JP6127223B1 - Photocurable resin composition, display element sealant, liquid crystal sealant, liquid crystal display panel, and method for producing liquid crystal display panel - Google Patents

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Abstract

本発明の目的は、例えば液晶シール剤として用いた際に、可視光に対する硬化性が高く、かつ液晶汚染を高度に抑制できる光硬化性樹脂組成物を提供することである。本発明の光硬化性樹脂組成物は、分子内にエチレン性不飽和二重結合を有する硬化性化合物Aと、分子内にアントラキノン骨格又はチオキサントン骨格と、1以上のNHCO基とを有し、式(I)で表されるNHCO基当量が350g/eq以下である化合物Bとを含む。NHCO基当量(g/eq)=分子量/1分子に含まれるNHCO基の数・・・式(I)An object of the present invention is to provide a photocurable resin composition having high curability for visible light and capable of highly suppressing liquid crystal contamination when used as, for example, a liquid crystal sealant. The photocurable resin composition of the present invention has a curable compound A having an ethylenically unsaturated double bond in the molecule, an anthraquinone skeleton or thioxanthone skeleton in the molecule, and one or more NHCO groups. And a compound B having an NHCO group equivalent represented by (I) of 350 g / eq or less. NHCO group equivalent (g / eq) = molecular weight / number of NHCO groups contained in one molecule: Formula (I)

Description

本発明は、光硬化性樹脂組成物、表示素子シール剤、液晶シール剤、液晶表示パネル及び液晶表示パネルの製造方法に関する。   The present invention relates to a photocurable resin composition, a display element sealant, a liquid crystal sealant, a liquid crystal display panel, and a method for producing a liquid crystal display panel.

近年、携帯電話やパーソナルコンピュータをはじめとする各種電子機器の画像表示パネルとして、液晶や有機EL等の表示パネルが広く使用されている。例えば、液晶表示パネルは、表面に電極が設けられた2枚の透明基板と、それらの間に挟持された枠状のシール部材と、該シール部材で囲まれた領域内に封入された液晶材料とを有する。   In recent years, display panels such as liquid crystal and organic EL have been widely used as image display panels for various electronic devices such as mobile phones and personal computers. For example, a liquid crystal display panel includes two transparent substrates having electrodes provided on the surface, a frame-shaped sealing member sandwiched between them, and a liquid crystal material sealed in a region surrounded by the sealing member And have.

液晶表示パネルは、例えば液晶滴下工法で製造されうる。液晶滴下工法による液晶表示パネルの製造は、(1)透明な基板の内縁に液晶シール剤を塗布して液晶を充填するための枠を形成し、(2)該枠内に液晶を滴下し、(3)液晶シール剤が未硬化状態のままで2枚の基板を高真空下で重ね合わせた後、(4)液晶シール剤を硬化させて行う。   The liquid crystal display panel can be manufactured by, for example, a liquid crystal dropping method. Production of a liquid crystal display panel by a liquid crystal dropping method is as follows: (1) A liquid crystal sealing agent is applied to the inner edge of a transparent substrate to form a frame for filling with liquid crystal; (2) Liquid crystal is dropped into the frame; (3) After superposing two substrates under high vacuum while the liquid crystal sealant is in an uncured state, (4) curing the liquid crystal sealant.

このように、液晶滴下工法では、未硬化の液晶シール剤と液晶材料とが接触した状態で光硬化又は熱硬化を行う。そのため、液晶シール剤は、高い硬化性を有するだけでなく、液晶材料の汚染を低減できることが求められる。   Thus, in the liquid crystal dropping method, photocuring or thermosetting is performed in a state where the uncured liquid crystal sealant and the liquid crystal material are in contact with each other. Therefore, the liquid crystal sealant is required not only to have high curability but also to reduce contamination of the liquid crystal material.

液晶滴下工法に用いられる液晶シール剤として、分子内に(メタ)アクリロイル基を有する化合物と、光重合開始剤としてアントラキノン誘導体とを含む光硬化性樹脂組成物が提案されている(例えば特許文献1)。また、光重合性オリゴマーと、光重合開始剤としてヒドロキシチオキサントンと分子内に2以上のエポキシ基を有する化合物とを反応させて得られる化合物Bとを含む光硬化性樹脂組成物が提案されている(例えば特許文献2)。さらに、硬化性樹脂と、光重合開始剤としてオキシムエステルと多官能イソシアネートとを反応させて得られる化合物とを含む液晶表示素子用シール剤が提案されている(例えば特許文献3)。   As a liquid crystal sealant used in the liquid crystal dropping method, a photocurable resin composition containing a compound having a (meth) acryloyl group in the molecule and an anthraquinone derivative as a photopolymerization initiator has been proposed (for example, Patent Document 1). ). There has also been proposed a photocurable resin composition comprising a photopolymerizable oligomer, a compound B obtained by reacting hydroxythioxanthone as a photopolymerization initiator with a compound having two or more epoxy groups in the molecule. (For example, patent document 2). Furthermore, a sealing agent for liquid crystal display elements has been proposed that includes a curable resin and a compound obtained by reacting an oxime ester and a polyfunctional isocyanate as a photopolymerization initiator (for example, Patent Document 3).

国際公開第2007/074782号International Publication No. 2007/074782 国際公開第2012/077720号International Publication No. 2012/0777720 特開2014−98763号公報JP 2014-98763 A

しかしながら、特許文献3に示される組成物は、可視光領域の光の吸収性が低い光重合開始剤を含むため、可視光領域の光に対する硬化性が低かった。特許文献1及び2に示される組成物は、アントラキノン骨格又はチオキサントン骨格を有する光重合開始剤を含むため、可視光領域の光に対する硬化性は良好であるが、光重合開始剤の液晶材料への溶出をより低減できることが求められている。このように、可視光領域の光に対する硬化性が高く、且つ液晶汚染を高度に抑制できる光硬化性樹脂組成物を提供できることが望まれている。   However, since the composition shown in Patent Document 3 contains a photopolymerization initiator having low light absorption in the visible light region, the curability to light in the visible light region is low. Since the compositions shown in Patent Documents 1 and 2 contain a photopolymerization initiator having an anthraquinone skeleton or a thioxanthone skeleton, the curability to light in the visible light region is good. There is a demand for further reduction of elution. Thus, it is desired to provide a photocurable resin composition that has high curability with respect to light in the visible light region and can highly suppress liquid crystal contamination.

本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであり、例えば表示素子シール剤、特に液晶シール剤として用いた際に、可視光に対する硬化性が高く、且つ液晶汚染を高度に抑制できる光硬化性樹脂組成物を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above problems. For example, when used as a display element sealant, particularly as a liquid crystal sealant, the photocurability is high in visible light curing and can highly suppress liquid crystal contamination. It aims at providing a resin composition.

[1] 分子内にエチレン性不飽和二重結合を有する硬化性化合物Aと、分子内にアントラキノン骨格又はチオキサントン骨格と、NHCO基とを有し、式(I)で表されるNHCO基当量が350g/eq以下である化合物Bと、を含む、光硬化性樹脂組成物。
NHCO基当量(g/eq)=分子量/1分子に含まれるNHCO基の数・・・式(I)
[2] 前記化合物Bが、分子内に3以上のNHCO基を有する、[1]に記載の光硬化性樹脂組成物。
[3] 前記化合物Bが、分子内にビューレット骨格又はアロファネート骨格を有する、[1]又は[2]に記載の光硬化性樹脂組成物。
[4] 前記化合物Bは、下記式(4)又は式(5)で表される、[1]〜[3]のいずれかに記載の光硬化性樹脂組成物。

Figure 0006127223
(式(4)及び(5)において、Lは、それぞれ独立に単結合、炭素数1〜10のアルキレン基、炭素数1〜10のアルキレンオキシ基、炭素数1〜10のアルキレンチオ基、炭素数6〜10のアリーレン基、炭素数6〜10のアリーレンオキシ基又は炭素数6〜10のアリーレンチオ基を表し、Xは、分子内に少なくともp個のイソシアネート基を有する化合物から誘導される有機基を表し、pは、1〜5の整数を表す)
[5] 前記化合物Bが、分子内にエチレン性不飽和二重結合をさらに有し、且つ前記硬化性化合物Aが、アントラキノン骨格又はチオキサントン骨格を有しない、[1]〜[4]のいずれかに記載の光硬化性樹脂組成物。
[6] 前記化合物Bの含有量が、前記硬化性化合物Aに対して0.01〜10質量%である、[1]〜[5]のいずれかに記載の光硬化性樹脂組成物。
[7] 前記硬化性化合物Aが、分子内にエポキシ基をさらに有する、[1]〜[6]のいずれかに記載の光硬化性樹脂組成物。
[8] 分子内にエポキシ基を有する熱硬化性化合物Cと、熱硬化剤Dとをさらに含み、且つ前記熱硬化性化合物Cは、前記硬化性化合物Aとは異なる、[1]〜[7]のいずれかに記載の光硬化性樹脂組成物。
[9] 前記熱硬化剤Dが、ジヒドラジド系熱潜在性硬化剤、イミダゾール系熱潜在性硬化剤、アミンアダクト系熱潜在性硬化剤、及びポリアミン系熱潜在性硬化剤からなる群より選ばれる1以上である、[8]に記載の光硬化性樹脂組成物。
[10] [1]〜[9]のいずれかに記載の光硬化性樹脂組成物からなる、表示素子シール剤。
[11] [1]〜[9]のいずれかに記載の光硬化性樹脂組成物からなる、液晶シール剤。
[12] 液晶滴下工法用の液晶シール剤である、[11]に記載の液晶シール剤。
[13] [11]又は[12]に記載の液晶シール剤を用いて、一方の基板にシールパターンを形成する工程と、前記シールパターンが未硬化の状態において、前記シールパターンの領域内、又は前記一方の基板と対になる他方の基板に液晶を滴下する工程と、前記一方の基板と前記他方の基板とを、前記シールパターンを介して重ね合わせる工程と、前記シールパターンを硬化させる工程と、を含む、液晶表示パネルの製造方法。
[14] 前記シールパターンを硬化させる工程は、前記シールパターンに光を照射して前記シールパターンを硬化させる工程を含む、[13]に記載の液晶表示パネルの製造方法。
[15] 前記シールパターンに照射する光は、可視光領域の光を含む、[14]に記載の液晶表示パネルの製造方法。
[16] 前記シールパターンを硬化させる工程は、光が照射された前記シールパターンを加熱して硬化させる工程をさらに含む、[14]又は[15]に記載の液晶表示パネルの製造方法。
[17] 一対の基板と、前記一対の基板の間に配置された枠状のシール部材と、前記一対の基板の間の前記シール部材で囲まれた空間に充填された液晶層とを含み、前記シール部材が、[11]又は[12]に記載の液晶シール剤の硬化物である、液晶表示パネル。[1] A curable compound A having an ethylenically unsaturated double bond in the molecule, an anthraquinone skeleton or thioxanthone skeleton in the molecule, and an NHCO group, and an NHCO group equivalent represented by the formula (I) is The photocurable resin composition containing the compound B which is 350 g / eq or less.
NHCO group equivalent (g / eq) = molecular weight / number of NHCO groups contained in one molecule: Formula (I)
[2] The photocurable resin composition according to [1], wherein the compound B has 3 or more NHCO groups in the molecule.
[3] The photocurable resin composition according to [1] or [2], wherein the compound B has a burette skeleton or an allophanate skeleton in the molecule.
[4] The photocurable resin composition according to any one of [1] to [3], wherein the compound B is represented by the following formula (4) or formula (5).
Figure 0006127223
(In Formulas (4) and (5), L 1 is each independently a single bond, an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, an alkyleneoxy group having 1 to 10 carbon atoms, an alkylenethio group having 1 to 10 carbon atoms, Represents an arylene group having 6 to 10 carbon atoms, an aryleneoxy group having 6 to 10 carbon atoms, or an arylenethio group having 6 to 10 carbon atoms, and X is derived from a compound having at least p isocyanate groups in the molecule. Represents an organic group, and p represents an integer of 1 to 5)
[5] Any of [1] to [4], wherein the compound B further has an ethylenically unsaturated double bond in the molecule, and the curable compound A does not have an anthraquinone skeleton or a thioxanthone skeleton. The photocurable resin composition described in 1.
[6] The photocurable resin composition according to any one of [1] to [5], wherein the content of the compound B is 0.01 to 10% by mass with respect to the curable compound A.
[7] The photocurable resin composition according to any one of [1] to [6], wherein the curable compound A further has an epoxy group in the molecule.
[8] A thermosetting compound C having an epoxy group in the molecule and a thermosetting agent D, and the thermosetting compound C is different from the curable compound A, [1] to [7 ] The photocurable resin composition in any one of.
[9] The thermosetting agent D is selected from the group consisting of a dihydrazide thermal latent curing agent, an imidazole thermal latent curing agent, an amine adduct thermal latent curing agent, and a polyamine thermal latent curing agent. The photocurable resin composition according to [8], which is as described above.
[10] A display element sealing agent comprising the photocurable resin composition according to any one of [1] to [9].
[11] A liquid crystal sealant comprising the photocurable resin composition according to any one of [1] to [9].
[12] The liquid crystal sealant according to [11], which is a liquid crystal sealant for a liquid crystal dropping method.
[13] In the step of forming a seal pattern on one substrate using the liquid crystal sealant according to [11] or [12], and in the state of the seal pattern in an uncured state, or Dropping the liquid crystal on the other substrate paired with the one substrate, superimposing the one substrate and the other substrate through the seal pattern, and curing the seal pattern; A method for manufacturing a liquid crystal display panel.
[14] The method for manufacturing a liquid crystal display panel according to [13], wherein the step of curing the seal pattern includes a step of irradiating the seal pattern with light to cure the seal pattern.
[15] The method for manufacturing a liquid crystal display panel according to [14], wherein the light applied to the seal pattern includes light in a visible light region.
[16] The method for manufacturing a liquid crystal display panel according to [14] or [15], wherein the step of curing the seal pattern further includes a step of heating and curing the seal pattern irradiated with light.
[17] including a pair of substrates, a frame-shaped sealing member disposed between the pair of substrates, and a liquid crystal layer filled in a space surrounded by the sealing member between the pair of substrates, A liquid crystal display panel, wherein the seal member is a cured product of the liquid crystal sealant according to [11] or [12].

本発明によれば、例えば表示素子シール剤、特に液晶シール剤として用いた際に、可視光に対する硬化性が高く、且つ液晶汚染を高度に抑制できる光硬化性樹脂組成物を提供することを目的とする。   According to the present invention, for example, when used as a display element sealant, particularly a liquid crystal sealant, it is an object to provide a photocurable resin composition that has high curability to visible light and can highly suppress liquid crystal contamination. And

1.光硬化性樹脂組成物
本発明の光硬化性樹脂組成物は、硬化性化合物Aと、化合物Bとを含み、必要に応じて熱硬化性化合物Cと、熱硬化剤Dとをさらに含みうる。
1. Photocurable resin composition The photocurable resin composition of this invention contains the curable compound A and the compound B, and may further contain the thermosetting compound C and the thermosetting agent D as needed.

1−1.硬化性化合物A
本発明の光硬化性樹脂組成物に含まれる硬化性化合物Aは、分子内にエチレン性不飽和二重結合を有する化合物である。分子内にエチレン性不飽和二重結合を有する化合物は、分子内に(メタ)アクリロイル基を有する化合物であることが好ましい。1分子あたりの(メタ)アクリロイル基の数は、1又は2以上である。分子内に(メタ)アクリロイル基を有する化合物は、モノマー、オリゴマー又はポリマーのいずれであってもよい。(メタ)アクリロイル基は、アクリロイル基又はメタクリロイル基を意味し、(メタ)アクリレートは、アクリレート又はメタクリレートを意味する。但し、硬化性化合物Aは、アントラキノン骨格又はチオキサントン骨格を有しない。
1-1. Curable compound A
The curable compound A contained in the photocurable resin composition of the present invention is a compound having an ethylenically unsaturated double bond in the molecule. The compound having an ethylenically unsaturated double bond in the molecule is preferably a compound having a (meth) acryloyl group in the molecule. The number of (meth) acryloyl groups per molecule is 1 or 2 or more. The compound having a (meth) acryloyl group in the molecule may be a monomer, an oligomer or a polymer. (Meth) acryloyl group means acryloyl group or methacryloyl group, and (meth) acrylate means acrylate or methacrylate. However, the curable compound A does not have an anthraquinone skeleton or a thioxanthone skeleton.

1分子内に1つの(メタ)アクリロイル基を有する化合物の例には、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸2―ヒドロキシエチルエステル等の(メタ)アクリル酸アルキルエステルが含まれる。   Examples of compounds having one (meth) acryloyl group in one molecule include (meth) acrylic acid such as methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, and (meth) acrylic acid 2-hydroxyethyl ester. Alkyl esters are included.

1分子内に2以上の(メタ)アクリロイル基を有する化合物の例には、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ポリプロピレングリコール等のジ(メタ)アクリレート;トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレートのジ(メタ)アクリレート;ネオペンチルグリコール1モルに4モル以上のエチレンオキサイド若しくはプロピレンオキサイドを付加して得たジオールのジ(メタ)アクリレート;ビスフェノールA1モルに2モルのエチレンオキサイド若しくはプロピレンオキサイドを付加して得たジオールのジ(メタ)アクリレート;トリメチロールプロパン1モルに3モル以上のエチレンオキサイド若しくはプロピレンオキサイドを付加して得たトリオールのジ若しくはトリ(メタ)アクリレート;ビスフェノールA1モルに4モル以上のエチレンオキサイド若しくはプロピレンオキサイドを付加して得たジオールのジ(メタ)アクリレート;トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレートトリ(メタ)アクリレート;トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、又はそのオリゴマー;ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート又はそのオリゴマー;ジペンタエリスリトールのポリ(メタ)アクリレート;トリス(アクリロキシエチル)イソシアヌレート;カプロラクトン変性トリス(アクリロキシエチル)イソシアヌレート;カプロラクトン変性トリス(メタクリロキシエチル)イソシアヌレート;アルキル変性ジペンタエリスリトールのポリアクリレート又はポリメタクリレート;カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールのポリアクリレート又はポリメタクリレート;ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジアクリレート又はジメタクリレート;カプロラクトン変性ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート;エチレンオキサイド変性リン酸アクリレート又はジメタクリレート;エチレンオキサイド変性アルキル化リン酸(メタ)アクリレート;ネオペンチルグルコール、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトールのオリゴ(メタ)アクリレート等が含まれる。   Examples of compounds having two or more (meth) acryloyl groups in one molecule include di (meth) acrylates such as polyethylene glycol, propylene glycol, and polypropylene glycol; di (meth) tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate Acrylate; Di (meth) acrylate of diol obtained by adding 4 mol or more of ethylene oxide or propylene oxide to 1 mol of neopentyl glycol; Diol obtained by adding 2 mol of ethylene oxide or propylene oxide to 1 mol of bisphenol A Di (meth) acrylate of triol obtained by adding 3 mol or more of ethylene oxide or propylene oxide to 1 mol of trimethylolpropane; diol or tri (meth) acrylate of triol; Di (meth) acrylate of a diol obtained by adding 4 mol or more of ethylene oxide or propylene oxide to tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate tri (meth) acrylate; trimethylolpropane tri (meth) acrylate, or Pentaerythritol tri (meth) acrylate or oligomer thereof; poly (meth) acrylate of dipentaerythritol; tris (acryloxyethyl) isocyanurate; caprolactone-modified tris (acryloxyethyl) isocyanurate; caprolactone-modified tris (methacryloxyethyl) ) Isocyanurate; polyacrylate or polymethacrylate of alkyl-modified dipentaerythritol; polyacrylate of caprolactone-modified dipentaerythritol Hydroxypivalate neopentyl glycol diacrylate or dimethacrylate; caprolactone-modified hydroxypivalate neopentyl glycol di (meth) acrylate; ethylene oxide-modified phosphate acrylate or dimethacrylate; ethylene oxide-modified alkylated phosphate (meta ) Acrylate; neopentyl glycol, trimethylolpropane, pentaerythritol oligo (meth) acrylate and the like.

