JP6793470B2 - Sealing material for liquid crystal dripping method, liquid crystal display panel and manufacturing method of liquid crystal display panel - Google Patents
Sealing material for liquid crystal dripping method, liquid crystal display panel and manufacturing method of liquid crystal display panel Download PDFInfo
- Publication number
- JP6793470B2 JP6793470B2 JP2016111292A JP2016111292A JP6793470B2 JP 6793470 B2 JP6793470 B2 JP 6793470B2 JP 2016111292 A JP2016111292 A JP 2016111292A JP 2016111292 A JP2016111292 A JP 2016111292A JP 6793470 B2 JP6793470 B2 JP 6793470B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- liquid crystal
- meth
- sealing material
- acrylic
- structural unit
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 title claims description 130
- 239000003566 sealing material Substances 0.000 title claims description 102
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 67
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 7
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 claims description 80
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 claims description 80
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 claims description 76
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 claims description 76
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 47
- 125000003647 acryloyl group Chemical group O=C([*])C([H])=C([H])[H] 0.000 claims description 41
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 41
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 claims description 38
- 238000001723 curing Methods 0.000 claims description 34
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 claims description 27
- 238000007789 sealing Methods 0.000 claims description 17
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 16
- 239000000945 filler Substances 0.000 claims description 15
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 15
- 239000003999 initiator Substances 0.000 claims description 12
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 claims description 9
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 claims description 8
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 claims description 7
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 7
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 5
- 238000013007 heat curing Methods 0.000 claims description 4
- 150000003573 thiols Chemical class 0.000 claims description 4
- 238000000016 photochemical curing Methods 0.000 claims description 3
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 52
- -1 methacryloyl group Chemical group 0.000 description 28
- 239000000047 product Substances 0.000 description 26
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 25
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 22
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 22
- 239000005062 Polybutadiene Substances 0.000 description 21
- 229920002857 polybutadiene Polymers 0.000 description 21
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 20
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 19
- 229920001195 polyisoprene Polymers 0.000 description 18
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 16
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 16
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 15
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 15
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical compound C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 12
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 11
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 11
- RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N Isoprene Chemical compound CC(=C)C=C RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N bisphenol F Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1CC1=CC=C(O)C=C1 PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Natural products C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 8
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 7
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 7
- ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N isocyanuric acid Chemical compound OC1=NC(O)=NC(O)=N1 ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical class O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 7
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 6
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical group C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229930185605 Bisphenol Natural products 0.000 description 5
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 5
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 5
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 5
- BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOCC1CO1 BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000002009 diols Chemical class 0.000 description 4
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N diphenyl Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 4
- 239000011256 inorganic filler Substances 0.000 description 4
- 229910003475 inorganic filler Inorganic materials 0.000 description 4
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 4
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 4
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 4
- 239000012766 organic filler Substances 0.000 description 4
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 4
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920000459 Nitrile rubber Polymers 0.000 description 3
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N Propylene oxide Chemical compound CC1CO1 GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 3
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 3
- NTXGQCSETZTARF-UHFFFAOYSA-N buta-1,3-diene;prop-2-enenitrile Chemical compound C=CC=C.C=CC#N NTXGQCSETZTARF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZWLIYXJBOIDXLL-UHFFFAOYSA-N decanedihydrazide Chemical compound NNC(=O)CCCCCCCCC(=O)NN ZWLIYXJBOIDXLL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000010828 elution Methods 0.000 description 3
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 3
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 3
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920000193 polymethacrylate Polymers 0.000 description 3
- 229920006295 polythiol Polymers 0.000 description 3
- 238000007142 ring opening reaction Methods 0.000 description 3
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 description 3
- MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 1,2-Divinylbenzene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1C=C MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BPXVHIRIPLPOPT-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-tris(2-hydroxyethyl)-1,3,5-triazinane-2,4,6-trione Chemical compound OCCN1C(=O)N(CCO)C(=O)N(CCO)C1=O BPXVHIRIPLPOPT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HECLRDQVFMWTQS-RGOKHQFPSA-N 1755-01-7 Chemical compound C1[C@H]2[C@@H]3CC=C[C@@H]3[C@@H]1C=C2 HECLRDQVFMWTQS-RGOKHQFPSA-N 0.000 description 2
- KWVGIHKZDCUPEU-UHFFFAOYSA-N 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC)(OC)C(=O)C1=CC=CC=C1 KWVGIHKZDCUPEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CQOZJDNCADWEKH-UHFFFAOYSA-N 2-[3,3-bis(2-hydroxyphenyl)propyl]phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1CCC(C=1C(=CC=CC=1)O)C1=CC=CC=C1O CQOZJDNCADWEKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 2-methylphenol;3-methylphenol;4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1.CC1=CC=CC(O)=C1.CC1=CC=CC=C1O QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RDFQSFOGKVZWKF-UHFFFAOYSA-N 3-hydroxy-2,2-dimethylpropanoic acid Chemical compound OCC(C)(C)C(O)=O RDFQSFOGKVZWKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L Calcium carbonate Chemical compound [Ca+2].[O-]C([O-])=O VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N Epichlorohydrin Chemical compound ClCC1CO1 BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N Iron oxide Chemical compound [Fe]=O UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L Magnesium sulfate Chemical compound [Mg+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 2
- UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N Naphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=CC=CC=C21 UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 2
- ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N Propane Chemical compound CCC ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000005856 abnormality Effects 0.000 description 2
- 125000004018 acid anhydride group Chemical group 0.000 description 2
- 150000001253 acrylic acids Chemical class 0.000 description 2
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 2
- TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L barium sulfate Chemical compound [Ba+2].[O-]S([O-])(=O)=O TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 230000001588 bifunctional effect Effects 0.000 description 2
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 description 2
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 description 2
- QNRMTGGDHLBXQZ-UHFFFAOYSA-N buta-1,2-diene Chemical compound CC=C=C QNRMTGGDHLBXQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 229930003836 cresol Natural products 0.000 description 2
- 125000002993 cycloalkylene group Chemical group 0.000 description 2
- KOMDZQSPRDYARS-UHFFFAOYSA-N cyclopenta-1,3-diene titanium Chemical compound [Ti].C1C=CC=C1.C1C=CC=C1 KOMDZQSPRDYARS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N diphenyl ether Chemical compound C=1C=CC=CC=1OC1=CC=CC=C1 USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 2
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 2
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 2
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 2
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 2
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 2
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N neopentyl glycol Chemical compound OCC(C)(C)CO SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QWVGKYWNOKOFNN-UHFFFAOYSA-N o-cresol Chemical compound CC1=CC=CC=C1O QWVGKYWNOKOFNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 2
- 125000003356 phenylsulfanyl group Chemical group [*]SC1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 2
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 2
- 229920000768 polyamine Polymers 0.000 description 2
- 239000004848 polyfunctional curative Substances 0.000 description 2
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 2
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 2
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 2
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 2
- 239000011164 primary particle Substances 0.000 description 2
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 2
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 2
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 239000000454 talc Substances 0.000 description 2
- 229910052623 talc Inorganic materials 0.000 description 2
- QNODIIQQMGDSEF-UHFFFAOYSA-N (1-hydroxycyclohexyl)-phenylmethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1(O)CCCCC1 QNODIIQQMGDSEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCNHNBLSNVSJTJ-UHFFFAOYSA-N 1,1-Bis(4-hydroxyphenyl)ethane Chemical class C=1C=C(O)C=CC=1C(C)C1=CC=C(O)C=C1 HCNHNBLSNVSJTJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNXKLRKQUSZVQY-UHFFFAOYSA-N 1,6-diisocyanatohexane ethyl carbamate 2-(phenoxymethyl)oxirane prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.CCOC(N)=O.C1OC1COC1=CC=CC=C1.O=C=NCCCCCCN=C=O ZNXKLRKQUSZVQY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012956 1-hydroxycyclohexylphenyl-ketone Substances 0.000 description 1
- KMHSUNDEGHRBNV-UHFFFAOYSA-N 2,4-dichloropyrimidine-5-carbonitrile Chemical class ClC1=NC=C(C#N)C(Cl)=N1 KMHSUNDEGHRBNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PSYGHMBJXWRQFD-UHFFFAOYSA-N 2-(2-sulfanylacetyl)oxyethyl 2-sulfanylacetate Chemical compound SCC(=O)OCCOC(=O)CS PSYGHMBJXWRQFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLGDWWCZQDIASO-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-1-(7-oxabicyclo[4.1.0]hepta-1,3,5-trien-2-yl)-2-phenylethanone Chemical class OC(C(=O)c1cccc2Oc12)c1ccccc1 NLGDWWCZQDIASO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LWRBVKNFOYUCNP-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1-(4-methylsulfanylphenyl)-2-morpholin-4-ylpropan-1-one Chemical compound C1=CC(SC)=CC=C1C(=O)C(C)(C)N1CCOCC1 LWRBVKNFOYUCNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MWDGNKGKLOBESZ-UHFFFAOYSA-N 2-oxooctanal Chemical compound CCCCCCC(=O)C=O MWDGNKGKLOBESZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCUJYXPAKHMBAZ-UHFFFAOYSA-N 2-phenyl-1h-imidazole Chemical compound C1=CNC(C=2C=CC=CC=2)=N1 ZCUJYXPAKHMBAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VPWNQTHUCYMVMZ-UHFFFAOYSA-N 4,4'-sulfonyldiphenol Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC=C(O)C=C1 VPWNQTHUCYMVMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WOCGGVRGNIEDSZ-UHFFFAOYSA-N 4-[2-(4-hydroxy-3-prop-2-enylphenyl)propan-2-yl]-2-prop-2-enylphenol Chemical compound C=1C=C(O)C(CC=C)=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C(CC=C)=C1 WOCGGVRGNIEDSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004864 4-thiomethylphenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000005995 Aluminium silicate Substances 0.000 description 1
- 238000004438 BET method Methods 0.000 description 1
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen sulfide Chemical compound S RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N Ethane Chemical compound CC OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- 241000239366 Euphausiacea Species 0.000 description 1
- ZGFPUTOTEJOSAY-UHFFFAOYSA-N FC1=C([Ti])C(F)=CC=C1N1C=CC=C1 Chemical compound FC1=C([Ti])C(F)=CC=C1N1C=CC=C1 ZGFPUTOTEJOSAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002121 Hydroxyl-terminated polybutadiene Polymers 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000004695 Polyether sulfone Substances 0.000 description 1
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 1
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 1
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N Titanium nitride Chemical compound [Ti]#N NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N Trichloroethylene Chemical compound ClC=C(Cl)Cl XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ULQMPOIOSDXIGC-UHFFFAOYSA-N [2,2-dimethyl-3-(2-methylprop-2-enoyloxy)propyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(C)(C)COC(=O)C(C)=C ULQMPOIOSDXIGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RUDUCNPHDIMQCY-UHFFFAOYSA-N [3-(2-sulfanylacetyl)oxy-2,2-bis[(2-sulfanylacetyl)oxymethyl]propyl] 2-sulfanylacetate Chemical compound SCC(=O)OCC(COC(=O)CS)(COC(=O)CS)COC(=O)CS RUDUCNPHDIMQCY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YKTSYUJCYHOUJP-UHFFFAOYSA-N [O--].[Al+3].[Al+3].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] Chemical compound [O--].[Al+3].[Al+3].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] YKTSYUJCYHOUJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002159 abnormal effect Effects 0.000 description 1
