JP6143332B2 - Allyl ether resin and method for producing the same - Google Patents
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Description
本発明は電気電子材料用途に有用なアリルエーテル樹脂、またエポキシ樹脂原料として有用な高純度アリルエーテルポリマーおよびその製造方法に関する。 The present invention relates to an allyl ether resin useful for electrical and electronic materials, a high-purity allyl ether polymer useful as an epoxy resin raw material, and a method for producing the same.
従来よりアリルエーテル化合物は、そのアリルエーテルの反応性を用いた硬化物を製造するために用いられてきている。一般にラジカル重合等によって硬化し、ネットワークポリマーを形成する。
具体的には従来、エチレングリコールモノアリルエーテル、レゾルシノールジアリルエーテル、カテコールジアリルエーテル、1,4−ビス(アリルオキシメチル)シクロヘキサンなどのアリルエーテル化合物は、反応性希釈剤、架橋剤、難燃剤などの添加剤(、光硬化性モノマーの原料などとして利用されてきた。(特許文献1 特開2005-170890)
さらに、アリルエーテル化合物は、酸化反応によりエポキシ樹脂の原料として使用が可能である。得られたエポキシ樹脂は塗料、構造材、電気電子材料等、種々の用途に用いることができる(特許文献2 特開2012-067253)。
Conventionally, an allyl ether compound has been used to produce a cured product using the reactivity of the allyl ether. Generally, it is cured by radical polymerization or the like to form a network polymer.
Specifically, allyl ether compounds such as ethylene glycol monoallyl ether, resorcinol diallyl ether, catechol diallyl ether, and 1,4-bis (allyloxymethyl) cyclohexane have been conventionally used as reactive diluents, crosslinking agents, flame retardants, and the like. Additive (It has been used as a raw material for photocurable monomers, etc. (Patent Document 1 JP 2005-170890).
Furthermore, the allyl ether compound can be used as a raw material for the epoxy resin by an oxidation reaction. The obtained epoxy resin can be used for various applications such as paints, structural materials, electric and electronic materials, etc. (Patent Document 2 JP 2012-067253 A).
アリルエーテル化合物の合成においては、アリルハライドとフェノール化合物の反応が用いられることが多いが、得られたアリルエーテル化合物はハロゲンを含有し、それから得られるエポキシ樹脂もハロゲンを含有してしまう。脱離しやすいアリルブロマイドのような化合物を使用することにより、含有ハロゲンの低下は可能であるが、アリルクロライドに対し、脱離するハロゲン量が大きい事、また一般市場での入手の容易さからアリルクロライドでの低ハロゲン化が産業上重要となる。特許文献3においては本課題を回避するためにアリルクロライドでの試みがなされているが、比較的溶剤溶解性の高い、クレゾールノボラックに適応しているのみであり、他の樹脂には用いることが難しい。特にフェノールアラルキル樹脂のような樹脂を原料とした場合、トルエン等の溶剤への溶解性が非常に悪く、水洗時に塩が抜けず、後のアリルエーテルとしての精製が困難である他、後のエポキシ化等の変性工程において反応を阻害し、副反応を引き起こす要因となる。
また、ハロゲンが入らない方法としてアリルカーボネートやアリルエステルを使用した反応が開示されているが、原料であるアリルカーボネートやアリルエステルは高価であり、とても産業用途として一般に使用するには不向きである。また、酢酸アリル等のアリル化カルボン酸を反応させ、合成時に高価な触媒を使用しなければいけないことから産業上好ましくないこと、さらには得られたアリルエーテル化フェノール類とアルデヒド類を酸触媒の存在下に付加縮合させる手法もあるが、縮合時のクライゼン転移により現れるフェノール性水酸基は本アリルエーテル樹脂を酸化によりエポキシ樹脂とする場合、そのフェノール性水酸基の残留が反応を阻害する。
In the synthesis of an allyl ether compound, a reaction between an allyl halide and a phenol compound is often used, but the obtained allyl ether compound contains a halogen, and the epoxy resin obtained therefrom also contains a halogen. By using a compound such as allyl bromide that is easy to desorb, it is possible to reduce the halogen content. However, allyl chloride has a large amount of desorbed halogen, and allyl bromide is easily available in the general market. Low halogenation with chloride is industrially important. In Patent Document 3, attempts have been made with allyl chloride to avoid this problem, but it is only suitable for cresol novolac, which has relatively high solvent solubility, and can be used for other resins. difficult. In particular, when a resin such as a phenol aralkyl resin is used as a raw material, the solubility in a solvent such as toluene is very poor, the salt does not escape when washed with water, and subsequent purification as an allyl ether is difficult. In the denaturation process such as chemical conversion, the reaction is inhibited and a side reaction is caused.
Although a reaction using allyl carbonate or allyl ester is disclosed as a method not containing halogen, allyl carbonate and allyl ester as raw materials are expensive and are not suitable for general use for industrial purposes. In addition, since allyl carboxylic acids such as allyl acetate must be reacted and an expensive catalyst must be used during the synthesis, it is not industrially preferable, and the allyl etherified phenols and aldehydes obtained are used as acid catalysts. Although there is a method of addition condensation in the presence, when the allyl ether resin is converted into an epoxy resin by oxidation of the phenolic hydroxyl group that appears due to the Claisen transition during the condensation, the residual phenolic hydroxyl group inhibits the reaction.
本発明者らは前記したような実状に鑑み、鋭意検討した結果、本発明を完成させるに至った。
すなわち本発明は、
(1)
フェノール樹脂とアリルクロライドとの反応により得られるアリルエーテル樹脂であって、アリルクロライド、フェノール樹脂、水の存在下、金属水酸化物を用いてアリルエーテル化することにより得られるアリルエーテル樹脂、
(2)
前項(1)において使用するアリルクロライド中のアリルクロライド重合物が2%以下であることを特徴とする製造法を用いて得られるアリルエーテル樹脂。
(2)
前項(1)に記載のアリルエーテル樹脂と少なくとも過酸化水素、カルボン酸ペルオキシドのいずれかを用いて得られるエポキシ樹脂、
(3)
全塩素量30ppm以下、水酸基当量が10000g/eq以上であることを特徴とするフェノールアラルキル構造を有するアリルエーテル樹脂、
(4)
全塩素量30ppm以下、水酸基当量が10000g/eq以上であることを特徴とするフェノール−ジシクロペンタジエン構造を有するアリルエーテル樹脂、
(5)
アリルエーテル化の際に、さらに非プロトン極性溶媒が存在する下でアリルエーテル化す
ることにより得られる請求項1または請求項2のいずれか一項に記載のアリルエーテル樹脂、
に関する。
As a result of intensive studies in view of the actual situation as described above, the present inventors have completed the present invention.
That is, the present invention
(1)
An allyl ether resin obtained by a reaction between a phenol resin and allyl chloride, allyl ether resin obtained by allyl etherification using a metal hydroxide in the presence of allyl chloride, phenol resin and water,
(2)
An allyl ether resin obtained by using a production method characterized in that the allyl chloride polymer in the allyl chloride used in (1) is 2% or less.
(2)
An epoxy resin obtained by using the allyl ether resin according to item (1) and at least one of hydrogen peroxide and carboxylic acid peroxide,
(3)
An allyl ether resin having a phenol aralkyl structure, wherein the total chlorine content is 30 ppm or less and the hydroxyl group equivalent is 10,000 g / eq or more,
(4)
An allyl ether resin having a phenol-dicyclopentadiene structure, wherein the total chlorine content is 30 ppm or less, and the hydroxyl group equivalent is 10,000 g / eq or more,
(5)
The allyl ether resin according to claim 1, which is obtained by allyl etherification in the presence of an aprotic polar solvent during the allyl etherification.
About.
電気電子材料およびその原料に好適な低ハロゲンのアリルエーテル樹脂が得られる。 A low halogen allyl ether resin suitable for electrical and electronic materials and raw materials thereof can be obtained.
本発明のアリルエーテル樹脂は、残留フェノール性水酸基が少なく、残留ハロゲン量の少ない電気電子材料用途に好適な樹脂である。
本発明のアリルエーテル樹脂はフェノール樹脂(フェノール化合物を含む。)とアリルクロライドを用いて合成を行う。この際、使用するフェノール樹脂の全塩素量が5ppm(燃焼法)以下、アリルクロライドはその多重合体(2量化体以上)を1%以下で含有するものを使用することが好ましい。また本発明において使用する溶剤は水を必須とする。
The allyl ether resin of the present invention is a resin suitable for electrical and electronic material applications with a small amount of residual phenolic hydroxyl groups and a small amount of residual halogen.
The allyl ether resin of the present invention is synthesized using a phenol resin (including a phenol compound) and allyl chloride. At this time, it is preferable to use a phenol resin having a total chlorine content of 5 ppm (combustion method) or less and an allyl chloride containing the polymer (dimerized product or more) at 1% or less. In addition, water is essential for the solvent used in the present invention.
本発明のアリルエーテル樹脂の原料となるフェノール樹脂としては、フェノールノボラック類、ビスフェノール類、ビフェノール類、トリスフェノールメタン類、フェノールアラルキル類などが挙げられる。具体的には、ビスフェノール類としてはビスフェノールA、ビスフェノールS、チオジフェノール、フルオレンビスフェノール、テルペンジフェノール、4,4’−ビフェノール、2,2’−ビフェノール、3,3’,5,5’−テトラメチル−[1,1’−ビフェニル]−4,4’−ジオール、ハイドロキノン、レゾルシン、ナフタレンジオール、トリス−(4−ヒドロキシフェニル)メタン、1,1,2,2−テトラキス(4−ヒドロキシフェニル)エタン、フェノール類(フェノール、アルキル置換フェノール、ナフトール、アルキル置換ナフトール、ジヒドロキシベンゼン、ジヒドロキシナフタレン等)とホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、ベンズアルデヒド、p−ヒドロキシベンズアルデヒド、o−ヒドロキシベンズアルデヒド、p−ヒドロキシアセトフェノン、o−ヒドロキシアセトフェノン、ジシクロペンタジエン、フルフラール、4,4’−ビス(クロルメチル)−1,1’−ビフェニル、4,4’−ビス(メトキシメチル)−1,1’−ビフェニル、1,4−ビス(クロロメチル)ベンゼン又は1,4−ビス(メトキシメチル)ベンゼン等との重縮合物及びこれらの変性物などが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
本発明においてはビフェノール類、フェノールアラルキル類、フェノール-トリシクロデカン樹脂が好ましく、特に好ましくはテトラメチルビフェノール、フェノール類(フェノール、炭素数1〜4のアルキル置換フェノール、ナフトール、ジヒドロキシベンゼン)と、ジシクロペンタジエン、4,4’−ビス(クロルメチル)−1,1’−ビフェニル、4,4’−ビス(メトキシメチル)−1,1’−ビフェニル、1,4−ビス(クロロメチル)ベンゼン又は1,4−ビス(メトキシメチル)ベンゼン、1,4−ベンゼンジメタノールとの反応物が好ましい。特に好ましくはフェノールもしくはクレゾール、ナフトールと4,4’−ビス(クロルメチル)−1,1’−ビフェニル、4,4’−ビス(メトキシメチル)−1,1’−ビフェニルとの反応物、フェノールもしくはクレゾール、ナフトールと1,4−ビス(クロロメチル)ベンゼン又は1,4−ビス(メトキシメチル)ベンゼン、1,4−ベンゼンジメタノールとの反応物である。フェノールもしくはクレゾール、ナフトールとジシクロペンタジエンとの反応物である。
一般のクレゾールノボラック等の樹脂に比べ、これらの材料は難燃性に優れており、難燃剤としてハロゲンを添加させることなく難燃性を発現できうる組成物を製造でき、環境負荷に対して有用であり、かつ系の疎水性の高さから多少含まれる塩素等のイオン分の移動をとどめることができ、高い電気信頼性を有するだけでなく、低ハロゲンとこれらの構造の組み合わせは電気電子部品材料として重要である。
Examples of the phenol resin used as the raw material for the allyl ether resin of the present invention include phenol novolacs, bisphenols, biphenols, trisphenol methanes, and phenol aralkyls. Specifically, as bisphenols, bisphenol A, bisphenol S, thiodiphenol, fluorene bisphenol, terpene diphenol, 4,4′-biphenol, 2,2′-biphenol, 3,3 ′, 5,5′- Tetramethyl- [1,1′-biphenyl] -4,4′-diol, hydroquinone, resorcin, naphthalenediol, tris- (4-hydroxyphenyl) methane, 1,1,2,2-tetrakis (4-hydroxyphenyl) ) Ethane, phenols (phenol, alkyl-substituted phenol, naphthol, alkyl-substituted naphthol, dihydroxybenzene, dihydroxynaphthalene, etc.) and formaldehyde, acetaldehyde, benzaldehyde, p-hydroxybenzaldehyde, o-hydroxybenzaldehyde, p-hy Loxyacetophenone, o-hydroxyacetophenone, dicyclopentadiene, furfural, 4,4′-bis (chloromethyl) -1,1′-biphenyl, 4,4′-bis (methoxymethyl) -1,1′-biphenyl, 1 , 4-bis (chloromethyl) benzene, polycondensate with 1,4-bis (methoxymethyl) benzene, etc., and modified products thereof, but are not limited thereto.
