形成される流体通路であって、前記ベースが流体圧力環境に接続可能である、前記流体通路と、
    前記ネックの前記側壁に沿って配置されたダイアフラムであって、当該ダイアフラムは外面および内面を有し、当該内面が前記流体通路に露出され、前記ネックの側壁が前記ダイアフラムの外面を規定する平坦な外面を有し、前記ネックの内面が前記外面と平行でありかつ前記ダイアフラムを規定する円形の平坦な内面を規定するように機械加工されている、前記ダイアフラムと、
    前記ダイアフラムの前記外面に搭載されたダイアフラムの移動に応答する感知素子と、
    前記ネックに近接して搭載され、電子回路パッケージと感知素子の間のワイヤ接続を容易にするためのワイヤボンディングパッドを含む電子部品パッケージと
    を含み、
    前記ワイヤボンディングパッドおよび前記ダイアフラムが平面的な位置合わせで配置される、圧力センサアセンブリ。
  2. 前記ワイヤボンディングパッドおよび前記ダイアフラムが実質的に平行な面に置かれる、請求項1に記載の圧力センサ。
  3. 前記ワイヤボンディングパッドおよび前記ダイアフラムが同一の面に置かれる、請求項1に記載の圧力センサ。
  4. 前記感知素子が歪みゲージを含む、請求項1に記載の圧力センサ。
  5. 圧力センサはさらに、前記歪みゲージおよび前記ボンディングパッドに結合されたワイヤを含み、前記歪みゲージを前記電子部品パッケージに電気的に接続する、請求項4に記載の圧力センサ。
  6. 前記ネックの平坦な内面が、断面が長楕円である前記通路の一部によって規定される、請求項に記載の圧力センサ。
  7. 長楕円の断面形状は、ベースおよびネックの下部を介して孔を開け、かつ穴開けツールを水平方向に移動させることによって形成される、請求項6に記載の圧力センサ。
  8. 圧力センサはさらに、前記平坦な表面と対向する前記ネックの側部を介して形成され、前記流体通路に通じる開口と、
    前記ネック内の前記開口をカバーかつ封止するプラグと
    を含む、請求項に記載の圧力センサ。
  9. 圧力センサはさらに、前記ネックおよび電子部品パッケージの周辺に配置されるカバーを含み、ハウジングの下端が前記圧力ポートの前記ベースに風止して固定される、圧力センサはさらに、前記ハウジングの外部で前記電子部品パッケージとの接続を可能にする電気的インターフェースとを含む、請求項1に記載の圧力センサ。
  10. 圧力センサはさらに、前記電子部品パッケージが、前記圧力ポートの長手方向に延在する面に沿って置かれるように支持されるプリント回路基板を備えることを含む、請求項1に記載の圧力センサ。
  11. 前記圧力ポートの前記ベースおよび前記ネックが、単一のモノリシックな部品として形成される、請求項1に記載の圧力センサ。
  12. 前記圧力ポートの前記ベースおよび前記ネックが、相互に接合された別々の部品から形成される、請求項1に記載の圧力センサ。
  13. ベースおよび当該ベースから上方に延在するネックを備える圧力ポートと、前記ベースおよび前記ネックを介して延在する流体通路と、前記ネックの側壁に配置され、かつ外面および内面を有し、当該内面が前記流体通路に通じるダイアフラムと、ワイヤボンディングパッドを有する電子部品パッケージと、前記ダイアフラムの外面に搭載される少なくとも1つの歪みゲージとを有する圧力トランスデューサであって、
    前記ダイアフラムが前記ネックの側部に沿って配置され、前記ネックの側壁が前記ダイアフラムの外面を規定する平坦な外面を有し、前記ネックの内面が前記外面と平行でありかつ前記ダイアフラムを規定する円形の平坦な内面を規定するように機械加工されており、
    前記ダイアフラムと前記ボンディングパッドが平面的な位置合わせで配置されかつ支持される、改良された圧力トランスデューサ。
  14. 前記ワイヤボンディングパッドの面および前記ダイアフラムの面が平行である、請求項13に記載の圧力トランスデューサ。
  15. 前記ワイヤボンディングパッドおよび前記ダイアフラムが同一の面に置かれる、請求項13に記載の圧力トランスデューサ。
  16. ベース、前記ベースの上方に延在するネック、および前記ベースを介して前記ネック内に延在する流体通路を有する圧力ポートを提供し、
    前記ネックを、前記ネックの側部に沿ってダイアフラムを規定するように形成し、かつ前記圧力ポートの長手を延在する面に沿って置き、前記ネックの側壁が前記ダイアフラムの外面を規定する平坦な外面を有し、前記ネックの内面が前記外面と平行でありかつ前記ダイアフラムを規定する円形の平坦な内面を規定するように機械加工されており、
    前記ダイアフラムに感知素子を搭載し、
    前記電子部品パッケージと前記感知素子間のワイヤ接続を容易にするように、ワイヤボンディングパッドを有する電子部品パッケージを提供し、
    前記ダイアフラムの面と平面的な位置合わせでパッドが置かれた状態で、前記パッケージを支持し、
    ワイヤボンディングマシンを使用して、前記歪みゲージ上のポイントと前記ワイヤボンディングパッドの間にワイヤを取り付け、圧力トランスデューサの製造方法。
  17. 前記ワイヤボンディングパッドおよび前記ダイアフラムが実質的に同じ面に配置される、請求項16に記載の方法。
  18. 前記ワイヤボンディングパッドおよび前記ダイアフラムが実質的に平行な面に配置される、請求項16に記載の方法。
  19. ベースと、当該ベースから上方に延在するネックを有し、前記ネックが側壁とアクセス孔を備える、圧力ポートと、
    前記ベースを介して前記ネック内に形成される流体通路であって、前記ベースが流体圧力環境に接続可能である、前記流体通路と、
    前記ネックの前記側壁に沿って配置されたダイアフラムであって、当該ダイアフラムは外面および内面を有し、当該内面が前記流体通路に露出され、前記ネックの側壁が前記ダイアフラムの外面を規定する平坦な外面を有し、前記ネックの内面が前記ダイアフラムの外面と平行である平坦な内面を規定するように機械加工されている、前記ダイアフラムと、
    前記ダイアフラムの前記外面に搭載されたダイアフラムの移動に応答する感知素子と、
    前記ネックに近接して搭載され、電子回路パッケージと感知素子の間のワイヤ接続を容易にするためのワイヤボンディングパッドを含む電子部品パッケージと、
    前記ワイヤボンディングパッドおよび前記ダイアフラムが平面的な位置合わせで配置され、アクセス孔から生じる機械加工と前記平坦な内面へのアクセスの障害のためのプラグが前記アクセス孔から前記側壁への隔たりとなる、圧力センサ。
  20. 機械加工されたダイアフラム面は、前記側壁の取り囲む領域よりも異なる厚さを有する、請求項19に記載の圧力センサ。
JP2014110839A 2014-05-29 2014-05-29 歪みゲージ圧力センサ Expired - Fee Related JP6170879B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2014110839A JP6170879B2 (ja) 2014-05-29 2014-05-29 歪みゲージ圧力センサ