硬化性化合物Aは、分子内にエポキシ基をさらに有してもよい。1分子あたりのエポキシ基の数は1又は2以上である。硬化性化合物Aが分子内に(メタ)アクリロイル基だけでなくエポキシ基をさらに有していれば、それを含む光硬化性樹脂組成物に光硬化性と熱硬化性とを付与しうる。それにより、硬化物の硬化性を高めることができる。   The curable compound A may further have an epoxy group in the molecule. The number of epoxy groups per molecule is 1 or 2 or more. If the curable compound A further has not only a (meth) acryloyl group but also an epoxy group in the molecule, the photocurable resin composition containing it can be imparted with photocurability and thermosetting properties. Thereby, the sclerosis | hardenability of hardened | cured material can be improved.

分子内に(メタ)アクリロイル基とエポキシ基とを有する化合物は、例えばエポキシ化合物と(メタ)アクリル酸とを塩基性触媒の存在下で反応させて得られる(メタ)アクリル酸グリシジルエステルでありうる。   The compound having a (meth) acryloyl group and an epoxy group in the molecule can be, for example, a (meth) acrylic acid glycidyl ester obtained by reacting an epoxy compound and (meth) acrylic acid in the presence of a basic catalyst. .

反応させるエポキシ化合物は、分子内に2以上のエポキシ基を有する多官能のエポキシ化合物であればよく、架橋密度が高まりすぎて光硬化性樹脂組成物の硬化物の接着性が低下するのを抑制する観点では、2官能のエポキシ化合物が好ましい。2官能のエポキシ化合物の例には、ビスフェノール型エポキシ化合物(ビスフェノールA型、ビスフェノールF型、2,2’−ジアリルビスフェノールA型、ビスフェノールAD型、及び水添ビスフェノール型等)、ビフェニル型エポキシ化合物、及びナフタレン型エポキシ化合物が含まれる。中でも、塗布性が良好である観点から、ビスフェノールA型及びビスフェノールF型のビスフェノール型エポキシ化合物が好ましい。ビスフェノール型エポキシ化合物は、ビフェニルエーテル型エポキシ化合物と比べて塗布性に優れる等の利点がある。   The epoxy compound to be reacted may be a polyfunctional epoxy compound having two or more epoxy groups in the molecule, and suppresses the decrease in the adhesiveness of the cured product of the photocurable resin composition due to excessive increase in the crosslinking density. In view of this, a bifunctional epoxy compound is preferable. Examples of bifunctional epoxy compounds include bisphenol type epoxy compounds (bisphenol A type, bisphenol F type, 2,2′-diallyl bisphenol A type, bisphenol AD type, hydrogenated bisphenol type, etc.), biphenyl type epoxy compounds, And naphthalene type epoxy compounds. Of these, bisphenol A type and bisphenol F type bisphenol type epoxy compounds are preferred from the viewpoint of good coating properties. The bisphenol type epoxy compound has advantages such as excellent coating properties as compared with the biphenyl ether type epoxy compound.

分子内に(メタ)アクリロイル基とエポキシ基とを有する化合物は、一種類であってもよいし、二種類以上の組み合わせであってもよい。   The compound having a (meth) acryloyl group and an epoxy group in the molecule may be one kind or a combination of two or more kinds.

分子内に(メタ)アクリロイル基を有し、エポキシ基を有しない化合物A1と、分子内に(メタ)アクリロイル基とエポキシ基とを有する化合物A2とを組み合わせてもよい。それにより、光硬化性樹脂組成物が、熱硬化性化合物Cとしてエポキシ化合物をさらに含む場合に、当該エポキシ化合物と、分子内に(メタ)アクリロイル基を有し、エポキシ基を有しない化合物A1との相溶性を高め得る。また、光硬化性樹脂組成物が、適度な親水性を有する化合物Bを含むので、化合物A2よりも疎水性を示す化合物A1を含んでいても、光硬化性樹脂組成物の、表示素子、特に液晶への溶出を抑制し得る。化合物A2と化合物A1との含有質量比は、例えばA2/A1=1/0.4〜1/0.6とし得る。   You may combine the compound A1 which has a (meth) acryloyl group in a molecule | numerator, and does not have an epoxy group, and the compound A2 which has a (meth) acryloyl group and an epoxy group in a molecule | numerator. Thereby, when the photocurable resin composition further contains an epoxy compound as the thermosetting compound C, the epoxy compound, and a compound A1 having a (meth) acryloyl group in the molecule and not having an epoxy group, Can improve the compatibility. Moreover, since the photocurable resin composition contains the compound B having moderate hydrophilicity, even if the photocurable resin composition contains the compound A1 that is more hydrophobic than the compound A2, the display element of the photocurable resin composition, in particular, Elution to the liquid crystal can be suppressed. The content mass ratio between the compound A2 and the compound A1 can be, for example, A2 / A1 = 1 / 0.4 to 1 / 0.6.

分子内に(メタ)アクリロイル基とエポキシ基とを有する化合物A2の含有量は、特に制限されないが、例えば硬化性化合物Aに対して30質量%以上でありうる。   The content of the compound A2 having a (meth) acryloyl group and an epoxy group in the molecule is not particularly limited, but may be, for example, 30% by mass or more with respect to the curable compound A.

硬化性化合物Aの重量平均分子量は、310〜1000程度であることが好ましい。硬化性化合物Aの重量平均分子量は、例えばゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)によりポリスチレン換算にて測定することができる。   The weight average molecular weight of the curable compound A is preferably about 310 to 1,000. The weight average molecular weight of the curable compound A can be measured in terms of polystyrene by, for example, gel permeation chromatography (GPC).

硬化性化合物Aの含有量は、光硬化性樹脂組成物に対して40〜80質量%であることが好ましく、50〜75質量%であることがより好ましい。   The content of the curable compound A is preferably 40 to 80% by mass and more preferably 50 to 75% by mass with respect to the photocurable resin composition.

1−2.化合物B
本発明の光硬化性樹脂組成物に含まれる化合物Bは、分子内にアントラキノン骨格又はチオキサントン骨格と、NHCO基とを有する。
1-2. Compound B
Compound B contained in the photocurable resin composition of the present invention has an anthraquinone skeleton or thioxanthone skeleton and an NHCO group in the molecule.

化合物Bに含まれるアントラキノン骨格又はチオキサントン骨格は、可視光領域の光を良好に吸収して励起し、硬化性化合物Aからの水素引き抜き反応を生じうる。化合物Bに含まれるNHCO基は、適度な親水性を示すことから、化合物Bの液晶材料への溶出を好ましく抑制できる。従って、化合物Bは、表示素子シール剤、特に液晶シール剤として用いられる光硬化性樹脂組成物の光重合開始剤として好ましく機能しうる。   The anthraquinone skeleton or thioxanthone skeleton contained in Compound B can absorb and excite light in the visible light region, and can cause a hydrogen abstraction reaction from the curable compound A. Since the NHCO group contained in Compound B exhibits moderate hydrophilicity, the elution of Compound B into the liquid crystal material can be preferably suppressed. Therefore, the compound B can preferably function as a photopolymerization initiator for a photocurable resin composition used as a display element sealant, particularly a liquid crystal sealant.

1分子あたりのアントラキノン骨格又はチオキサントン骨格の数は、1又は2以上である。化合物Bの含有量が少なくても、可視光領域の光に対する十分な硬化性を得る観点では、1分子あたりのアントラキノン骨格又はチオキサントン骨格の数は、2以上であることが好ましい。   The number of anthraquinone skeletons or thioxanthone skeletons per molecule is 1 or 2 or more. Even if the content of Compound B is small, the number of anthraquinone skeletons or thioxanthone skeletons per molecule is preferably 2 or more from the viewpoint of obtaining sufficient curability for light in the visible light region.

1分子あたりのNHCO基の数は、1又は2以上である。化合物Bの液晶材料への溶出を高度に抑制する観点では、1分子あたりのNHCO基の数は、2以上であることが好ましく、3以上であることがより好ましい。化合物Bは、1分子あたりのNHCO基の数を多くしやすい点から、ビューレット骨格(−NHCO(N−)CONH−)又はアロファネート骨格(−NHCO(N−)COO−)を有することが好ましい。   The number of NHCO groups per molecule is 1 or 2 or more. From the viewpoint of highly suppressing the elution of Compound B into the liquid crystal material, the number of NHCO groups per molecule is preferably 2 or more, and more preferably 3 or more. Compound B preferably has a burette skeleton (—NHCO (N—) CONH—) or an allophanate skeleton (—NHCO (N—) COO—) from the viewpoint of easily increasing the number of NHCO groups per molecule. .

化合物Bは、分子内にエチレン性不飽和二重結合をさらに有してもよい。化合物Bが、分子内にエチレン性不飽和二重結合をさらに有していると、例えば硬化時に化合物Bと硬化性化合物Aとが重合反応し、化合物Bの液晶材料への溶出がより抑制されやすい。   Compound B may further have an ethylenically unsaturated double bond in the molecule. When compound B further has an ethylenically unsaturated double bond in the molecule, for example, compound B and curable compound A undergo a polymerization reaction during curing, and elution of compound B into the liquid crystal material is further suppressed. Cheap.

化合物Bは、「分子内にヒドロキシ基を有するアントラキノン化合物b1又は分子内にヒドロキシ基を有するチオキサントン化合物b2」と「分子内にイソシアネート基を有する化合物b3」とを反応させて得られる。   Compound B is obtained by reacting “anthraquinone compound b1 having a hydroxy group in the molecule or thioxanthone compound b2 having a hydroxy group in the molecule” with “compound b3 having an isocyanate group in the molecule”.

「分子内にヒドロキシ基を有するアントラキノン化合物b1」は、下記式(1)で表される。「分子内にヒドロキシ基を有するチオキサントン化合物b2」は、下記式(2)で表される。

Figure 0006127223
“Anthraquinone compound b1 having a hydroxy group in the molecule” is represented by the following formula (1). The “thioxanthone compound b2 having a hydroxy group in the molecule” is represented by the following formula (2).
Figure 0006127223

式(1)及び(2)のLは、それぞれ独立に単結合又は2価の有機基である。2価の有機基は、炭素数1〜10のアルキレン基(例えばメチレン基、エチレン基等)、炭素数1〜10のアルキレンオキシ基(例えばメチレンオキシ基、エチレンオキシ基等)、炭素数1〜10のアルキレンチオ基(例えばメチレンチオ基(−S−CH−)、エチレンチオ基(−S−CHCH−)等)、炭素数6〜10のアリーレン基(例えばフェニレン基)、炭素数6〜10のアリーレンオキシ基(例えばフェニレンオキシ基)又は炭素数6〜10のアリーレンチオ基(例えばフェニレンチオ基)でありうる。中でも、アントラキノン骨格やチオキサントン骨格にチオエーテル基(−S−)が結合していると、長波長側の光を吸収しやすいことから、炭素数1〜10のアルキレンチオ基又は炭素数6〜10のアリーレンチオ基が好ましい。L 1 in the formulas (1) and (2) each independently represents a single bond or a divalent organic group. The divalent organic group includes an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms (for example, a methylene group and an ethylene group), an alkyleneoxy group having 1 to 10 carbon atoms (for example, a methyleneoxy group and an ethyleneoxy group), 10 alkylenethio groups (for example, methylenethio group (—S—CH 2 —), ethylenethio group (—S—CH 2 CH 2 —), etc.), C 6-10 arylene groups (for example, phenylene group), C 6 -10 aryleneoxy group (for example, phenyleneoxy group) or C6-C10 arylenethio group (for example, phenylenethio group). Among them, when a thioether group (-S-) is bonded to an anthraquinone skeleton or a thioxanthone skeleton, it is easy to absorb light on the long wavelength side, so that an alkylenethio group having 1 to 10 carbon atoms or 6 to 10 carbon atoms is used. An arylenethio group is preferred.

式(1)及び(2)のmは、1以上の整数であり、好ましくは1である。−(L−OH)は、アントラキノン骨格又はチオキサントン骨格の1位〜8位の炭素原子のいずれと結合していてもよいが、2位又は7位の炭素原子と結合していることが好ましい。M in the formulas (1) and (2) is an integer of 1 or more, preferably 1. -(L 1 -OH) may be bonded to any one of the 1st to 8th carbon atoms of the anthraquinone skeleton or thioxanthone skeleton, but is preferably bonded to the 2nd or 7th carbon atom. .

式(1)で表される化合物は、下記式(1’)で表されることが好ましく;式(2)で表される化合物は、下記式(2’)で表されることが好ましい。

Figure 0006127223
The compound represented by the formula (1) is preferably represented by the following formula (1 ′); the compound represented by the formula (2) is preferably represented by the following formula (2 ′).
Figure 0006127223

式(1’)及び(2’)の−L−OHは、アントラキノン骨格又はチオキサントン骨格の1位〜8位の炭素原子のいずれと結合していてもよいが、2位又は7位の炭素原子と結合していることが好ましい。-L 1 -OH in the formulas (1 ′) and (2 ′) may be bonded to any one of the 1st to 8th carbon atoms of the anthraquinone skeleton or thioxanthone skeleton, but the 2nd or 7th carbon. It is preferably bonded to an atom.

「分子内にイソシアネート基を有する化合物b3」は、分子内に1又は2以上のイソシアネート基を有する化合物である。得られる化合物BのNHCO基当量を一定以下に調整しやすい点では、分子内に2以上のイソシアネート基を有する化合物が好ましい。1分子あたりのイソシアネート基の数は、特に制限されないが、化合物BのNHCO基当量を一定以下にしやすい点から、2〜4であることが好ましく、2〜3であることがより好ましい。   The “compound b3 having an isocyanate group in the molecule” is a compound having one or more isocyanate groups in the molecule. A compound having two or more isocyanate groups in the molecule is preferable in that the NHCO group equivalent of the obtained compound B can be easily adjusted to a certain value or less. The number of isocyanate groups per molecule is not particularly limited, but is preferably 2 to 4 and more preferably 2 to 3 from the viewpoint that the NHCO group equivalent of Compound B can be easily kept below a certain level.

分子内に2以上のイソシアネート基を有する化合物は、分子内にNHCO基を有することが好ましく、ビューレット骨格(−NHCO(N−)CONH−)、アロファネート骨格(−NHCO(N−)COO−)又はウレタン骨格を有することがより好ましく、ビューレット骨格又はアロファネート骨格を有することが更に好ましい。即ち、分子内に2以上のイソシアネート基を有する化合物は、例えば下記式(3a)又は(3b)で表されうる。

Figure 0006127223
The compound having two or more isocyanate groups in the molecule preferably has an NHCO group in the molecule, and a burette skeleton (—NHCO (N—) CONH—), an allophanate skeleton (—NHCO (N—) COO—) Alternatively, it preferably has a urethane skeleton, and more preferably has a burette skeleton or an allophanate skeleton. That is, a compound having two or more isocyanate groups in the molecule can be represented by, for example, the following formula (3a) or (3b).
Figure 0006127223

式(3a)のR及び式(3b)のRは、それぞれNHCO基を有してもよい、直鎖状、分岐状又は環状の飽和脂肪族炭化水素基又は芳香族炭化水素基である。R及びRに含まれるNHCO基の数は、0又は1以上であり、2以上であることが好ましい。R及びRは、下記式(α)、(β)又は(γ)で表される構造を含むことが好ましく;下記式(α)又は式(β)で表される構造を有することがより好ましい。

Figure 0006127223
(式(γ)のRは、後述するポリオールに由来する飽和脂肪族炭化水素基又は芳香族炭化水素基を示し、nは1以上の整数である)R 1 in formula (3a) and R 2 in formula (3b) are each a linear, branched or cyclic saturated aliphatic hydrocarbon group or aromatic hydrocarbon group which may have an NHCO group. . The number of NHCO groups contained in R 1 and R 2 is 0 or 1 or more, and preferably 2 or more. R 1 and R 2 preferably include a structure represented by the following formula (α), (β) or (γ); and may have a structure represented by the following formula (α) or formula (β). More preferred.
Figure 0006127223
(R 3 in the formula (γ) represents a saturated aliphatic hydrocarbon group or an aromatic hydrocarbon group derived from a polyol described later, and n is an integer of 1 or more)

分子内に2以上のイソシアネート基を有する化合物は、例えばジイソシアネートから得られるビューレット体又はアロファネート体、或いはポリイソシアネートとポリオールとを反応させて得られ、且つ分子末端にイソシアネート基を有するウレタンプレポリマーでありうる。   The compound having two or more isocyanate groups in the molecule is, for example, a burette body or allophanate body obtained from diisocyanate, or a urethane prepolymer obtained by reacting polyisocyanate and polyol, and having an isocyanate group at the molecular end. It is possible.

ビューレット体又はアロファネート体の原料となるジイソシアネートの例には、テトラメチレンジイソシアネート、1,6−ヘキサメチレンジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート等の炭素数1〜10の脂肪族ジイソシアネート;シクロヘキシレンジイソシアネート、水素添加キシリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート等の炭素数6〜15の脂環族ジイソシアネート;及びトリレンジイソシアネート、フェニレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、テトラメチルキシリレンジイソシアネート、ナフタレンジイソシアネート等の炭素数6〜15の芳香族ジイソシアネートが含まれる。   Examples of diisocyanates used as raw materials for burettes or allophanates include aliphatic diisocyanates having 1 to 10 carbon atoms such as tetramethylene diisocyanate, 1,6-hexamethylene diisocyanate, and trimethylhexamethylene diisocyanate; cyclohexylene diisocyanate, hydrogenated C6-C15 alicyclic diisocyanate such as xylylene diisocyanate and isophorone diisocyanate; and C6-C15 such as tolylene diisocyanate, phenylene diisocyanate, diphenylmethane diisocyanate, xylylene diisocyanate, tetramethylxylylene diisocyanate, naphthalene diisocyanate Aromatic diisocyanates are included.

ウレタンプレポリマーの原料となるポリイソシアネートは、多官能の脂肪族、脂環族又は芳香族のイソシアネートであり、その例には、前述のジイソシアネートが含まれる。ウレタンプレポリマーの原料となるポリオールの例には、エチレングリコール、1,3−プロパンジオール、ポリエチレングリコール、ジプロピレングリコール、ペンタエリスリトール等の脂肪族ポリオール;1,4−シクロヘキサンジメタノール、1,4−シクロヘキサンジオール、水添ビスフェノールA、水添ビスフェノールF等の脂環族ポリオール;フェノールA、ビスフェノールF等の芳香族ポリオール等が含まれる。   The polyisocyanate used as the raw material of the urethane prepolymer is a polyfunctional aliphatic, alicyclic or aromatic isocyanate, and examples thereof include the above-described diisocyanates. Examples of the polyol used as a raw material for the urethane prepolymer include aliphatic polyols such as ethylene glycol, 1,3-propanediol, polyethylene glycol, dipropylene glycol, and pentaerythritol; 1,4-cyclohexanedimethanol, 1,4- Examples include alicyclic polyols such as cyclohexanediol, hydrogenated bisphenol A, and hydrogenated bisphenol F; aromatic polyols such as phenol A and bisphenol F, and the like.