In the present invention, biphenols, phenol aralkyls, and phenol-tricyclodecane resins are preferable, and tetramethylbiphenol, phenols (phenol, C1-C4 alkyl-substituted phenol, naphthol, dihydroxybenzene), Cyclopentadiene, 4,4′-bis (chloromethyl) -1,1′-biphenyl, 4,4′-bis (methoxymethyl) -1,1′-biphenyl, 1,4-bis (chloromethyl) benzene or 1 , 4-bis (methoxymethyl) benzene and a reaction product with 1,4-benzenedimethanol are preferred. Particularly preferably, a reaction product of phenol or cresol, naphthol and 4,4′-bis (chloromethyl) -1,1′-biphenyl, 4,4′-bis (methoxymethyl) -1,1′-biphenyl, phenol or It is a reaction product of cresol, naphthol and 1,4-bis (chloromethyl) benzene or 1,4-bis (methoxymethyl) benzene, 1,4-benzenedimethanol. It is a reaction product of phenol, cresol, naphthol and dicyclopentadiene.
Compared to resins such as general cresol novolac, these materials are superior in flame retardancy, and can be used as a flame retardant to produce a composition that can exhibit flame retardancy without adding halogen, which is useful for environmental impact. In addition to the high hydrophobicity of the system, it can stop the movement of ions such as chlorine, which is contained somewhat, and not only has high electrical reliability, but also the combination of low halogen and these structures is an electric and electronic component It is important as a material.
本発明に使用するフェノール樹脂の全塩素量は5ppm以下であることが好ましい。5ppm以下のものを使用することで、難燃性に優れるとともに、高い電気信頼性を有する樹脂を得ることができるためである。 The total chlorine content of the phenol resin used in the present invention is preferably 5 ppm or less. This is because by using a material having a concentration of 5 ppm or less, a resin having excellent flame retardancy and high electrical reliability can be obtained.
本発明に用いるアリルハライド(例えば、アリルクロライド)はその多重合物(2量体以上)が少ないものを用いることが好ましい。アリルクロライドはそれ同士が重合し、当該多重合体であるポリアリルクロライドになる傾向がある。
このポリアリルクロライドの残留は全塩素量を押し上げる要因になるばかりか、アリルエーテル化合物の分子量の増加に寄与し、製品化の際に微量なゲル物を残す、またこの塩素量を低下させるためには相当量の塩基性物質の追加が必要となり、産業上好ましくないばかりか、系内に毒性の高いアリルアルコールを生成してしまう。
これらポリアリルクロライド化合物はガスクロマトグラフィー(GC)等で容易に確認が可能であり、具体的な量としてはその面積比でそのアリルクロライドモノマーに対し、1面積%以下の重合物であることが好ましく、より好ましくは0.5面積%、さらに好ましくは0.2面積%以下、特に好ましくは0.05面積%以下である。
また、アリルクロライドの純度としては、90面積%以上が好ましく、97面積%以上がより好ましく、99面積%以上が特に好ましい。
アリルクロライドの使用量は原料フェノール樹脂の水酸基1モルに対して通常1.0〜1.15モルであり、好ましくは1.0〜1.10モル、より好ましくは1.0〜1.05モルである。
As the allyl halide (for example, allyl chloride) used in the present invention, it is preferable to use one having a small amount of the polypolymer (dimer or higher). Allyl chlorides tend to polymerize to form polyallyl chloride, which is the multipolymer.
This residual polyallyl chloride not only increases the total chlorine content, but also contributes to an increase in the molecular weight of the allyl ether compound, leaving a small amount of gel in the product and reducing this chlorine content. Requires the addition of a considerable amount of a basic substance, which is not preferable in the industry and produces highly allylic alcohol in the system.
These polyallyl chloride compounds can be easily confirmed by gas chromatography (GC) or the like, and the specific amount is a polymer of 1 area% or less with respect to the allyl chloride monomer in the area ratio. More preferably, it is 0.5 area%, More preferably, it is 0.2 area% or less, Most preferably, it is 0.05 area% or less.
The purity of allyl chloride is preferably 90 area% or more, more preferably 97 area% or more, and particularly preferably 99 area% or more.
The amount of allyl chloride used is usually 1.0 to 1.15 mol, preferably 1.0 to 1.10 mol, more preferably 1.0 to 1.05 mol, based on 1 mol of the hydroxyl group of the raw material phenol resin. It is.
本発明においてアリルクロライドをエーテル化する際に使用しうる塩基としてはアルカリ金属水酸化物が好ましく、その具体的な例としては水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等が挙げられ、固形物を利用してもよく、その水溶液を使用してもよいが、本発明においては特に、溶解性、ハンドリングの面からフレーク状に成型された固形物の使用が好ましい。
アルカリ金属水酸化物の使用量は原料フェノール樹脂の水酸基1モルに対して通常1.0〜1.15モルであり、好ましくは1.0〜1.10モル、より好ましくは1.0〜1.05モルである。
In the present invention, an alkali metal hydroxide is preferable as a base that can be used when etherifying allyl chloride. Specific examples thereof include sodium hydroxide and potassium hydroxide. The aqueous solution may be used, but in the present invention, it is particularly preferable to use a solid material formed into a flake shape from the viewpoint of solubility and handling.
The usage-amount of an alkali metal hydroxide is 1.0-1.15 mol normally with respect to 1 mol of hydroxyl groups of a raw material phenol resin, Preferably it is 1.0-1.10 mol, More preferably, it is 1.0-1. 0.05 mole.
反応を促進するためにテトラメチルアンモニウムクロライド、テトラメチルアンモニウムブロマイド、トリメチルベンジルアンモニウムクロライド等の4級アンモニウム塩を触媒として添加してもかまわない。4級アンモニウム塩の使用量としては原料フェノール混合物の水酸基1モルに対し通常0.1〜15gであり、好ましくは0.2〜10gである。 In order to accelerate the reaction, a quaternary ammonium salt such as tetramethylammonium chloride, tetramethylammonium bromide or trimethylbenzylammonium chloride may be added as a catalyst. The amount of the quaternary ammonium salt used is usually 0.1 to 15 g, preferably 0.2 to 10 g, per 1 mol of hydroxyl group in the raw material phenol mixture.
本反応においては水を反応溶剤として使用する。水の使用量はとしてはフェノール樹脂の総重量に対し、2重量%〜50重量、より好ましくは5重量%〜40重量%、特に好ましくは5重量%〜30重量%である。
本反応において水の使用は重要である。反応時の分極を促進させることで、反応の進行をより進みやすくする効果がある。
In this reaction, water is used as a reaction solvent. The amount of water used is 2% to 50%, more preferably 5% to 40%, and particularly preferably 5% to 30% by weight based on the total weight of the phenolic resin.
The use of water is important in this reaction. By promoting the polarization during the reaction, there is an effect of facilitating the progress of the reaction.
本反応においてはさらに他の溶剤として水との相溶性がよい炭素数1〜5のアルコールやジメチルスルホキシド等、非プロトン性極性溶剤を併用しても構わない。水と相溶性の良い溶剤としては水と50%以上の濃度で相溶しあうものであれば特に問題はない。本反応においては、ジメチルスルホキシド(DMSO)、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ジメチルイミダゾリジノン、N−メチルピロリドン等の非プロトン極性溶媒が好ましく、特にジメチルスルホキシドを溶剤として用いることが好ましい。
本溶剤は、樹脂と水とを均一(もしくはより均一に近い条件)で反応させるために有用である。反応系がそう分離している場合反応の進行が阻害される傾向にある。
炭素数1〜5のアルコールとしてはメタノール、エタノール、イソプロピルアルコールなどのアルコール類である。併用する溶剤の使用量としては水の総重量に対し、0.2〜20倍、より好ましくは0.5〜15倍、特に好ましくは0.7〜12倍の重量である。特にジメチルスルホキシド等の非プロトン性極性溶剤は水洗等の精製に有用ではなく、大量に使用するのは好ましくない。また沸点が高く、溶剤の除去が困難であるため、多大なエネルギーを消費してしまうため多すぎることは好ましくない。
また、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、トルエン等の非水系の溶剤を併用することもできるが水や前述の併用する溶剤の総量に対し、100重量%以下の使用が好ましい。特に好ましくは0.5〜50重量%である。あまり過剰にメチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、トルエン等の非水系の溶剤を用いると反応時にクライゼン転移が起こりだし、残留するフェノール性水酸基が増加してしまい、系内のアリルクロライド量が足りなくなるばかりか、目的とする構造以外のものができてしまう、またフェノール性水酸基がすべてアリルエーテル化されない等の不具合がでる。
In this reaction, an aprotic polar solvent such as alcohol having 1 to 5 carbon atoms and dimethyl sulfoxide having good compatibility with water may be used in combination as another solvent. A solvent having good compatibility with water is not particularly limited as long as it is compatible with water at a concentration of 50% or more. In this reaction, an aprotic polar solvent such as dimethyl sulfoxide (DMSO), dimethylformamide, dimethylacetamide, dimethylimidazolidinone, N-methylpyrrolidone and the like are preferable, and dimethyl sulfoxide is particularly preferably used as the solvent.
This solvent is useful for reacting the resin and water uniformly (or more nearly uniformly). When the reaction system is so separated, the progress of the reaction tends to be inhibited.
Examples of the alcohol having 1 to 5 carbon atoms include alcohols such as methanol, ethanol and isopropyl alcohol. The amount of the solvent used in combination is 0.2 to 20 times, more preferably 0.5 to 15 times, and particularly preferably 0.7 to 12 times the total weight of water. In particular, aprotic polar solvents such as dimethyl sulfoxide are not useful for purification such as washing with water, and it is not preferable to use them in large quantities. Moreover, since the boiling point is high and removal of the solvent is difficult, a large amount of energy is consumed, so that it is not preferable that the amount is too large.
Further, non-aqueous solvents such as methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, and toluene can be used in combination, but it is preferable to use 100% by weight or less based on the total amount of water and the above-mentioned solvents used in combination. Particularly preferred is 0.5 to 50% by weight. If a non-aqueous solvent such as methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, and toluene is used in an excessive amount, the Claisen transition occurs during the reaction, the residual phenolic hydroxyl group increases, and the amount of allyl chloride in the system is insufficient. Problems such as the production of a structure other than the target structure, and the fact that all phenolic hydroxyl groups are not allyl etherified occur.
反応温度は通常30〜90℃であり、好ましくは35〜80℃である。特に本発明においては、より高純度なエポキシ化のために2段階以上に分けて反応温度を上昇させることが好ましい。1段階目は35〜50℃、2段階目は45℃〜70℃が特に好ましい。反応時間は通常0.5〜10時間であり、好ましくは1〜8時間、特に好ましくは1〜5時間である。反応時間が短いと反応が進みきらず、反応時間が長くなると副生成物ができることから好ましく無い。
反応終了後、溶剤類を加熱減圧下で留去する。反応時に析出する塩はそのままで構わない。回収したアリルエーテル樹脂をトルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、炭素数4〜7のケトン化合物(たとえば、メチルイソブチルケトン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン等が挙げられる。)を溶剤として溶解し、40℃〜90℃、より好ましくは50〜80℃に加温した状態で水層がpH5〜10、より好ましくはpH〜9、特に好ましくはになるまで水洗を行う。この際、pHが8以上で止めた場合、後にエポキシ化等の反応を行うと触媒の系を崩してしまうことから反応がうまく進まなくなってしまう。
なお、アリルエーテル化反応においては窒素等不活性ガスを吹き込み(気中、もしくは液中)で行うことが好ましい。不活性ガスの吹き込みが無い場合、得られる樹脂に着色が生じる場合がある。不活性ガスの吹き込み量はその釜の容積によっても異なるが、0.5〜20時間でその釜の容積が置換できる量の不活性ガスの吹き込みが好ましい。
The reaction temperature is usually 30 to 90 ° C, preferably 35 to 80 ° C. In particular, in the present invention, it is preferable to raise the reaction temperature in two or more stages for higher purity epoxidation. The first stage is particularly preferably 35 to 50 ° C, and the second stage is particularly preferably 45 to 70 ° C. The reaction time is usually 0.5 to 10 hours, preferably 1 to 8 hours, particularly preferably 1 to 5 hours. If the reaction time is short, the reaction does not proceed, and if the reaction time is long, a by-product is formed, which is not preferable.
After completion of the reaction, the solvents are distilled off under heating and reduced pressure. The salt precipitated during the reaction may be used as it is. The recovered allyl ether resin is dissolved by using aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene and ketone compounds having 4 to 7 carbon atoms (for example, methyl isobutyl ketone, methyl ethyl ketone, cyclopentanone, cyclohexanone, etc.) as a solvent. In the state heated to 40 to 90 ° C., more preferably 50 to 80 ° C., the water layer is washed with water until it becomes pH 5 to 10, more preferably pH to 9, particularly preferably. At this time, if the pH is stopped at 8 or more, if the reaction such as epoxidation is performed later, the catalyst system is destroyed, and the reaction does not proceed well.
The allyl etherification reaction is preferably carried out by blowing an inert gas such as nitrogen (in the air or in the liquid). If no inert gas is blown, the resulting resin may be colored. The amount of inert gas blown in varies depending on the volume of the kettle, but it is preferable to blow in an amount of inert gas that can replace the volume of the kettle in 0.5 to 20 hours.
このようにして得られるアリルエーテル樹脂は全塩素量30ppm以下、より好ましくは20ppm以下であり、その水酸基当量が10000g/eq以上、特に好ましくは20000g/eq以上である。
20000g/eqを超える場合、実質測定できる水酸基量を超えており、ほぼ100%アリルエーテル化されていることを示す。さらにはアリルアルコールの残留がないことを意味する。
The allyl ether resin thus obtained has a total chlorine content of 30 ppm or less, more preferably 20 ppm or less, and a hydroxyl group equivalent of 10,000 g / eq or more, particularly preferably 20000 g / eq or more.
When it exceeds 20000 g / eq , the amount of hydroxyl groups that can be substantially measured is exceeded, indicating that it is almost 100% allyl etherified. Furthermore, there is no allyl alcohol residue.
本アリルエーテル樹脂は種々の用途に使用できる。
具体的にはアリルエーテル樹脂その物として硬化性樹脂の架橋剤として、さらにはエポキシ樹脂の原料、クライゼン転移によるフェノール樹脂の原料、およびそれらエポキシ樹脂やフェノール樹脂を組成に含む硬化性樹脂組成物として使用できる。
特に、エポキシ樹脂原料として使用する場合、過酸や過酸化水素といった酸化剤での反応の際に、フェノール性水酸基が反応を阻害することから先の水酸基当量が重要となり、さらには、これらはハロゲン量が少ないことから、公知の各種材料、特に電気信頼性の必要な電気電子材料用途として有用である。
The allyl ether resin can be used for various applications.
Specifically, as an allyl ether resin itself, as a curable resin crosslinking agent, further as an epoxy resin raw material, a phenol resin raw material by Claisen transition, and a curable resin composition containing these epoxy resin and phenol resin in the composition Can be used.
In particular, when used as an epoxy resin raw material, the phenolic hydroxyl group inhibits the reaction during the reaction with an oxidizing agent such as peracid or hydrogen peroxide. Since the amount is small, it is useful for various known materials, particularly for electrical and electronic materials that require electrical reliability.
本発明のアリルエーテル樹脂は酸化することで本発明のエポキシ樹脂とすることができる。酸化の手法としては過酢酸等の過酸で酸化する方法、過酸化水素水で酸化する方法、空気(酸素)で酸化する方法などが挙げられるが、これらに限らない。
過酸によるエポキシ化の手法としては具体的には特開2006−52187号公報に記載の手法などが挙げられる。
過酸化水素水によるエポキシ化の手法においては種々の手法が適応できるが、具体的には、特開昭59−108793号公報、特開昭62−234550号公報、特開平5−213919号公報、特開平11−349579号公報、特公平1―33471号公報、特開2001−17864号公報、特公平3−57102号公報、特開2011−225654号公報、特開2011−079794号公報、特開2011−084558号公報、特開2010−083836号公報、特開2010−095521号公報等に挙げられるような手法が適応できる。
The allyl ether resin of the present invention can be oxidized to form the epoxy resin of the present invention. Examples of the oxidation method include, but are not limited to, a method of oxidizing with a peracid such as peracetic acid, a method of oxidizing with a hydrogen peroxide solution, and a method of oxidizing with air (oxygen).
Specific examples of the epoxidation method using peracid include the method described in JP-A-2006-52187.
Various methods can be applied to the method of epoxidation with hydrogen peroxide solution. Specifically, JP-A-59-108793, JP-A-62-234550, JP-A-5-213919, JP 11-349579 A, JP 1-33471 A, JP 2001-17864 A, JP 3-57102 A, JP 2011-225654 A, JP 2011-079794 A, JP Techniques such as those described in JP2011-084558A, JP2010-08383A, JP2010-095521A, and the like can be applied.
本発明のフェノール樹脂を原料として、エポキシ樹脂を得る方法について、具体例を説明する。
本発明のフェノール樹脂は酸化することで、エポキシ樹脂とすることができる。酸化の手法としては過酢酸等の過酸で酸化する方法、過酸化水素水で酸化する方法、空気(酸素)で酸化する方法などが挙げられるが、これらに限らない。
過酸によるエポキシ化の手法としては具体的には特開2006−52187号公報に記載の手法などが挙げられる。
過酸化水素水によるエポキシ化の手法においては種々の手法が適応できるが、具体的には、特開昭59−108793号公報、特開昭62−234550号公報、特開平5−213919号公報、特開平11−349579号公報、特公平1―33471号公報、特開2001−17864号公報、特公平3−57102号公報等に挙げられるような手法が適応できる。
A specific example is described about the method of obtaining an epoxy resin from the phenol resin of this invention.
The phenol resin of the present invention can be converted to an epoxy resin by oxidation. Examples of the oxidation method include, but are not limited to, a method of oxidizing with a peracid such as peracetic acid, a method of oxidizing with a hydrogen peroxide solution, and a method of oxidizing with air (oxygen).
Specific examples of the epoxidation method using peracid include the method described in JP-A-2006-52187.
Various methods can be applied to the method of epoxidation with hydrogen peroxide solution. Specifically, JP-A-59-108793, JP-A-62-234550, JP-A-5-213919, Techniques such as those disclosed in JP-A-11-349579, JP-B-1-33471, JP-A-2001-17864, JP-B-3-57102 and the like can be applied.
以下、本発明のエポキシ樹脂を得るのに特に好ましい方法を例示する。
まず、本発明のジオレフィン化合物、ポリ酸類及び4級アンモニウム塩を有機物、過酸化水素水のエマルジョン状態で反応を行う。
Hereinafter, a particularly preferable method for obtaining the epoxy resin of the present invention will be exemplified.
First, the diolefin compound, polyacids and quaternary ammonium salt of the present invention are reacted in an emulsion of an organic substance and hydrogen peroxide water.
本発明で使用するポリ酸は、ポリ酸構造を有する化合物であれば特に制限はないが、タングステンまたはモリブデンを含むポリ酸が好ましく、タングステンを含むポリ酸がより好ましく、タングステン酸塩類が特に好ましい。
具体的なポリ酸としては、タングステン酸、12−タングストリン酸、12−タングストホウ酸、18−タングストリン酸、12−タングストケイ酸、などのタングステン系の酸、モリブデン酸、リンモリブデン酸等のモリブデン系の酸の塩等が挙げられる。
これらの塩のカウンターカチオンとしてはアンモニウムイオン、アルカリ土類金属イオン、アルカリ金属イオンなどが挙げられる。
具体的にはカルシウムイオンマグネシウムイオン等のアルカリ土類金属イオン、ナトリウム、カリウム、セシウム等のアルカリ金属イオンなどが挙げられるがこれらに限定されない。特に好ましいカウンターカチオンとしてはナトリウムイオン、カリウムイオン、カルシウムイオン、アンモニウムイオンである。
The polyacid used in the present invention is not particularly limited as long as it is a compound having a polyacid structure, but a polyacid containing tungsten or molybdenum is preferred, a polyacid containing tungsten is more preferred, and tungstates are particularly preferred.
Specific polyacids include tungsten acids such as tungstic acid, 12-tungstophosphoric acid, 12-tungstoboric acid, 18-tungstophosphoric acid and 12-tungstosilicic acid, and molybdenum systems such as molybdic acid and phosphomolybdic acid. And the acid salts of these.
Examples of counter cations of these salts include ammonium ions, alkaline earth metal ions, and alkali metal ions.
Specific examples include alkaline earth metal ions such as calcium ions and magnesium ions, and alkali metal ions such as sodium, potassium, and cesium, but are not limited thereto. Particularly preferred counter cations are sodium ion, potassium ion, calcium ion and ammonium ion.
ポリ酸の使用量としては本発明のフェノール樹脂のアリル基1モルに対し、金属元素換算(タングテン酸ならタングステン原子、モリブデン酸ならモリブデン原子のモル数)で
0.5〜20ミリモル、好ましくは1.0〜20ミリモル、さらに好ましくは2.5〜15ミリモルである。
The amount of polyacid used is 0.5 to 20 mmol, preferably 1 in terms of metal elements (tungstenic acid is tungsten atom, molybdic acid is molybdenum atom) with respect to 1 mol of allyl group of the phenolic resin of the present invention. 0.0 to 20 mmol, more preferably 2.5 to 15 mmol.
4級アンモニウム塩としては、総炭素数が10以上、好ましくは25〜100、より好ましくは25〜55の4級アンモニウム塩が使用でき、特に好ましくはそのアルキル鎖が全て脂肪族鎖であるものが使用できる。
具体的にはトリデカニルメチルアンモニウム塩、ジラウリルジメチルアンモニウム塩、トリオクチルメチルアンモニウム塩、トリアルキルメチル(アルキル基がオクチル基である化合物とデカニル基である化合物の混合タイプ)アンモニウム塩、トリヘキサデシルメチルアンモニウム塩、トリメチルステアリルアンモニウム塩、テトラペンチルアンモニウム塩、セチルトリメチルアンモニウム塩、ベンジルトリブチルアンモニウム塩、ジセチルジメチルアンモニウム塩、トリセチルメチルアンモニウム塩、ジ硬化牛脂アルキルジメチルアンモニウム塩などが挙げられるがこれらに限定されない。特に炭素数が25〜100の物が好ましい。
また、これら塩のアニオン種としては、具体的にはハロゲン化物イオン、硝酸イオン、硫酸イオン、硫酸水素イオン、アセテートイオン、炭酸イオン、等が挙げられるが、特にこれらに限定されない。
炭素数が100を上回ると疎水性が強くなりすぎて、4級アンモニウム塩の有機層への溶解性が悪くなる場合がある。炭素数が10以下であると親水性が強くなり、同様に4級アンモニウム塩の有機層への相溶性が悪くなり、好ましくない。
4級アンモニウム塩の使用量は使用するタングステン酸類の価数倍の0.01〜10倍当量が好ましい。より好ましくは0.05〜6.0倍当量であり、さらに好ましくは0.05〜4.5倍当量である。
例えば、タングステン酸であればH2WO4で2価であるので、タングステン酸1モルに対し、4級アンモニウムのカルボン酸塩は0.02〜20モルの範囲が好ましい。またタングストリン酸であれば3価であるので、同様に0.03〜20モル、ケイタングステン酸であれば4価であるので0.04〜40モルが好ましい。
4級アンモニウムのカルボン酸塩の量が、タングステン酸類の価数倍の10倍当量よりも多い場合、後処理が大変であるばかりか、反応を抑制する働きがあり、好ましくない。
As the quaternary ammonium salt, a quaternary ammonium salt having a total carbon number of 10 or more, preferably 25 to 100, more preferably 25 to 55 can be used, and particularly preferably, the alkyl chain is all an aliphatic chain. Can be used.