- 150000008062 acetophenones Chemical class 0.000 description 1
- 150000008065 acid anhydrides Chemical group 0.000 description 1
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- IBVAQQYNSHJXBV-UHFFFAOYSA-N adipic acid dihydrazide Chemical compound NNC(=O)CCCCC(=O)NN IBVAQQYNSHJXBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005907 alkyl ester group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000012211 aluminium silicate Nutrition 0.000 description 1
- PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N anthraquinone Natural products CCC(=O)c1c(O)c2C(=O)C3C(C=CC=C3O)C(=O)c2cc1CC(=O)OC PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000732 arylene group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000751 azo group Chemical group [*]N=N[*] 0.000 description 1
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 1
- 239000000440 bentonite Substances 0.000 description 1
- 229910000278 bentonite Inorganic materials 0.000 description 1
- SVPXDRXYRYOSEX-UHFFFAOYSA-N bentoquatam Chemical compound O.O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O SVPXDRXYRYOSEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N benzoin Chemical class C=1C=CC=CC=1C(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000008366 benzophenones Chemical class 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- ZCILODAAHLISPY-UHFFFAOYSA-N biphenyl ether Natural products C1=C(CC=C)C(O)=CC(OC=2C(=CC(CC=C)=CC=2)O)=C1 ZCILODAAHLISPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MQDJYUACMFCOFT-UHFFFAOYSA-N bis[2-(1-hydroxycyclohexyl)phenyl]methanone Chemical compound C=1C=CC=C(C(=O)C=2C(=CC=CC=2)C2(O)CCCCC2)C=1C1(O)CCCCC1 MQDJYUACMFCOFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMTOKHQOVJRXLK-UHFFFAOYSA-N butane-1,4-dithiol Chemical compound SCCCCS SMTOKHQOVJRXLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N butyl acrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C=C CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000019 calcium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 239000004927 clay Substances 0.000 description 1
- 229910052570 clay Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 1
- PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M copper(1+);methylsulfanylmethane;bromide Chemical compound Br[Cu].CSC PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000007822 coupling agent Substances 0.000 description 1
- UOQACRNTVQWTFF-UHFFFAOYSA-N decane-1,10-dithiol Chemical compound SCCCCCCCCCCS UOQACRNTVQWTFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N diglycidyl ether Chemical class C1OC1COCC1CO1 GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LTYMSROWYAPPGB-UHFFFAOYSA-N diphenyl sulfide Chemical class C=1C=CC=CC=1SC1=CC=CC=C1 LTYMSROWYAPPGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VFHVQBAGLAREND-UHFFFAOYSA-N diphenylphosphoryl-(2,4,6-trimethylphenyl)methanone Chemical compound CC1=CC(C)=CC(C)=C1C(=O)P(=O)(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 VFHVQBAGLAREND-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NJLLQSBAHIKGKF-UHFFFAOYSA-N dipotassium dioxido(oxo)titanium Chemical compound [K+].[K+].[O-][Ti]([O-])=O NJLLQSBAHIKGKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004662 dithiols Chemical class 0.000 description 1
- GRGBENNNGZARRZ-UHFFFAOYSA-N dodecanedihydrazide Chemical compound NNC(=O)CCCCCCCCCCC(=O)NN GRGBENNNGZARRZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002708 enhancing effect Effects 0.000 description 1
- 238000005886 esterification reaction Methods 0.000 description 1
- NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C=C NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N ethyl carbamate;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.CCOC(N)=O UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 1
- VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N glycidyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1CO1 VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005549 heteroarylene group Chemical group 0.000 description 1
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N hexane Substances CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000037 hydrogen sulfide Inorganic materials 0.000 description 1
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N kaolin Chemical compound O.O.O=[Al]O[Si](=O)O[Si](=O)O[Al]=O NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007561 laser diffraction method Methods 0.000 description 1
- 239000004849 latent hardener Substances 0.000 description 1
- ZLNQQNXFFQJAID-UHFFFAOYSA-L magnesium carbonate Chemical compound [Mg+2].[O-]C([O-])=O ZLNQQNXFFQJAID-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000001095 magnesium carbonate Substances 0.000 description 1
- 229910000021 magnesium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052943 magnesium sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019341 magnesium sulphate Nutrition 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 1
- 125000005641 methacryl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005395 methacrylic acid group Chemical group 0.000 description 1
- YDKNBNOOCSNPNS-UHFFFAOYSA-N methyl 1,3-benzoxazole-2-carboxylate Chemical compound C1=CC=C2OC(C(=O)OC)=NC2=C1 YDKNBNOOCSNPNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N palladium;triphenylphosphane Chemical compound [Pd].C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 1
- WDHYRUBXLGOLKR-UHFFFAOYSA-N phosphoric acid;prop-2-enoic acid Chemical class OC(=O)C=C.OP(O)(O)=O WDHYRUBXLGOLKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003016 phosphoric acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 1
- 229920006393 polyether sulfone Polymers 0.000 description 1
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 1
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 1
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 description 1
- 150000003077 polyols Chemical class 0.000 description 1
- 235000013824 polyphenols Nutrition 0.000 description 1
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 239000001294 propane Substances 0.000 description 1
- QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N propylene Natural products CC=C QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 239000007870 radical polymerization initiator Substances 0.000 description 1
- 238000010526 radical polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DVQHRBFGRZHMSR-UHFFFAOYSA-N sodium methyl 2,2-dimethyl-4,6-dioxo-5-(N-prop-2-enoxy-C-propylcarbonimidoyl)cyclohexane-1-carboxylate Chemical compound [Na+].C=CCON=C(CCC)[C-]1C(=O)CC(C)(C)C(C(=O)OC)C1=O DVQHRBFGRZHMSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
- 238000009864 tensile test Methods 0.000 description 1
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 1
- 229940071127 thioglycolate Drugs 0.000 description 1
- CWERGRDVMFNCDR-UHFFFAOYSA-M thioglycolate(1-) Chemical compound [O-]C(=O)CS CWERGRDVMFNCDR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JXUKBNICSRJFAP-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCOCC1CO1 JXUKBNICSRJFAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006839 xylylene group Chemical group 0.000 description 1
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 1
- GFQYVLUOOAAOGM-UHFFFAOYSA-N zirconium(iv) silicate Chemical compound [Zr+4].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] GFQYVLUOOAAOGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Description
本発明は、液晶滴下工法用シール材、液晶表示パネル及び液晶表示パネルの製造方法に関する。 The present invention relates to a sealing material for a liquid crystal dropping method, a liquid crystal display panel, and a method for manufacturing a liquid crystal display panel.