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2014110839A JP6170879B2 (ja) 2014-05-29 2014-05-29 歪みゲージ圧力センサ

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2015225002A JP2015225002A (ja) 2015-12-14
JP2015225002A5 JP2015225002A5 (ja) 2017-06-22
JP6170879B2 true JP6170879B2 (ja) 2017-07-26

Family

ID=54841843

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2014110839A Expired - Fee Related JP6170879B2 (ja) 2014-05-29 2014-05-29 歪みゲージ圧力センサ

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP6170879B2 (ja)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6992482B2 (ja) * 2017-12-18 2022-01-13 富士電機株式会社 圧力センサ
CN110349738B (zh) * 2019-07-12 2020-06-30 安第斯新材料科技(浙江)有限公司 一种利用电阻变化保护单晶硅差压变送器内的电子元件

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7077008B2 (en) * 2004-07-02 2006-07-18 Honeywell International Inc. Differential pressure measurement using backside sensing and a single ASIC
CN101088000B (zh) * 2004-08-23 2010-11-10 霍尼韦尔国际公司 绝对压力检测系统及方法
JP2008151738A (ja) * 2006-12-20 2008-07-03 Denso Corp 圧力センサ
DE102007031980A1 (de) * 2007-07-10 2009-01-15 Robert Bosch Gmbh Anschlusseinheit für eine Druckmesszelle
EP2390641B1 (en) * 2010-05-27 2019-06-26 Sensata Technologies, Inc. Pressure Sensor
DE102010041169A1 (de) * 2010-09-22 2012-03-22 Robert Bosch Gmbh Drucksensor, insbesondere für Bremsvorrichtung
US20130192379A1 (en) * 2012-01-27 2013-08-01 Neil S. Petrarca Small form factor microfused silicon strain gage (msg) pressure sensor packaging

Also Published As

Publication number Publication date
JP2015225002A (ja) 2015-12-14

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6009950B2 (ja) スモールフォームファクタのマイクロフューズドシリコン歪みゲージ(msg)圧力センサパッケージング
US7152483B2 (en) High pressure sensor comprising silicon membrane and solder layer
EP1970686B1 (en) Pressure sensor and manufacturing method of said sensor
US7404330B2 (en) Pressure sensor
CN100552401C (zh) 用于压力测量的系统和方法
KR102266018B1 (ko) 물리량 측정 센서
US9310266B2 (en) Strain gauge pressure sensor
TW201636586A (zh) 壓力感測器及壓力感測器模組
JP6892404B2 (ja) 圧力センサ
EP2587241A2 (en) Sensor with fail-safe media seal
US6907789B2 (en) Sensor package
JP4908411B2 (ja) 圧力センサ及びその製造方法
CN109642844A (zh) 用于减少压力测量室的容积的填充体
JP6170879B2 (ja) 歪みゲージ圧力センサ
KR102242428B1 (ko) 스트레인 게이지 압력 센서
CN105181216B (zh) 应变计式压力传感器
JP6709486B2 (ja) 圧力センサ
EP2950070B1 (en) Strain gauge pressure sensor
US10651609B2 (en) Method of manufacturing physical quantity sensor device and physical quantity sensor device
JP6802289B2 (ja) 圧力検出装置
JP2015225002A5 (ja)
JP4223273B2 (ja) 圧力センサ
JP2010091389A (ja) 筒内圧センサ
EP3225964B1 (en) Semiconductor sensor device
JP2021162501A (ja) ケーブル抜け止め構造およびこの構造を備える電子機器

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20170515

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20170516

A871 Explanation of circumstances concerning accelerated examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A871

Effective date: 20170516

TRDD Decision of grant or rejection written
A975 Report on accelerated examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971005

Effective date: 20170529

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20170606

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20170703

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6170879

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees