JP6156358B2 - 高分子電解質組成物、およびそれを用いた高分子電解質膜、膜電極複合体および固体高分子型燃料電池 - Google Patents
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Description
(1)イオン性基含有ポリマー(A)の溶液または分散液に、窒素含有添加剤(B)を溶解または分散させた後、得られた液を用いて製膜し、高分子電解質膜を作製する方法。
(2)窒素含有添加剤(B)を溶解させた液に、イオン性基含有ポリマー(A)からなる高分子電解質膜を接触させる方法。
本発明で使用するブロック共重合体の化学構造、セグメント鎖長、分子量、イオン交換容量などを適宜選択することにより、高分子電解質材料の加工性、ドメインサイズ、結晶性/非晶性、機械強度、プロトン伝導性、寸法安定性等の諸特性を制御することが可能である。
(1)プロトン置換し、純粋で十分に洗浄した電解質膜の膜表面の水分を拭き取った後、100°にて12h以上真空乾燥し、乾燥重量を求める。
(2)電解質に5質量%硫酸ナトリウム水溶液を50mL加え、12h静置してイオン交換する。
(3)0.01mol/L水酸化ナトリウム水溶液を用いて、生じた硫酸を滴定する。指示薬として市販の滴定用フェノールフタレイン溶液0.1w/v%を加え、薄い赤紫色になった点を終点とする。
(4)イオン交換容量は下記の式により求める。
〔水酸化ナトリウム水溶液の濃度(mmol/ml)×滴下量(ml)〕/試料の乾燥重量(g)
本発明で使用するブロック共重合体を得るためにイオン性基を導入する方法は、イオン性基を有するモノマーを用いて重合する方法と、高分子反応でイオン性基を導入する方法が挙げられる。イオン性基を導入する方法については、国際公開2006/87995号公報、国際公開2008/18487号公報を参考にすることができる。
一般式(Q1)中のZ1およびZ2として好ましい有機基としては、Z1がフェニレン基、かつ、Z2が下記一般式(X−1)、(X−2)、(X−4)、(X−5)から選ばれた少なくとも1種であることがより好ましい。また、イオン性基以外の基で置換されていてもよいが、無置換である方が結晶性付与の点でより好ましい。Z1およびZ2としては、さらに好ましくはフェニレン基、最も好ましくはp−フェニレン基である
イオン性基を含有するセグメント(A1)としては、化学的に安定で、電子吸引効果により酸性度が高められ、スルホン酸基が高密度に導入された構成単位がより好ましく、低加湿条件下のプロトン伝導性に優れたブロック共重合体を得ることができる。
イオン性基を含有するセグメント(A1)として、一般式(S1)で表される構成単位以外に共重合せしめる構成単位の好ましい例は、ケトン基を含む芳香族ポリエーテル系重合体で、イオン性基を含有するものが挙げられる。
一般式(T1)と(T2)で表される構成単位の組成比を変えることで、イオン交換容量を制御することが可能であるが、T1とT2の合計モル量を基準として、P1の導入量としては、好ましくは75モル%以上、より好ましくは90モル%以上、最も好ましくは100モル%である。P1の導入量が75モル%未満である場合には、プロトン伝導バスの構築が不十分となる場合があり好ましくない。
中和滴定法により測定した。測定は3回行って、その平均値を取った。
(i)プロトン置換し、純水で十分に洗浄した電解質膜の膜表面の水分を拭き取った後、100℃にて12時間以上真空乾燥し、乾燥重量を求めた。
(ii)電解質に5質量%硫酸ナトリウム水溶液を50mL加え、12時間静置してイオン交換した。
(iii)0.01mol/L水酸化ナトリウム水溶液を用いて、生じた硫酸を滴定した。指示薬として市販の滴定用フェノールフタレイン溶液0.1w/v%を加え、薄い赤紫色になった点を終点とした。
(iv)イオン交換容量は下記の式により求めた。
〔水酸化ナトリウム水溶液の濃度(mmol/ml)×滴下量(ml)〕/試料の乾燥重量(g)
(2)プロトン伝導度
膜状の試料を25℃の純水に24時間浸漬した後、80℃、相対湿度25〜95%の恒温恒湿槽中にそれぞれのステップで30分保持し、定電位交流インピーダンス法でプロトン伝導度を測定した。
ポリマーの数平均分子量、重量平均分子量をGPCにより測定した。紫外検出器と示差屈折計の一体型装置として東ソー製HLC−8022GPCを、またGPCカラムとして東ソー製TSK gel SuperHM−H(内径6.0mm、長さ15cm)2本を用い、N−メチル−2−ピロリドン溶媒(臭化リチウムを10mmol/L含有するN−メチル−2−ピロリドン溶媒)にて、サンプル濃度0.1wt%、流量0.2mL/min、温度40℃で測定し、標準ポリスチレン換算により数平均分子量、重量平均分子量を求めた。
ミツトヨ製グラナイトコンパレータスタンドBSG−20にセットしたミツトヨ製ID−C112型を用いて測定した。
下記条件のガスクロマトグラフィー(GC)により定量分析した。
カラム:DB−5(J&W社製) L=30m Φ=0.53mm D=1.50μm
キャリヤー:ヘリウム(線速度=35.0cm/sec)
分析条件
Inj.temp. 300℃
Detct.temp. 320℃
Oven 50℃×1min
Rate 10℃/min
Final 300℃×15min
SP ratio 50:1
(6)窒素含有添加剤の溶解性
窒素含有添加剤の溶解性は、60℃の純水ないし60℃の10質量%硫酸浸漬後の残存量を測定することにより評価した。100mgの窒素含有添加剤と1Lの溶媒を混合後、撹拌機を用いて60℃にて1時間、200rpmの速度で撹拌することで窒素含有添加剤を溶解させた。得られた溶解残渣をろ過により分離後、2mLの水を用いて3回洗浄後80℃で24時間真空乾燥させた後溶解残渣の質量を測定し、初期添加量100mgとの差を求めることで窒素含有添加剤の溶解度を測定した。
下記の測定条件で、1H−NMRの測定を行い、構造確認、およびイオン性基を含有するセグメント(A1)とイオン性基を含有しないセグメント(A2)のモル組成比の定量を行った。該モル組成比は、8.2ppm(ジスルホネート−4,4’−ジフルオロベンゾフェノン由来)と6.5〜8.0ppm(ジスルホネート−4,4’−ジフルオロベンゾフェノンを除く全芳香族プロトン由来)に認められるピークの積分値から算出した。
共鳴周波数 :270MHz(1H−NMR)
測定温度 :室温
溶解溶媒 :DMSO−d6
内部基準物質:TMS(0ppm)
積算回数 :16回
(8)化学的安定性
(A)分子量保持率
N−メチルピロリドン(NMP)に可溶な電解質膜については、以下の方法にて電解質膜を劣化させ、劣化試験前後の分子量を比較することで化学安定性を評価した。
NMPに溶解不可能な電解質膜については、以下の方法にて電解質膜を劣化させ、開回路電圧の保持時間を比較することで化学安定性を評価した。
上記(B)の開回路保持時間評価を行っても3000時間以上、0.7V以上を維持できる場合には、そこで評価を打ち切り初期電圧と3000時間後の電圧を比較し電圧保持率として化学耐久性を評価した。
下記一般式(G1)で表される2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−1,3−ジオキソラン(K−DHBP)の合成
下記一般式(G2)で表されるジソジウム 3,3’−ジスルホネート−4,4’−ジフルオロベンゾフェノンの合成
(下記一般式(G3)で表されるイオン性基を含有しないオリゴマーa1’の合成)
かき混ぜ機、窒素導入管、Dean−Starkトラップを備えた1000mL三口フラスコに、炭酸カリウム16.59g(アルドリッチ試薬、120mmol)、前記合成例1で得たK−DHBP25.8g(100mmol)および4,4’−ジフルオロベンゾフェノン20.3g(アルドリッチ試薬、93mmol)を入れ、窒素置換後、N−メチルピロリドン(NMP)300mL、トルエン100mL中にて160℃で脱水後、昇温してトルエン除去、180℃で1時間重合を行った。多量のメタノールで再沈殿することで精製を行い、イオン性基を含有しないオリゴマーa1(末端ヒドロキシル基)を得た。数平均分子量は10000であった。