携帯電話やパーソナルコンピュータをはじめとする各種電子機器の画像表示パネルとして、液晶表示パネルが広く使用されている。液晶表示パネルは、通常、表面に電極が設けられた一対の基板と、それらの間に挟持された枠状のシール部材と、該シール部材で囲まれた領域内に封入された液晶とを有する。 Liquid crystal display panels are widely used as image display panels for various electronic devices such as mobile phones and personal computers. A liquid crystal display panel usually has a pair of substrates provided with electrodes on the surface, a frame-shaped sealing member sandwiched between them, and a liquid crystal enclosed in a region surrounded by the sealing members. ..
近年、液晶表示パネルの単位パネル当たりの有効画面領域を拡大させるために、シール部材の幅を従来よりも狭くすること(狭額縁化)が求められている。それに伴い、シール部材は、単位面積当たりの接着強度を従来よりも高くすることが望まれている。 In recent years, in order to expand the effective screen area per unit panel of the liquid crystal display panel, it has been required to make the width of the seal member narrower than before (narrowing the frame). Along with this, it is desired that the sealing member has a higher adhesive strength per unit area than before.
このような液晶表示パネルは、例えば液晶滴下工法で製造される。液晶滴下工法による液晶表示パネルの製造は、(1)一対の基板の一方にシール材を塗布して、液晶を充填するための枠状のシールパターンを形成し、(2)該シールパターンの枠内に液晶を滴下し、(3)シールパターンが未硬化状態のままで一対の基板を高真空下で重ね合わせた後、(4)シールパターンを硬化させて行う。 Such a liquid crystal display panel is manufactured by, for example, a liquid crystal dropping method. The liquid crystal display panel is manufactured by the liquid crystal dropping method: (1) a sealing material is applied to one of the pair of substrates to form a frame-shaped seal pattern for filling the liquid crystal, and (2) the frame of the sealing pattern. The liquid crystal is dropped inside, and (3) the seal pattern is cured while the pair of substrates are superposed under high vacuum while the seal pattern is not cured.
このように、液晶滴下工法では、未硬化のシール材と液晶とが接触した状態で硬化を行う。そのため、シール材は、液晶の汚染が少ないことが求められる。 As described above, in the liquid crystal dropping method, curing is performed in a state where the uncured sealing material and the liquid crystal are in contact with each other. Therefore, the sealing material is required to have less contamination of the liquid crystal.
液晶滴下工法に用いられるシール材として、ブタジエン−アクリロニトリル共重合体骨格を有する化合物と、熱硬化剤と、充填剤とを含む液晶滴下工法用シール材が知られている(例えば特許文献1)。また、液晶注入工法に用いられるシール材として、オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂及びジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂を含むエポキシ樹脂と、硬化剤と、マレイン化ポリブタジエンと、溶剤と、無機充填剤とを含む液晶表示素子用シール材組成物が知られている(例えば特許文献2)。 As a sealing material used in the liquid crystal dropping method, a sealing material for the liquid crystal dropping method containing a compound having a butadiene-acrylonitrile copolymer skeleton, a thermosetting agent, and a filler is known (for example, Patent Document 1). Further, as a sealing material used in the liquid crystal injection method, a liquid crystal containing an epoxy resin containing an orthocresol novolac type epoxy resin and a dicyclopentadiene type epoxy resin, a curing agent, a maleated polybutadiene, a solvent, and an inorganic filler. Sealing material compositions for display elements are known (for example, Patent Document 2).
しかしながら、特許文献1の液晶滴下工法用シール材に含まれる「ブタジエン−アクリロニトリル共重合体骨格を有する化合物」は、アクリロニトリル骨格を含むことから、十分な柔軟性を有するものではなかった。それにより、特許文献1の液晶滴下工法用シール材の硬化物は柔軟性が低く、液晶表示パネルにおける接着強度が十分ではなかった。また、ブタジエン−アクリロニトリル共重合体骨格を有する化合物は、アクリロニトリル由来の疎水性を示すことから、液晶中に溶出しやすく、液晶汚染を生じる虞もあった。 However, the "compound having a butadiene-acrylonitrile copolymer skeleton" contained in the sealing material for the liquid crystal dropping method of Patent Document 1 does not have sufficient flexibility because it contains an acrylonitrile skeleton. As a result, the cured product of the sealing material for the liquid crystal dropping method of Patent Document 1 has low flexibility, and the adhesive strength in the liquid crystal display panel is not sufficient. In addition, since the compound having a butadiene-acrylonitrile copolymer skeleton exhibits hydrophobicity derived from acrylonitrile, it is likely to be eluted in the liquid crystal, and there is a risk of causing liquid crystal contamination.
また、特許文献2のシール材用組成物は、エポキシ樹脂が液晶へ溶出しやすく、液晶汚染を生じやすかった。また、マレイン化ポリブタジエンはエポキシ樹脂の硬化剤であるため、その含有量を多くすることはできず、十分な接着強度も得られにくかった。 Further, in the composition for a sealing material of Patent Document 2, the epoxy resin is easily eluted into the liquid crystal, and the liquid crystal is easily contaminated. Further, since maleated polybutadiene is a curing agent for an epoxy resin, its content cannot be increased, and it is difficult to obtain sufficient adhesive strength.
本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであり、例えばシール部材を狭額縁化しても液晶表示パネルの基板に対して高い接着強度を有し、且つ液晶の汚染を抑制できる液晶滴下工法用シール材を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of the above problems. For example, for a liquid crystal dropping method which has high adhesive strength to the substrate of a liquid crystal display panel and can suppress contamination of liquid crystal even if the sealing member is narrowed. It is an object of the present invention to provide a sealing material.