Specifically, tridecanylmethylammonium salt, dilauryldimethylammonium salt, trioctylmethylammonium salt, trialkylmethyl (a mixed type of a compound in which the alkyl group is an octyl group and a compound in which the decanyl group is a compound) ammonium salt, trihexa Examples include decylmethylammonium salt, trimethylstearylammonium salt, tetrapentylammonium salt, cetyltrimethylammonium salt, benzyltributylammonium salt, dicetyldimethylammonium salt, tricetylmethylammonium salt, and di-cured tallow alkyldimethylammonium salt. It is not limited to. Particularly preferred are those having 25 to 100 carbon atoms.
Specific examples of the anionic species of these salts include halide ions, nitrate ions, sulfate ions, hydrogen sulfate ions, acetate ions, carbonate ions, and the like, but are not particularly limited thereto.
When the number of carbon atoms exceeds 100, the hydrophobicity becomes too strong, and the solubility of the quaternary ammonium salt in the organic layer may deteriorate. When the number of carbon atoms is 10 or less, the hydrophilicity is increased, and the compatibility of the quaternary ammonium salt with the organic layer is similarly deteriorated.
The amount of quaternary ammonium salt used is preferably 0.01 to 10 times the valence of the tungstic acid used. More preferably, it is 0.05-6.0 times equivalent, More preferably, it is 0.05-4.5 times equivalent.
For example, since tungstic acid is divalent with H 2 WO 4 , the quaternary ammonium carboxylate is preferably in the range of 0.02 to 20 mol with respect to 1 mol of tungstic acid. Moreover, since it is trivalent in the case of tungstophosphoric acid, it is 0.03 to 20 mol similarly, and in the case of silicotungstic acid, it is tetravalent, so 0.04 to 40 mol is preferable.
When the amount of the quaternary ammonium carboxylate is more than 10 times equivalent to the valence of tungstic acids, the post-treatment is not only difficult, but it also serves to suppress the reaction, which is not preferable.
緩衝液としてはいずれも用いることができるが、本反応においてはリン酸塩水溶液を用いるのが好ましい。そのpHとしてはpH4〜10の間に調整されたものが好ましく、より好ましくはpH5〜9である。pH4以下の場合、エポキシ基の加水分解反応、重合反応が進行しやすくなる。またpH10以上である場合、反応が極度に遅くなり、反応時間が長すぎるという問題が生じる。
特に本発明においては触媒であるタングステン酸類を溶解した際に、pH5〜9の間になるように調整されることが好ましい。
緩衝液の使用方法は、例えば好ましい緩衝液であるリン酸−リン酸塩水溶液の場合は過酸化水素に対し、0.1〜10モル%当量のリン酸(あるいはリン酸二水素ナトリウム等のリン酸塩)を使用し、塩基性化合物(たとえば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウム等)でpH調整を行うという方法が挙げられる。ここでpHは過酸化水素を添加した際に前述のpHになるように添加することが好ましい。また、リン酸二水素ナトリウム、リン酸水素二ナトリウムなどを用いて調整することも可能である。好ましいリン酸塩の濃度は0.1〜60重量%であり、より好ましくは1〜45重量%である。
また、本反応においては緩衝液を使用せず、リン酸水素2ナトリウム、リン酸2水素ナトリウム、リン酸ナトリウム、トリポリリン酸ナトリウム、など(またはその水和物)を、pH調整無しにリン酸塩を直接添加しても構わない。工程の簡略化、という意味合いではpH調整のわずらわしさが無く、直接の添加が特に好ましい。この場合のリン酸塩の使用量は、過酸化水素に対し、通常0.1〜5モル%当量、好ましくは0.2〜4モル%当量であり、より好ましくは0.3〜3モル%当量である。この際、過酸化水素に対し、5モル%当量を超えるとpH調整が必要となり、0.1モル%当量以下の場合、生成したエポキシ化合物の加水分解物が進行しやすくなる、あるいは反応が遅くなるなどの弊害が生じる。
Any buffer can be used, but it is preferable to use an aqueous phosphate solution in this reaction. The pH is preferably adjusted between pH 4 and 10, more preferably pH 5-9. When the pH is 4 or less, the hydrolysis reaction and polymerization reaction of the epoxy group easily proceed. On the other hand, when the pH is 10 or more, the reaction becomes extremely slow and the reaction time is too long.
In particular, in the present invention, when the tungstic acid as a catalyst is dissolved, the pH is preferably adjusted to be between 5 and 9.
For example, in the case of a phosphoric acid-phosphate aqueous solution which is a preferable buffer solution, a buffer solution is used in an amount of 0.1 to 10 mol% of phosphoric acid (or phosphorous such as sodium dihydrogen phosphate) with respect to hydrogen peroxide. Acid salt) and adjusting the pH with a basic compound (for example, sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium carbonate, sodium bicarbonate, potassium carbonate, etc.). Here, it is preferable that the pH is added so that the above-mentioned pH is obtained when hydrogen peroxide is added. It is also possible to adjust using sodium dihydrogen phosphate, disodium hydrogen phosphate, or the like. A preferable phosphate concentration is 0.1 to 60% by weight, and more preferably 1 to 45% by weight.
In this reaction, a buffer solution is not used, but disodium hydrogen phosphate, sodium dihydrogen phosphate, sodium phosphate, sodium tripolyphosphate, etc. (or hydrates thereof) can be converted to phosphate without adjusting pH. May be added directly. In the sense of simplifying the process, there is no troublesome pH adjustment, and direct addition is particularly preferable. The amount of phosphate used in this case is usually 0.1 to 5 mol% equivalent, preferably 0.2 to 4 mol% equivalent, more preferably 0.3 to 3 mol%, based on hydrogen peroxide. Is equivalent. At this time, if the amount exceeds 5 mol% equivalent to hydrogen peroxide, pH adjustment is required. If the amount is less than 0.1 mol% equivalent, the hydrolyzate of the produced epoxy compound tends to proceed or the reaction is slow. The harmful effect of becoming.
本反応は過酸化水素を用いてエポキシ化を行う。本反応に使用する過酸化水素としては、その取扱いの簡便さから過酸化水素濃度が10〜40重量%の濃度である水溶液が好ましい。濃度が40重量%を超える場合、取扱いが難しくなる他、生成したエポキシ樹脂の分解反応も進行しやすくなることから好ましくない。 This reaction is epoxidized using hydrogen peroxide. As the hydrogen peroxide used in this reaction, an aqueous solution having a hydrogen peroxide concentration of 10 to 40% by weight is preferable because of easy handling. When the concentration exceeds 40% by weight, handling becomes difficult and the decomposition reaction of the produced epoxy resin also tends to proceed.
本反応は有機溶剤を使用することが好ましい。使用する有機溶剤の量としては、反応基質であるジオレフィン化合物1に対し、重量比で0.3〜10であり、好ましくは0.3〜5、より好ましくは0.5〜2.5である。重量比で10を超える場合、反応の進行が極度に遅くなることから好ましくない。使用できる有機溶剤の具体的な例としてはヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン等のアルカン類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素化合物、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、ヘキサノール、シクロヘキサノール等のアルコール類が挙げられる。また、場合によっては、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、アノン等のケトン類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類、酢酸エチル、酢酸ブチル、蟻酸メチルなどのエステル化合物、アセトニトリル等のニトリル化合物なども使用可能である。特に好ましい溶剤としてはヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン等のアルカン類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素化合物である。 This reaction preferably uses an organic solvent. The amount of the organic solvent to be used is 0.3 to 10, preferably 0.3 to 5, more preferably 0.5 to 2.5 by weight with respect to the diolefin compound 1 as the reaction substrate. is there. When the weight ratio exceeds 10, the progress of the reaction is extremely slow, which is not preferable. Specific examples of organic solvents that can be used include alkanes such as hexane, cyclohexane and heptane, aromatic hydrocarbon compounds such as toluene and xylene, and alcohols such as methanol, ethanol, isopropanol, butanol, hexanol and cyclohexanol. It is done. In some cases, ketones such as methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclopentanone and anone, ethers such as diethyl ether, tetrahydrofuran and dioxane, ester compounds such as ethyl acetate, butyl acetate and methyl formate, and nitriles such as acetonitrile Compounds and the like can also be used. Particularly preferred solvents are alkanes such as hexane, cyclohexane and heptane, and aromatic hydrocarbon compounds such as toluene and xylene.
具体的な反応操作方法としては、例えばバッチ式の反応釜で反応を行う際は、ジオレフィン化合物、過酸化水素(水溶液)、ヘテロポリ酸(触媒)、緩衝液、4級アンモニウム塩及び有機溶剤を加え、二層で撹拌する。撹拌速度に特に指定は無い。過酸化水素の添加時に発熱する場合が多いことから、各成分を添加した後に過酸化水素を徐々に添加する方法でも構わない。
この際、緩衝液(もしくは水とリン酸塩)、タングステン酸類を加えpH調整を行った後、4級アンモニウム塩、及び有機溶剤、炭素-炭素二重結合を有する化合物を加え、二層で撹拌したところに、過酸化水素を滴下するという手法を用いる。
あるいは水、有機溶剤、炭素-炭素二重結合を有する化合物を撹拌している中に、タングステン酸類、リン酸(あるいはリン酸塩類)を加え、pH調整を行った後、4級アンモニウム塩を添加し、二層で撹拌したところに、過酸化水素を滴下するという手法を用いるという方法でも構わない。
As a specific reaction operation method, for example, when the reaction is performed in a batch-type reaction kettle, a diolefin compound, hydrogen peroxide (aqueous solution), heteropolyacid (catalyst), buffer solution, quaternary ammonium salt and organic solvent are added. In addition, stir in two layers. There is no specific designation for the stirring speed. Since heat is often generated when hydrogen peroxide is added, a method of gradually adding hydrogen peroxide after each component may be added.
At this time, after adjusting the pH by adding a buffer solution (or water and phosphate) and tungstic acid, add a quaternary ammonium salt, an organic solvent, and a compound having a carbon-carbon double bond, and stir in two layers. Then, a technique of dropping hydrogen peroxide is used.
Alternatively, while stirring water, an organic solvent, and a compound having a carbon-carbon double bond, tungstic acid and phosphoric acid (or phosphates) are added, pH is adjusted, and then a quaternary ammonium salt is added. However, it is possible to use a method of dropping hydrogen peroxide when stirring in two layers.
反応温度は特に限定されないが0〜90℃が好ましく、より好ましくは0〜75℃、特に好ましくは15℃〜60℃である。反応温度が高すぎる場合、加水分解反応が進行しやすく、反応温度が低いと反応速度が極端に遅くなる。 Although reaction temperature is not specifically limited, 0-90 degreeC is preferable, More preferably, it is 0-75 degreeC, Most preferably, it is 15-60 degreeC. When the reaction temperature is too high, the hydrolysis reaction tends to proceed, and when the reaction temperature is low, the reaction rate becomes extremely slow.
また反応時間は反応温度、触媒量等にもよるが、工業生産という観点から、長時間の反応は多大なエネルギーを消費することになるため好ましくはない。好ましい範囲としては1〜48時間、より好ましくは3〜36時間、さらに好ましくは4〜24時間である。 Although the reaction time depends on the reaction temperature, the amount of catalyst, etc., from the viewpoint of industrial production, a long-time reaction is not preferable because it consumes a large amount of energy. The preferred range is 1 to 48 hours, more preferably 3 to 36 hours, and still more preferably 4 to 24 hours.
反応終了後、過剰な過酸化水素のクエンチ処理を行う。クエンチ処理は、塩基性化合物を使用して行なうことが好ましい。また、還元剤と塩基性化合物を併用することも好ましい。好ましい処理方法としては塩基性化合物でpH6〜10に中和調整後、還元剤を用い、残存する過酸化水素をクエンチする方法が挙げられる。pHが6以下の場合、過剰の過酸化水素を還元する際の発熱が大きく、分解物を生じる可能性がある。 After completion of the reaction, quenching of excess hydrogen peroxide is performed. The quenching treatment is preferably performed using a basic compound. It is also preferable to use a reducing agent and a basic compound in combination. As a preferable treatment method, there is a method of quenching the remaining hydrogen peroxide using a reducing agent after adjusting neutralization to pH 6 to 10 with a basic compound. When the pH is 6 or less, heat generated when reducing excess hydrogen peroxide is large, and decomposition products may be generated.