かき混ぜ機、窒素導入管、Dean−Starkトラップを備えた1000mL三口フラスコに、炭酸カリウム27.6g(アルドリッチ試薬、200mmol)、前記合成例1で得たK−DHBP12.9g(50mmol)および4,4’−ビフェノール9.3g(アルドリッチ試薬、50mmol)、前記合成例2で得たジソジウム 3,3’−ジスルホネート−4,4’−ジフルオロベンゾフェノン39.3g(93mmol)、および18−クラウン−6、17.9g(和光純薬82mmol)を入れ、窒素置換後、N−メチルピロリドン(NMP)300mL、トルエン100mL中にて170℃で脱水後、昇温してトルエン除去、180℃で1時間重合を行った。多量のイソプロピルアルコールで再沈殿することで精製を行い、下記式(G4)で示されるイオン性基を含有するオリゴマーa2(末端ヒドロキシル基)を得た。数平均分子量は16000であった。
(イオン性基を含有するセグメント(A1)としてオリゴマーa2、イオン性基を含有しないセグメント(A2)としてオリゴマーa1、リンカー部位としてオクタフルオロビフェニレンを含有するブロック共重合体b1の合成)
かき混ぜ機、窒素導入管、Dean−Starkトラップを備えた500mL三口フラスコに、炭酸カリウム0.56g(アルドリッチ試薬、4mmol)、イオン性基を含有するオリゴマーa2(末端ヒドロキシル基)を16g(1mmol)を入れ、窒素置換後、N−メチルピロリドン(NMP)100mL、シクロヘキサン30mL中にて100℃で脱水後、昇温してシクロヘキサン除去し、イオン性基を含有しないオリゴマーa1’(末端フルオロ基)11g(1mmol)を入れ、105℃で24時間反応を行った。多量のイソプロピルアルコールで再沈殿することで精製を行い、ブロック共重合体b1を得た。重量平均分子量は34万であった。
(下記式(G6)で表されるセグメントと下記式(G7)で表されるセグメントからなるポリエーテルスルホン(PES)系ブロックコポリマー前駆体b2’の合成)
無水塩化ニッケル1.62gとジメチルスルホキシド15mLとを混合し、70℃に調整した。これに、2,2’−ビピリジル2.15gを加え、同温度で10分撹拌し、ニッケル含有溶液を調製した。
(式(G7)で表されるセグメントと下記式(G8)で表されるセグメントからなるPES系ブロックコポリマーb2の合成)
合成例4で得られたブロックコポリマー前駆体b2’0.23gを、臭化リチウム1水和物0.16gとN−メチル−2−ピロリドン8mLとの混合溶液に加え、120℃で24時間反応させた。反応混合物を、6mol/L塩酸80mL中に注ぎ込み、1時間撹拌した。析出した固体を濾過により分離した。分離した固体を乾燥し、灰白色の式(G7)で示されるセグメントと下記式(G8)で表されるセグメントからなるブロックコポリマーb2を得た。得られたポリアリーレンの重量平均分子量は18万であった。
(下記式(G9)で表される疎水性オリゴマ−a3の合成)
(下記式(G10)で表される親水性モノマーa4の合成)
(下記式(G11)で表されるポリアリーレン系ブロックコポリマーb3の合成)
(ADT−1の合成)
8−アミノ− 7−キノリンカルボアルデヒド101gを1,3−ジアセチルベンゼン(東京化成工業(株)製)45g、85%水酸化カリウム100gとエタノール1800mL中で還流下10時間反応させ、常法で処理し、ADT−1を100g得た。60℃の純水への溶解度は0.1mg/L未満、60℃の10質量%硫酸への溶解度は、5.0mg/Lであった。ADT−1の分子量は434.49であった。
合成例3にて得た20gのブロックコポリマーb1を80gのNMPに溶解した。この溶液に、ADT−1を100mg添加し、撹拌機で20,000rpm、3分間撹拌しポリマー濃度20質量%の透明な溶液を得た。得られた溶液を、ガラス繊維フィルターを用いて加圧ろ過後、ガラス基板上に流延塗布し、100℃にて4h乾燥後、窒素下150℃で10分間熱処理し、ポリケタールケトン膜(膜厚15μm)を得た。ポリマーの溶解性は極めて良好であった。95℃で10質量%硫酸水溶液に24時間浸漬してプロトン置換、脱保護反応した後に、大過剰量の純水に24時間浸漬して充分洗浄し、高分子電解質膜f1を得た。