化合物Bは、「式(1’)又は式(2’)で表される化合物」と「分子内に2以上のイソシアネート基を有する化合物」とを反応させて得られることが好ましく;「式(1’)又は式(2’)で表される化合物」と「式(3a)又は(3b)で表される化合物(好ましくはR又はRがNHCO基を有するもの)」とを反応させて得られることがより好ましい。Compound B is preferably obtained by reacting “compound represented by formula (1 ′) or formula (2 ′)” with “compound having two or more isocyanate groups in the molecule”; 1 ′) or a compound represented by formula (2 ′) ”and“ a compound represented by formula (3a) or (3b) (preferably R 1 or R 2 has an NHCO group) ” It is more preferable to be obtained.

下記反応スキームは、式(1’)で表される化合物と式(3b)で表される化合物とを反応させて化合物Bを得る例を示す。

Figure 0006127223
The following reaction scheme shows an example in which compound B is obtained by reacting a compound represented by formula (1 ′) with a compound represented by formula (3b).
Figure 0006127223

また、「式(1’)又は式(2’)で表される化合物」と「分子内に2以上のイソシアネート基を有する化合物」との反応に加えて、「ヒドロキシ基含有化合物b4」をさらに反応させてもよい。   In addition to the reaction of “compound represented by formula (1 ′) or formula (2 ′)” and “compound having two or more isocyanate groups in the molecule”, “hydroxy group-containing compound b4” is further added. You may make it react.

「ヒドロキシ基含有化合物b4」は、分子内にヒドロキシ基を有する化合物である。分子内にヒドロキシ基を有する化合物のヒドロキシ基は、「分子内に2以上のイソシアネート基を有する化合物」のイソシアネート基と反応して、―O―CONH―をさらに形成しうる。分子内にヒドロキシ基を有する化合物の例には、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、ペンタノール、ヘキサノール、1-オクタデカノール等の炭素数1〜20のモノアルコールが含まれる。   “Hydroxy group-containing compound b4” is a compound having a hydroxy group in the molecule. The hydroxy group of the compound having a hydroxy group in the molecule can react with the isocyanate group of the “compound having two or more isocyanate groups in the molecule” to further form —O—CONH—. Examples of the compound having a hydroxy group in the molecule include monoalcohols having 1 to 20 carbon atoms such as methanol, ethanol, propanol, butanol, pentanol, hexanol, and 1-octadecanol.

分子内にヒドロキシ基を有する化合物は、エチレン性不飽和二重結合をさらに有してもよい。それにより、化合物Bにエチレン性不飽和二重結合を導入することができる。分子内にエチレン性不飽和二重結合を有するヒドロキシ基含有化合物の例には、4-ヒドロキシブチルアクリレート等のヒドロキシ基で置換された(メタ)アクリレートが含まれる。   The compound having a hydroxy group in the molecule may further have an ethylenically unsaturated double bond. Thereby, an ethylenically unsaturated double bond can be introduced into the compound B. Examples of the hydroxy group-containing compound having an ethylenically unsaturated double bond in the molecule include (meth) acrylate substituted with a hydroxy group such as 4-hydroxybutyl acrylate.

中でも、化合物Bは、下記式(4)又は(5)で表されることが好ましい。

Figure 0006127223
Especially, it is preferable that the compound B is represented by following formula (4) or (5).
Figure 0006127223

式(4)及び(5)のLは、式(1)及び式(2)のLとそれぞれ同義である。 L 1 of formula (4) and (5) are the same meaning as L 1 in formula (1) and (2).

式(4)及び(5)のXは、分子内に少なくともp個のイソシアネート基を有する化合物から誘導される有機基を表す。分子内に少なくともp個のイソシアネート基を有する化合物から誘導される基は、前述の分子内に2以上のイソシアネート基を有する化合物から誘導される基であることが好ましく、式(3a)で表される化合物から誘導される2価の基又は式(3b)で表される化合物から誘導される3価の基であることがより好ましい。   X in the formulas (4) and (5) represents an organic group derived from a compound having at least p isocyanate groups in the molecule. The group derived from a compound having at least p isocyanate groups in the molecule is preferably a group derived from a compound having two or more isocyanate groups in the molecule, and is represented by the formula (3a). More preferably, it is a divalent group derived from the compound represented by formula (3b) or a trivalent group derived from the compound represented by formula (3b).

式(4)及び(5)のpは、1〜5の整数を表し、好ましくは2又は3である。   P of Formula (4) and (5) represents the integer of 1-5, Preferably it is 2 or 3.

−L−O−Xで表される基は、アントラキノン骨格又はチオキサントン骨格の1位〜8位の炭素原子のいずれと結合していてもよいが、2位又は7位の炭素原子と結合していることが好ましい。The group represented by —L 1 —O—X may be bonded to any one of the 1st to 8th carbon atoms of the anthraquinone skeleton or thioxanthone skeleton, but is bonded to the 2nd or 7th carbon atom. It is preferable.

化合物Bの具体例には、2-(2-ヒドロキシエチルチオ)-9,10-アントラキノンとヘキサメチレンジイソシアネートビウレット変性体とを反応させて得られる化合物、2-ヒドロキシメチルアントラキノンとヘキサメチレンジイソシアネートビウレット変性体とを反応させて得られる化合物、2-(2-ヒドロキシエチルチオ)-9,10-アントラキノンとヘキサメチレンジイソシアネートアロファネート変性体とを反応させて得られる化合物、2-ヒドロキシチオキサントンとヘキサメチレンジイソシアネートビウレット変性体とを反応させて得られる化合物、2-ヒドロキシチオキサントンとヘキサメチレンジイソシアネートアロファネート変性体とを反応させて得られる化合物、2-(2-ヒドロキシエチルチオ)-チオキサンテン−9−オンとヘキサメチレンジイソシアネートビウレット変性体とを反応させて得られる化合物、2-(2-ヒドロキシエチルチオ)-チオキサンテン−9−オンとヘキサメチレンジイソシアネートアロファネート変性体とを反応させて得られる化合物、及びこれらの化合物にオクタデカノール又は4−ヒドロキシブチルアクリレートをさらに反応させて得られる化合物等が含まれる。   Specific examples of compound B include a compound obtained by reacting 2- (2-hydroxyethylthio) -9,10-anthraquinone with a modified product of hexamethylene diisocyanate biuret, 2-hydroxymethylanthraquinone and modified with hexamethylene diisocyanate biuret. A compound obtained by reacting with a compound, a compound obtained by reacting 2- (2-hydroxyethylthio) -9,10-anthraquinone with a modified product of hexamethylene diisocyanate allophanate, 2-hydroxythioxanthone and hexamethylene diisocyanate biuret A compound obtained by reacting a modified product, a compound obtained by reacting 2-hydroxythioxanthone and a hexamethylene diisocyanate allophanate modified product, 2- (2-hydroxyethylthio) -thioxanthen-9-one and Compounds obtained by reacting xamethylene diisocyanate biuret modified products, compounds obtained by reacting 2- (2-hydroxyethylthio) -thioxanthen-9-one with hexamethylene diisocyanate allophanate modified products, and these A compound obtained by further reacting a compound with octadecanol or 4-hydroxybutyl acrylate is included.

化合物Bによる液晶材料の汚染を抑制するためには、化合物Bの分子量を大きくすることも考えられる。しかしながら、化合物Bの分子量を大きくするだけでは、光吸収に寄与するアントラキノン骨格やチオキサントン骨格の1分子あたりの含有割合が相対的に少なくなる場合がある。その結果、一定以上の光吸収性を得るためには、化合物Bの含有量を多くすることが必要となり、かえって液晶材料の汚染を生じる場合がある。従って、本発明では、1分子あたりに含まれるNHCO基の割合を一定以上にすること(NHCO基当量を一定以下とすること)が好ましい。   In order to suppress the contamination of the liquid crystal material by the compound B, it is conceivable to increase the molecular weight of the compound B. However, merely increasing the molecular weight of Compound B may relatively reduce the content ratio per molecule of anthraquinone skeleton or thioxanthone skeleton that contributes to light absorption. As a result, it is necessary to increase the content of compound B in order to obtain a certain level of light absorptivity, which may cause contamination of the liquid crystal material. Therefore, in the present invention, it is preferable to set the ratio of NHCO groups contained in one molecule to a certain value or more (make the NHCO group equivalent to a certain value or less).

即ち、化合物BのNHCO基当量は、350g/eq以下であることが好ましい。化合物BのNHCO基当量が350g/eq以下であると、化合物Bに含まれるNHCO基の数が比較的多いため、親水性が適度に高められ、光硬化性樹脂組成物を液晶シール剤として用いた際に化合物Bの液晶材料への溶出を抑制できる。化合物BのNHCO基当量は、200〜350g/eqであることがより好ましく、230〜330g/eqであることがさらに好ましい。化合物BのNHCO基当量が200g/eq以上であると、光硬化性樹脂組成物の硬化物の耐湿性が損なわれにくい。化合物BのNHCO基当量は、下記式(I)で定義される。
NHCO基当量(g/eq)=分子量/1分子に含まれるNHCO基の数・・・式(I)
That is, the NHCO group equivalent of Compound B is preferably 350 g / eq or less. If the NHCO group equivalent of Compound B is 350 g / eq or less, the number of NHCO groups contained in Compound B is relatively large, so that the hydrophilicity is moderately increased and the photocurable resin composition is used as a liquid crystal sealant. Elution of the compound B into the liquid crystal material can be suppressed. The NHCO group equivalent of Compound B is more preferably 200 to 350 g / eq, and further preferably 230 to 330 g / eq. When the NHCO group equivalent of Compound B is 200 g / eq or more, the moisture resistance of the cured product of the photocurable resin composition is hardly impaired. The NHCO group equivalent of compound B is defined by the following formula (I).
NHCO group equivalent (g / eq) = molecular weight / number of NHCO groups contained in one molecule: Formula (I)

化合物BのNHCO基当量を上記範囲とするためには、前述の通り、「式(1’)又は式(2’)で表される化合物」と「分子内に2以上のイソシアネート基を有する化合物」とを反応させることが好ましく;「式(1’)又は式(2’)で表される化合物」と「式(3a)又は(3b)で表される化合物(好ましくはR又はRがNHCO基を有するもの)」とを反応させることが好ましい。In order to make the NHCO group equivalent of the compound B within the above range, as described above, “the compound represented by the formula (1 ′) or the formula (2 ′)” and “the compound having two or more isocyanate groups in the molecule” It is preferable to react; “compound represented by Formula (1 ′) or Formula (2 ′)” and “compound represented by Formula (3a) or (3b) (preferably R 1 or R 2 It is preferable to react with those having an NHCO group.

化合物Bの分子量は、例えば500以上5000以下であることが好ましい。化合物Bの「分子量」は、下記条件で高速液体クロマトグラフィー(HPLC:High Performance Liquid Chromatography)を行った際に、メインピークが検出される場合は該メインピークの分子構造の「相対分子質量」とし;メインピークが検出されない場合は「重量平均分子量」とする。   The molecular weight of Compound B is preferably 500 or more and 5000 or less, for example. The “molecular weight” of compound B is the “relative molecular mass” of the molecular structure of the main peak when a main peak is detected when high performance liquid chromatography (HPLC) is performed under the following conditions. When the main peak is not detected, the weight average molecular weight is assumed.

具体的には、化合物BをTHF(テトラヒドロフラン)に溶解して試料液を調製し、下記測定条件で高速液体クロマトグラフィー(HPLC)測定を行う。そして、検出波長400nmで検出されたピークにおいて、メインピーク(主検出ピーク)の有無を確認する。「メインピーク(主検出ピーク)」とは、検出波長400nmで検出された全ピークのうち、最も強度が大きいピーク(ピークの高さが最も高いピーク)をいう。
(HPLC測定条件)
装置:waters製 Acquity TM UPLC H-Class system
カラム:Acquity UPLC BEH C18、2.1mmID×100mm 粒子径:1.7μm
移動相:A:アセトニトリル
B:5mM酢酸アンモニウム水溶液
A/B = 60/40(0〜4分)
95/5(4〜9分)
95/5(9〜10分)
流速:0.4mL/分
PDA検出器:測定波長:190〜500nm、抽出波長:400nm
Specifically, Compound B is dissolved in THF (tetrahydrofuran) to prepare a sample solution, and high performance liquid chromatography (HPLC) measurement is performed under the following measurement conditions. And the presence or absence of the main peak (main detection peak) is confirmed in the peak detected with the detection wavelength of 400 nm. “Main peak (main detection peak)” refers to a peak having the highest intensity (peak having the highest peak height) among all peaks detected at a detection wavelength of 400 nm.
(HPLC measurement conditions)
Equipment: Acquity TM UPLC H-Class system made by waters
Column: Acquity UPLC BEH C18, 2.1 mm ID × 100 mm Particle size: 1.7 μm
Mobile phase: A: Acetonitrile
B: 5 mM ammonium acetate aqueous solution
A / B = 60/40 (0-4 minutes)
95/5 (4-9 minutes)
95/5 (9-10 minutes)
Flow rate: 0.4mL / min
PDA detector: Measurement wavelength: 190-500nm, Extraction wavelength: 400nm

次いで、検出されたメインピークの、ピーク頂点に対応する相対分子質量を、液体クロマトグラフィー質量分析(LC/MS:Liquid Chromatography Mass Spectrometry)により測定する。
(LC/MS測定条件)
装置:waters製 Acquity TM H-Class system / SQ Detector
カラム:Acquity UPLC BEH C18、2.1mmID×100mm 粒子径:1.7μm
移動相:A:アセトニトリル
B:5mM酢酸アンモニウム水溶液
A/B = 60/40(0〜4分)
95/5(4〜9分)
95/5(9〜10分)
流速:0.4mL/分
イオン化:ESI(エレクトロスプレーイオン化)、正・負イオン測定
PDA検出器:測定波長:190〜500nm、抽出波長:400nm
Next, the relative molecular mass corresponding to the peak apex of the detected main peak is measured by liquid chromatography mass spectrometry (LC / MS).
(LC / MS measurement conditions)
Equipment: Acquity TM H-Class system / SQ Detector made by waters
Column: Acquity UPLC BEH C18, 2.1mmID × 100mm Particle size: 1.7μm
Mobile phase: A: Acetonitrile
B: 5 mM ammonium acetate aqueous solution
A / B = 60/40 (0-4 minutes)
95/5 (4-9 minutes)
95/5 (9-10 minutes)
Flow rate: 0.4 mL / min Ionization: ESI (electrospray ionization), positive / negative ion measurement
PDA detector: Measurement wavelength: 190-500nm, Extraction wavelength: 400nm

化合物Bの重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)法により標準ポリスチレン換算にて測定することができる。   The weight average molecular weight of compound B can be measured in terms of standard polystyrene by a gel permeation chromatography (GPC) method.

化合物Bの分子量が500以上であると、液晶に溶解しにくいことから、液晶汚染を低減しやすい。化合物Bの分子量が5000以下であると、硬化性化合物Aとの相溶性が損なわれにくい。化合物Bの分子量は、500以上3000以下であることがより好ましく、700以上1500以下であることがさらに好ましい。   If the molecular weight of compound B is 500 or more, it is difficult to dissolve in liquid crystal, and thus liquid crystal contamination can be easily reduced. When the molecular weight of the compound B is 5000 or less, the compatibility with the curable compound A is hardly impaired. The molecular weight of Compound B is more preferably 500 or more and 3000 or less, and further preferably 700 or more and 1500 or less.

化合物BのNHCO基当量は、高速液体クロマトグラフィー(HPLC)及び液体クロマトグラフィー質量分析(LC/MS)と、NMR測定又はIR測定とを組み合わせることによって確認することができる。具体的には、以下の手順で行うことができる。
1)光硬化性樹脂組成物をテトラヒドロフラン(THF)に溶解させた溶液を、遠心分離機により遠心分離し、シリカ粒子や熱可塑性樹脂粒子等の粒子成分を沈降させる。得られた溶液をフィルターで濾過して粒子成分を除去し、試料液を得る。
2)前記1)で得られた試料液について、高速液体クロマトグラフフィー(HPLC)測定を行う。HPLCの測定方法・条件は、化合物Bの分子量の測定におけるHPLCの測定方法・条件と同様である。
次いで、HPLC測定において、アントラキノン骨格又はチオキサントン骨格に特徴的な波長400nmの検出器で検出されたメインピークの、ピーク頂点に対応する相対分子質量と組成式を、液体クロマトグラフィー質量分析(LC/MS)により測定する。LC/MSの測定方法・条件は、化合物Bの分子量の測定におけるLC/MSの測定方法・条件と同様である。
3)一方、前記1)で得られた試料液について、NMR測定又はIR測定を行う。それにより、アントラキノン骨格又はチオキサントン骨格やNHCO基に特徴的なスペクトルの有無を確認し、化学構造を特定する。
4)前記2)で得られた分子量と前記3)で得られたNHCO基の数とを、前述の式(I)に当てはめて、NHCO基当量(g/eq)を求める。
The NHCO group equivalent of compound B can be confirmed by combining high performance liquid chromatography (HPLC) and liquid chromatography mass spectrometry (LC / MS) with NMR measurement or IR measurement. Specifically, the following procedure can be used.
1) A solution in which a photocurable resin composition is dissolved in tetrahydrofuran (THF) is centrifuged by a centrifugal separator to precipitate particle components such as silica particles and thermoplastic resin particles. The obtained solution is filtered through a filter to remove the particle component, thereby obtaining a sample solution.
2) The sample solution obtained in 1) is subjected to high performance liquid chromatography (HPLC) measurement. The HPLC measurement methods and conditions are the same as the HPLC measurement methods and conditions in the measurement of the molecular weight of Compound B.
Next, in HPLC measurement, the relative molecular mass and the composition formula of the main peak detected by a detector having a wavelength of 400 nm characteristic of the anthraquinone skeleton or thioxanthone skeleton are analyzed by liquid chromatography mass spectrometry (LC / MS ) To measure. The LC / MS measurement method and conditions are the same as the LC / MS measurement method and conditions in the measurement of the molecular weight of Compound B.
3) On the other hand, NMR measurement or IR measurement is performed on the sample solution obtained in 1). Thereby, the presence or absence of a spectrum characteristic of the anthraquinone skeleton or thioxanthone skeleton or NHCO group is confirmed, and the chemical structure is specified.
4) The molecular weight obtained in 2) above and the number of NHCO groups obtained in 3) above are applied to the above formula (I) to obtain the NHCO group equivalent (g / eq).

化合物Bは、一種類であってもよいし、二種類以上の組み合わせであってもよい。例えば、分子内にアントラキノン骨格を有する化合物と、分子内にチオキサントン骨格を有する化合物とを組み合わせてもよい。   Compound B may be one type or a combination of two or more types. For example, a compound having an anthraquinone skeleton in the molecule and a compound having a thioxanthone skeleton in the molecule may be combined.

化合物Bの含有量は、硬化性化合物Aに対して0.01〜10質量%であることが好ましい。化合物Bの含有量が0.01質量%以上であると、十分な光硬化性が得られやすい。化合物Bの含有量が10質量%以下であると、液晶材料への溶出が生じにくく、十分な光硬化性が得られやすい。   The content of compound B is preferably 0.01 to 10% by mass with respect to curable compound A. If the content of Compound B is 0.01% by mass or more, sufficient photocurability is easily obtained. When the content of Compound B is 10% by mass or less, elution into the liquid crystal material is unlikely to occur, and sufficient photocurability is easily obtained.

特に、化合物Bが、分子内にアントラキノン骨格を有する化合物である場合、化合物Bの含有量は、硬化性化合物Aに対して0.1〜5質量%であることがより好ましく、0.1〜3質量%であることがさらに好ましく、0.1質量%以上2質量%未満であることが特に好ましい。
また、化合物Bが、分子内にチオキサントン骨格を有する化合物である場合、化合物Bの含有量は、硬化性化合物Aに対して0.1〜6質量%であることがより好ましく、0.1質量%以上4質量%未満であることがさらに好ましい。
In particular, when the compound B is a compound having an anthraquinone skeleton in the molecule, the content of the compound B is more preferably 0.1 to 5% by mass with respect to the curable compound A. It is more preferable that it is 3 mass%, and it is especially preferable that it is 0.1 to 2 mass%.
Moreover, when the compound B is a compound having a thioxanthone skeleton in the molecule, the content of the compound B is more preferably 0.1 to 6% by mass with respect to the curable compound A, and 0.1% by mass. % Or more and less than 4% by mass.