還元剤としては亜硫酸ナトリウム、チオ硫酸ナトリウム、ヒドラジン、シュウ酸、ビタミンCなどが挙げられる。還元剤の使用量としては過剰分の過酸化水素もモル数に対し、通常0.01〜20倍モル、より好ましくは0.05〜10倍モル、さらに好ましくは0.05〜3倍モルである。
これらは水溶液として加えることが好ましく、その濃度は0.5〜30重量%である。
Examples of the reducing agent include sodium sulfite, sodium thiosulfate, hydrazine, oxalic acid, vitamin C and the like. As the amount of the reducing agent used, excess hydrogen peroxide is usually 0.01 to 20 times mol, more preferably 0.05 to 10 times mol, still more preferably 0.05 to 3 times mol, based on the number of moles. is there.
These are preferably added as an aqueous solution, and the concentration is 0.5 to 30% by weight.
塩基性化合物としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム等の金属水酸化物、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の金属炭酸塩、リン酸ナトリウム、リン酸水素ナトリウムなどのリン酸塩、イオン交換樹脂、アルミナ等の塩基性固体が挙げられる。
その使用量としては水、あるいは有機溶剤(例えば、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、メチルイソブチルケトン、メチルエチルケトン等のケトン類、シクロヘキサン、ヘプタン、オクタン等の炭化水素、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等のアルコール類など、各種溶剤)に溶解するものであれば、その使用量は過剰分の過酸化水素のモル数に対し、通常0.01〜20倍モル、より好ましくは0.05〜10倍モル、さらに好ましくは0.05〜3倍モルである。これらは水、あるいは前述の有機溶剤の溶液として添加しても、単体で添加しても構わない。
水や有機溶剤に溶解しない固体塩基を使用する場合、系中に残存する過酸化水素の量に対し、重量比で1〜1000倍の量を使用することが好ましい。より好ましくは10〜500倍、さらに好ましくは10〜300倍である。水や有機溶剤に溶解しない固体塩基を使用する場合は、後に記載する水層と有機層の分離の後、処理を行っても構わない。
Basic compounds include metal hydroxides such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, magnesium hydroxide and calcium hydroxide, metal carbonates such as sodium carbonate and potassium carbonate, phosphorus such as sodium phosphate and sodium hydrogen phosphate. Examples thereof include basic solids such as acid salts, ion exchange resins, and alumina.
The amount used is water or organic solvents (for example, aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene, ketones such as methyl isobutyl ketone and methyl ethyl ketone, hydrocarbons such as cyclohexane, heptane and octane, methanol, ethanol, isopropyl alcohol, etc. The amount used is usually 0.01 to 20 times mol, more preferably 0.05 to 10 times the number of moles of excess hydrogen peroxide. Mol, more preferably 0.05 to 3 times mol. These may be added as water or a solution of the aforementioned organic solvent, or may be added alone.
When a solid base that does not dissolve in water or an organic solvent is used, it is preferable to use an amount of 1 to 1000 times by weight with respect to the amount of hydrogen peroxide remaining in the system. More preferably, it is 10-500 times, More preferably, it is 10-300 times. In the case of using a solid base that does not dissolve in water or an organic solvent, the treatment may be carried out after separation of an aqueous layer and an organic layer described later.
過酸化水素のクエンチ後(もしくはクエンチを行う前に)、この際、有機層と水層が分離しない、もしくは有機溶剤を使用していない場合は前述の有機溶剤を添加して操作を行い、水層より反応生成物の抽出を行う。この際使用する有機溶剤は原料ジオレフィン化合物に対し、重量比で0.5〜10倍、好ましくは0.5〜5倍である。この操作を必要により数回繰り返した後分離した有機層を、必要に応じて水洗して精製する。
得られた有機層から必要に応じてイオン交換樹脂や金属酸化物(特に、シリカゲル、アルミナなどが好ましい)、活性炭(中でも特に薬品賦活活性炭が好ましい)、複合金属塩(中でも特に塩基性複合金属塩が好ましい)、粘土鉱物(中でも特にモンモリロナイトなど層状粘土鉱物が好ましい)等により、不純物を除去し、さらに水洗、ろ過等を行った後、溶剤を留去し、目的とするエポキシ化合物を得る。
場合によってはさらにカラムクロマトグラフィーや蒸留により精製しても構わない。
After the hydrogen peroxide quench (or before quenching), if the organic layer and the aqueous layer are not separated, or if no organic solvent is used, the above-mentioned organic solvent is added and the operation is performed. The reaction product is extracted from the layer. The organic solvent used at this time is 0.5 to 10 times, preferably 0.5 to 5 times in weight ratio to the raw material diolefin compound. This operation is repeated several times as necessary, and the separated organic layer is purified by washing with water as necessary.
From the obtained organic layer, if necessary, ion exchange resins and metal oxides (especially silica gel, alumina etc. are preferred), activated carbon (especially chemical activated carbon is particularly preferred), complex metal salts (especially basic complex metal salts). Are preferably removed), clay minerals (especially, lamellar clay minerals such as montmorillonite are preferred), impurities are removed, water washing and filtration are performed, and then the solvent is distilled off to obtain the desired epoxy compound.
In some cases, it may be further purified by column chromatography or distillation.
次に本発明を実施例により更に具体的に説明するが、以下において部は特に断わりのない限り重量部である。尚、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。
以下に実施例で用いた各種分析方法について記載する。
エポキシ当量: JIS K 7236 (ISO 3001) に準拠
ICI溶融粘度: JIS K 7117−2 (ISO 3219) に準拠
軟化点: JIS K 7234 に準拠
全塩素: JIS K 7243−3 (ISO 21672−3) に準拠
ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC):
カラム(Shodex KF−603、KF−602.5、KF−602、KF−601x2)
連結溶離液はテトラヒドロフラン
流速は0.5ml/min.
カラム温度は40℃
検出:RI(示差屈折検出器)
ガスクロマトグラフィー(GC):
カラム HP-5 30mx0.32mmx0.25μm
キャリアガス ヘリウム 1.0mL/min Split1/50
インジェクター温度 300℃
ディテクター温度 300℃
オーブン温度プログラム 50℃で5分保持後、50℃〜300℃まで10℃/minで昇温 300℃でそのまま5分間保持
高速液体クロマトグラフィー(HPLC):カラム ODS2 溶離液はアセトニトリル-水のグラジエント、カラム温度40℃ 検出UV 274nm、流速 1.0ml/min.
EXAMPLES Next, the present invention will be described more specifically with reference to examples. In the following, parts are parts by weight unless otherwise specified. The present invention is not limited to these examples.
The various analysis methods used in the examples are described below.
Epoxy equivalent: Conforms to JIS K 7236 (ISO 3001)
ICI melt viscosity: compliant with JIS K 7117-2 (ISO 3219) Softening point: compliant with JIS K 7234 Total chlorine: compliant with JIS K 7243-3 (ISO 21672-3) Gel permeation chromatography (GPC):
Column (Shodex KF-603, KF-602.5, KF-602, KF-601x2)
The coupled eluent is tetrahydrofuran. The flow rate is 0.5 ml / min.
Column temperature is 40 ° C
Detection: RI (differential refraction detector)
Gas chromatography (GC):
Column HP-5 30mx0.32mmx0.25μm
Carrier gas Helium 1.0mL / min Split1 / 50
Injector temperature 300 ℃
Detector temperature 300 ℃
Oven temperature program After holding at 50 ° C. for 5 minutes, increase the temperature from 50 ° C. to 300 ° C. at 10 ° C./min. Hold at 300 ° C. for 5 minutes. High performance liquid chromatography (HPLC): Column ODS2 Eluent is acetonitrile-water gradient, Column temperature 40 ° C. Detection UV 274 nm, flow rate 1.0 ml / min.
(実施例1)
撹拌機、還流冷却管、撹拌装置を備えたフラスコに、窒素パージを施しながら水40部、ジメチルスルホキシド400部、フェノールビフェニレン樹脂(水酸基当量210g/eq.軟化点74℃)210部を加え、45℃に昇温し溶解後、38−40℃に冷却、そのままフレーク状の水酸化ナトリウム(純度99%東ソー製)44.4部(フェノールビフェニレン樹脂の水酸基1モル当量に対して1.1モル当量)を60分かけて添加し、その後、さらにアリルクロライド(純度98.7面積%市販のアリルクロライドを蒸留生成により分離。アリルクロライドポリマー量<0.2面積%ガスクロマトグラフィーにより確認)101.5部(フェノールビフェニレン樹脂の水酸基1 モル当量に対して1.3モル当量、水酸化ナトリウム1モルに対して1.18倍モル)を60分かけて滴下、そのまま38−40℃で5時間、60〜65℃で1時間反応を行った。反応終了後、ロータリーエバポレータにて135℃以下で加熱減圧下、水やジメチルスルホキシド等を留去した後、メチルイソブチルケトン740部を加え、水洗を繰り返し、水層が中性になったことを確認した後、油層からロータリーエバポレータを用いて減圧下、窒素バブリングしながら溶剤類を留去することで本発明のアリルエーテル化フェノールビフェニレン樹脂(AEP1)240部を得た。得られた樹脂の水酸基当量は10000g/eq以上(滴定により56000〜113500g/eqの間であることを確認した。残存水酸基の数が少なく、正確に測定が困難であるため、以下、10000g/eq以上か否かで記載する。)であり、全塩素は15ppmであった。また得られた樹脂は半固形状であった。主成分として得られたアリルエーテル化フェノールビフェニレン樹脂の構造式を下記式(1)で表す。
Example 1
To a flask equipped with a stirrer, a reflux condenser, and a stirrer, 40 parts of water, 400 parts of dimethyl sulfoxide, and 210 parts of phenol biphenylene resin (hydroxyl equivalent 210 g / eq. Softening point 74 ° C.) were added while purging with nitrogen. After heating to ℃ and dissolving, cooled to 38-40 ℃, as it is, 44.4 parts of flaky sodium hydroxide (purity 99% manufactured by Tosoh) (1.1 mole equivalent to 1 mole equivalent of hydroxyl group of phenol biphenylene resin) ) Was added over 60 minutes, and then allyl chloride (purity 98.7 area% commercially available allyl chloride was separated by distillation. Allyl chloride polymer amount <0.2 area% confirmed by gas chromatography) 101.5 Parts (1.3 molar equivalents relative to 1 molar equivalent of hydroxyl group of phenol biphenylene resin, 1 mole of sodium hydroxide) Was added dropwise over 60 minutes, and the reaction was carried out at 38-40 ° C. for 5 hours and at 60-65 ° C. for 1 hour. After completion of the reaction, after distilling off water, dimethyl sulfoxide, etc. under reduced pressure by heating at 135 ° C. or less with a rotary evaporator, 740 parts of methyl isobutyl ketone was added, and washing with water was repeated to confirm that the aqueous layer became neutral. Then, 240 parts of allyl etherified phenol biphenylene resin (AEP1) of the present invention was obtained by distilling off the solvents from the oil layer using a rotary evaporator under nitrogen bubbling under reduced pressure. The obtained resin has a hydroxyl equivalent weight of 10,000 g / eq or more (it was confirmed by titration to be between 56000 and 113500 g / eq . Since the number of residual hydroxyl groups is small and accurate measurement is difficult, the following is more than 10000 The total chlorine content was 15 ppm. The obtained resin was semi-solid. The structural formula of the allyl etherified phenol biphenylene resin obtained as the main component is represented by the following formula (1).