ADT−1を6gにした以外は、実施例1と同様にして電解質膜f2を製造した。
ADT−1を4mgにした以外は、実施例1と同様にして電解質膜f3を製造した。
(ADT−2の合成)
実施例1で合成したADT−1、40.8gをトルエン750mL中でフェニルリチウム(0.94Mシクロヘキサン/ジエチルエーテル溶液)200mLと氷冷下で2.5時間反応させ、常法で処理した。得られた生成物をニトロベンゼン118gと110℃で3時間反応させ、常法で処理し、下記式に示すADT−2を22.8g得た。60℃の純水への溶解度は0.1mg/L未満、60℃の10質量%硫酸への溶解度は、3.4mg/Lであった。ADT−2の分子量は586.68であった。
ADT−2を使用した以外は、実施例1と同様にして電解質膜f4を製造した。
(ADT−3の合成)
1,3−ジアセチルベンゼンの代わりに1,4−ジアセチルベンゼンを用いた以外は実施例1と同様にしてADT−3を合成した。60℃の純水への溶解度は0.1mg/L未満、60℃の10質量%硫酸への溶解度は、4.2mg/Lであった。ADT−3の分子量は434.49であった。
ADT−2を使用した以外は、実施例1と同様にして電解質膜f4を製造した。
(ADT−4の合成)
1−ブロモナフタレン(東京化成工業(株)製)11.9gとリチウム1.6gをジエチルエーテル58mL中にて室温で3時間反応させ、生成した濃紫色溶液を、ADT−3、5.0gのトルエン懸濁液(100mL)に室温で滴下した。室温で3日間反応させた後、常法で処理した。得られた生成物をジクロロメタン400mL中で、二酸化マンガン100gと室温で3時間反応させ、常法で処理し、下記式に示すADT−4を1.14g得た。60℃の純水への溶解度は0.1mg/L未満、60℃の10質量%硫酸への溶解度は、1.9mg/Lであった。ADT−4の分子量は686.80であった。
ADT−4を使用した以外は、実施例1と同様にして電解質膜f6を製造した。
(ADT−5の合成)
2,7−ジヒドロキシナフタレン(東京化成工業(株)製)54.0gをジクロロメタン680mLピリジン136mLに溶解させ、0℃でトリフルオロメタンスルホン酸無水物(東京化成工業(株)製)228gを滴下した。5℃で2時間、次いで室温で1日間反応させた後、常法で処理し、2,7−ビス(トリフルオロメタンスルフォニルオキシ)ナフタレン143gを得た。この2,7−ビス(トリフルオロメタンスルフォニルオキシ)ナフタレン143gをn−ブチルビニルエーテル(東京化成工業(株)製)216mL、トリエチルアミン113mL、1,3−ビス(ジフェニルホスフィノ)プロパン(東京化成工業(株)製)2.78g、酢酸パラジウム(和光純薬工業(株)製)0.76g、ジメチルホルムアミド680mLと混合し、70〜85℃で2日間反応させた。常法で処理し、2,7−ジアセチルナフタレン40gを得た。この2,7−ジアセチルナフタレン4.62gをエタノール220mL中60℃で8−アミノ−7−キノリンカルボアルデヒド7.87g、水酸化カリウム7.9gと反応させ、常法で処理し、下記式に示すADT−5を4.44g得た。60℃の純水への溶解度は0.1mg/L未満、60℃の10質量%硫酸への溶解度は、4.0mg/Lであった。ADT−5の分子量は484.55であった。
ADT−5を使用した以外は、実施例1と同様にして電解質膜f7を製造した。
(ADT−6の合成)
実施例7の方法で合成したADT−5、5.48gをトルエン200mL中でフェニルリチウム(2.0Mシクロヘキサン/エーテル溶液)22.6mLと室温で2日間反応させ、常法で処理した。得られた生成物をジクロロメタン400mL中で、二酸化マンガン100gと室温で2.5時間反応させ、常法で処理し、下記式に示すADT−5を0.93g得た。60℃の純水への溶解度は0.1mg/L未満、60℃の10質量%硫酸への溶解度は、2.6mg/Lであった。ADT−6の分子量は636.74であった。
ADT−6を使用した以外は、実施例1と同様にして電解質膜f8を製造した。