1−3.熱硬化性化合物C
熱硬化性化合物Cは、分子内にエポキシ基を有するエポキシ化合物であることが好ましい。但し、熱硬化性化合物Cは、硬化性化合物Aとは異なるものである。熱硬化性化合物Cは、分子内に(メタ)アクリロイル基を有さないエポキシ化合物であることがより好ましい。エポキシ化合物は、モノマー、オリゴマー又はポリマーのいずれであってもよい。エポキシ化合物は、例えば光硬化性樹脂組成物を液晶シール剤として用いた際に、液晶に対する溶解性や拡散性が低く、得られる液晶パネルの表示特性を良好とするだけでなく、硬化物の耐湿性を高めうる。
1-3. Thermosetting compound C
The thermosetting compound C is preferably an epoxy compound having an epoxy group in the molecule. However, the thermosetting compound C is different from the curable compound A. The thermosetting compound C is more preferably an epoxy compound having no (meth) acryloyl group in the molecule. The epoxy compound may be any of a monomer, an oligomer or a polymer. Epoxy compounds, for example, have low solubility and diffusibility in liquid crystal when using a photocurable resin composition as a liquid crystal sealant, and not only improve the display characteristics of the resulting liquid crystal panel, but also the moisture resistance of the cured product. Can improve sex.

エポキシ化合物は、重量平均分子量が500〜10000、好ましくは1000〜5000の芳香族エポキシ化合物でありうる。エポキシ化合物の重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)によりポリスチレン換算にて測定することができる。   The epoxy compound may be an aromatic epoxy compound having a weight average molecular weight of 500 to 10000, preferably 1000 to 5000. The weight average molecular weight of the epoxy compound can be measured in terms of polystyrene by gel permeation chromatography (GPC).

芳香族エポキシ化合物の例には、ビスフェノールA、ビスフェノールS、ビスフェノールF、ビスフェノールAD等で代表される芳香族ジオール類及びそれらをエチレングリコール、プロピレングリコール、アルキレングリコール変性したジオール類と、エピクロルヒドリンとの反応で得られた芳香族多価グリシジルエーテル化合物;フェノール又はクレゾールとホルムアルデヒドとから誘導されたノボラック樹脂、ポリアルケニルフェノールやそのコポリマー等で代表されるポリフェノール類と、エピクロルヒドリンとの反応で得られたノボラック型多価グリシジルエーテル化合物;キシリレンフェノール樹脂のグリシジルエーテル化合物類等が含まれる。 中でも、クレゾールノボラック型エポキシ化合物、フェノールノボラック型エポキシ化合物、ビスフェノールA型エポキシ化合物、ビスフェノールF型エポキシ化合物、トリフェノールメタン型エポキシ化合物、トリフェノールエタン型エポキシ化合物、トリスフェノール型エポキシ化合物、ジシクロペンタジエン型エポキシ化合物、ジフェニルエーテル型エポキシ化合物及びビフェニル型エポキシ化合物が好ましい。エポキシ化合物は、一種類であってもよいし、二種類以上の組み合わせであってもよい。   Examples of aromatic epoxy compounds include the reaction of aromatic diols typified by bisphenol A, bisphenol S, bisphenol F, bisphenol AD, etc., and diols modified with ethylene glycol, propylene glycol, alkylene glycol, and epichlorohydrin. Aromatic polyvalent glycidyl ether compound obtained by the above; novolak type obtained by reaction of novolak resin derived from phenol or cresol and formaldehyde, polyphenols typified by polyalkenylphenol and copolymers thereof, and epichlorohydrin Polyvalent glycidyl ether compounds; xylylene phenol resin glycidyl ether compounds and the like are included. Among them, cresol novolac type epoxy compound, phenol novolac type epoxy compound, bisphenol A type epoxy compound, bisphenol F type epoxy compound, triphenolmethane type epoxy compound, triphenolethane type epoxy compound, trisphenol type epoxy compound, dicyclopentadiene type Epoxy compounds, diphenyl ether type epoxy compounds and biphenyl type epoxy compounds are preferred. The epoxy compound may be one type or a combination of two or more types.

エポキシ化合物は、液状であってもよいし、固形であってもよい。硬化物の耐湿性を高めやすい点では、固形のエポキシ化合物が好ましい。固形のエポキシ化合物の軟化点は、40℃以上150℃以下であることが好ましい。軟化点は、JIS K7234に規定する環球法によって測定することができる。   The epoxy compound may be liquid or solid. A solid epoxy compound is preferable from the viewpoint of easily improving the moisture resistance of the cured product. The softening point of the solid epoxy compound is preferably 40 ° C. or higher and 150 ° C. or lower. The softening point can be measured by the ring and ball method defined in JIS K7234.

熱硬化性化合物Cの含有量は、光硬化性樹脂組成物に対して3〜20質量%であることが好ましい。熱硬化性化合物Cの光硬化性樹脂組成物に対する含有量が3質量%以上であると、光硬化性樹脂組成物の硬化物の耐湿性を良好に高めやすい。熱硬化性化合物Cの光硬化性樹脂組成物に対する含有量が20質量%以下であると、光硬化性樹脂組成物の粘度の過剰な上昇を抑制しうる。熱硬化性化合物Cの含有量は、光硬化性樹脂組成物に対して3〜15質量%であることがより好ましく、4〜15質量%であることがさらに好ましい。   It is preferable that content of the thermosetting compound C is 3-20 mass% with respect to a photocurable resin composition. When the content of the thermosetting compound C with respect to the photocurable resin composition is 3% by mass or more, the moisture resistance of the cured product of the photocurable resin composition can be easily improved. When the content of the thermosetting compound C with respect to the photocurable resin composition is 20% by mass or less, an excessive increase in the viscosity of the photocurable resin composition can be suppressed. As for content of the thermosetting compound C, it is more preferable that it is 3-15 mass% with respect to a photocurable resin composition, and it is further more preferable that it is 4-15 mass%.

熱硬化性化合物Cの含有量は、硬化性化合物Aに対して3.8〜50質量%であることが好ましく、5〜30質量%であることがより好ましい。熱硬化性化合物Cの硬化性化合物Aに対する含有量が5質量%以上であると、硬化物の耐湿性やガラス基板への接着強度をさらに高めやすく、30質量%以下であると、製造時に硬化性化合物Aとの相溶性がさらに良好となりやすい。   It is preferable that content of the thermosetting compound C is 3.8-50 mass% with respect to the curable compound A, and it is more preferable that it is 5-30 mass%. When the content of the thermosetting compound C with respect to the curable compound A is 5% by mass or more, the moisture resistance of the cured product and the adhesive strength to the glass substrate can be further enhanced. The compatibility with the conductive compound A tends to be further improved.

1−4.熱硬化剤D
熱硬化剤Dは、通常の保存条件下(室温、可視光線下等)では熱硬化性化合物Cを硬化させないが、熱を与えられると当該化合物を硬化させる化合物である。熱硬化剤Dを含有する光硬化性樹脂組成物は、保存安定性に優れ、且つ熱硬化性に優れる。熱硬化剤Dは、エポキシ硬化剤であることが好ましい。
1-4. Thermosetting agent D
The thermosetting agent D is a compound that does not cure the thermosetting compound C under normal storage conditions (room temperature, under visible light, etc.), but cures the compound when given heat. The photocurable resin composition containing the thermosetting agent D is excellent in storage stability and excellent in thermosetting. The thermosetting agent D is preferably an epoxy curing agent.

エポキシ硬化剤は、光硬化性樹脂組成物の粘度安定性を高め、且つ硬化物の耐湿性を損なわない観点から、熱硬化温度にもよるが、融点が50℃以上250℃以下であるエポキシ硬化剤であることが好ましく、融点が100℃以上200℃以下であるエポキシ硬化剤であることがより好ましく、融点が150℃以上200℃以下であるエポキシ硬化剤であることがさらに好ましい。   Epoxy curing agent is an epoxy curing agent having a melting point of 50 ° C. or more and 250 ° C. or less, although it depends on the heat curing temperature from the viewpoint of enhancing the viscosity stability of the photo-curable resin composition and not impairing the moisture resistance of the cured product. An epoxy curing agent having a melting point of 100 ° C. or higher and 200 ° C. or lower is more preferable, and an epoxy curing agent having a melting point of 150 ° C. or higher and 200 ° C. or lower is further preferable.

エポキシ硬化剤の例には、有機酸ジヒドラジド系熱潜在性硬化剤、イミダゾール系熱潜在性硬化剤、ジシアンジアミド系熱潜在性硬化剤、アミンアダクト系熱潜在性硬化剤、及びポリアミン系熱潜在性硬化剤が含まれる。   Examples of epoxy curing agents include organic acid dihydrazide thermal latent curing agents, imidazole thermal latent curing agents, dicyandiamide thermal latent curing agents, amine adduct thermal latent curing agents, and polyamine thermal latent curing. Agent is included.

有機酸ジヒドラジド系熱潜在性硬化剤の例には、アジピン酸ジヒドラジド(融点181℃)、1,3-ビス(ヒドラジノカルボエチル)-5-イソプロピルヒダントイン(融点120℃)、7,11-オクタデカジエン-1,18-ジカルボヒドラジド(融点160℃)、ドデカン二酸ジヒドラジド(融点190℃)、及びセバシン酸ジヒドラジド(融点189℃)等が含まれる。イミダゾール系熱潜在性硬化剤の例には、2,4-ジアミノ-6-[2'-エチルイミダゾリル-(1')]-エチルトリアジン(融点215〜225℃)、及び2-フェニルイミダゾール(融点137〜147℃)等が含まれる。ジシアンジアミド系熱潜在性硬化剤の例には、ジシアンジアミド(融点209℃)等が含まれる。アミンアダクト系熱潜在性硬化剤は、触媒活性を有するアミン系化合物と任意の化合物とを反応させて得られる付加化合物からなる熱潜在性硬化剤であり、その例には、味の素ファインテクノ(株)製アミキュアPN−40(融点110℃)、味の素ファインテクノ(株)製アミキュアPN−23(融点100℃)、味の素ファインテクノ(株)製アミキュアPN−31(融点115℃)、味の素ファインテクノ(株)製アミキュアPN−H(融点115℃)、味の素ファインテクノ(株)製アミキュアMY−24(融点120℃)、及び味の素ファインテクノ(株)製アミキュアMY−H(融点131℃)等が含まれる。ポリアミン系熱潜在性硬化剤は、アミンとエポキシとを反応させて得られるポリマー構造を有する熱潜在性硬化剤であり、その例には、(株)ADEKA製アデカハードナーEH4339S(軟化点120〜130℃)、及び(株)ADEKA製アデカハードナーEH4357S(軟化点73〜83℃)等が含まれる。中でも、ジヒドラジド系熱潜在性硬化剤、イミダゾール系熱潜在性硬化剤、アミンアダクト系熱潜在性硬化剤及びポリアミン系熱潜在性硬化剤が好ましい。エポキシ硬化剤は一種類のみであってもよいし二種以上の組み合わせであってもよい。   Examples of organic acid dihydrazide thermal latent curing agents include adipic acid dihydrazide (melting point 181 ° C.), 1,3-bis (hydrazinocarboethyl) -5-isopropylhydantoin (melting point 120 ° C.), 7,11-octa Decadiene-1,18-dicarbohydrazide (melting point 160 ° C.), dodecanedioic acid dihydrazide (melting point 190 ° C.), sebacic acid dihydrazide (melting point 189 ° C.) and the like. Examples of imidazole-based thermal latent curing agents include 2,4-diamino-6- [2′-ethylimidazolyl- (1 ′)]-ethyltriazine (melting point: 215 to 225 ° C.) and 2-phenylimidazole (melting point) 137-147 ° C.) and the like. Examples of the dicyandiamide-based heat latent curing agent include dicyandiamide (melting point: 209 ° C.). The amine adduct thermal latent curing agent is a thermal latent curing agent comprising an addition compound obtained by reacting an amine compound having catalytic activity with an arbitrary compound, and examples thereof include Ajinomoto Fine Techno Co., Ltd. ) Amicure PN-40 (melting point 110 ° C.), Ajinomoto Fine Techno Co., Ltd. Amicure PN-23 (melting point 100 ° C.), Ajinomoto Fine Techno Co., Ltd. Amicure PN-31 (melting point 115 ° C.), Ajinomoto Fine Techno ( Amicure PN-H (melting point: 115 ° C.) manufactured by Ajinomoto Fine Techno Co., Ltd. Amycure MY-24 (melting point: 120 ° C.), Amicure MY-H (melting point: 131 ° C.) manufactured by Ajinomoto Fine Techno Co., etc. It is. The polyamine thermal latent curing agent is a thermal latent curing agent having a polymer structure obtained by reacting an amine and an epoxy. Examples thereof include Adeka Hardener EH4339S (softening point 120 to 130, manufactured by ADEKA Corporation). ° C), and ADEKA Corporation ADEKA HARDNER EH4357S (softening point 73-83 ° C). Of these, dihydrazide thermal latent curing agents, imidazole thermal latent curing agents, amine adduct thermal latent curing agents, and polyamine thermal latent curing agents are preferred. The epoxy curing agent may be only one type or a combination of two or more types.

熱硬化剤Dの含有量は、光硬化性樹脂組成物に対して3〜30質量%であることが好ましく、3〜20質量%であることがより好ましく、5〜20質量%であることがさらに好ましい。熱硬化剤Dを含む光硬化性樹脂組成物は、一液硬化性樹脂組成物となりうる。一液硬化性樹脂組成物は、使用に際して主剤と硬化剤を混合する必要がないことから、作業性に優れる。   The content of the thermosetting agent D is preferably 3 to 30% by mass, more preferably 3 to 20% by mass, and 5 to 20% by mass with respect to the photocurable resin composition. Further preferred. The photocurable resin composition containing the thermosetting agent D can be a one-component curable resin composition. The one-component curable resin composition is excellent in workability because it is not necessary to mix the main agent and the curing agent in use.

熱硬化剤Dの含有量は、硬化性化合物Aに対して3.8〜75質量%であることが好ましく、3.8〜50質量%であることがより好ましく、10〜40質量%であることがさらに好ましい。熱硬化剤Dの硬化性化合物Aに対する含有量が10質量%以上であると、加熱時の硬化性化合物Aの硬化性をさらに高めやすく、40質量%以下であると、液晶の汚染をさらに抑制しやすい。   The content of the thermosetting agent D is preferably 3.8 to 75% by mass with respect to the curable compound A, more preferably 3.8 to 50% by mass, and 10 to 40% by mass. More preferably. When the content of the thermosetting agent D with respect to the curable compound A is 10% by mass or more, the curability of the curable compound A at the time of heating is further enhanced, and when it is 40% by mass or less, liquid crystal contamination is further suppressed. It's easy to do.

熱硬化性化合物Cと熱硬化剤Dの合計含有量は、光硬化性樹脂組成物に対して6〜50質量%であることが好ましく、6〜35質量%であることがより好ましく、6〜30質量%であることがさらに好ましい。   The total content of the thermosetting compound C and the thermosetting agent D is preferably 6 to 50% by mass, more preferably 6 to 35% by mass, and more preferably 6 to 35% by mass with respect to the photocurable resin composition. More preferably, it is 30 mass%.

1−5.その他の成分E
1−5−1.熱可塑性ポリマー微粒子
本発明の光硬化性樹脂組成物は、必要に応じて熱可塑性ポリマー微粒子をさらに含んでいてもよい。熱可塑性ポリマー微粒子は、環球法により測定される軟化点温度が50〜120℃、好ましくは70〜100℃の熱可塑性ポリマーを含み、且つ数平均粒子径が0.05〜5μm、好ましくは0.1〜3μmでありうる。そのような熱可塑性ポリマー微粒子を含む光硬化性樹脂組成物は、硬化物に発生する収縮応力を緩和できる。また、数平均粒子径を上限値以下とすることにより、線幅の細いシール部材を形成する際に、熱可塑性ポリマー微粒子によって、塗工安定性が低下することを防ぐことができる。数平均粒子径は、乾式粒度分布計で測定されうる。
1-5. Other ingredients E
1-5-1. Thermoplastic polymer fine particles
The photocurable resin composition of the present invention may further contain thermoplastic polymer fine particles as necessary. The thermoplastic polymer fine particles contain a thermoplastic polymer having a softening point temperature of 50 to 120 ° C., preferably 70 to 100 ° C. as measured by a ring and ball method, and a number average particle size of 0.05 to 5 μm, preferably 0.8. It may be 1 to 3 μm. The photocurable resin composition containing such thermoplastic polymer fine particles can relieve the shrinkage stress generated in the cured product. Moreover, when the number average particle diameter is set to the upper limit value or less, it is possible to prevent the coating stability from being lowered by the thermoplastic polymer fine particles when forming a seal member having a narrow line width. The number average particle diameter can be measured with a dry particle size distribution meter.

熱可塑性ポリマー微粒子の例には、エポキシ基と二重結合基とを含む樹脂を、ラジカル重合可能なモノマーと懸濁重合して得られる微粒子が含まれる。エポキシ基と二重結合基とを含む樹脂の例には、ビスフェノールF型エポキシ樹脂とメタアクリル酸を三級アミン存在下で反応させた樹脂が含まれる。ラジカル重合可能なモノマーの例には、ブチルアクリレート、グリシジルメタクリレート、及びジビニルベンゼンが含まれる。   Examples of the thermoplastic polymer fine particles include fine particles obtained by suspension polymerization of a resin containing an epoxy group and a double bond group with a monomer capable of radical polymerization. Examples of the resin containing an epoxy group and a double bond group include a resin obtained by reacting a bisphenol F type epoxy resin and methacrylic acid in the presence of a tertiary amine. Examples of radically polymerizable monomers include butyl acrylate, glycidyl methacrylate, and divinylbenzene.

熱可塑性ポリマー微粒子の含有量は、光硬化性樹脂組成物に対して5〜40質量%であることが好ましく、7〜30質量%であることがより好ましい。熱可塑性ポリマー微粒子の含有量が上記範囲であると、熱可塑性ポリマー微粒子が光硬化性樹脂組成物の加熱硬化の際の収縮応力を好ましく緩和でき、目的とする線幅でシール部材を形成しやすい。   The content of the thermoplastic polymer fine particles is preferably 5 to 40% by mass and more preferably 7 to 30% by mass with respect to the photocurable resin composition. When the content of the thermoplastic polymer fine particle is within the above range, the thermoplastic polymer fine particle can preferably relieve the shrinkage stress during the heat curing of the photocurable resin composition, and can easily form a seal member with a desired line width. .

1−5−2.充填剤
本発明の光硬化性樹脂組成物は、必要に応じて充填剤をさらに含んでいてもよい。充填剤を含む光硬化性樹脂組成物は、粘度や硬化物の強度、及び線膨張性等が良好でありうる。
1-5-2. Filler The photocurable resin composition of the present invention may further contain a filler as necessary. A photocurable resin composition containing a filler may have good viscosity, strength of a cured product, linear expansion, and the like.