(実施例2)
撹拌機、還流冷却管、撹拌装置を備えたフラスコに、窒素パージを施しながら水40部、ジメチルスルホキシド300部、フェノールビフェニレン樹脂(水酸基当量207g/eq.軟化点74℃)207部を加え、45℃に昇温し溶解後、38−40℃に冷却、そのままフレーク状の水酸化ナトリウム(純度99%東ソー製)44.4部(フェノールビフェニレン樹脂の水酸基1 モル当量に対して1.1モル当量)を60分かけて添加し、その後、さらにアリルクロライド(純度99.5面積%鹿島ケミカル製。アリルクロライドポリマー量<0.2面積%ガスクロマトグラフィーにより確認)101.5部(フェノールビフェニレン樹脂の水酸基1モル当量に対して1.25モル当量、水酸化ナトリウム1モルに対して1.14倍モル)を60分かけて滴下、そのまま38−40℃で5時間、60〜65℃で1時間反応を行った。
反応終了後、ロータリーエバポレータにて135℃以下で加熱減圧下、水やジメチルスルホキシド等を留去した後、メチルイソブチルケトン740部を加え、水洗を繰り返し、水層が中性になったことを確認した後、油層からロータリーエバポレータを用いて減圧下、窒素バブリングしながら溶剤類を留去することで本発明のアリルエーテル化フェノールビフェニレン樹脂(AEP2)237部を得た。得られた樹脂の水酸基当量は10000g/eq以上であり、全塩素は2ppmであった。また得られた樹脂は半固形状であった。
(Example 2)
To a flask equipped with a stirrer, a reflux condenser, and a stirrer, 40 parts of water, 300 parts of dimethyl sulfoxide, and 207 parts of phenol biphenylene resin (hydroxyl equivalent 207 g / eq. Softening point 74 ° C.) were added while purging with nitrogen. After heating to ℃ and dissolving, cooled to 38-40 ℃, as it is, 44.4 parts of flaky sodium hydroxide (purity 99% made by Tosoh) (1.1 molar equivalent to 1 molar equivalent of hydroxyl group of phenol biphenylene resin) ) Was added over 60 minutes, and then allyl chloride (purity 99.5 area%, manufactured by Kashima Chemical. Allyl chloride polymer amount <0.2 area% confirmed by gas chromatography) 101.5 parts (of phenol biphenylene resin) 1.25 molar equivalents relative to 1 molar equivalent of hydroxyl group, 1.14 times moles relative to 1 mole of sodium hydroxide) Was added dropwise over 60 minutes, and the reaction was carried out at 38-40 ° C for 5 hours and at 60-65 ° C for 1 hour.
After completion of the reaction, after distilling off water, dimethyl sulfoxide, etc. under reduced pressure by heating at 135 ° C. or less with a rotary evaporator, 740 parts of methyl isobutyl ketone was added, and washing with water was repeated to confirm that the aqueous layer became neutral. Then, 237 parts of the allyl etherified phenol biphenylene resin (AEP2) of the present invention were obtained by distilling off the solvents from the oil layer using a rotary evaporator under nitrogen bubbling under reduced pressure. The hydroxyl group equivalent of the obtained resin was 10,000 g / eq or more, and the total chlorine was 2 ppm. The obtained resin was semi-solid.
(比較例1)
撹拌機、還流冷却管、撹拌装置を備えたフラスコに、窒素パージを施しながらジメチルスルホキシド400部、フェノールビフェニレン樹脂(水酸基当量210g/eq.軟化点74℃)210部を加え、45℃に昇温し溶解後、38−40℃に冷却、そのままフレーク状の水酸化ナトリウム(純度 99% 東ソー製)44.4部(フェノールビフェニレン樹脂の水酸基1モル当量に対して1.1モル当量)を60分かけて添加し、その後、さらにアリルクロライド(純度 98.7面積% 市販のアリルクロライドを蒸留生成により分離。アリルクロライドポリマー量 <0.2面積% ガスクロマトグラフィーにより確認)80.3部(フェノールビフェニレン樹脂の水酸基1モル当量に対して1.05モル当量、水酸化ナトリウム1モルに対して1.0倍モル)を60分かけて滴下、そのまま38−40℃で5時間、60〜65℃で1時間反応を行ったが、HPLC(高速液体クロマトグラフィー)にて反応追跡したところ、反応の進行が確認できなかった。
(Comparative Example 1)
To a flask equipped with a stirrer, a reflux condenser, and a stirrer, 400 parts of dimethyl sulfoxide and 210 parts of phenol biphenylene resin (hydroxyl equivalent: 210 g / eq. Softening point: 74 ° C.) are added while purging with nitrogen, and the temperature is raised to 45 ° C. After dissolution, the mixture was cooled to 38-40 ° C., and 44.4 parts of flaky sodium hydroxide (purity: 99%, manufactured by Tosoh Corp.) (1.1 mol equivalent to 1 mol equivalent of hydroxyl group of phenol biphenylene resin) was added for 60 minutes After that, further allyl chloride (purity 98.7 area% commercial allyl chloride was separated by distillation. Allyl chloride polymer amount <0.2 area% confirmed by gas chromatography) 80.3 parts (phenol biphenylene) 1.05 molar equivalents relative to 1 molar equivalent of hydroxyl group of resin, and 1 mole of sodium hydroxide 1.0 mol) was added dropwise over 60 minutes, and the reaction was carried out at 38-40 ° C. for 5 hours and at 60-65 ° C. for 1 hour, but the reaction was monitored by HPLC (high performance liquid chromatography). The progress of could not be confirmed.
(実施例3)
撹拌機、還流冷却管、撹拌装置を備えたフラスコに、窒素パージを施しながら水40部、ジメチルスルホキシド300部、フェノールビフェニレン樹脂(水酸基当量207g/eq.軟化点74℃)207部を加え、45℃に昇温し溶解後、38−40℃に冷却、そのままフレーク状の水酸化ナトリウム(純度99%東ソー製)44.4部(フェノールビフェニレン樹脂の水酸基1モル当量に対して1.1モル当量)を60分かけて添加し、その後、さらにアリルクロライド(純度98.1面積%市販のアリルクロライドを蒸留生成により分離。アリルクロライドポリマー量<0.2面積%ガスクロマトグラフィーにより確認)101.5部(フェノールビフェニレン樹脂の水酸基1モル当量1に対して1.1 モル当量、水酸化ナトリウム1モルに対して1.0倍モル)を60分かけて滴下、そのまま38−40℃で5時間、60〜65℃で1時間反応を行った。
反応終了後、ロータリーエバポレータにて135℃以下で加熱減圧下、水やジメチルスルホキシド等を留去した後、メチルイソブチルケトン740部を加え、水洗を繰り返し、水層が中性になったことを確認した後、油層からロータリーエバポレータを用いて減圧下、窒素バブリングしながら溶剤類を留去することで本発明のアリルエーテル化フェノールビフェニレン樹脂(AEP3)237部を得た。得られた樹脂の水酸基当量は10000g/eq以上であり、全塩素は53ppmであった。また得られた樹脂は半固形状であった。
(Example 3)
To a flask equipped with a stirrer, a reflux condenser, and a stirrer, 40 parts of water, 300 parts of dimethyl sulfoxide, and 207 parts of phenol biphenylene resin (hydroxyl equivalent 207 g / eq. Softening point 74 ° C.) were added while purging with nitrogen. After heating to ℃ and dissolving, cooled to 38-40 ℃, as it is, 44.4 parts of flaky sodium hydroxide (purity 99% manufactured by Tosoh) (1.1 mole equivalent to 1 mole equivalent of hydroxyl group of phenol biphenylene resin) ) Was added over 60 minutes, and then allyl chloride (purity 98.1 area% commercially available allyl chloride was separated by distillation. Allyl chloride polymer amount <0.2 area% confirmed by gas chromatography) 101.5 Parts (1.1 molar equivalents relative to 1 molar equivalent of 1 hydroxyl group of phenol biphenylene resin, sodium hydroxide 1 The reaction was carried out at 38-40 ° C. for 5 hours and at 60-65 ° C. for 1 hour.
After completion of the reaction, after distilling off water, dimethyl sulfoxide, etc. under reduced pressure by heating at 135 ° C. or less with a rotary evaporator, 740 parts of methyl isobutyl ketone was added, and washing with water was repeated to confirm that the aqueous layer became neutral. Then, 237 parts of the allyl etherified phenol biphenylene resin (AEP3) of the present invention were obtained by distilling off the solvents from the oil layer while bubbling nitrogen under reduced pressure using a rotary evaporator. The hydroxyl group equivalent of the obtained resin was 10000 g / eq or more, and the total chlorine was 53 ppm. The obtained resin was semi-solid.
(実施例4)
撹拌機、還流冷却管、撹拌装置を備えたフラスコに、窒素パージを施しながら水40部、ジメチルスルホキシド400部、フェノールビフェニレン樹脂(水酸基当量210g/eq.軟化点74℃)210部を加え、45℃に昇温し溶解後、38−40℃に冷却、そのままフレーク状の水酸化ナトリウム(純度99%東ソー製)44.4部(フェノールビフェニレン樹脂の水酸基1 モル当量に対して1.1モル当量)を60分かけて添加し、その後、さらにアリルクロライド(純度97.1面積%東京化成製アリルクロライドポリマー量<0.21面積%ガスクロマトグラフィーにより確認)101.5部(フェノールビフェニレン樹脂の水酸基1モル当量に対して1.3モル当量、水酸化ナトリウム1モルに対して1.18倍モル)を60分かけて滴下、そのまま38−40℃で5時間、60〜65℃で1時間反応を行った。
反応終了後、ロータリーエバポレータにて135℃以下で加熱減圧下、水やジメチルスルホキシド等を留去した後、メチルイソブチルケトン740部を加え、水洗を繰り返し、水層が中性になったことを確認した後、油層からロータリーエバポレータを用いて減圧下、窒素バブリングしながら溶剤類を留去することで本発明のアリルエーテル化フェノールビフェニレン樹脂(AEP4)232部を得た。得られた樹脂の水酸基当量は10000g/eq以上であり、全塩素は1065ppmであった。また得られた樹脂は半固形状であった。
Example 4
To a flask equipped with a stirrer, a reflux condenser, and a stirrer, 40 parts of water, 400 parts of dimethyl sulfoxide, and 210 parts of phenol biphenylene resin (hydroxyl equivalent 210 g / eq. Softening point 74 ° C.) were added while purging with nitrogen. After heating to ℃ and dissolving, cooled to 38-40 ℃, as it is, 44.4 parts of flaky sodium hydroxide (purity 99% made by Tosoh) (1.1 molar equivalent to 1 molar equivalent of hydroxyl group of phenol biphenylene resin) ) Was added over 60 minutes, and then allyl chloride (purity 97.1 area% allyl chloride polymer produced by Tokyo Chemical Industry <0.21 area% confirmed by gas chromatography) 101.5 parts (hydroxyl group of phenol biphenylene resin) 60 equivalents of 1.3 mole equivalents per mole equivalent and 1.18 moles per mole of sodium hydroxide) The reaction was carried out dropwise over a period of 5 minutes at 38-40 ° C. and then at 60-65 ° C. for 1 hour.
After completion of the reaction, after distilling off water, dimethyl sulfoxide, etc. under reduced pressure by heating at 135 ° C. or less with a rotary evaporator, 740 parts of methyl isobutyl ketone was added, and washing with water was repeated to confirm that the aqueous layer became neutral. After that, 232 parts of the allyl etherified phenol biphenylene resin (AEP4) of the present invention was obtained by distilling off the solvents from the oil layer using a rotary evaporator under nitrogen bubbling under reduced pressure. The hydroxyl group equivalent of the obtained resin was 10000 g / eq or more, and the total chlorine was 1065 ppm. The obtained resin was semi-solid.