(ADT−7の合成)
2,7−ジヒドロキシナフタレンの替わりに1,5−ジヒドロキシナフタレン(東京化成工業(株)製)を用いた他は実施例7と同様にして下記式に示すADT−7を4.60g得た。60℃の純水への溶解度は0.1mg/L未満、60℃の10質量%硫酸への溶解度は、4.5mg/Lであった。ADT−7の分子量は484.55であった。
ADT−7を使用した以外は、実施例1と同様にして電解質膜f9を製造した。
(ADT−8の合成)
1,2−ジブロモベンゼン(東京化成工業(株)製)4.03g、4−アセチルフェニルボロン酸(アルドリッチ社製)7.0g、炭酸カリウム11.8g、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(東京化成工業(株)製)0.987g、水 35mL、1,4−ジオキサン85mLを混合し、100℃で1日間反応させた。常法で処理し、1,2−ジ(4−アセチルフェニル)ベンゼン3.8gを得た。この1,2−ジ(4−アセチルフェニル)ベンゼン3.7gをエタノール120mL中60℃で8−アミノ−7−キノリンカルボアルデヒド4.26g、水酸化カリウム3.89gと反応させ、常法で処理し、下記式に示すADT−8を6.52g得た。60℃の純水への溶解度は0.1mg/L未満、60℃の10質量%硫酸への溶解度は、3.3mg/Lであった。ADT−8の分子量は586.68であった。
ADT−8を使用した以外は、実施例1と同様にして電解質膜f10を製造した。
(ADT−9の合成)
1,2−ジブロモベンゼンの替わりに1,3−ジブロモベンゼン(東京化成工業(株)製)を用いた他は実施例10と同様にして下記式に示すADT−9を8.4g得た。60℃の純水への溶解度は0.1mg/L未満、60℃の10質量%硫酸への溶解度は、3.0mg/Lであった。ADT−9の分子量は586.68であった。
ADT−9を使用した以外は、実施例1と同様にして電解質膜f11を製造した。
(ADT−10の合成)
4−アセチルフェニルボロン酸の替わりに3−アセチルフェニルボロン酸(アルドリッチ社製)を用いた他は実施例10と同様にして下記式に示すADT−9を4.94g得た。60℃の純水への溶解度は0.1mg/L未満、60℃の10質量%硫酸への溶解度は、3.6mg/Lであった。ADT−10の分子量は586.68であった。
ADT−10を使用した以外は、実施例1と同様にして電解質膜f12を製造した。
(ADT−11の合成)
1−ブロモ−4−t−ブチルベンゼン(東京化成工業(株)製) 5.88gとリチウム0.76gをジエチルエーテル50mL中で還流下5時間反応させ、生成した灰色溶液を、ADT−1、4.0gのトルエン懸濁液(150mL)に氷冷下で滴下した。氷冷下で1時間反応させた後、常法で処理した。得られた生成物をジクロロメタン150mL中で、二酸化マンガン66gと室温で30分間反応させ、常法で処理し、下記式に示すADT−11を3.65g得た。60℃の純水への溶解度は0.1mg/L未満、60℃の10質量%硫酸への溶解度は、2.9mg/Lであった。ADT−11の分子量は698.90であった。
ADT−11を使用した以外は、実施例1と同様にして電解質膜f13を製造した。
(ADT−12の合成)
5−ブロモ−m−キシレン(東京化成工業(株)製)6.18gとリチウム0.92gをジエチルエーテル50mL中で還流下5時間反応させ、生成した灰色溶液を、ADT−1、3.63gのトルエン懸濁液(100mL)に氷冷下で滴下した。室温で2時間反応させた後、常法で処理した。得られた生成物をジクロロメタン200mL中で、二酸化マンガン63gと室温で2時間反応させ、常法で処理し、下記式に示すADT−12を1.4g得た。60℃の純水への溶解度は0.1mg/L未満、60℃の10質量%硫酸への溶解度は、3.1mg/Lであった。ADT−12の分子量は642.79であった。
ADT−12を使用した以外は、実施例1と同様にして電解質膜f14を製造した。
(ADT−13の合成)