[1] エポキシ基と(メタ)アクリロイル基とを有する部分(メタ)アクリル変性エポキシ樹脂Aと、下記一般式(1)で表される構造単位と下記一般式(2)で表される構造単位の少なくとも一方を有し、且つ水素結合性官能基を有する(メタ)アクリル樹脂Bと、光重合開始剤Cと、熱硬化剤Dと、充填剤Eとを含む(但し、前記部分(メタ)アクリル変性エポキシ樹脂Aは、前記一般式(1)で表される構造単位と前記一般式(2)で表される構造単位とを含まない)、液晶滴下工法用シール材。
[2] 前記水素結合性官能基が、水酸基、カルボキシ基又はウレタン結合である、[1]に記載の液晶滴下工法用シール材。
[3] 前記(メタ)アクリル樹脂Bの水素結合性官能基当量が、500〜8000g/eqである、[1]又は[2]に記載の液晶滴下工法用シール材。
[4] 前記一般式(1)で表される構造単位と前記一般式(2)で表される構造単位の合計含有量が、前記(メタ)アクリル樹脂Bを構成する構造単位の全質量に対して30〜99質量%である、[1]〜[3]のいずれかに記載の液晶滴下工法用シール材。
[5] 前記(メタ)アクリル樹脂Bと前記部分(メタ)アクリル変性エポキシ樹脂Aとの含有質量比B/Aは、0.1〜0.5である、[1]〜[4]のいずれかに記載の液晶滴下工法用シール材。
[6] 前記熱硬化剤Dは、アミン系潜在性硬化剤又はチオール系潜在性硬化剤である、[1]〜[5]のいずれかに記載の液晶滴下工法用シール材。
[7] [1]〜[6]のいずれかに記載の液晶滴下工法用シール材を用いて、一方の基板上に枠状のシールパターンを形成する工程と、前記シールパターンが未硬化の状態において、前記シールパターンの枠内、又は前記一方の基板と対になる他方の基板に液晶を滴下する工程と、前記一方の基板と前記他方の基板とを、前記シールパターンを介して重ね合わせる工程と、前記シールパターンを光硬化させた後、熱硬化させる工程と、を含む、液晶表示パネルの製造方法。
[8] 一対の基板と、前記一対の基板の間に配置された枠状のシール部材と、前記一対の基板の間の前記シール部材で囲まれた空間に充填された液晶層とを含み、前記シール部材が、[1]〜[6]のいずれかに記載の液晶滴下工法用シール材の硬化物である、液晶表示パネル。
[1] A partial (meth) acrylic-modified epoxy resin A having an epoxy group and a (meth) acryloyl group, a structural unit represented by the following general formula (1), and a structural unit represented by the following general formula (2). The (meth) acrylic resin B having at least one of the above and having a hydrogen-binding functional group, a photopolymerization initiator C, a thermosetting agent D, and a filler E (provided that the portion (meth) is contained. The acrylic-modified epoxy resin A does not include the structural unit represented by the general formula (1) and the structural unit represented by the general formula (2)), a sealing material for the liquid crystal dropping method.
[2] The sealing material for a liquid crystal dropping method according to [1], wherein the hydrogen-bonding functional group is a hydroxyl group, a carboxy group, or a urethane bond.
[3] The sealing material for the liquid crystal dropping method according to [1] or [2], wherein the (meth) acrylic resin B has a hydrogen-bonding functional group equivalent of 500 to 8000 g / eq.
[4] The total content of the structural unit represented by the general formula (1) and the structural unit represented by the general formula (2) is the total mass of the structural units constituting the (meth) acrylic resin B. The sealing material for the liquid crystal dropping method according to any one of [1] to [3], which is 30 to 99% by mass with respect to the above.
[5] The content mass ratio B / A of the (meth) acrylic resin B and the partial (meth) acrylic-modified epoxy resin A is 0.1 to 0.5, whichever of [1] to [4]. Sealing material for liquid crystal dripping method described in Crab.
[6] The sealing material for a liquid crystal dropping method according to any one of [1] to [5], wherein the thermosetting agent D is an amine-based latent curing agent or a thiol-based latent curing agent.
[7] A step of forming a frame-shaped seal pattern on one substrate by using the seal material for the liquid crystal dropping method according to any one of [1] to [6], and a state in which the seal pattern is uncured. In the step of dropping the liquid crystal on the frame of the seal pattern or on the other substrate paired with the one substrate, and the step of superimposing the one substrate and the other substrate on the other substrate via the seal pattern. A method for manufacturing a liquid crystal display panel, which comprises a step of photo-curing the seal pattern and then heat-curing the seal pattern.
[8] Includes a pair of substrates, a frame-shaped sealing member arranged between the pair of substrates, and a liquid crystal layer filled in a space surrounded by the sealing members between the pair of substrates. A liquid crystal display panel in which the sealing member is a cured product of the sealing material for the liquid crystal dropping method according to any one of [1] to [6].
本発明によれば、例えばシール部材を狭額縁化しても液晶表示パネルの基板に対して高い接着強度を有し、且つ液晶の汚染を抑制できる液晶滴下工法用シール材を提供することを目的とする。 According to the present invention, for example, it is an object of the present invention to provide a sealing material for a liquid crystal dropping method, which has high adhesive strength to a substrate of a liquid crystal display panel and can suppress contamination of liquid crystal even if the sealing member has a narrow frame. To do.
本発明の液晶滴下工法用シール材は、「一般式(1)で表される構造単位と一般式(2)で表される構造単位の少なくとも一方を含む(メタ)クリル樹脂B」を含む。このような(メタ)アクリル樹脂Bは良好な柔軟性を有することから、それを含むシール材の硬化物は良好な柔軟性を有する。そのようなシール材を用いて得られる液晶表示パネルは、高い接着強度を有し得る。 The sealing material for the liquid crystal dropping method of the present invention includes "a (meth) krill resin B containing at least one of a structural unit represented by the general formula (1) and a structural unit represented by the general formula (2)". Since such (meth) acrylic resin B has good flexibility, the cured product of the sealing material containing it has good flexibility. A liquid crystal display panel obtained by using such a sealing material can have high adhesive strength.