(実施例5)
撹拌機、還流冷却管、撹拌装置を備えたフラスコに、窒素パージを施しながら水40部、ジメチルスルホキシド400部、フェノールビフェニレン樹脂(水酸基当量210g/eq.軟化点74℃)210部を加え、45℃に昇温し溶解後、38−40℃に冷却、そのままフレーク状の水酸化ナトリウム(純度99%東ソー製)42.4部(フェノールビフェニレン樹脂の水酸基1 モル当量に対して1.05モル当量)を60分かけて添加し、その後、さらにアリルクロライド( 純度97.1面積%東京化成製アリルクロライドポリマー量<0.21面積%ガスクロマトグラフィーにより確認)82.0部(フェノールビフェニレン樹脂の水酸基1 モル当量に対して1.05モル当量、水酸化ナトリウム1モルに対して1.18倍モル)を60分かけて滴下、そのまま38−40℃で5時間、60〜65℃で1時間反応を行った。
反応終了後、ロータリーエバポレータにて135℃以下で加熱減圧下、水やジメチルスルホキシド等を留去した後、メチルイソブチルケトン740部を加え、水洗を繰り返し、水層が中性になったことを確認した後、油層からロータリーエバポレータを用いて減圧下、窒素バブリングしながら溶剤類を留去することで本発明のアリルエーテル化フェノールビフェニレン樹脂(AEP5)231部を得た。得られた樹脂の水酸基当量は9300g/eqであり、全塩素は950ppmであった。また得られた樹脂は半固形状であった。
(Example 5)
To a flask equipped with a stirrer, a reflux condenser, and a stirrer, 40 parts of water, 400 parts of dimethyl sulfoxide, and 210 parts of phenol biphenylene resin (hydroxyl equivalent 210 g / eq. Softening point 74 ° C.) were added while purging with nitrogen. After heating to ℃ and dissolving, cooled to 38-40 ℃, 42.4 parts of flaky sodium hydroxide (purity 99% made by Tosoh) as it is (1.05 molar equivalents relative to 1 molar equivalent of hydroxyl group of phenol biphenylene resin) ) Was added over 60 minutes, and then further allyl chloride (purity 97.1 area% allyl chloride polymer manufactured by Tokyo Chemical Industry <0.21 area% confirmed by gas chromatography) 82.0 parts (hydroxyl group of phenol biphenylene resin) 1.05 mole equivalent per 1 mole equivalent, 1.18 moles per mole of sodium hydroxide) 0 min over dropwise, as 5 hours at 38-40 ° C., was subjected to 1 hour of reaction at 60 to 65 ° C..
After completion of the reaction, after distilling off water, dimethyl sulfoxide, etc. under reduced pressure by heating at 135 ° C. or less with a rotary evaporator, 740 parts of methyl isobutyl ketone was added, and washing with water was repeated to confirm that the aqueous layer became neutral. Then, 231 parts of the allyl etherified phenol biphenylene resin (AEP5) of the present invention were obtained by distilling off the solvents from the oil layer while bubbling nitrogen under reduced pressure using a rotary evaporator. The obtained resin had a hydroxyl equivalent of 9300 g / eq and total chlorine of 950 ppm. The obtained resin was semi-solid.
(実施例6)
撹拌機、還流冷却管、撹拌装置を備えたフラスコに、窒素パージを施しながら水40部、ジメチルスルホキシド400部、フェノール-ジシクロペンタジエンタイプノボラック(DCPD フェノール樹脂 軟化点87℃ 水酸基当量168g/eq.)168部を加え、45℃に昇温し溶解後、38−40℃に冷却、そのままフレーク状の水酸化ナトリウム( 純度99%東ソー製)44.4部(DCPD フェノール樹脂の水酸基1モル当量に対して1.1モル当量)を60分かけて添加し、その後、さらにアリルクロライド(純度98.7面積% 市販のアリルクロライドを蒸留生成により分離。アリルクロライドポリマー量<0.2面積%ガスクロマトグラフィーにより確認)101.5部(DCPD 樹脂の水酸基1モル当量に対して1.3モル当量、水酸化ナトリウム1モルに対して1.18倍モル)を60分かけて滴下、そのまま38−40℃で5時間、60〜65℃で1時間反応を行った。
反応終了後、ロータリーエバポレータにて135℃以下で加熱減圧下、水やジメチルスルホキシド等を留去した後、メチルイソブチルケトン740部を加え、水洗を繰り返し、水層が中性になったことを確認した後、油層からロータリーエバポレータを用いて減圧下、窒素バブリングしながら溶剤類を留去することで本発明のアリルエーテル化DCPDフェノール樹脂(AEP6)172部を得た。得られた樹脂の水酸基当量は10000g/eqであり、軟化点は52℃、全塩素は10ppmであった。主成分として得られたアリルエーテル化DCPDフェノール樹脂の構造式を下記式(2)で表す。
(Example 6)
A flask equipped with a stirrer, a reflux condenser, and a stirrer was charged with 40 parts of water, 400 parts of dimethyl sulfoxide, phenol-dicyclopentadiene type novolak (DCPD phenol resin, softening point 87 ° C., hydroxyl equivalent 168 g / eq. ) 168 parts, heated to 45 ° C., dissolved, cooled to 38-40 ° C., and left as it is, 44.4 parts of flaky sodium hydroxide (purity 99% manufactured by Tosoh Corporation) (1 mol equivalent of hydroxyl group of DCPD phenol resin) 1.1 mole equivalent) was added over 60 minutes, and then allyl chloride (purity 98.7 area%, commercially available allyl chloride was separated by distillation. Allyl chloride polymer amount <0.2 area% gas chromatograph (Confirmed by chromatography) 101.5 parts (1.3 parts per mole equivalent of hydroxyl group of DCPD resin) Le equiv, dropwise over 1.18 moles) 60 minutes against 1 mole of sodium hydroxide, as 5 hours at 38-40 ° C., was subjected to 1 hour of reaction at 60 to 65 ° C..
After completion of the reaction, after distilling off water, dimethyl sulfoxide, etc. under reduced pressure by heating at 135 ° C. or less with a rotary evaporator, 740 parts of methyl isobutyl ketone was added, and washing with water was repeated to confirm that the aqueous layer became neutral. Then, 172 parts of the allyl etherified DCPD phenol resin (AEP6) of the present invention were obtained by distilling off the solvents from the oil layer using a rotary evaporator under nitrogen bubbling under reduced pressure. The obtained resin had a hydroxyl group equivalent of 10,000 g / eq , a softening point of 52 ° C., and a total chlorine content of 10 ppm. The structural formula of the allyl etherified DCPD phenol resin obtained as the main component is represented by the following formula (2).
(実施例7)
撹拌機、還流冷却管、撹拌装置を備えたフラスコに、窒素パージを施しながら水40部、ジメチルスルホキシド200部、3,3’,5,5’−テトラメチルビフェノール(水酸基当量121g/eq.)128部を加え、45℃に昇温し溶解後、38−40℃に冷却、そのままフレーク状の水酸化ナトリウム(純度99% 東ソー製)44.4部(3,3’,5,5’−テトラメチルビフェノールの水酸基1モル当量に対して1.1モル当量)を60分かけて添加し、その後、さらにアリルクロライド(純度98.7面積% 市販のアリルクロライドを蒸留生成により分離。アリルクロライドポリマー量<0.2面積% ガスクロマトグラフィーにより確認)101.5部(3,3’,5,5’−テトラメチルビフェノールの水酸基1モル当量に対して1.3モル当量、水酸化ナトリウム1モルに対して1.18倍モル)を60分かけて滴下、そのまま38−40℃で5時間、60〜65℃で1 時間反応を行った。
反応終了後、ロータリーエバポレータにて135℃以下で加熱減圧下、水やジメチルスルホキシド等を留去した後、メチルイソブチルケトン740部を加え、水洗を繰り返し、水層が中性になったことを確認した後、油層からロータリーエバポレータを用いて減圧下、窒素バブリングしながら溶剤類を留去することで本発明のアリルエーテル化テトラメチルビフェノール(AEP7)157部を得た。得られた樹脂の水酸基当量は10000g/eqであり、全塩素は10ppmであった。主成分として得られたアリルエーテル化テトラメチルビフェノール樹脂の構造式を下記式(3)で表す。
(Example 7)
A flask equipped with a stirrer, a reflux condenser, and a stirrer was purged with nitrogen while 40 parts of water, 200 parts of dimethyl sulfoxide, 3,3 ′, 5,5′-tetramethylbiphenol (hydroxyl equivalent 121 g / eq.) 128 parts were added, heated to 45 ° C. and dissolved, then cooled to 38-40 ° C., and 44.4 parts (3,3 ′, 5,5′-) of flaky sodium hydroxide (purity 99%, manufactured by Tosoh Corporation) Add 1.1 mole equivalent of 1 mole equivalent of hydroxyl group of tetramethylbiphenol over 60 minutes, and then further separate allyl chloride (purity 98.7 area% commercial allyl chloride by distillation. Allyl chloride polymer) Amount <0.2 area% (confirmed by gas chromatography) 101.5 parts (based on 1 molar equivalent of the hydroxyl group of 3,3 ′, 5,5′-tetramethylbiphenol) .3 molar equivalents, dropwise over 1.18 moles) 60 minutes against 1 mole of sodium hydroxide, as 5 hours at 38-40 ° C., was subjected to 1 hour of reaction at 60 to 65 ° C..
After completion of the reaction, after distilling off water, dimethyl sulfoxide, etc. under reduced pressure by heating at 135 ° C. or less with a rotary evaporator, 740 parts of methyl isobutyl ketone was added, and washing with water was repeated to confirm that the aqueous layer became neutral. Then, 157 parts of allyl etherified tetramethylbiphenol (AEP7) of the present invention were obtained by distilling off the solvents from the oil layer using a rotary evaporator under nitrogen bubbling under reduced pressure. The obtained resin had a hydroxyl group equivalent of 10,000 g / eq and a total chlorine content of 10 ppm. The structural formula of the allyl etherified tetramethylbiphenol resin obtained as the main component is represented by the following formula (3).
(実施例8)
撹拌機、還流冷却管、撹拌装置を備えたフラスコに、窒素パージを施しながら水40部、ジメチルスルホキシド200部、3,3’,5,5’−テトラメチルビフェノール(水酸基当量121g/eq.)128部を加え、45℃に昇温し溶解後、38−40℃に冷却、そのままフレーク状の水酸化ナトリウム(純度99% 東ソー製)44.4部(3,3’,5,5’−テトラメチルビフェノールの水酸基1モル当量に対して1.1モル当量)を60分かけて添加し、その後、さらにアリルクロライド(関東化学製純度97.1面積% 市販のアリルクロライドを蒸留生成により分離。アリルクロライドポリマー量<0.21面積%ガスクロマトグラフィーにより確認)84.2部(3,3’,5,5’−テトラメチルビフェノールの水酸基1モル当量に対して1.1モル当量、水酸化ナトリウム1モルに対して1倍モル)を60分かけて滴下、そのまま38−40℃で5 時間、60〜65℃で1時間反応を行った。
反応終了後、ロータリーエバポレータにて135℃以下で加熱減圧下、水やジメチルスルホキシド等を留去した後、メチルイソブチルケトン740部を加え、水洗を繰り返し、水層が中性になったことを確認した後、油層からロータリーエバポレータを用いて減圧下、窒素バブリングしながら溶剤類を留去することで本発明のアリルエーテル化テトラメチルビフェノール(AEP8)152部を得た。得られた樹脂の水酸基当量は7020g/eqであり、全塩素は320ppmであった。
(Example 8)
A flask equipped with a stirrer, a reflux condenser, and a stirrer was purged with nitrogen while 40 parts of water, 200 parts of dimethyl sulfoxide, 3,3 ′, 5,5′-tetramethylbiphenol (hydroxyl equivalent 121 g / eq.) 128 parts were added, heated to 45 ° C. and dissolved, then cooled to 38-40 ° C., and 44.4 parts (3,3 ′, 5,5′-) of flaky sodium hydroxide (purity 99% manufactured by Tosoh Corporation) Then, 1.1 mole equivalent of 1 mole equivalent of hydroxyl group of tetramethylbiphenol was added over 60 minutes, and then allyl chloride (purity 97.1 area%, manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd.) was separated by distillation. Aryl chloride polymer amount <0.21 area% confirmed by gas chromatography) 84.2 parts (3 moles of hydroxyl group of 3,3 ′, 5,5′-tetramethylbiphenol) 1.1 molar equivalents relative, dropwise over 1 molar) 60 minutes against 1 mole of sodium hydroxide, as 5 hours at 38-40 ° C., was subjected to 1 hour of reaction at 60 to 65 ° C..
After completion of the reaction, after distilling off water, dimethyl sulfoxide, etc. under reduced pressure by heating at 135 ° C. or less with a rotary evaporator, 740 parts of methyl isobutyl ketone was added, and washing with water was repeated to confirm that the aqueous layer became neutral. Then, 152 parts of allyl etherified tetramethylbiphenol (AEP8) of the present invention was obtained by distilling off the solvents from the oil layer using a rotary evaporator under nitrogen bubbling under reduced pressure. The obtained resin had a hydroxyl equivalent weight of 7020 g / eq and total chlorine of 320 ppm.