4−ブロモトルエン(東京化成工業(株)製)6.84gとリチウム1.1gをジエチルエーテル60mL中で還流下5時間反応させ、生成した灰色溶液を、ADT−1、4.34gのトルエン懸濁液(100mL)に氷冷下で滴下した。氷冷下で2時間反応させた後、常法で処理した。得られた生成物をジクロロメタン200mL中で、二酸化マンガン75gと室温で2時間反応させ、常法で処理し、下記式に示すADT−13を2.1g得た。60℃の純水への溶解度は0.1mg/L未満、60℃の10質量%硫酸への溶解度は、3.2mg/Lであった。ADT−13の分子量は614.74であった。
ADT−13を使用した以外は、実施例1と同様にして電解質膜f15を製造した。
(ADT−14の合成)
1−ブロモナフタレン(東京化成工業(株)製)3.57gとリチウム0.48gをジエチルエーテル50mL中で室温で3時間反応させ、生成した濃紫色溶液を、ADT−1、2.5gのトルエン懸濁液(100mL)に氷冷下で滴下した。室温で2時間反応させた後、常法で処理した。得られた生成物をジクロロメタン500mL中で、二酸化マンガン50gと室温で15分間反応させ、常法で処理し、下記式に示すADT−13を0.4g得た。60℃の純水への溶解度は0.1mg/L未満、60℃の10質量%硫酸への溶解度は、2.8mg/Lであった。ADT−14の分子量は686.80であった。
ADT−14を使用した以外は、実施例1と同様にして電解質膜f16を製造した。
(ADT−15の合成)
ADT−3、2.5gをトルエン100mL中でフェニルリチウム(2.0M シクロヘキサン/エーテル溶液)11.5mLと氷冷下で1時間、次いで室温で4時間反応させ、常法で処理した。得られた生成物をジクロロメタン400mL中で、二酸化マンガン50gと室温で5分間反応させ、常法で処理し、下記式に示すADT−14を0.80g得た。60℃の純水への溶解度は0.1mg/L未満、60℃の10質量%硫酸への溶解度は、2.5mg/Lであった。ADT−15の分子量は586.68であった。
ADT−15を使用した以外は、実施例1と同様にして電解質膜f17を製造した。
(ADT−16の合成)
1−ブロモ−4−t−ブチルベンゼン(東京化成工業(株)製)3.68gとリチウム0.48gをジエチルエーテル50mL中で還流下5時間反応させ、生成した灰色溶液を、ADT−3、2.5gのトルエン懸濁液(150mL)に氷冷下で滴下した。氷冷下で3時間反応させた後、常法で処理した。得られた生成物をジクロロメタン400mL中で、二酸化マンガン55gと室温で15分間反応させ、常法で処理し、下記式に示すADT−16を1.66g得た。60℃の純水への溶解度は0.1mg/L未満、60℃の10質量%硫酸への溶解度は、2.8mg/Lであった。ADT−16の分子量は698.90であった。
ADT−16を使用した以外は、実施例1と同様にして電解質膜f18を製造した。
(ADT−17)の合成
1,3−ジアセチルベンゼン45gの代わりに、3,3‘−ジアセチルビフェニル66gを用いた以外には実施例1と同様にしてADT−17を合成した。得られたADT−17の量は120gであった。60℃の純水への溶解度は0.1mg/L未満、60℃の10質量%硫酸への溶解度は、4.6mg/Lであった。ADT−17の分子量は538.64であった。
ADT−17を使用した以外は、実施例1と同様にして電解質膜f19を製造した。
(ADT−18の合成)
1,3−ジアセチルベンゼン45gの代わりに、1,3,5−トリアセチルベンゼン57gを用いた以外には実施例1と同様にしてADT−18を合成した。得られたADT−18の量は51gであった。60℃の純水への溶解度は0.1mg/L未満、60℃の10質量%硫酸への溶解度は、1.3mg/Lであった。ADT−18の分子量は612.68であった。
ADT−18を使用した以外は、実施例1と同様にして電解質膜f20を製造した。
(ADT−19の合成)
