JP6141151B2 - ヨークおよびその製造方法 - Google Patents
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Description
図1は一実施形態の製造方法を模式的に示しており、符号10は磁性を有する例えばSUS445等のFe−Cr系鋼からなる薄板状の母材である。母材10の厚さは、例えば1mm以下、好ましくは0.2〜0.5mm程度とされる。
[試験1]磁性部の磁気特性と窒素吸収熱処理時間の関係
SUS445を厚さ0.3mmに加工して適宜大きさに切り分けて薄板状の磁性母材を複数枚作製し、これら母材の表裏面にPVD(物理気相堆積)のスパッタリング法によって厚さ10μmのAl被膜を全面に形成して複数枚の試料を得た。これら試料を大気中で700℃×30分加熱してAlとFeの合金化処理を行ってから、窒素吸収熱処理を、窒素雰囲気において加熱温度は1200℃と一定とし、加熱時間を10分、20分、30分、60分、90分と異ならせて行い、加熱後は急冷して、加熱時間の異なる試料を得た。また、何も処理していない元の磁性母材も試料として用意した。
上記試験1の磁性母材からなる薄板状の試料に対し、被覆する皮膜を、耐熱塗料(アクセラコート)、Cuメッキ+耐熱塗料(アクセラコート)、酸化皮膜(焼成酸化皮膜)、ガラスコート(ポリシラザンSiOガラス)で形成した。そしてこれら試料に対し窒素吸収熱処理を窒素雰囲気において1200℃×90分で行い、加熱後は急冷して皮膜の異なる比較例の試料を得た。また、上記試験1での窒素吸収熱処理の時間が90分のAl被膜のものを実施例とする。これら比較例および実施例の試料について、被膜されている磁性部の磁束密度:B50(T)と、鉄損:W10/400(w/kg)を求めた。その結果を表1に示す。
上記試験1の磁性母材からなる薄板に形成するAl被膜の厚さを、5μm、10μm、15μm、20μm、25μmと異ならせて試料を作製した。これら試料に対し、試験1と同様に合金化処理を行ってから窒素吸収熱処理を窒素雰囲気において1200℃×90分で行い、加熱後は急冷して、Al被膜の厚さの異なる試料を得た。また、何も処理していない元の磁性母材も試料とした。これら試料について、被膜されている磁性部の磁束密度:B50(T)と、鉄損:W10/400(w/kg)を求めた。その結果を図5に示す。
2…磁性部
10…母材
20…Al被膜
30…ヨーク
20A…AlN層
Claims (4)
- 単一の母材中に磁性部と非磁性部とを併せ持つヨークであって、
前記磁性部の表面上にAlN層が形成されていることを特徴とするヨーク。 - 前記磁性部の母材内部にAlが拡散固溶していることを特徴とする請求項1に記載のヨーク。
- ヨークの製造方法であって、
窒素吸収熱処理によりオーステナイトとなり非磁性化される素材からなる磁性母材の一部表面にAl被膜を形成し、
次いで、該母材全体を窒素雰囲気中で熱処理を行うことで、前記Al被膜を形成していない部分のみをオーステナイト化して非磁性化させること
を特徴とするヨークの製造方法。 - 窒素雰囲気中で前記熱処理を行う前に、大気中または不活性雰囲気中で熱処理を行うことで、前記Al被膜が形成された前記母材の表面にAlとFeの合金層を形成すること
を特徴とする請求項3に記載のヨークの製造方法。
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