充填剤の例には、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、硫酸バリウム、硫酸マグネシウム、珪酸アルミニウム、珪酸ジルコニウム、酸化鉄、酸化チタン、窒化チタン、酸化アルミニウム(アルミナ)、酸化亜鉛、二酸化ケイ素、チタン酸カリウム、カオリン、タルク、ガラスビーズ、セリサイト活性白土、ベントナイト、窒化アルミニウム、窒化ケイ素等の無機充填剤が含まれる。中でも、二酸化ケイ素及びタルクが好ましい。 Examples of fillers include calcium carbonate, magnesium carbonate, barium sulfate, magnesium sulfate, aluminum silicate, zirconium silicate, iron oxide, titanium oxide, titanium nitride, aluminum oxide (alumina), zinc oxide, silicon dioxide, potassium titanate, Inorganic fillers such as kaolin, talc, glass beads, sericite , activated clay, bentonite, aluminum nitride, silicon nitride are included. Of these, silicon dioxide and talc are preferable.

充填剤の形状は、球状、板状、針状等の定形状であってもよいし、非定形状であってもよい。充填剤が球状である場合、充填剤の平均一次粒子径は、1.5μm以下であることが好ましく、且つ比表面積が0.5〜20m/gであることが好ましい。充填剤の平均一次粒子径は、JIS Z8825−1に記載のレーザー回折法により測定することができる。充填剤の比表面積は、JIS Z8830に記載のBET法により測定することができる。The shape of the filler may be a regular shape such as a spherical shape, a plate shape, or a needle shape, or may be an irregular shape. When the filler is spherical, the average primary particle diameter of the filler is preferably 1.5 μm or less, and the specific surface area is preferably 0.5 to 20 m 2 / g. The average primary particle diameter of the filler can be measured by a laser diffraction method described in JIS Z8825-1. The specific surface area of the filler can be measured by the BET method described in JIS Z8830.

充填剤の含有量は、光硬化性樹脂組成物に対して1〜45質量%であることが好ましい。充填剤の含有量が1質量%以上であると、光硬化性樹脂組成物の硬化物の耐湿性を高めやすく、45質量%以下であると、光硬化性樹脂組成物の塗工安定性が損なわれにくい。充填剤の含有量は、光硬化性樹脂組成物に対して10〜30質量%であることがより好ましい。   It is preferable that content of a filler is 1-45 mass% with respect to a photocurable resin composition. When the content of the filler is 1% by mass or more, it is easy to improve the moisture resistance of the cured product of the photocurable resin composition, and when it is 45% by mass or less, the coating stability of the photocurable resin composition is improved. Hard to be damaged. As for content of a filler, it is more preferable that it is 10-30 mass% with respect to a photocurable resin composition.

本発明の光硬化性樹脂組成物は、必要に応じて熱ラジカル重合開始剤、シランカップリング剤等のカップリング剤、イオントラップ剤、イオン交換剤、レベリング剤、顔料、染料、増感剤、可塑剤及び消泡剤等の添加剤をさらに含んでいてもよい。   The photocurable resin composition of the present invention includes a thermal radical polymerization initiator, a coupling agent such as a silane coupling agent, an ion trapping agent, an ion exchange agent, a leveling agent, a pigment, a dye, a sensitizer, as necessary. Additives such as plasticizers and antifoaming agents may further be included.

シランカップリング剤の例には、ビニルトリメトキシシラン、γ−(メタ)アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン等が含まれる。シランカップリング剤の含有量は、硬化性化合物Aに対して0.01〜5質量%でありうる。シランカップリング剤の含有量が0.01質量%以上であると、光硬化性樹脂組成物の硬化物が十分な接着性を有しやすい。   Examples of the silane coupling agent include vinyltrimethoxysilane, γ- (meth) acryloxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltriethoxysilane, and the like. The content of the silane coupling agent may be 0.01 to 5% by mass with respect to the curable compound A. When the content of the silane coupling agent is 0.01% by mass or more, the cured product of the photocurable resin composition tends to have sufficient adhesiveness.

本発明の光硬化性樹脂組成物は、液晶表示パネルのギャップを調整するためのスペーサー等をさらに含んでいてもよい。   The photocurable resin composition of the present invention may further include a spacer for adjusting the gap of the liquid crystal display panel.

その他の成分Eの合計含有量は、光硬化性樹脂組成物に対して1〜50質量%であることが好ましい。その他の成分Eの合計含有量が50質量%以下であると、光硬化性樹脂組成物の粘度が過度に上昇しにくく、塗工安定性が損なわれにくい。   The total content of other components E is preferably 1 to 50% by mass with respect to the photocurable resin composition. When the total content of other components E is 50% by mass or less, the viscosity of the photocurable resin composition is hardly excessively increased, and the coating stability is not easily impaired.

1−6.光硬化性樹脂組成物の物性
本発明の光硬化性樹脂組成物の、E型粘度計の25℃、2.5rpmにおける粘度は、200〜450Pa・sであることが好ましく、300〜400Pa・sであることがより好ましい。粘度が上記範囲にあると、光硬化性樹脂組成物のディスペンサーによる塗布性が良好となる。
1-6. Physical Properties of Photocurable Resin Composition The viscosity of the photocurable resin composition of the present invention at 25 ° C. and 2.5 rpm of the E-type viscometer is preferably 200 to 450 Pa · s, and preferably 300 to 400 Pa · s. It is more preferable that When the viscosity is in the above range, the applicability of the photocurable resin composition by the dispenser is good.

本発明の光硬化性樹脂組成物は、例えばシール剤として用いることができる。シール剤は、液晶表示素子、有機EL素子、LED素子等の表示素子の封止に用いられる表示素子シール剤であることが好ましい。表示素子シール剤は、本発明の光硬化性樹脂組成物が液晶汚染を良好に抑制し得ることから、特に液晶シール剤であることが好ましく、液晶滴下工法用の液晶シール剤であることがより好ましい。   The photocurable resin composition of the present invention can be used as, for example, a sealing agent. The sealing agent is preferably a display element sealing agent used for sealing display elements such as liquid crystal display elements, organic EL elements, and LED elements. The display element sealant is particularly preferably a liquid crystal sealant and more preferably a liquid crystal sealant for a liquid crystal dropping method because the photocurable resin composition of the present invention can satisfactorily suppress liquid crystal contamination. preferable.

本発明の光硬化性樹脂組成物に含まれる化合物Bは、長波長の光に対しても良好に光吸収性を示すので、液晶層への光によるダメージを少なくしつつ、短時間での硬化が可能となる。また、化合物Bは、1分子あたりにNHCO基を比較的多く含むので、適度な親水性を有し、液晶材料への溶出を高度に抑制しうる。   Compound B contained in the photocurable resin composition of the present invention exhibits good light absorption even for light having a long wavelength, so that curing in a short time while reducing damage to the liquid crystal layer due to light. Is possible. In addition, since compound B contains a relatively large number of NHCO groups per molecule, it has moderate hydrophilicity and can highly suppress elution into the liquid crystal material.

2.液晶表示パネル及びその製造方法
本発明の表示素子パネルは、一対の基板と、該一対の基板の間に配置される表示素子と、該表示素子を封止するシール部材とを含む。シール部材を、本発明の表示素子シール剤の硬化物とし得る。本発明の表示素子シール剤は、本発明の光硬化性樹脂組成物からなる。
2. Liquid crystal display panel and manufacturing method thereof The display element panel of the present invention includes a pair of substrates, a display element disposed between the pair of substrates, and a seal member for sealing the display element. The seal member can be a cured product of the display element sealant of the present invention. The display element sealing agent of the present invention is composed of the photocurable resin composition of the present invention.

表示素子の例には、液晶表示素子、有機EL素子及びLED素子等が含まれる。中でも、本発明の光硬化性樹脂組成物が液晶汚染を良好に抑制し得る点から、液晶表示素子が好ましい。   Examples of display elements include liquid crystal display elements, organic EL elements, LED elements, and the like. Among these, a liquid crystal display element is preferable because the photocurable resin composition of the present invention can satisfactorily suppress liquid crystal contamination.

即ち、本発明の液晶表示パネルは、表示基板と、それと対になる対向基板と、表示基板と対向基板との間に配置される枠状のシール部材と、表示基板と対向基板との間のシール部材で囲まれた空間に充填された液晶層とを含む。シール部材を、本発明の液晶シール剤の硬化物としうる。本発明の液晶シール剤は、本発明の光硬化性樹脂組成物からなる。   That is, the liquid crystal display panel of the present invention includes a display substrate, a counter substrate that is paired with the display substrate, a frame-shaped sealing member disposed between the display substrate and the counter substrate, and a space between the display substrate and the counter substrate. And a liquid crystal layer filled in a space surrounded by the seal member. The seal member can be a cured product of the liquid crystal sealant of the present invention. The liquid crystal sealing agent of the present invention comprises the photocurable resin composition of the present invention.

表示基板及び対向基板は、いずれも透明基板である。透明基板の材質は、ガラス、または、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート、ポリエーテルサルフォン及びPMMA等のプラスチックでありうる。   Both the display substrate and the counter substrate are transparent substrates. The material of the transparent substrate can be glass or plastic such as polycarbonate, polyethylene terephthalate, polyethersulfone and PMMA.

表示基板又は対向基板の表面には、マトリックス状のTFT、カラーフィルタ、ブラックマトリクス等が配置されうる。表示基板又は対向基板の表面には、さらに配向膜が配置されうる。配向膜には、公知の有機配向剤や無機配向剤が含まれる。   Matrix TFTs, color filters, black matrices, and the like can be disposed on the surface of the display substrate or the counter substrate. An alignment film may be further disposed on the surface of the display substrate or the counter substrate. The alignment film contains a known organic alignment agent or inorganic alignment agent.

液晶表示パネルは、本発明の液晶シール剤を用いて製造される。液晶表示パネルの製造方法には、一般に、液晶滴下工法と、液晶注入工法とがあるが、本発明の液晶表示パネルは、液晶滴下工法で製造されることが好ましい。   The liquid crystal display panel is manufactured using the liquid crystal sealant of the present invention. Generally, there are a liquid crystal dropping method and a liquid crystal injecting method as a method for manufacturing a liquid crystal display panel, but the liquid crystal display panel of the present invention is preferably manufactured by a liquid crystal dropping method.

液晶滴下工法による液晶表示パネルの製造方法は、
1)一方の基板に、本発明の液晶シール剤のシールパターンを形成する工程と、
2)シールパターンが未硬化の状態において、該基板のシールパターンで囲まれた領域内、又はシールパターンで囲まれた領域に対向する他方の基板の領域に、液晶を滴下する工程と、
3)一方の基板と他方の基板とをシールパターンを介して重ね合わせる工程と、
4)シールパターンを硬化させる工程とを含む。
The manufacturing method of the liquid crystal display panel by the liquid crystal dropping method is
1) forming a seal pattern of the liquid crystal sealant of the present invention on one substrate;
2) a step of dropping liquid crystal in a region surrounded by the seal pattern of the substrate or a region of the other substrate facing the region surrounded by the seal pattern when the seal pattern is in an uncured state;
3) a step of superimposing one substrate and the other substrate through a seal pattern;
4) curing the seal pattern.

2)の工程において、シールパターンが未硬化の状態とは、液晶シール剤の硬化反応がゲル化点までは進行していない状態を意味する。このため、2)の工程では、液晶シール剤の液晶への溶解を抑制するために、シールパターンを光照射又は加熱して半硬化させてもよい。一方の基板及び他方の基板は、それぞれ表示基板又は対向基板である。   In the step 2), the uncured state of the seal pattern means a state in which the curing reaction of the liquid crystal sealant has not progressed to the gel point. For this reason, in the step 2), in order to suppress dissolution of the liquid crystal sealant in the liquid crystal, the seal pattern may be semi-cured by light irradiation or heating. One substrate and the other substrate are a display substrate and a counter substrate, respectively.

4)の工程では、光照射による硬化のみを行ってもよいが、光照射による硬化を行った後、加熱による硬化を行ってもよい。光照射による硬化を行うことで、液晶シール剤を短時間で硬化させることができるので、液晶への溶解を抑制できる。光照射による硬化と加熱による硬化とを組み合わせることで、光照射による硬化のみの場合と比べて光による液晶層へのダメージを少なくすることができる。   In the step 4), only curing by light irradiation may be performed, but after curing by light irradiation, curing by heating may be performed. Since the liquid crystal sealant can be cured in a short time by curing by light irradiation, dissolution in the liquid crystal can be suppressed. By combining curing by light irradiation and curing by heating, damage to the liquid crystal layer due to light can be reduced compared to the case of only curing by light irradiation.

照射する光は、波長370〜450nmの光であることが好ましい。上記波長の光は、液晶材料や駆動電極に与えるダメージが比較的少ないからである。光の照射は、紫外線や可視光を発する公知の光源を使用できる。可視光を照射する場合、高圧水銀ランプ、低圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、キセノンランプ、蛍光灯等を使用できる。   The light to be irradiated is preferably light having a wavelength of 370 to 450 nm. This is because the light having the above wavelength causes relatively little damage to the liquid crystal material and the drive electrode. For light irradiation, a known light source that emits ultraviolet light or visible light can be used. For irradiation with visible light, a high-pressure mercury lamp, a low-pressure mercury lamp, a metal halide lamp, a xenon lamp, a fluorescent lamp, or the like can be used.

光照射エネルギーは、硬化性化合物Aを硬化させうる程度のエネルギーであればよい。光硬化時間は、液晶シール剤の組成にもよるが、例えば10分程度である。   The light irradiation energy may be energy that can cure the curable compound A. The photocuring time is, for example, about 10 minutes although it depends on the composition of the liquid crystal sealant.

熱硬化温度は、液晶シール剤の組成にもよるが、例えば120℃であり、熱硬化時間は2時間程度である。   The thermosetting temperature is 120 ° C., for example, although it depends on the composition of the liquid crystal sealant, and the thermosetting time is about 2 hours.

本発明の液晶シール剤は、液晶への溶解が低減されている。従って、本発明の液晶シール剤の硬化物を有する液晶表示パネルは、液晶による汚染が少なく、高品質の表示性能を有しうる。   The liquid crystal sealant of the present invention has reduced dissolution in liquid crystals. Therefore, a liquid crystal display panel having a cured product of the liquid crystal sealant of the present invention is less contaminated with liquid crystals and can have high quality display performance.

以下において、実施例を参照して本発明をより詳細に説明する。これらの実施例によって、本発明の範囲は限定して解釈されない。   In the following, the invention will be described in more detail with reference to examples. These examples do not limit the scope of the present invention.

1.化合物B及び比較用化合物の合成・評価
(1)合成
(合成例1)
攪拌機、窒素ガス導入管、還流冷却管、温度計を備えた4つ口フラスコ中へ、ヘキサメチレンジイソシアネートビウレット変性体(三井化学社製、タケネートD-165N、イソシアネート当量179.5g/eq)3.16gと、トルエン40gとを加えて80℃で撹拌した。次いで、2-(2-ヒドロキシエチルチオ)-9,10-アントラキノン2.50g(8.80×10−3モル)をトルエン100gに溶解させた溶液を加え、ジブチル錫を触媒として1滴添加した後、そのまま窒素雰囲気下80℃で1時間撹拌した。
薄層クロマトグラフィー(TLC)にて、2-(2-ヒドロキシエチルチオ)-9,10-アントラキノンの消失を確認した後、4-ヒドロキシブチルアクリレート(東京化成工業社製)1.27gをトルエン5gに溶解させた溶液をさらに滴下して加え、大気下80℃で1時間撹拌した。反応終了後、4つ口フラスコを室温にて放冷し、析出した結晶成分を分離した。得られた結晶成分を再びトルエンと混合し、100℃で1時間撹拌した後、再度氷冷して不純成分を除去した。回収した結晶成分をオーブンで十分に乾燥させて、化合物B−1を得た。
1. Synthesis and Evaluation of Compound B and Comparative Compound (1) Synthesis (Synthesis Example 1)
2. Hexamethylene diisocyanate biuret modified (manufactured by Mitsui Chemicals, Takenate D-165N, isocyanate equivalent 179.5 g / eq) into a four-necked flask equipped with a stirrer, nitrogen gas inlet tube, reflux condenser, and thermometer. 16 g and 40 g of toluene were added and stirred at 80 ° C. Next, a solution in which 2.50 g (8.80 × 10 −3 mol) of 2- (2-hydroxyethylthio) -9,10-anthraquinone was dissolved in 100 g of toluene was added, and one drop was added using dibutyltin as a catalyst. Thereafter, the mixture was stirred as it was at 80 ° C. for 1 hour in a nitrogen atmosphere.
After confirming disappearance of 2- (2-hydroxyethylthio) -9,10-anthraquinone by thin layer chromatography (TLC), 1.27 g of 4-hydroxybutyl acrylate (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) was added to 5 g of toluene. The solution dissolved in was further added dropwise and stirred at 80 ° C. for 1 hour in the atmosphere. After completion of the reaction, the four-necked flask was allowed to cool at room temperature, and the precipitated crystal component was separated. The obtained crystal component was again mixed with toluene, stirred at 100 ° C. for 1 hour, and then ice-cooled again to remove impure components. The recovered crystal component was sufficiently dried in an oven to obtain Compound B-1.

(合成例2)
攪拌機、窒素ガス導入管、還流冷却管、温度計を備えた4つ口フラスコ中へ、2-ヒドロキシメチルアントラキノン(純正化学社製)0.5g(2.1×10−3モル)とトルエン20gとを加えて90℃で撹拌した後、ジブチル錫を触媒として1滴添加した。次いで、ヘキサメチレンジイソシアネートビウレット変性体(三井化学社製、タケネートD-165N、イソシアネート当量179.5g/eq)0.45gをトルエン10gに溶解させた溶液を20分かけて滴下した後、そのまま窒素雰囲気下80℃で2時間撹拌した。反応終了後、4つ口フラスコを氷浴で冷却し、析出した結晶成分を分離した。得られた結晶成分を再びトルエンと混合し、90℃で1時間撹拌した後、再度氷冷して不純成分を除去した。回収した結晶成分をオーブンで十分に乾燥させて、化合物B−2を得た。
(Synthesis Example 2)
Into a four-necked flask equipped with a stirrer, a nitrogen gas inlet tube, a reflux condenser, and a thermometer, 0.5 g (2.1 × 10 −3 mol) of 2-hydroxymethylanthraquinone (manufactured by Junsei Kagaku) and 20 g of toluene After stirring at 90 ° C., 1 drop of dibutyltin was added as a catalyst. Next, a hexamethylene diisocyanate biuret modified product (manufactured by Mitsui Chemicals, Takenate D-165N, isocyanate equivalent 179.5 g / eq) 0.45 g dissolved in toluene 10 g was added dropwise over 20 minutes, and then a nitrogen atmosphere as it was The mixture was stirred at 80 ° C. for 2 hours. After completion of the reaction, the four-necked flask was cooled in an ice bath, and the precipitated crystal components were separated. The obtained crystal component was again mixed with toluene, stirred at 90 ° C. for 1 hour, and then ice-cooled again to remove impure components. The recovered crystal component was sufficiently dried in an oven to obtain Compound B-2.