トリフェニルメタノール(東京化成工業(株)製)100gをアニリン塩酸塩(和光純薬工業(株)製)100gを酢酸250mL中で還流下8時間反応させた後、常法で処理した。得られた生成物をエタノール1L中に分散させ、濃硫酸110mLを加えた後に、塩氷で−5℃まで冷却しイソアミルニトリルを滴下し−5℃のまま1時間撹拌した。更に冷却しながら30%リン酸320mLを滴下後、30℃まで徐々に加温した。氷水で冷却し過度の反応熱を除去しながら80℃まで昇温し30分間還流させた。更に還流下で2時間反応させた後、常法で処理しテトラフェニルメタン82.5gを得た。窒素雰囲気下、ジクロロメタン250mL中にて塩化アルミニウム23.3gとテトラフェニルメタン11.6gを混合後、塩化アシル12.4mLを滴下した。25℃で2時間、60℃で2時間撹拌後、常法で処理した。得られた生成物1.51gと8−アミノ−7−キノリンカルボアルデヒド2.34gをジオキサン130mLに溶解し、エタノール5mL及び水酸化カリウム2.6gを添加した。還流下で30時間撹拌後、常法で処理し、ADT−19を0.479g得た。60℃の純水及び60℃の10質量%硫酸への溶解度は、いずれも0.1mg/L未満であった。ADT−19の分子量は1033.18であった。
ADT−19を使用した以外は、実施例1と同様にして電解質膜f21を製造した。
ADT−1と共に1,2−ビス(ジフェニルホスフィノ)エタン200mgを添加した以外は、実施例1と同様にして電解質膜f22を製造した。
ブロックコポリマーb1の代わりにNRE211CSを使用した以外は、実施例1と同様にして電解質膜f23を製造した。
ブロックコポリマーb1の代わりに合成例5で得たPES系ブロックコポリマーb2を使用した以外は、実施例1と同様にして電解質膜f24を製造した。
ブロックコポリマーb3の代わりに合成例8で得たポリアリーレン系ブロックコポリマーb3を使用した以外は、実施例1と同様にして電解質膜f25を製造した。
(ADT−20の合成)
実施例4にて合成したADT−2、5.867gと硝酸カリウム2.123gを98質量%硫酸150mL中で140℃において8時間反応させた後、常法で処理することで、前駆体化合物を得た。得られた生成物6.090gとパラジウム担持カーボン0.24g(パラジウム含量10%)をエタノール150mL中に分散させた。この混合物を、水素雰囲気下室温で72時間反応させ、常法で処理し、下記式に示すADT−20を4.995g得た。60℃の純水への溶解度は0.1mg/L未満、60℃の10質量%硫酸への溶解度は、7.5mg/Lであった。ADT−20の分子量は616.71であった。
ADT−20を使用した以外は、実施例1と同様にして電解質膜f26を製造した。
(ADT−21の合成)
実施例4にて合成したADT−2、5.867gと30wt%発煙硫酸5.604gを98質量%硫酸150mL中で室温において24時間反応させた後、常法で処理することで、下記式に示すADT−22を6.423g得た。60℃の純水への溶解度は0.1mg/L未満、60℃の10質量%硫酸への溶解度は、6.3mg/Lであった。ADT−21の分子量は746.81であった。
ADT−21を使用した以外は、実施例1と同様にして電解質膜f26を製造した。
(ADT−2+CeNO3添加膜の作製)
0.18gのCeNO3・6H2O(Aldrich製試薬、0.43mmol)を純水に溶解し30Lとして6.2μmol/LのCeNO3溶液を調製した。この溶液に、実施例4にて作製したADT−2添加膜f4、20gを72時間浸漬し、CeNO3を取り込ませ高分子電解質膜f28を得た。
(ADT−2+Pt微粒子添加膜の作製)
ADT−2と共にPt微粒子(日本板硝子(株)製)を使用した以外は、実施例4と同様にして電解質膜f29を製造した。
ADT−1を使用しなかった以外は、実施例1と同様にして電解質膜f1’を製造した。
合成例3にて得た20gのブロックコポリマーb1を80gのN−メチル−2−ピロリドン(NMP)に溶解した。得られた溶液を、ガラス繊維フィルターを用いて加圧ろ過後、ガラス基板上に流延塗布し、100℃にて4時間乾燥後、窒素下150℃で10分間熱処理し、ポリケタールケトン膜(膜厚25μm)を得た。ポリマーの溶解性は極めて良好であった。95℃で10質量%硫酸水溶液に24時間浸漬してプロトン置換、脱保護反応した後に、大過剰量の純水に24時間浸漬して洗浄後25℃にて12時間静置し乾燥させ親水性添加剤を含まないポリエーテルケトン膜f2”を製造した。