また、上記(メタ)アクリル樹脂Bは、水素結合性官能基をさらに有する。それにより、上記(メタ)アクリル樹脂Bは適度な親水性を有するので、疎水性を示す液晶への溶出を抑制できる。 Further, the (meth) acrylic resin B further has a hydrogen-bonding functional group. As a result, since the (meth) acrylic resin B has appropriate hydrophilicity, it is possible to suppress elution into a liquid crystal exhibiting hydrophobicity.
また、本発明の液晶滴下工法用シール材は、「部分(メタ)アクリル変性エポキシ樹脂A」をさらに含む。部分(メタ)アクリル変性エポキシ樹脂Aは、シール材の硬化物の柔軟性が高まりすぎるのを抑制し得るので、シール材の硬化物の耐湿性を損ないにくくし得る。本発明は、これらの知見に基づいてなされたものである。 Further, the sealing material for the liquid crystal dropping method of the present invention further includes "partial (meth) acrylic modified epoxy resin A". Since the partial (meth) acrylic-modified epoxy resin A can suppress the flexibility of the cured product of the sealing material from becoming too high, it can make it difficult to impair the moisture resistance of the cured product of the sealing material. The present invention has been made based on these findings.
1.液晶滴下工法用シール材
本発明の液晶滴下工法用シール材は、部分(メタ)アクリル変性エポキシ樹脂Aと、特定の(メタ)アクリル樹脂Bと、光重合開始剤Cと、熱硬化剤Dと、充填剤Eとを含む。本発明の液晶滴下工法用シール材は、必要に応じてその他の成分をさらに含んでいてもよい。
1. 1. Sealing material for liquid crystal dripping method The sealing material for liquid crystal dripping method of the present invention includes a partial (meth) acrylic modified epoxy resin A, a specific (meth) acrylic resin B, a photopolymerization initiator C, and a thermosetting agent D. , Includes filler E. The sealing material for the liquid crystal dropping method of the present invention may further contain other components, if necessary.
1−1.部分(メタ)アクリル変性エポキシ樹脂A
部分(メタ)アクリル変性エポキシ樹脂Aは、(メタ)アクリロイル基と、エポキシ基とを有する樹脂である。このような部分(メタ)アクリル変性エポキシ樹脂Aは、シール材に光硬化性と熱硬化性とを付与し得る。但し、部分(メタ)アクリル変性エポキシ樹脂Aは、後述する一般式(1)で表される構造単位又は一般式(2)で表される構造単位を含まない。(メタ)アクリロイル基は、アクリロイル基又はメタクリロイル基を意味し、(メタ)アクリレートは、アクリレート又はメタクリレートを意味する。
1-1. Partial (meth) acrylic modified epoxy resin A
The partially (meth) acrylic-modified epoxy resin A is a resin having a (meth) acryloyl group and an epoxy group. Such a partial (meth) acrylic-modified epoxy resin A can impart photocurability and thermosetting property to the sealing material. However, the partially (meth) acrylic-modified epoxy resin A does not include the structural unit represented by the general formula (1) or the structural unit represented by the general formula (2), which will be described later. The (meth) acryloyl group means an acryloyl group or a methacryloyl group, and the (meth) acrylate means an acrylate or methacrylate.
部分(メタ)アクリル変性エポキシ樹脂Aは、例えばエポキシ樹脂と(メタ)アクリル酸とを塩基性触媒の存在下で反応させて得られる(メタ)アクリル酸グリシジルエステルであり得る。 The partially (meth) acrylic-modified epoxy resin A can be, for example, a (meth) acrylic acid glycidyl ester obtained by reacting an epoxy resin with (meth) acrylic acid in the presence of a basic catalyst.
反応させるエポキシ樹脂は、分子内に2以上のエポキシ基を有する多官能のエポキシ樹脂であればよい。多官能のエポキシ樹脂は、架橋密度が高まりすぎることによるシール材の硬化物の接着性の低下を抑制する観点では、2官能のエポキシ樹脂であることが好ましい。 The epoxy resin to be reacted may be a polyfunctional epoxy resin having two or more epoxy groups in the molecule. The polyfunctional epoxy resin is preferably a bifunctional epoxy resin from the viewpoint of suppressing a decrease in the adhesiveness of the cured product of the sealing material due to an excessively high crosslink density.
2官能のエポキシ樹脂の例には、ビスフェノール型エポキシ樹脂(ビスフェノールA型、ビスフェノールF型、2,2’−ジアリルビスフェノールA型、ビスフェノールAD型、及び水添ビスフェノール型等)、ビフェニル型エポキシ樹脂、及びナフタレン型エポキシ樹脂が含まれる。中でも、塗布性が良好である観点から、ビスフェノールA型及びビスフェノールF型のビスフェノール型エポキシ樹脂が好ましい。ビスフェノール型エポキシ樹脂は、ビフェニルエーテル型エポキシ樹脂と比べて塗布性に優れる等の利点がある。 Examples of bifunctional epoxy resins include bisphenol type epoxy resins (bisphenol A type, bisphenol F type, 2,2'-diallyl bisphenol A type, bisphenol AD type, hydrogenated bisphenol type, etc.), biphenyl type epoxy resins, and the like. And naphthalene type epoxy resin are included. Among them, bisphenol A type and bisphenol F type bisphenol type epoxy resins are preferable from the viewpoint of good coatability. The bisphenol type epoxy resin has advantages such as excellent coatability as compared with the biphenyl ether type epoxy resin.