(合成例3)
攪拌機、窒素ガス導入管、還流冷却管、温度計を備えた4つ口フラスコ中へ、2-(2-ヒドロキシエチルチオ)-9,10-アントラキノン5.00g1.76×10−2モル)とトルエン150gとを加えて80℃で撹拌した後、ジブチル錫を触媒として1滴添加した。次いで、ヘキサメチレンジイソシアネートビウレット変性体(三井化学社製、タケネートD-165N、イソシアネート当量179.5g/eq)3.79gをトルエン10gに溶解させた溶液を30分かけて滴下した。滴下終了後、窒素雰囲気下80℃で3時間撹拌した後、イソプロピルアルコール10.6gを添加し、そのまま2時間撹拌した。反応終了後、4つ口フラスコを氷浴で冷却し、結晶成分を分離した。得られた結晶成分を再びトルエンと混合し、100℃で1時間撹拌した後、再度氷冷して不純成分を除去した。回収した結晶成分をオーブンで十分に乾燥し、化合物B−3を得た。
(Synthesis Example 3)
5.00 g ( 1.76 × 10 −2 mol) of 2- (2-hydroxyethylthio) -9,10-anthraquinone into a four-necked flask equipped with a stirrer, a nitrogen gas inlet tube, a reflux condenser, and a thermometer ) And 150 g of toluene were added and stirred at 80 ° C., and 1 drop of dibutyltin was added as a catalyst. Subsequently, a solution prepared by dissolving 3.79 g of a hexamethylene diisocyanate biuret modified product (manufactured by Mitsui Chemicals, Takenate D-165N, isocyanate equivalent 179.5 g / eq) in 10 g of toluene was dropped over 30 minutes. After completion of the dropwise addition, the mixture was stirred at 80 ° C. for 3 hours under a nitrogen atmosphere, and then 10.6 g of isopropyl alcohol was added and the mixture was stirred as it was for 2 hours. After completion of the reaction, the four-necked flask was cooled in an ice bath to separate the crystal component. The obtained crystal component was again mixed with toluene, stirred at 100 ° C. for 1 hour, and then ice-cooled again to remove impure components. The recovered crystal component was sufficiently dried in an oven to obtain Compound B-3.

(合成例4)
攪拌機、窒素ガス導入管、還流冷却管、温度計を備えた4つ口フラスコ中へ、2-(2-ヒドロキシエチルチオ)-9,10-アントラキノン3.0g(1.06×10−2モル)とトルエン100gとを加えて110℃で撹拌した後、ジブチル錫を触媒として1滴添加した。次いで、ヘキサメチレンジイソシアネートビウレット変性体(三井化学社製、タケネートD-165N、イソシアネート当量179.5g/eq)2.95gをトルエン10gに溶解させた溶液を30分かけて滴下した。
薄層クロマトグラフィー(TLC)にて、2-(2-ヒドロキシエチルチオ)-9,10-アントラキノンの消失を確認した後、1-オクタデカノール(東京化成工業社製)1.43gをトルエン10gに溶解させた溶液をさらに滴下して加え、窒素雰囲気下110℃で2時間撹拌した。反応終了後、4つ口フラスコを氷浴で冷却し、析出した結晶成分を分離した。得られた結晶成分を再びトルエンと混合し、100℃で1時間撹拌した後、再度氷冷して不純成分を除去した。ろ過により回収した結晶成分をオーブンで十分に乾燥させて、化合物B−4を得た。
(Synthesis Example 4)
Into a four-necked flask equipped with a stirrer, a nitrogen gas inlet tube, a reflux condenser, and a thermometer, 3.0 g (1.06 × 10 −2 mol) of 2- (2-hydroxyethylthio) -9,10-anthraquinone And 100 g of toluene were added and stirred at 110 ° C., and 1 drop of dibutyltin was added as a catalyst. Subsequently, a solution prepared by dissolving 2.95 g of a hexamethylene diisocyanate biuret modified product (manufactured by Mitsui Chemicals, Takenate D-165N, isocyanate equivalent 179.5 g / eq) in 10 g of toluene was added dropwise over 30 minutes.
After confirming the disappearance of 2- (2-hydroxyethylthio) -9,10-anthraquinone by thin layer chromatography (TLC), 1.43 g of 1-octadecanol (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) was added to 10 g of toluene. The solution dissolved in was further added dropwise and stirred at 110 ° C. for 2 hours under a nitrogen atmosphere. After completion of the reaction, the four-necked flask was cooled in an ice bath, and the precipitated crystal components were separated. The obtained crystal component was again mixed with toluene, stirred at 100 ° C. for 1 hour, and then ice-cooled again to remove impure components. The crystal component recovered by filtration was sufficiently dried in an oven to obtain Compound B-4.

(合成例5)
攪拌機、窒素ガス導入管、還流冷却管、温度計を備えた4つ口フラスコ中へ、2-(2-ヒドロキシエチルチオ)-9,10-アントラキノン5.0g(1.76×10−2モル)とトルエン150gとを加えて、80℃で撹拌した後、ジブチル錫を触媒として1滴添加した。次いで、ヘキサメチレンジイソシアネートアロファネート変性体(三井化学社製、タケネートD-178NL、イソシアネート当量216.1g/eq)3.98gをトルエン10gに溶解させた溶液を30分かけて滴下した後、そのまま窒素雰囲気下80℃で2時間撹拌した。反応終了後、4つ口フラスコを氷浴で冷却し、析出した結晶成分を分離した。得られた結晶成分を再びトルエンと混合し、100℃で1時間撹拌した後、再度氷冷して不純成分を除去した。回収した結晶成分をオーブンで十分に乾燥し、化合物B−5を得た。
(Synthesis Example 5)
Into a four-necked flask equipped with a stirrer, a nitrogen gas inlet tube, a reflux condenser, and a thermometer, 5.0 g (1.76 × 10 −2 mol) of 2- (2-hydroxyethylthio) -9,10-anthraquinone ) And 150 g of toluene were added and stirred at 80 ° C., and 1 drop of dibutyltin was added as a catalyst. Next, a hexamethylene diisocyanate allophanate modified product (manufactured by Mitsui Chemicals, Takenate D-178NL, isocyanate equivalent 216.1 g / eq) of 3.98 g dissolved in 10 g of toluene was added dropwise over 30 minutes, and then a nitrogen atmosphere as it was The mixture was stirred at 80 ° C. for 2 hours. After completion of the reaction, the four-necked flask was cooled in an ice bath, and the precipitated crystal components were separated. The obtained crystal component was again mixed with toluene, stirred at 100 ° C. for 1 hour, and then ice-cooled again to remove impure components. The recovered crystal component was sufficiently dried in an oven to obtain Compound B-5.

(合成例6)
攪拌機、窒素ガス導入管、還流冷却管、温度計を備えた4つ口フラスコ中へ、2-(2-ヒドロキシエチルチオ)-9,10-アントラキノン1.0g(3.52×10−3モル)と酢酸エチル70gとを加えて70℃で撹拌した後、ジブチル錫を触媒として1滴添加した。次いで、ヘキサメチレンジイソシアネート(東京化成工業社製)0.28gを酢酸エチル10gに溶解させた溶液を10分かけて滴下した後、そのまま窒素雰囲気下70℃で1時間撹拌した。反応終了後、4つ口フラスコを室温にて放冷し、析出した結晶成分を分離した。得られた結晶成分を再び酢酸エチルと混合し、80℃で1時間撹拌した後、氷冷して不純成分を除去した。回収した結晶成分をオーブンで十分に乾燥させて、化合物R−1を得た。
(Synthesis Example 6)
2- (2-hydroxyethylthio) -9,10-anthraquinone 1.0 g (3.52 × 10 −3 mol) into a four-necked flask equipped with a stirrer, a nitrogen gas inlet tube, a reflux condenser, and a thermometer And 70 g of ethyl acetate were added and stirred at 70 ° C., and 1 drop of dibutyltin was added as a catalyst. Next, a solution prepared by dissolving 0.28 g of hexamethylene diisocyanate (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) in 10 g of ethyl acetate was added dropwise over 10 minutes, and then stirred at 70 ° C. for 1 hour in a nitrogen atmosphere. After completion of the reaction, the four-necked flask was allowed to cool at room temperature, and the precipitated crystal component was separated. The obtained crystal component was again mixed with ethyl acetate, stirred at 80 ° C. for 1 hour, and then cooled with ice to remove impure components. The recovered crystal component was sufficiently dried in an oven to obtain Compound R-1.

(合成例7)
攪拌機、窒素ガス導入管、還流冷却管、温度計を備えた4つ口フラスコ中へ、2-(2-ヒドロキシエチルチオ)-9,10-アントラキノン10.0g(3.52×10−2モル)とメチルイソブチルケトン150gとを加えて80℃で撹拌した後、ジブチル錫を触媒として1滴添加した。次いで、ジシクロヘキシルメタン4,4'-ジイソシアナート(東京化成工業社製)5.53gをメチルイソブチルケトン25gに溶解させた溶液を30分かけて滴下した後、そのまま窒素雰囲気下80℃で3時間撹拌した。反応終了後、4つ口フラスコを氷浴で冷却し、析出した結晶成分を分離した。得られた結晶成分を再びトルエンと混合し、100℃で1時間撹拌した後、再度氷冷して、不純成分を除去した。回収した結晶成分をオーブンで十分に乾燥させて、化合物R−2を得た。
(Synthesis Example 7)
In a four-necked flask equipped with a stirrer, a nitrogen gas inlet tube, a reflux condenser, and a thermometer, 10.0 g (3.52 × 10 −2 mol) of 2- (2-hydroxyethylthio) -9,10-anthraquinone And 150 g of methyl isobutyl ketone were added and stirred at 80 ° C., and 1 drop of dibutyltin was added as a catalyst. Next, a solution prepared by dissolving 5.53 g of dicyclohexylmethane 4,4′-diisocyanate (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) in 25 g of methyl isobutyl ketone was added dropwise over 30 minutes, and then, as it was at 80 ° C. for 3 hours in a nitrogen atmosphere. Stir. After completion of the reaction, the four-necked flask was cooled in an ice bath, and the precipitated crystal components were separated. The obtained crystal component was again mixed with toluene, stirred at 100 ° C. for 1 hour, and then ice-cooled again to remove impure components. The recovered crystal component was sufficiently dried in an oven to obtain Compound R-2.

(合成例8)
攪拌機、窒素ガス導入管、還流冷却管、温度計を備えた4つ口フラスコ中へ、2-(2-ヒドロキシエチルチオ)-9,10-アントラキノン5.0g(1.76×10−2モル)とトルエン150gとを加えて80℃で撹拌した後、ジブチル錫を触媒として1滴添加した。次いで、1,1-(ビスアクリロイルオキシメチル)エチルイソシアネート(昭和電工社製、カレンズBEI)5.25g(2.20×10−2モル)をトルエン10gに溶解させた溶液を30分かけて滴下後、そのまま窒素雰囲気下80℃で2時間撹拌した。反応終了後、エバポレーターを用いてトルエンを留去した。残渣にトルエン70gと酢酸エチル20gを加えて均一溶解し、超純水40gにて10回洗浄した。水洗後、再度エバポレーターを用いて溶媒を留去し、化合物R−3を得た。
(Synthesis Example 8)
Into a four-necked flask equipped with a stirrer, a nitrogen gas inlet tube, a reflux condenser, and a thermometer, 5.0 g (1.76 × 10 −2 mol) of 2- (2-hydroxyethylthio) -9,10-anthraquinone. ) And 150 g of toluene were added and stirred at 80 ° C., and 1 drop of dibutyltin was added as a catalyst. Subsequently, a solution prepared by dissolving 5.25 g (2.20 × 10 −2 mol) of 1,1- (bisacryloyloxymethyl) ethyl isocyanate (manufactured by Showa Denko KK, Karenz BEI) in 10 g of toluene was dropped over 30 minutes. Thereafter, the mixture was stirred as it was at 80 ° C. for 2 hours under a nitrogen atmosphere. After completion of the reaction, toluene was distilled off using an evaporator. To the residue, 70 g of toluene and 20 g of ethyl acetate were added and dissolved uniformly, and washed 10 times with 40 g of ultrapure water. After washing with water, the solvent was distilled off again using an evaporator to obtain Compound R-3.

(合成例9)
攪拌機、窒素ガス導入管、還流冷却管、温度計を備えた4つ口フラスコ中へ、2-(2-ヒドロキシエチルチオ)-9,10-アントラキノン3.43g(1.21×10−2モル)と1液型ポリウレタン樹脂(三井化学社製、タケネートM−631N、NCO%=4.58%、重量平均分子量17000、溶剤:酢酸エチル/メチルエチルケトン)12.15gを加えて80℃で撹拌した後、さらにメチルエチルケトン30gを添加して均一な溶解液とした。次いで、トルエンに溶解させたジブチル錫を触媒として滴下し、窒素雰囲気下80℃で2時間撹拌した。反応終了後、4つ口フラスコを氷浴で冷却し、析出した結晶成分を分離した。得られた結晶成分を再びトルエンと混合し、100℃で1時間撹拌した後、再度氷冷して不純成分を除去した。回収した結晶成分をオーブンで十分に乾燥させて、化合物R−4を得た。
(Synthesis Example 9)
Into a four-necked flask equipped with a stirrer, a nitrogen gas inlet tube, a reflux condenser, and a thermometer, 3.43 g (1.21 × 10 −2 mol) of 2- (2-hydroxyethylthio) -9,10-anthraquinone ) And 12.15 g of one-component polyurethane resin (Mitsui Chemicals, Takenate M-631N, NCO% = 4.58%, weight average molecular weight 17000, solvent: ethyl acetate / methyl ethyl ketone), and stirred at 80 ° C. Further, 30 g of methyl ethyl ketone was added to obtain a uniform solution. Next, dibutyltin dissolved in toluene was added dropwise as a catalyst, and the mixture was stirred at 80 ° C. for 2 hours in a nitrogen atmosphere. After completion of the reaction, the four-necked flask was cooled in an ice bath, and the precipitated crystal components were separated. The obtained crystal component was again mixed with toluene, stirred at 100 ° C. for 1 hour, and then ice-cooled again to remove impure components. The recovered crystal component was sufficiently dried in an oven to obtain Compound R-4.

(合成例10)
5.6g(0.0225モル)の2−クロロチオキサントンと、2.6g(0.0225モル)の2−メルカプトエタノールのカリウム塩とを、20mlのN,N−ジメチルアセトアミド中で、100℃で18時間攪拌した。次いで、得られた反応混合物を、2N塩酸に添加し、酢酸エチルで抽出した。抽出物を慣用の後処理及びクロマトグラフィー精製後、3.5gの2-(2-ヒドロキシエチルチオ)-チオキサンテン−9−オンを得た。
(Synthesis Example 10)
5.6 g (0.0225 mol) of 2-chlorothioxanthone and 2.6 g (0.0225 mol) of 2-mercaptoethanol potassium salt in 100 ml of 20 ml of N, N-dimethylacetamide Stir for 18 hours. The resulting reaction mixture was then added to 2N hydrochloric acid and extracted with ethyl acetate. After conventional work-up and chromatographic purification of the extract, 3.5 g of 2- (2-hydroxyethylthio) -thioxanthen-9-one was obtained.

(合成例11)
攪拌機、窒素ガス導入管、還流冷却管、温度計を備えた4つ口フラスコ中へ、合成例10で合成した2-(2-ヒドロキシエチルチオ)-チオキサンテン−9−オン5.00g(1.74×10−2モル)とトルエン50gとを加えて80℃で撹拌した後、ジブチル錫を触媒として1滴添加した。次いで、ヘキサメチレンジイソシアネートビウレット変性体(三井化学社製、タケネートD-165N、イソシアネート当量179.5g/eq)2.08gをトルエン10gに溶解させた溶液を30分かけて滴下し、そのまま窒素雰囲気下80℃で3時間撹拌した。
薄層クロマトグラフィー(TLC)にて、2-(2-ヒドロキシエチルチオ)-チオキサントンの消失を確認した後、4-ヒドロキシブチルアクリレート(東京化成工業社製)0.84gをトルエン5gに溶解させた溶液をさらに滴下して加え、大気下80℃で1時間撹拌した。反応終了後、4つ口フラスコを室温にて放冷し、析出した固体成分を分離した。回収した固体成分をオーブンで十分に乾燥し、化合物B−6を得た。
(Synthesis Example 11)
2- (2-hydroxyethylthio) -thioxanthen-9-one synthesized in Synthesis Example 10 into a four-necked flask equipped with a stirrer, a nitrogen gas inlet tube, a reflux condenser, and a thermometer (5.00 g (1 .74 × 10 −2 mol) and 50 g of toluene were added and stirred at 80 ° C., and then 1 drop of dibutyltin was added as a catalyst. Next, a hexamethylene diisocyanate biuret modified product (Mitsui Chemicals, Takenate D-165N, isocyanate equivalent 179.5 g / eq) 2.08 g dissolved in toluene 10 g was added dropwise over 30 minutes and left under a nitrogen atmosphere. Stir at 80 ° C. for 3 hours.
After confirming the disappearance of 2- (2-hydroxyethylthio) -thioxanthone by thin layer chromatography (TLC), 0.84 g of 4-hydroxybutyl acrylate (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) was dissolved in 5 g of toluene. The solution was further added dropwise and stirred at 80 ° C. for 1 hour in the atmosphere. After completion of the reaction, the four-necked flask was allowed to cool at room temperature, and the precipitated solid component was separated. The collected solid component was sufficiently dried in an oven to obtain Compound B-6.

(合成例12)
攪拌機、窒素ガス導入管、還流冷却管、温度計を備えた4つ口フラスコ中へ、合成例10で合成した2-(2-ヒドロキシエチルチオ)-チオキサンテン−9−オン5.00g(1.74×10−2モル)とトルエン50gとを加えて80℃で撹拌した後、ジブチル錫を触媒として1滴添加した。次いで、ヘキサメチレンジイソシアネートビウレット変性体(三井化学社製、タケネートD-165N、イソシアネート当量179.5g/eq)3.74gをトルエン10gに溶解させた溶液を30分かけて滴下した。滴下終了後、窒素雰囲気下80℃で3時間撹拌した後、イソプロピルアルコール1.04gを添加し、そのまま2時間撹拌した。反応終了後、4つ口フラスコを室温で放冷し、固体成分を分離した。回収した固体成分をオーブンで十分に乾燥し、化合物B−7を得た。
(Synthesis Example 12)
2- (2-hydroxyethylthio) -thioxanthen-9-one synthesized in Synthesis Example 10 into a four-necked flask equipped with a stirrer, a nitrogen gas inlet tube, a reflux condenser, and a thermometer (5.00 g (1 .74 × 10 −2 mol) and 50 g of toluene were added and stirred at 80 ° C., and then 1 drop of dibutyltin was added as a catalyst. Subsequently, a solution obtained by dissolving 3.74 g of a hexamethylene diisocyanate biuret modified product (manufactured by Mitsui Chemicals, Takenate D-165N, isocyanate equivalent 179.5 g / eq) in 10 g of toluene was dropped over 30 minutes. After completion of the dropwise addition, the mixture was stirred at 80 ° C. for 3 hours in a nitrogen atmosphere, and then 1.04 g of isopropyl alcohol was added and stirred as it was for 2 hours. After completion of the reaction, the four-necked flask was allowed to cool at room temperature to separate the solid components. The collected solid component was sufficiently dried in an oven to obtain Compound B-7.