(実施例9)
撹拌機、還流冷却管、撹拌装置を備えたフラスコに、窒素パージを施しながら水20部、12−タングストリン酸・n水和物1.9部、タングステン酸ナトリウム・2水和物1.0部、リン酸二水素ナトリウム・2水和物でpH6.0に調整した後、実施例7で得られたアリルエーテル化テトラメチルビフェノール(AEP7)80部を添加、さらにトルエン100部を加え、溶解し、室温で撹拌しているところにトリオクチルメチルアンモニウムアセテート(TOMAA-50 ライオン製)2.9部加え、60℃に昇温した後、35%過酸化水素水(純正化学製)70部を60分かけて滴下した。
滴下終了後、60℃で40時間撹拌をしたのち、ガスクロマトグラフィー(前述の測定条件において300℃での保持時間を60分として測定)で90面積%以上の原料が消費していることを確認した。その後、水層がpH11以上になるまで1%水酸化ナトリウム水溶液を加え、水層を分離、排水。さらに5%のチオ硫酸ナトリウム水溶液100部を加え、30分撹拌を行った後、静地し、2層に分離した有機層を取り出した。
得られた有機層に活性炭(味の素ファインテクノ CP1)20部、モンモリロナイト(クニミネ工業 クニピアF)20部を加え、室温で4時間撹拌した。処理後、減圧濾過により、活性炭、モンモリロナイトを除去し、水洗後、ロータリーエバポレータで溶剤を留去した。得られたエポキシ樹脂は軟化点90℃、エポキシ当量は220g/eq.ゲルパーミエーションクロマトグラフィ(GPC)のチャートを確認した。その結果二官能体は84面積%であった。
Example 9
A flask equipped with a stirrer, a reflux condenser, and a stirrer was charged with 20 parts of water, 1.9 parts of 12-tungstophosphoric acid / n hydrate, 1.0% of sodium tungstate / dihydrate 1.0 with nitrogen purge. After adjusting the pH to 6.0 with sodium dihydrogen phosphate dihydrate, 80 parts of allyl etherified tetramethylbiphenol (AEP7) obtained in Example 7 was added, and further 100 parts of toluene was added and dissolved. Then, 2.9 parts of trioctylmethylammonium acetate (TOMAA-50 Lion) was added to the agitation at room temperature, the temperature was raised to 60 ° C., and then 70 parts of 35% hydrogen peroxide (made by Junsei Kagaku) were added. It was dripped over 60 minutes.
After completion of dropping, after stirring at 60 ° C. for 40 hours, gas chromatography (measured with the above measurement conditions assuming that the holding time at 300 ° C. is 60 minutes) confirms that 90% by area or more of the raw material has been consumed. did. Then, 1% sodium hydroxide aqueous solution is added until the aqueous layer becomes pH 11 or more, and the aqueous layer is separated and drained. Furthermore, after adding 100 parts of 5% sodium thiosulfate aqueous solution and stirring for 30 minutes, it stood still and the organic layer isolate | separated into two layers was taken out.
To the obtained organic layer, 20 parts of activated carbon (Ajinomoto Fine Techno CP1) and 20 parts of montmorillonite (Kunimine Industries Kunipia F) were added and stirred at room temperature for 4 hours. After the treatment, the activated carbon and montmorillonite were removed by filtration under reduced pressure, and after washing with water, the solvent was distilled off with a rotary evaporator. The resulting epoxy resin had a softening point of 90 ° C. and an epoxy equivalent of 220 g / eq. The gel permeation chromatography (GPC) chart was confirmed. As a result, the bifunctional compound was 84 area%.
(実施例10)
撹拌機、還流冷却管、撹拌装置を備えたフラスコに、窒素パージを施しながら水20部、12−タングストリン酸・n水和物1.9部、タングステン酸ナトリウム・2水和物1.0部、リン酸二水素ナトリウム・2水和物でpH6.0に調整した後、実施例8で得られたアリルエーテル化テトラメチルビフェノール(AEP8)80部を添加、さらにトルエン100部を加え、溶解し、室温で撹拌しているところにトリオクチルメチルアンモニウムアセテート(TOMAA-50 ライオン製)2.9部加え、60℃に昇温した後、35%過酸化水素水(純正化学製)70部を60分かけて滴下した。
滴下終了後、60℃で40時間撹拌をしたのち、ガスクロマトグラフィーを測定するとその反応率(原料からの変化率)は64面積%であり、実施例9に比べて著しく反応が遅いことが確認できた。
(Example 10)
A flask equipped with a stirrer, a reflux condenser, and a stirrer was charged with 20 parts of water, 1.9 parts of 12-tungstophosphoric acid / n hydrate, 1.0% of sodium tungstate / dihydrate 1.0 with nitrogen purge. After adjusting the pH to 6.0 with sodium dihydrogen phosphate dihydrate, 80 parts of allyl etherified tetramethylbiphenol (AEP8) obtained in Example 8 was added, and further 100 parts of toluene was added and dissolved. Then, 2.9 parts of trioctylmethylammonium acetate (TOMAA-50 Lion) was added to the agitation at room temperature, the temperature was raised to 60 ° C., and then 70 parts of 35% hydrogen peroxide (made by Junsei Kagaku) were added. It was dripped over 60 minutes.
After completion of the dropwise addition, the mixture was stirred at 60 ° C. for 40 hours and then gas chromatography was measured. As a result, the reaction rate (change rate from the raw material) was 64 area%, and it was confirmed that the reaction was remarkably slow compared to Example 9. did it.
(実施例11)
撹拌機、還流冷却管、撹拌装置を備えたフラスコに、窒素パージを施しながら水40部、ジメチルスルホキシド400部、フェノールビフェニレン樹脂(水酸基当量199g/eq.軟化点65℃)199部を加え、45℃に昇温し溶解後、38−40℃に冷却、そのままフレーク状の苛性ソーダ(純度99% 東ソー製)44.4部(フェノールビフェニレン樹脂の水酸基1モル当量に対して1.1モル当量)を60分かけて添加し、その後、さらにアリルクロライド(純度99.0面積% 市販のアリルクロライドを蒸留生成により分離。アリルクロライドポリマー量<0.02面積% ガスクロマトグラフィーにより確認)101.5部(フェノールビフェニレン樹脂の水酸基1モル当量に対して1.3モル当量、水酸化ナトリウム1モルに対して1.18倍モル)を60分かけて滴下、そのまま38−40℃で5時間、60〜65℃で1時間反応を行った。
反応終了後、ロータリーエバポレータにて135℃以下で加熱減圧下、水やジメチルスルホキシド等を留去した後、メチルイソブチルケトン740部を加え、水洗を繰り返し、水層が中性になったことを確認した後、油層からロータリーエバポレータを用いて減圧下、窒素バブリングしながら溶剤類を留去することで本発明のアリルエーテル化フェノールビフェニレン樹脂(AEP1)202部を得た。得られた樹脂の水酸基当量は10000g/eq以上であり、全塩素は24ppmであった。また得られた樹脂は半固形状であった。
(Example 11)
To a flask equipped with a stirrer, a reflux condenser, and a stirrer, 40 parts of water, 400 parts of dimethyl sulfoxide, and 199 parts of phenol biphenylene resin (hydroxyl equivalent 199 g / eq. Softening point 65 ° C.) were added while purging with nitrogen. After heating to ℃ and dissolving, cooled to 38-40 ℃, 44.4 parts of flaky caustic soda (purity 99% manufactured by Tosoh) as it is (1.1 molar equivalent to 1 molar equivalent of hydroxyl group of phenol biphenylene resin) The mixture was added over 60 minutes, and then further allyl chloride (purity 99.0 area% commercially available allyl chloride was separated by distillation. Allyl chloride polymer amount <0.02 area% confirmed by gas chromatography) 101.5 parts (phenol biphenylene) 1.3 molar equivalents relative to 1 molar equivalent of hydroxyl group of resin, and 1 molar equivalent of sodium hydroxide 1.18 moles) was added dropwise over 60 minutes, and the reaction was allowed to proceed at 38-40 ° C for 5 hours and at 60-65 ° C for 1 hour.
After completion of the reaction, after distilling off water, dimethyl sulfoxide, etc. under reduced pressure by heating at 135 ° C. or less with a rotary evaporator, 740 parts of methyl isobutyl ketone was added, and washing with water was repeated to confirm that the aqueous layer became neutral. Then, 202 parts of allyl etherified phenol biphenylene resin (AEP1) of the present invention was obtained by distilling off the solvents from the oil layer using a rotary evaporator under nitrogen bubbling under reduced pressure. The hydroxyl group equivalent of the obtained resin was 10000 g / eq or more, and the total chlorine was 24 ppm. The obtained resin was semi-solid.
以上の結果から、重合度の低いアリルクロライドを使用し、また水を溶剤に使用することで、効率的に反応が進行し、低塩素なアリルエーテル樹脂を得ることができることがわかった。
From the above results, it was found that by using allyl chloride having a low degree of polymerization and using water as a solvent, the reaction efficiently proceeds and a low chlorine allyl ether resin can be obtained.
Claims (5)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013045115A JP6143332B2 (en) | 2013-02-05 | 2013-03-07 | Allyl ether resin and method for producing the same |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013020239 | 2013-02-05 | ||
JP2013020239 | 2013-02-05 | ||
JP2013045115A JP6143332B2 (en) | 2013-02-05 | 2013-03-07 | Allyl ether resin and method for producing the same |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2014169428A JP2014169428A (en) | 2014-09-18 |
JP6143332B2 true JP6143332B2 (en) | 2017-06-07 |
Family
ID=51692028
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013045115A Active JP6143332B2 (en) | 2013-02-05 | 2013-03-07 | Allyl ether resin and method for producing the same |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6143332B2 (en) |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN106795276B (en) * | 2014-07-01 | 2019-09-24 | 明和化成株式会社 | Allyl ether or the modified biphenyl aralkyl novolac resin of allyl, its manufacturing method and the composition for having used it |
JP6755643B2 (en) * | 2015-07-29 | 2020-09-16 | 明和化成株式会社 | Allyl ether-modified biphenyl aralkyl novolac resin, allyl-modified biphenyl aralkyl novolac resin, a method for producing the same, and a composition using the same. |
TWI609382B (en) * | 2016-07-26 | 2017-12-21 | 台灣太陽油墨股份有限公司 | Dielectric material composition, insulated film and circuit board containing the same |
JP6851926B2 (en) * | 2016-07-29 | 2021-03-31 | 日本化薬株式会社 | (Meta) Allyl ether resin, epoxy resin, curable resin composition and cured products thereof |
WO2018123806A1 (en) * | 2016-12-26 | 2018-07-05 | 日本化薬株式会社 | Alkenyl-group-containing resin, curable resin composition, and cured article thereof |
JP7153635B2 (en) * | 2017-04-19 | 2022-10-14 | 昭和電工株式会社 | Curable resin composition, cured product thereof, and structure containing cured product |
JP6319703B1 (en) * | 2017-07-11 | 2018-05-09 | 群栄化学工業株式会社 | Propenyl group-containing resin, resin composition, resin varnish, laminate manufacturing method, thermosetting molding material and sealing material |
WO2020256045A1 (en) * | 2019-06-20 | 2020-12-24 | 本州化学工業株式会社 | Hexamethyl-substituted/dimethyl-substituted 4,4'-bis(2-propene-1-yloxy)-1,1'-biphenyl crystal |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5936121A (en) * | 1982-08-24 | 1984-02-28 | Sumitomo Chem Co Ltd | Allyl etherified cresol-novolak resin and manufacture of the same |
JPH0366638A (en) * | 1989-08-07 | 1991-03-22 | Mitsubishi Petrochem Co Ltd | Allyl compound and preparation thereof |
JP2563147B2 (en) * | 1991-05-21 | 1996-12-11 | 昭和高分子株式会社 | Aqueous resin dispersion |
JP2000234008A (en) * | 1999-02-15 | 2000-08-29 | Sumikin Chemical Co Ltd | Phenolic polymer and epoxy resin curing agent using the same |
WO2003104177A1 (en) * | 2002-06-07 | 2003-12-18 | ダイソー株式会社 | Process for producing allyl ether |
JP2011213716A (en) * | 2010-03-15 | 2011-10-27 | Mitsubishi Chemicals Corp | Method for producing polyallyloxy compound and method for producing polyglycidyloxy compound |
WO2011136847A1 (en) * | 2010-04-29 | 2011-11-03 | Dow Global Technologies Llc | Poly(allyl ether)s of polycyclopentadiene polyphenol |
-
2013
- 2013-03-07 JP JP2013045115A patent/JP6143332B2/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2014169428A (en) | 2014-09-18 |
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|
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