1,10−フェナントロリンの代わりに5−アミノ−1,10−フェナントロリンを使用した以外は、比較例2と同様にして電解質膜f3’を製造した。このとき添加した5−アミノ−1,10−フェナントロリンの60℃の純水及び60℃の10質量%硫酸への溶解度は、いずれも100mg/L以上であった。5−アミノ−1,10−フェナントロリンの分子量は195.22であった。
1,10−フェナントロリンの代わりに硝酸セリウム(III)六水和物(Aldrich製)を使用した以外は、比較例2と同様にして電解質膜f4’を製造した。このとき添加した硝酸セリウム(III)六水和物の60℃の純水及び60℃の10質量%硫酸への溶解度は、いずれも100mg/L以上であった
得られた膜は、NMPに不溶であり分子量保持率が測定不能であったため、耐久性試験として開回路保持時間を測定した。別途イオン交換容量とプロトン伝導度を測定し、その結果を表1に示す。
ブロックコポリマーb1の代わりにNRE211CSを使用した以外は、比較例1と同様にして電解質膜f6’を製造した。
ブロックコポリマーb1の代わりにブロックコポリマーb2を使用した以外は、比較例1と同様にして電解質膜f7’を製造した。
ブロックコポリマーb1の代わりにブロックコポリマーb3を使用した以外は、比較例1と同様にして電解質膜f8’を製造した。
Claims (13)
- 少なくともイオン性基含有ポリマー(A)と窒素含有添加剤(B)とを含有する高分子電解質組成物であって、窒素含有添加剤(B)が下記一般式(C1)および下記一般式(C2)から選ばれる少なくとも一つで表されることを特徴とする高分子電解質組成物。
- 窒素含有添加剤(B)の、60℃の水に対する溶解度および60℃の10質量%硫酸に対する溶解度が20mg/L以下であることを特徴とする請求項1に記載の高分子電解質組成物。
- 窒素含有添加剤(B)の分子量が400以上であることを特徴とする請求項1または2に記載の高分子電解質組成物。
- 窒素含有添加剤(B)の含有量が、高分子電解質組成物全体の0.02重量%以上、35重量%以下である請求項1〜3のいずれかにに記載の高分子電解質組成物。
- Ce、Mn、Ti、Zr、V、Cr、Mo、W、Ru、Co、Rh、Ir、Ni、Pd、Pt、Ag、Auから選ばれた少なくとも1種の遷移金属をさらに含有することを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の高分子電解質組成物。
- イオン性基含有ポリマー(A)が、主鎖に芳香環を有する炭化水素系ポリマーである請求項1〜5のいずれかに記載の高分子電解質組成物。
- イオン性基含有ポリマー(A)が、イオン性基を含有するセグメント(A1)とイオン性基を含有しないセグメント(A2)をそれぞれ1個以上含有するブロック共重合体である請求項1〜6のいずれかに記載の高分子電解質組成物。
- イオン性基を含有するセグメント(A1)、および/または、イオン性基を含有しないセグメント(A2)が、芳香族ポリエーテルケトン系重合体である請求項7に記載の高分子電解質組成物。
- イオン性基を含有するセグメント(A1)が下記一般式(S1)で表される構成単位を含有し、イオン性基を含有しないセグメント(A2)が下記一般式(S2)で表される構成単位を含有することを特徴とする請求項7または8に記載の高分子電解質組成物。
- 前記イオン性基がスルホン酸基である請求項1〜9のいずれかに記載の高分子電解質組成物。
- 請求項1〜10のいずれかに記載の高分子電解質組成物を用いたことを特徴とする高分子電解質膜。
- 請求項1〜10のいずれかに記載の高分子電解質組成物を用いたことを特徴とする膜電極複合体。
- 請求項1〜10のいずれかに記載の高分子電解質組成物を用いたことを特徴とする固体高分子型燃料電池。
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