(合成例13)
攪拌機、窒素ガス導入管、還流冷却管、温度計を備えた4つ口フラスコ中へ、合成例10で合成した2-(2-ヒドロキシエチルチオ)-チオキサンテン−9−オン5.00g(1.74×10−2モル)とトルエン50gとを加えて80℃で撹拌した後、ジブチル錫を触媒として1滴添加した。次いで、ヘキサメチレンジイソシアネートビウレット変性体(三井化学社製、タケネートD-165N、イソシアネート当量179.5g/eq)2.08gをトルエン10gに溶解させた溶液を30分かけて滴下し、そのまま窒素雰囲気下80℃で3時間撹拌した。
薄層クロマトグラフィー(TLC)にて、2-(2-ヒドロキシエチルチオ)-チオキサントンの消失を確認した後、1-オクタデカノール(東京化成工業社製)1.57gをトルエン5gに溶解させた溶液をさらに滴下して加え、大気下80℃で1時間撹拌した。反応終了後、4つ口フラスコを室温にて放冷し、析出した固体成分を分離した。回収した固体成分をオーブンで十分に乾燥し、化合物B−8を得た。
(Synthesis Example 13)
2- (2-hydroxyethylthio) -thioxanthen-9-one synthesized in Synthesis Example 10 into a four-necked flask equipped with a stirrer, a nitrogen gas inlet tube, a reflux condenser, and a thermometer (5.00 g (1 .74 × 10 −2 mol) and 50 g of toluene were added and stirred at 80 ° C., and then 1 drop of dibutyltin was added as a catalyst. Next, a hexamethylene diisocyanate biuret modified product (Mitsui Chemicals, Takenate D-165N, isocyanate equivalent 179.5 g / eq) 2.08 g dissolved in toluene 10 g was added dropwise over 30 minutes and left under a nitrogen atmosphere. Stir at 80 ° C. for 3 hours.
After confirming the disappearance of 2- (2-hydroxyethylthio) -thioxanthone by thin layer chromatography (TLC), 1.57 g of 1-octadecanol (Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) was dissolved in 5 g of toluene. The solution was further added dropwise and stirred at 80 ° C. for 1 hour in the atmosphere. After completion of the reaction, the four-necked flask was allowed to cool at room temperature, and the precipitated solid component was separated. The collected solid component was sufficiently dried in an oven to obtain Compound B-8.

(合成例14)
攪拌機、窒素ガス導入管、還流冷却管、温度計を備えた4つ口フラスコ中へ、合成例10で合成した2-(2-ヒドロキシエチルチオ)-チオキサンテン−9−オン5.00g(1.74×10−2モル)とトルエン50gとを加えて80℃で撹拌した後、ジブチル錫を触媒として1滴添加した。次いで、ヘキサメチレンジイソシアネートアロファネート変性体(三井化学社製、タケネートD-178NL、イソシアネート当量216.1g/eq)4.51gをトルエン10gに溶解させた溶液を30分かけて滴下し、そのまま窒素雰囲気下80℃で3時間撹拌した。反応終了後、4つ口フラスコを室温で放冷し、固体成分を分離した。回収した固体成分をオーブンで十分に乾燥し、化合物B−9を得た。
(Synthesis Example 14)
2- (2-hydroxyethylthio) -thioxanthen-9-one synthesized in Synthesis Example 10 into a four-necked flask equipped with a stirrer, a nitrogen gas inlet tube, a reflux condenser, and a thermometer (5.00 g (1 .74 × 10 −2 mol) and 50 g of toluene were added and stirred at 80 ° C., and then 1 drop of dibutyltin was added as a catalyst. Next, a solution in which 4.51 g of hexamethylene diisocyanate allophanate modified product (Mitsui Chemicals, Takenate D-178NL, isocyanate equivalent 216.1 g / eq) was dissolved in 10 g of toluene was dropped over 30 minutes, and the solution was left under a nitrogen atmosphere. Stir at 80 ° C. for 3 hours. After completion of the reaction, the four-necked flask was allowed to cool at room temperature to separate the solid components. The collected solid component was sufficiently dried in an oven to obtain Compound B-9.

(合成例15)
攪拌機、窒素ガス導入管、還流冷却管、温度計を備えた4つ口フラスコ中へ、合成例10で合成した2-(2-ヒドロキシエチルチオ)-チオキサンテン−9−オン5.00g(1.74×10−2モル)と酢酸エチル50gとを加えて80℃で撹拌した後、ジブチル錫を触媒として1滴添加した。次いで、ヘキサメチレンジイソシアネート(東京化成工業社製)1.46gを酢酸エチル10gに溶解させた溶液を10分かけて滴下した後、そのまま窒素雰囲気下70℃で1時間撹拌した。反応終了後、4つ口フラスコを室温にて放冷し、析出した固体成分を分離した。回収した固体成分をオーブンで十分に乾燥し、化合物R−5を得た。
(Synthesis Example 15)
2- (2-hydroxyethylthio) -thioxanthen-9-one synthesized in Synthesis Example 10 into a four-necked flask equipped with a stirrer, a nitrogen gas inlet tube, a reflux condenser, and a thermometer (5.00 g (1 .74 × 10 −2 mol) and 50 g of ethyl acetate were added and stirred at 80 ° C., and then 1 drop of dibutyltin was added as a catalyst. Next, a solution prepared by dissolving 1.46 g of hexamethylene diisocyanate (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) in 10 g of ethyl acetate was added dropwise over 10 minutes, and then the mixture was stirred as it was at 70 ° C. for 1 hour in a nitrogen atmosphere. After completion of the reaction, the four-necked flask was allowed to cool at room temperature, and the precipitated solid component was separated. The collected solid component was sufficiently dried in an oven to obtain Compound R-5.

(合成例16)
攪拌機、窒素ガス導入管、還流冷却管、温度計を備えた4つ口フラスコ中へ、合成例10で合成した2-(2-ヒドロキシエチルチオ)-チオキサンテン−9−オン5.00g(1.74×10−2モル)とメチルイソブチルケトン50gとを加えて80℃で撹拌した後、ジブチル錫を触媒として1滴添加した。次いで、ジシクロヘキシルメタン4,4'-ジイソシアナート(東京化成工業社製)2.28gをメチルイソブチルケトン25gに溶解させた溶液を30分かけて滴下した後、そのまま窒素雰囲気下80℃で3時間撹拌した。反応終了後、4つ口フラスコを室温にて放冷し、析出した固体成分を分離した。回収した固体成分をオーブンで十分に乾燥し、化合物R−6を得た。
(Synthesis Example 16)
2- (2-hydroxyethylthio) -thioxanthen-9-one synthesized in Synthesis Example 10 into a four-necked flask equipped with a stirrer, a nitrogen gas inlet tube, a reflux condenser, and a thermometer (5.00 g (1 .74 × 10 −2 mol) and 50 g of methyl isobutyl ketone were added and stirred at 80 ° C., and then 1 drop of dibutyltin was added as a catalyst. Next, a solution prepared by dissolving 2.28 g of dicyclohexylmethane 4,4′-diisocyanate (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) in 25 g of methyl isobutyl ketone was added dropwise over 30 minutes, and then kept at 80 ° C. for 3 hours under a nitrogen atmosphere. Stir. After completion of the reaction, the four-necked flask was allowed to cool at room temperature, and the precipitated solid component was separated. The collected solid component was sufficiently dried in an oven to obtain Compound R-6.

(合成例17)
攪拌機、窒素ガス導入管、還流冷却管、温度計を備えた4つ口フラスコ中へ、合成例10で合成した2-(2-ヒドロキシエチルチオ)-チオキサンテン−9−オン5.00g(1.74×10−2モル)とメチルイソブチルケトン50gとを加えて80℃で撹拌した後、ジブチル錫を触媒として1滴添加した。次いで、1,1-(ビスアクリロイルオキシメチル)エチルイソシアネート(昭和電工社製、カレンズBEI)4.58g(1.91×10−2モル)をトルエン10gに溶解させた溶液を30分かけて滴下後、そのまま窒素雰囲気下80℃で2時間撹拌した。反応終了後、エバポレーターを用いてトルエンを留去した。残渣にトルエン70gと酢酸エチル20gを加えて均一溶解し、超純水40gにて10回洗浄した。水洗後、再度エバポレーターを用いて溶媒を留去し、化合物R−7を得た。
(Synthesis Example 17)
2- (2-hydroxyethylthio) -thioxanthen-9-one synthesized in Synthesis Example 10 into a four-necked flask equipped with a stirrer, a nitrogen gas inlet tube, a reflux condenser, and a thermometer (5.00 g (1 .74 × 10 −2 mol) and 50 g of methyl isobutyl ketone were added and stirred at 80 ° C., and then 1 drop of dibutyltin was added as a catalyst. Next, a solution prepared by dissolving 4.58 g (1.91 × 10 −2 mol) of 1,1- (bisacryloyloxymethyl) ethyl isocyanate (produced by Showa Denko KK, Karenz BEI) in 10 g of toluene was dropped over 30 minutes. Thereafter, the mixture was stirred as it was at 80 ° C. for 2 hours under a nitrogen atmosphere. After completion of the reaction, toluene was distilled off using an evaporator. To the residue, 70 g of toluene and 20 g of ethyl acetate were added and dissolved uniformly, and washed 10 times with 40 g of ultrapure water. After washing with water, the solvent was distilled off again using an evaporator to obtain Compound R-7.

合成例1〜5で用いた構成材料を表1に、合成例6〜9で用いた構成材料を表2に、合成例11〜14で用いた構成材料を表3に、合成例10及び15〜17で用いた構成材料を表4にそれぞれ示す。

Figure 0006127223
Figure 0006127223
Figure 0006127223
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The constituent materials used in Synthesis Examples 1 to 5 are shown in Table 1, the constituent materials used in Synthesis Examples 6 to 9 are shown in Table 2, the constituent materials used in Synthesis Examples 11 to 14 are shown in Table 3, and Synthesis Examples 10 and 15 are used. The constituent materials used in ˜17 are shown in Table 4, respectively.
Figure 0006127223
Figure 0006127223
Figure 0006127223
Figure 0006127223

(2)評価
(実験例1〜9、比較実験例1〜10)
合成例1〜5及び合成例11〜14で得られた化合物B−1〜B−9、合成例6〜9及び合成例15〜17で得られた化合物R−1〜R−7、2-(2-ヒドロキシエチルチオ)-9,10-アントラキノン、2-ヒドロキシメチル-9,10-アントラキノン(HMAQ)、及び合成例10で得られた2-(2-ヒドロキシエチルチオ)-チオキサンテン−9−オンの分子量、液晶の電圧保持率及び液晶のN-I点降下を、以下の方法で評価した。
(2) Evaluation (Experimental Examples 1-9, Comparative Experimental Examples 1-10)
Compounds B-1 to B-9 obtained in Synthesis Examples 1 to 5 and Synthesis Examples 11 to 14, Compounds R-1 to R-7 obtained in Synthesis Examples 6 to 9 and Synthesis Examples 15 to 17, 2- (2-hydroxyethylthio) -9,10-anthraquinone, 2-hydroxymethyl-9,10-anthraquinone (HMAQ), and 2- (2-hydroxyethylthio) -thioxanthene-9 obtained in Synthesis Example 10 -The molecular weight of ON, the voltage holding ratio of the liquid crystal, and the NI point drop of the liquid crystal were evaluated by the following methods.

(分子量)
1)高速液体クロマトグラフィー(HPLC)測定
上記化合物について、それぞれテトラヒドロフラン(THF)に溶解した試料液を調製し、下記測定条件で高速液体クロマトグラフフィー(HPLC)測定を行った。
(HPLC測定条件)
装置:waters製 Acquity TM UPLC H-Class system
カラム:Acquity UPLC BEH C18、2.1mmID×100mm 粒子径:1.7μm
移動相:A:アセトニトリル
B:5mM酢酸アンモニウム水溶液
A/B = 60/40(0〜4分)
95/5(4〜9分)
95/5(9〜10分)
流速:0.4mL/分
PDA検出器:測定波長:190〜500nm、抽出波長:400nm
(Molecular weight)
1) High performance liquid chromatography (HPLC) measurement About the said compound, the sample solution melt | dissolved in tetrahydrofuran (THF) was prepared, respectively, and the high performance liquid chromatography (HPLC) measurement was performed on the following measurement conditions.
(HPLC measurement conditions)
Equipment: Acquity TM UPLC H-Class system made by waters
Column: Acquity UPLC BEH C18, 2.1mmID × 100mm Particle size: 1.7μm
Mobile phase: A: Acetonitrile
B: 5 mM ammonium acetate aqueous solution
A / B = 60/40 (0-4 minutes)
95/5 (4-9 minutes)
95/5 (9-10 minutes)
Flow rate: 0.4mL / min
PDA detector: Measurement wavelength: 190-500nm, Extraction wavelength: 400nm

検出波長400nmで検出された全ピークのうち、最も強度が大きいピーク(ピークの高さが最も高いピーク)を「メインピーク」とし、メインピークの有無を確認した。その結果、化合物B−1〜B−9、化合物R−1〜R−3、R−5〜R−7、2-(2-ヒドロキシエチルチオ)-9,10-アントラキノン、2-ヒドロキシメチル-9,10-アントラキノン(HMAQ)及び2-(2-ヒドロキシエチルチオ)-チオキサンテン−9−オンについては、メインピークが検出された。一方、化合物R−4については、メインピークが検出されなかった。   Among all peaks detected at a detection wavelength of 400 nm, the peak with the highest intensity (the peak with the highest peak height) was defined as “main peak”, and the presence or absence of the main peak was confirmed. As a result, compounds B-1 to B-9, compounds R-1 to R-3, R-5 to R-7, 2- (2-hydroxyethylthio) -9,10-anthraquinone, 2-hydroxymethyl- Main peaks were detected for 9,10-anthraquinone (HMAQ) and 2- (2-hydroxyethylthio) -thioxanthen-9-one. On the other hand, no main peak was detected for compound R-4.

2)液体クロマトグラフィー質量分析(LC/MS)測定
メインピークが検出された化合物について、検出されたメインピークのピーク頂点に対応する相対分子質量を、液体クロマトグラフィー質量分析(LC/MS)により測定した。
(LC/MS測定条件)
装置:waters製 Acquity TM H-Class system / SQ Detector
カラム:Acquity UPLC BEH C18、2.1mmID×100mm 粒子径:1.7μm
移動相:A:アセトニトリル
B:5mM酢酸アンモニウム水溶液
A/B = 60/40(0〜4分)
95/5(4〜9分)
95/5(9〜10分)
流速:0.4mL/分
イオン化:ESI(エレクトロスプレーイオン化)、正・負イオン測定
PDA検出器:測定波長:190〜500nm、抽出波長:400nm
2) Liquid Chromatography Mass Spectrometry (LC / MS) Measurement For compounds in which the main peak was detected, the relative molecular mass corresponding to the peak apex of the detected main peak was measured by liquid chromatography mass spectrometry (LC / MS). did.
(LC / MS measurement conditions)
Equipment: Acquity TM H-Class system / SQ Detector made by waters
Column: Acquity UPLC BEH C18, 2.1mmID × 100mm Particle size: 1.7μm
Mobile phase: A: Acetonitrile
B: 5 mM ammonium acetate aqueous solution
A / B = 60/40 (0-4 minutes)
95/5 (4-9 minutes)
95/5 (9-10 minutes)
Flow rate: 0.4 mL / min Ionization: ESI (electrospray ionization), positive / negative ion measurement
PDA detector: Measurement wavelength: 190-500nm, Extraction wavelength: 400nm

(液晶の電圧保持率)
0.1gの上記化合物と、1gの液晶(MLC-7021-000、メルク社製)とをバイアル瓶に投入し、120℃で1時間加熱して液晶混合物を得た。次いで、この液晶混合物を取り出して、透明電極が予め形成されたガラスセル(KSSZ-10/B111M1NSS05、EHC社製)に注入し、電圧1Vを印加し、60Hzでの電圧保持率を6254型測定装置(東陽テクニカ製)により測定した。
電圧保持率が95%以上である場合を◎、90%以上95%未満である場合を○、90%未満である場合を×とした。
電圧保持率が高いほど、液晶の汚染性が抑制されていることを意味する。
(Voltage holding ratio of liquid crystal)
0.1 g of the above compound and 1 g of liquid crystal (MLC-7021-000, manufactured by Merck & Co., Inc.) were put into a vial and heated at 120 ° C. for 1 hour to obtain a liquid crystal mixture. Next, this liquid crystal mixture is taken out, poured into a glass cell (KSSZ-10 / B111M1NSS05, manufactured by EHC) in which a transparent electrode is formed in advance, a voltage of 1 V is applied, and a voltage holding ratio at 60 Hz is measured by a 6254 type measuring device. It was measured by (Toyo Technica).
The case where the voltage holding ratio was 95% or more was marked with ◎, the case where it was 90% or more and less than 95%, and the case where it was less than 90%.
A higher voltage holding ratio means that the contamination of the liquid crystal is suppressed.

(液晶のN-I点降下)
0.1gの上記化合物と、1gの液晶(MLC-7021-000、メルク社製)とをバイアル瓶に投入し、120℃で1時間加熱して液晶混合物を得た。次いで、この液晶混合物を、アルミ製オープンパン(エポリードサービス社製)に10mg入れ、DTA-TG装置(セイコーインスツル社製)によりN-I点を測定した。測定は、昇温速度2℃/minで、55℃から150℃まで液晶混合物を加熱して行った。
液晶のN-I点に対する変化量が2℃未満である場合を◎、2℃以上5℃未満の場合を○、5℃以上である場合を×とした。
(NI point drop of liquid crystal)
0.1 g of the above compound and 1 g of liquid crystal (MLC-7021-000, manufactured by Merck & Co., Inc.) were put into a vial and heated at 120 ° C. for 1 hour to obtain a liquid crystal mixture. Next, 10 mg of this liquid crystal mixture was placed in an aluminum open pan (Epolide Service), and the NI point was measured with a DTA-TG apparatus (Seiko Instruments). The measurement was performed by heating the liquid crystal mixture from 55 ° C. to 150 ° C. at a temperature rising rate of 2 ° C./min.
The case where the amount of change with respect to the NI point of the liquid crystal was less than 2 ° C. was evaluated as “◎”;

実験例1〜9の測定結果を表5に、比較実験例1〜10の測定結果を表6にそれぞれ示す。表5及び6における「分子量」として、化合物R−4ではHPLC測定でメインピークが検出されなかったため、「重量平均分子量」を記載した。その他の化合物はHPLC測定でメインピークが検出されたので、メインピークの頂点に対応する「相対分子質量」(LC/MSで測定される分子量)を記載した。

Figure 0006127223
Figure 0006127223
Table 5 shows the measurement results of Experimental Examples 1 to 9, and Table 6 shows the measurement results of Comparative Experimental Examples 1 to 10, respectively. As “molecular weight” in Tables 5 and 6, since no main peak was detected by HPLC measurement in compound R-4, “weight average molecular weight” was described. Since the main peak of other compounds was detected by HPLC measurement, the “relative molecular mass” (molecular weight measured by LC / MS) corresponding to the apex of the main peak was described.
Figure 0006127223
Figure 0006127223

表5及び6に示されるように、NHCO基当量が350g/eq以下である実験例1〜5の化合物B−1〜B−5は、NHCO基当量が350g/eq超である比較実験例1〜4の化合物R−1〜R−4や、分子内にNHCO基を含まない比較実験例5の2-(2-ヒドロキシエチルチオ)-9,10-アントラキノン、及び比較実験例6の2-ヒドロキシメチル-9,10-アントラキノン(HMAQ)よりも、液晶の電圧保持率が高く、且つN−I点降下が少ないことがわかる。   As shown in Tables 5 and 6, Compounds B-1 to B-5 in Experimental Examples 1 to 5 having an NHCO group equivalent of 350 g / eq or less are Comparative Experimental Examples 1 in which the NHCO group equivalent is more than 350 g / eq. -4 compounds R-1 to R-4, 2- (2-hydroxyethylthio) -9,10-anthraquinone of Comparative Experimental Example 5 that does not contain an NHCO group in the molecule, and 2- of Comparative Experimental Example 6 It can be seen that the voltage holding ratio of the liquid crystal is higher and the NI drop is smaller than that of hydroxymethyl-9,10-anthraquinone (HMAQ).

同様に、NHCO基当量が350g/eq以下である実験例6〜9の化合物B−6〜B−9は、NHCO基当量が350g/eq超である比較実験例7〜9の化合物R−5〜R−7よりも、N−I点降下が少ないことがわかる。   Similarly, the compounds B-6 to B-9 of Experimental Examples 6 to 9 having an NHCO group equivalent of 350 g / eq or less are the compounds R-5 of Comparative Experimental Examples 7 to 9 having an NHCO group equivalent of more than 350 g / eq. It can be seen that there is less NI point depression than ~ R-7.