部分(メタ)アクリル変性エポキシ樹脂Aの例には、メタクリル変性ビスフェノールA型エポキシ樹脂(ケーエスエム社製、BAEM−50等)、アクリル変性ビスフェノールF型エポキシ樹脂(ケーエスエム社製、BFEA−50等)、メタクリル変性ビスフェノールE型エポキシ樹脂(ケーエスエム社製、BEEM−50等)が含まれる。 Examples of the partially (meth) acrylic-modified epoxy resin A include methacrylic-modified bisphenol A-type epoxy resin (KSM, BAEM-50, etc.), acrylic-modified bisphenol F-type epoxy resin (KSM, BFEA-50, etc.), A methacrylic-modified bisphenol E type epoxy resin (manufactured by KSM, BEEM-50, etc.) is included.
部分(メタ)アクリル変性エポキシ樹脂Aの(メタ)アクリロイル基の変性量は、30〜80%であることが好ましい。変性量が30%以上であると、(メタ)アクリル樹脂Bとの相溶性が得られやすい。(メタ)アクリロイル基の変性量は、例えば原料となるエポキシ樹脂に反応させる(メタ)アクリル酸のモル数によって調整することができる。 The modified amount of the (meth) acryloyl group of the partially (meth) acrylic-modified epoxy resin A is preferably 30 to 80%. When the amount of modification is 30% or more, compatibility with the (meth) acrylic resin B can be easily obtained. The amount of modification of the (meth) acryloyl group can be adjusted, for example, by the number of moles of (meth) acrylic acid that reacts with the epoxy resin as a raw material.
部分(メタ)アクリル変性エポキシ樹脂Aは、一種類であってもよいし、二種類以上の組み合わせであってもよい。 The partial (meth) acrylic-modified epoxy resin A may be of one type or a combination of two or more types.
部分(メタ)アクリル変性エポキシ樹脂Aの重量平均分子量は、310〜1000程度であることが好ましい。部分(メタ)アクリル変性エポキシ樹脂Aの重量平均分子量が310以上であると、液晶へ溶解しにくいため液晶の汚染を抑制しやすく、1000以下であると、シール材の粘度が高くなりすぎるのを抑制できる。部分(メタ)アクリル変性エポキシ樹脂Aの重量平均分子量は、例えばゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)によりポリスチレン換算にて測定することができる。 The weight average molecular weight of the partially (meth) acrylic-modified epoxy resin A is preferably about 310 to 1000. When the weight average molecular weight of the partial (meth) acrylic-modified epoxy resin A is 310 or more, it is difficult to dissolve in the liquid crystal, so that it is easy to suppress the contamination of the liquid crystal. When it is 1000 or less, the viscosity of the sealing material becomes too high. Can be suppressed. The weight average molecular weight of the partially (meth) acrylic-modified epoxy resin A can be measured, for example, by gel permeation chromatography (GPC) in terms of polystyrene.
1−2.(メタ)アクリル樹脂B
1−2−1.(メタ)アクリル樹脂Bの構造と物性
(メタ)アクリル樹脂Bは、一般式(1)で表される構造単位と一般式(2)で表される構造単位の少なくとも一方を有し、且つ(メタ)アクリロイル基と水素結合性官能基とを有する樹脂である。
1-2-1. Structure and Physical Properties of (Meta) Acrylic Resin B The (meth) acrylic resin B has at least one of a structural unit represented by the general formula (1) and a structural unit represented by the general formula (2), and ( Meta) A resin having an acryloyl group and a hydrogen-bonding functional group.
一般式(1)で表される構造単位は、イソプレン又は1,3−ブタジエン由来の構造単位である。一般式(1)のRは、水素原子又はメチル基を表す。一般式(2)で表される構造単位は、1,2−ブタジエン由来の構造単位である。以下、1,3−ブタジエンと1,2−ブタジエンをまとめて、単にブタジエンともいう。 The structural unit represented by the general formula (1) is a structural unit derived from isoprene or 1,3-butadiene. R in the general formula (1) represents a hydrogen atom or a methyl group. The structural unit represented by the general formula (2) is a structural unit derived from 1,2-butadiene. Hereinafter, 1,3-butadiene and 1,2-butadiene are collectively referred to as butadiene.
一般式(1)で表される構造単位と一般式(2)で表される構造単位の合計含有量は、前記(メタ)アクリル樹脂Bを構成する構造単位の全質量に対して30〜99質量%であることが好ましい。一般式(1)で表される構造単位と一般式(2)で表される構造単位の合計含有量が上記範囲であると、(メタ)アクリル樹脂Bに十分な柔軟性を付与しやすいので、シール材の硬化物の接着強度を高めやすい。一般式(1)で表される構造単位と一般式(2)で表される構造単位の合計含有量は、前記(メタ)アクリル樹脂Bを構成する構造単位の全質量に対して50〜98質量%であることがより好ましい。 The total content of the structural unit represented by the general formula (1) and the structural unit represented by the general formula (2) is 30 to 99 with respect to the total mass of the structural units constituting the (meth) acrylic resin B. It is preferably mass%. When the total content of the structural unit represented by the general formula (1) and the structural unit represented by the general formula (2) is within the above range, it is easy to impart sufficient flexibility to the (meth) acrylic resin B. , It is easy to increase the adhesive strength of the cured product of the sealing material. The total content of the structural unit represented by the general formula (1) and the structural unit represented by the general formula (2) is 50 to 98 with respect to the total mass of the structural units constituting the (meth) acrylic resin B. More preferably, it is by mass%.
(メタ)アクリロイル基は、(メタ)アクリル樹脂Bの分子主鎖と分子末端の少なくとも一方にあればよい。(メタ)アクリロイル基を有する(メタ)アクリル樹脂Bは他の樹脂と架橋し得るので、液晶へ溶出しにくく、液晶材料を汚染するのを抑制できる。 The (meth) acryloyl group may be present at at least one of the molecular main chain and the molecular terminal of the (meth) acrylic resin B. Since the (meth) acrylic resin B having a (meth) acryloyl group can be crosslinked with other resins, it is difficult to elute into the liquid crystal, and it is possible to suppress contamination of the liquid crystal material.