2.光硬化性樹脂組成物の調製と評価
(硬化性化合物A)
硬化性化合物A−1:
以下の方法で、メタアクリル酸変性ビスフェノールF型エポキシ樹脂(95%部分メタアクリル化物)を合成した。
160gの液状ビスフェノールF型エポキシ樹脂(エポトートYDF-8170C、新日鉄住金化学社製、エポキシ当量160g/eq)、重合禁止剤として0.1gのp-メトキシフェノール、触媒として0.2gのトリエタノールアミン、及び81.7gのメタアクリル酸をフラスコ内に仕込み、乾燥空気を送り込んで90℃で還流攪拌しながら5時間反応させた。得られた化合物を、超純水にて20回洗浄し、メタアクリル酸変性ビスフェノールF型エポキシ樹脂(硬化性樹脂A-1)を得た。
共栄社化学製ライトアクリレート14EG-A:
下記式で表されるポリエチレングリコールジアクリレート(分子量600)

Figure 0006127223
2. Preparation and Evaluation of Photocurable Resin Composition (Curable Compound A)
Curable compound A-1:
A methacrylic acid-modified bisphenol F type epoxy resin (95% partially methacrylic product) was synthesized by the following method.
160 g of liquid bisphenol F type epoxy resin (Epototo YDF-8170C, manufactured by Nippon Steel & Sumikin Chemical Co., Ltd., epoxy equivalent 160 g / eq), 0.1 g of p-methoxyphenol as a polymerization inhibitor, 0.2 g of triethanolamine as a catalyst, And 81.7 g of methacrylic acid were charged into the flask, dried air was fed, and the mixture was reacted at 90 ° C. with reflux stirring for 5 hours. The obtained compound was washed 20 times with ultrapure water to obtain a methacrylic acid-modified bisphenol F type epoxy resin (curable resin A-1).
Kyoeisha Chemical Light Acrylate 14EG-A:
Polyethylene glycol diacrylate represented by the following formula (molecular weight 600)
Figure 0006127223

(化合物B)
合成例1〜5及び合成例11〜14で得られた化合物B−1〜B−9
(比較用化合物)
合成例6〜9及び合成例15〜17で得られた化合物R−1〜R−7
2-(2-ヒドロキシエチルチオ)-9,10-アントラキノン
2-ヒドロキシメチル-9,10-アントラキノン(HMAQ)
合成例10で得られた2-(2-ヒドロキシエチルチオ)-チオキサンテン−9−オン
(Compound B)
Compounds B-1 to B-9 obtained in Synthesis Examples 1 to 5 and Synthesis Examples 11 to 14
(Comparative compound)
Compounds R-1 to R-7 obtained in Synthesis Examples 6 to 9 and Synthesis Examples 15 to 17
2- (2-hydroxyethylthio) -9,10-anthraquinone 2-hydroxymethyl-9,10-anthraquinone (HMAQ)
2- (2-Hydroxyethylthio) -thioxanthen-9-one obtained in Synthesis Example 10

(熱硬化性化合物C)
三菱化学社製jER樹脂1004(ビスフェノールA型エポキシ樹脂、エポキシ当量875〜975g/eq、分子量1650、軟化点97℃)
(Thermosetting compound C)
JER resin 1004 manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation (bisphenol A type epoxy resin, epoxy equivalent 875-975 g / eq, molecular weight 1650, softening point 97 ° C.)

(熱硬化剤D)
日本化成社製ADH(アジピン酸ジヒドラジド、融点177〜184℃)
(Thermosetting agent D)
Nippon Kasei Co., Ltd. ADH (Adipic acid dihydrazide, melting point 177-184 ° C.)

(その他成分E)
シリカ粒子S-100((株)日本触媒製)
微粒子ポリマーF351(熱可塑性樹脂粒子、アイカ工業社製、軟化点120℃、平均粒子径0.3μm)
信越化学工業社製KBM-403(γ-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、シランカップリング剤)
(Other components E)
Silica particles S-100 (manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd.)
Fine particle polymer F351 (thermoplastic resin particles, manufactured by Aika Kogyo Co., Ltd., softening point 120 ° C., average particle diameter 0.3 μm)
KBM-403 (γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, silane coupling agent) manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

(実施例1)
硬化性化合物Aとして、上記合成した硬化性化合物A−1を430質量部及び共栄社化学製ライトアクリレート14EG-Aを200質量部と、化合物Bとして合成例1で得られた化合物B−1を10質量部と、熱硬化性化合物Cとして三菱化学社製jER樹脂1004を50質量部と、熱硬化剤Dとして日本化成社製ADHを90質量部と、その他成分Eとして(株)日本触媒製シリカ粒子S-100を130質量部、アイカ社製微粒子ポリマーF351を70質量部、及び信越化学工業社製シランカップリング剤KBM−403を20質量部とを三本ロールミルを用いて均一な液となるように十分に混合して、光硬化性樹脂組成物を得た。
Example 1
As the curable compound A, 430 parts by mass of the curable compound A-1 synthesized above and 200 parts by mass of light acrylate 14EG-A manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd. and 10 compounds B-1 obtained in Synthesis Example 1 as the compound B were used. 50 parts by mass of jER resin 1004 manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation as thermosetting compound C, 90 parts by mass of ADH manufactured by Nippon Kasei Co., Ltd. as thermosetting agent D, and silica produced by Nippon Shokubai Co., Ltd. as other components E Using a three-roll mill, 130 parts by mass of particle S-100, 70 parts by mass of fine polymer F351 manufactured by Aika Co., Ltd., and 20 parts by mass of silane coupling agent KBM-403 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. become a uniform liquid. The mixture was sufficiently mixed to obtain a photocurable resin composition.

(実施例2〜9、比較例1〜10)
表7又は8に示される組成に変更した以外は実施例1と同様にして光硬化性樹脂組成物を得た。
(Examples 2-9, Comparative Examples 1-10)
A photocurable resin composition was obtained in the same manner as in Example 1 except that the composition shown in Table 7 or 8 was changed.

得られた光硬化性樹脂組成物の表示特性を、以下の方法で評価した。   The display characteristics of the obtained photocurable resin composition were evaluated by the following methods.

(液晶表示パネル表示特性テスト)
得られた光硬化性樹脂組成物を、ディスペンサー(ショットマスター、武蔵エンジニアリング製)を用いて、透明電極と配向膜が予め形成された40mm×45mmガラス基板(RT-DM88-PIN、EHC社製)上に、メインシールとして35mm×40mmの四角形のシールパターン(断面積3500μm)と、その外周に38mm×43mmの四角形のシールパターンとを形成した。
次いで、貼り合せ後のパネル内容量に相当する液晶材料(MLC-7021-000、メルク社製)を、メインシールの枠内にディスペンサーを用いて精密に滴下した。次いで、対になるガラス基板を減圧下で貼り合せた後、大気開放して貼り合わせた。そして、貼り合わせた2枚のガラス基板を3分間遮光ボックス内で保持した後、メインシールを36mm×41mmの四角形のブラックマトリックスを塗布した基板でマスクした状態で、3000mJ/cmの可視光を含む光(波長370〜450nmの光)を照射し、さらに120℃で1時間加熱して、メインシールを硬化させた。その後、得られた液晶セルの両面に偏光フィルムを貼り付けて、液晶表示パネルを得た。
(LCD display panel display characteristics test)
A 40 mm × 45 mm glass substrate (RT-DM88-PIN, manufactured by EHC) in which a transparent electrode and an alignment film were formed in advance using a dispenser (manufactured by Musashi Engineering) with the obtained photocurable resin composition On the top, a 35 mm × 40 mm square seal pattern (cross-sectional area 3500 μm 2 ) and a 38 mm × 43 mm square seal pattern were formed as the main seal.
Next, a liquid crystal material (MLC-7021-000, manufactured by Merck & Co., Inc.) corresponding to the internal volume of the panel after bonding was precisely dropped into the main seal frame using a dispenser. Next, a pair of glass substrates was bonded together under reduced pressure, and then bonded to the atmosphere. Then, after holding the two bonded glass substrates in a light shielding box for 3 minutes, the main seal was masked with a substrate coated with a square black matrix of 36 mm × 41 mm, and 3000 mJ / cm 2 of visible light was emitted. The main seal was cured by irradiating the contained light (light having a wavelength of 370 to 450 nm) and further heating at 120 ° C. for 1 hour. Then, a polarizing film was affixed on both surfaces of the obtained liquid crystal cell, and the liquid crystal display panel was obtained.

得られた液晶表示パネルのメインシール際まで液晶が配向されて色ムラが全くない場合を○;メインシール際の近傍に1mm未満の範囲にわたり色ムラが発生している場合を△;メインシール際近傍から1mm以上の範囲にわたり色ムラが発生している場合を×とした。〇以上を本発明とした。   A case where the liquid crystal is aligned until the main seal of the obtained liquid crystal display panel and there is no color unevenness; ○, a case where color unevenness occurs over a range of less than 1 mm in the vicinity of the main seal; The case where color unevenness occurred over a range of 1 mm or more from the vicinity was marked as x. O or more was defined as the present invention.

(液晶表示パネル通電時の表示特性テスト)
液晶表示パネル表示特性テストと同様にして液晶表示パネルを作製し、直流電源を用いて5Vの印加電圧で駆動させた。その際に、メインシール近傍の白ムラがなく、液晶表示機能が十分に発揮できている場合を○;メインシール近傍に1mm未満の範囲にわたり白ムラが発生する場合を△;メインシール近傍から1mm以上の範囲にわたり白ムラが発生して正常に駆動しない場合を×とした。〇以上を本発明とした。
(Display characteristics test when the LCD panel is energized)
A liquid crystal display panel was produced in the same manner as the liquid crystal display panel display characteristic test, and was driven with an applied voltage of 5 V using a DC power source. At that time, when there is no white unevenness in the vicinity of the main seal and the liquid crystal display function is sufficiently exerted, ○: when white unevenness occurs in the vicinity of the main seal over a range of less than 1 mm, Δ: 1 mm from the vicinity of the main seal A case where white unevenness occurred over the above range and the device was not driven normally was marked as x. O or more was defined as the present invention.

実施例1〜9の評価結果を表7に示し;比較例1〜10の評価結果を表8に示す。

Figure 0006127223
Figure 0006127223
The evaluation results of Examples 1-9 are shown in Table 7; the evaluation results of Comparative Examples 1-10 are shown in Table 8.
Figure 0006127223
Figure 0006127223

表7及び8に示されるように、NHCO基当量が350g/eq以下である化合物Bを含む実施例1〜9の光硬化性樹脂組成物は、通電時と無通電時のいずれにおいても良好な表示特性を示すことがわかる。   As shown in Tables 7 and 8, the photocurable resin compositions of Examples 1 to 9 containing Compound B having an NHCO group equivalent of 350 g / eq or less are good both when energized and when not energized. It can be seen that the display characteristics are shown.

これに対して、NHCO基当量が350g/eq超である比較用化合物を含む比較例1〜4及び比較例7〜9の光硬化性樹脂組成物やNHCO基を含まない比較例5、6及び10の光硬化性樹脂組成物は、いずれも表示特性が劣ることがわかる。これは、比較用化合物が有する親水性のNHCO基が少ないか、又は有しないことから、液晶汚染を十分には抑制できなかったためと考えられる。   In contrast, the photocurable resin compositions of Comparative Examples 1 to 4 and Comparative Examples 7 to 9 containing a comparative compound having an NHCO group equivalent of more than 350 g / eq, and Comparative Examples 5 and 6 not containing an NHCO group It can be seen that all of the 10 photocurable resin compositions have inferior display characteristics. This is probably because liquid crystal contamination could not be sufficiently suppressed because the comparative compound had little or no hydrophilic NHCO group.

本出願は、2015年6月30日出願の特願2015−131160及び2016年1月27日出願の特願2016−013332に基づく優先権を主張する。当該出願明細書に記載された内容は、すべて本願明細書に援用される。   The present application claims priority based on Japanese Patent Application No. 2015-131160 filed on June 30, 2015 and Japanese Patent Application No. 2016-013332 filed on January 27, 2016. All the contents described in the application specification are incorporated herein by reference.

本発明は、例えば表示素子シール剤、特に液晶シール剤として用いた際に、可視光に対する硬化性が高く、かつ液晶汚染を高度に抑制できる光硬化性樹脂組成物を提供できる。   The present invention can provide a photocurable resin composition having high curability for visible light and capable of highly suppressing liquid crystal contamination when used as, for example, a display element sealant, particularly a liquid crystal sealant.

Claims (16)

分子内にエチレン性不飽和二重結合を有する硬化性化合物Aと、
分子内に、アントラキノン骨格又はチオキサントン骨格と、3以上のNHCO基とを有し、式(I)で表されるNHCO基当量が350g/eq以下である化合物Bと、
を含む、光硬化性樹脂組成物。
NHCO基当量(g/eq)=分子量/1分子に含まれるNHCO基の数・・・式(I)
A curable compound A having an ethylenically unsaturated double bond in the molecule;
Compound B having an anthraquinone skeleton or a thioxanthone skeleton and three or more NHCO groups in the molecule, and an NHCO group equivalent represented by the formula (I) is 350 g / eq or less,
A photocurable resin composition comprising:
NHCO group equivalent (g / eq) = molecular weight / number of NHCO groups contained in one molecule: Formula (I)
前記化合物Bが、分子内にビューレット骨格又はアロファネート骨格を有する、請求項1に記載の光硬化性樹脂組成物。   The photocurable resin composition according to claim 1, wherein the compound B has a burette skeleton or an allophanate skeleton in the molecule. 前記化合物Bは、下記式(4)又は式(5)で表される、請求項1又は2に記載の光硬化性樹脂組成物。
Figure 0006127223
(式(4)及び(5)において、
は、それぞれ独立に単結合、炭素数1〜10のアルキレン基、炭素数1〜10のアルキレンオキシ基、炭素数1〜10のアルキレンチオ基、炭素数6〜10のアリーレン基、炭素数6〜10のアリーレンオキシ基又は炭素数6〜10のアリーレンチオ基を表し、
Xは、分子内に少なくともp個のイソシアネート基を有する化合物から誘導される有機基を表し、
pは、〜5の整数を表す)
The said compound B is a photocurable resin composition of Claim 1 or 2 represented by following formula (4) or Formula (5).
Figure 0006127223
(In equations (4) and (5),
L 1 each independently represents a single bond, an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, an alkyleneoxy group having 1 to 10 carbon atoms, an alkylenethio group having 1 to 10 carbon atoms, an arylene group having 6 to 10 carbon atoms, or a carbon number. Represents an aryleneoxy group having 6 to 10 carbon atoms or an arylenethio group having 6 to 10 carbon atoms,
X represents an organic group derived from a compound having at least p isocyanate groups in the molecule;
p represents an integer of 3 to 5)
前記化合物Bが、分子内にエチレン性不飽和二重結合をさらに有し、且つ
前記硬化性化合物Aが、アントラキノン骨格又はチオキサントン骨格を有しない、請求項1〜3のいずれか一項に記載の光硬化性樹脂組成物。
The compound B further has an ethylenically unsaturated double bond in the molecule, and the curable compound A does not have an anthraquinone skeleton or a thioxanthone skeleton. Photocurable resin composition.
前記化合物Bの含有量が、前記硬化性化合物Aに対して0.01〜10質量%である、請求項1〜4のいずれか一項に記載の光硬化性樹脂組成物。   The photocurable resin composition as described in any one of Claims 1-4 whose content of the said compound B is 0.01-10 mass% with respect to the said curable compound A. 前記硬化性化合物Aが、分子内にエポキシ基をさらに有する、請求項1〜5のいずれか一項に記載の光硬化性樹脂組成物。   The photocurable resin composition according to claim 1, wherein the curable compound A further has an epoxy group in the molecule. 分子内にエポキシ基を有する熱硬化性化合物Cと、
熱硬化剤Dと
をさらに含み、且つ
前記熱硬化性化合物Cは、前記硬化性化合物Aとは異なる、請求項1〜6のいずれか一項に記載の光硬化性樹脂組成物。
A thermosetting compound C having an epoxy group in the molecule;
The photocurable resin composition according to any one of claims 1 to 6, further comprising a thermosetting agent D, wherein the thermosetting compound C is different from the curable compound A.
前記熱硬化剤Dが、ジヒドラジド系熱潜在性硬化剤、イミダゾール系熱潜在性硬化剤、アミンアダクト系熱潜在性硬化剤、及びポリアミン系熱潜在性硬化剤からなる群より選ばれる1以上である、請求項7に記載の光硬化性樹脂組成物。   The thermosetting agent D is at least one selected from the group consisting of a dihydrazide-based thermal latent curing agent, an imidazole-based thermal latent curing agent, an amine adduct-based thermal latent curing agent, and a polyamine-based thermal latent curing agent. The photocurable resin composition according to claim 7. 請求項1〜8のいずれか一項に記載の光硬化性樹脂組成物からなる、表示素子シール剤。   The display element sealing agent which consists of a photocurable resin composition as described in any one of Claims 1-8. 請求項1〜8のいずれか一項に記載の光硬化性樹脂組成物からなる、液晶シール剤。   The liquid-crystal sealing compound which consists of a photocurable resin composition as described in any one of Claims 1-8. 液晶滴下工法用の液晶シール剤である、請求項10に記載の液晶シール剤。   The liquid crystal sealing agent according to claim 10, which is a liquid crystal sealing agent for a liquid crystal dropping method. 請求項10又は11に記載の液晶シール剤を用いて、一方の基板にシールパターンを形成する工程と、
前記シールパターンが未硬化の状態において、前記シールパターンの領域内、又は前記一方の基板と対になる他方の基板に液晶を滴下する工程と、
前記一方の基板と前記他方の基板とを、前記シールパターンを介して重ね合わせる工程と、
前記シールパターンを硬化させる工程と、
を含む、液晶表示パネルの製造方法。
A step of forming a seal pattern on one substrate using the liquid crystal sealant according to claim 10 or 11,
In the uncured state of the seal pattern, dropping the liquid crystal on the other substrate that is paired with the one substrate in the region of the seal pattern;
Superimposing the one substrate and the other substrate through the seal pattern;
Curing the seal pattern;
A method for manufacturing a liquid crystal display panel, comprising:
前記シールパターンを硬化させる工程は、前記シールパターンに光を照射して前記シールパターンを硬化させる工程を含む、請求項12に記載の液晶表示パネルの製造方法。   The method of manufacturing a liquid crystal display panel according to claim 12, wherein the step of curing the seal pattern includes a step of curing the seal pattern by irradiating the seal pattern with light. 前記シールパターンに照射する光は、可視光領域の光を含む、請求項13に記載の液晶表示パネルの製造方法。   The method for manufacturing a liquid crystal display panel according to claim 13, wherein the light applied to the seal pattern includes light in a visible light region. 前記シールパターンを硬化させる工程は、光が照射された前記シールパターンを加熱して硬化させる工程をさらに含む、請求項13に記載の液晶表示パネルの製造方法。   The method of manufacturing a liquid crystal display panel according to claim 13, wherein the step of curing the seal pattern further includes a step of heating and curing the seal pattern irradiated with light. 一対の基板と、
前記一対の基板の間に配置された枠状のシール部材と、
前記一対の基板の間の前記シール部材で囲まれた空間に充填された液晶層とを含み、
前記シール部材が、請求項10又は11に記載の液晶シール剤の硬化物である、液晶表示パネル。
A pair of substrates;
A frame-shaped sealing member disposed between the pair of substrates;
A liquid crystal layer filled in a space surrounded by the seal member between the pair of substrates,
The liquid crystal display panel whose said sealing member is the hardened | cured material of the liquid-crystal sealing compound of Claim 10 or 11.
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