(メタ)アクリル樹脂Bの(メタ)アクリロイル基当量は、1000〜8000g/eqであることが好ましく、1500〜7000g/eqであることがより好ましい。(メタ)アクリロイル基当量が1000g/eq以上であると、シール材の光硬化性を損なうことなく、接着強度を高めることができる。(メタ)アクリロイル基当量が8000g/eq以下であると、接着強度を損なうことなく、シール材に十分な光硬化性を付与できる。 The (meth) acryloyl group equivalent of the (meth) acrylic resin B is preferably 1000 to 8000 g / eq, and more preferably 1500 to 7000 g / eq. When the (meth) acryloyl group equivalent is 1000 g / eq or more, the adhesive strength can be increased without impairing the photocurability of the sealing material. When the (meth) acryloyl group equivalent is 8000 g / eq or less, sufficient photocurability can be imparted to the sealing material without impairing the adhesive strength.
(メタ)アクリル樹脂Bの(メタ)アクリロイル基当量は、下記式で定義される。
(メタ)アクリル樹脂Bの(メタ)アクリロイル基当量は、(メタ)アクリル樹脂Bの重量平均分子量をゲル浸透クロマトグラフィー(Gel Permeation Chromatography:GPC)法により測定し、(メタ)アクリル樹脂Bにおける(メタ)アクリロイル基と一般式(1)又は(2)で表される構造単位との含有比率を核磁気共鳴法(Nuclear Magnetic Resonance:NMR)により測定し、それらを上記式に当てはめることによって求めることができる。 The (meth) acryloyl group equivalent of the (meth) acrylic resin B was measured by measuring the weight average molecular weight of the (meth) acrylic resin B by the Gel Permeation Chromatography (GPC) method, and the (meth) acrylic resin B had (meth) acrylic resin B (meth). Meta) To determine the content ratio of the acryloyl group to the structural unit represented by the general formula (1) or (2) by measuring the content ratio by the Nuclear Magnetic Resonance (NMR) method and applying them to the above formula. Can be done.
(メタ)アクリル樹脂Bの(メタ)アクリロイル基当量は、後述するように反応性官能基を有するポリブタジエン又はポリイソプレンに反応させる(メタ)アクリルロイル基含有化合物のモル数によって調整することができる。 The (meth) acryloyl group equivalent of the (meth) acrylic resin B can be adjusted by the number of moles of the (meth) acrylicloyl group-containing compound to be reacted with polybutadiene or polyisoprene having a reactive functional group as described later.
水素結合性官能基は、水酸基、カルボキシ基、又はウレタン結合であり得る。これらの水素結合性官能基は、(メタ)アクリル樹脂B及びそれを含むシール材に親水性を付与し得る。それにより、(メタ)アクリル樹脂Bが液晶材料に溶出して液晶材料を汚染するのを抑制できる。 The hydrogen-bonding functional group can be a hydroxyl group, a carboxy group, or a urethane bond. These hydrogen-bonding functional groups can impart hydrophilicity to the (meth) acrylic resin B and the sealing material containing the same. As a result, it is possible to prevent the (meth) acrylic resin B from eluting into the liquid crystal material and contaminating the liquid crystal material.
(メタ)アクリル樹脂Bの水素結合性官能基当量は、500〜8000g/eqであることが好ましい。水素結合性官能基当量が500g/eq以上であると、シール材の親水性が高まりすぎないので、親水性である硬化剤との不要な反応を生じにくいだけでなく、硬化物の耐湿性も損なわれにくい。水素結合性官能基当量が8000g/eq以下であると、(メタ)アクリル樹脂Bに適度な親水性を付与し得るので、液晶材料への溶出を抑制しやすい。 The hydrogen-bonding functional group equivalent of the (meth) acrylic resin B is preferably 500 to 8000 g / eq. When the hydrogen-bonding functional group equivalent is 500 g / eq or more, the hydrophilicity of the sealing material does not increase too much, so that not only unnecessary reaction with the hydrophilic curing agent is unlikely to occur, but also the moisture resistance of the cured product is improved. Hard to be damaged. When the hydrogen-bonding functional group equivalent is 8000 g / eq or less, the (meth) acrylic resin B can be imparted with appropriate hydrophilicity, so that elution into the liquid crystal material can be easily suppressed.
(メタ)アクリル樹脂Bの水素結合性官能基当量は、下記式で定義される。
(メタ)アクリル樹脂Bの水素結合性官能基当量は、前述の(メタ)アクリロイル基当量の測定方法と同様にして測定することができる。 The hydrogen-bonding functional group equivalent of the (meth) acrylic resin B can be measured in the same manner as the above-mentioned method for measuring the (meth) acryloyl group equivalent.
水素結合性官能基は、後述するように、反応性官能基を有するポリブタジエン又はポリイソプレンと、(メタ)アクリロイル基含有化合物との反応によって導入され得る。従って、(メタ)アクリル樹脂Bの水素結合性官能基当量は、反応性官能基を有するポリブタジエン又はポリイソプレンと反応させる(メタ)アクリロイル基含有化合物のモル数によって調整することができる。 The hydrogen-bonding functional group can be introduced by the reaction of polybutadiene or polyisoprene having a reactive functional group with a (meth) acryloyl group-containing compound, as will be described later. Therefore, the hydrogen-bonding functional group equivalent of the (meth) acrylic resin B can be adjusted by the number of moles of the (meth) acryloyl group-containing compound to be reacted with polybutadiene or polyisoprene having a reactive functional group.
このように、水素結合性官能基は、(メタ)アクリロイル基の導入反応に伴って導入されることが多いため、水素結合性官能基と(メタ)アクリロイル基は、同じ構造単位に含まれ得る。 As described above, since the hydrogen-bonding functional group is often introduced in association with the introduction reaction of the (meth) acryloyl group, the hydrogen-bonding functional group and the (meth) acryloyl group can be contained in the same structural unit. ..
(メタ)アクリロイル基と水素結合性官能基の両方を有する構造単位の例には、水酸基末端ポリブタジエン又は水酸基末端ポリイソプレンにおける末端水酸基と、イソシアネート基を有する(メタ)アクリロイル基含有化合物との反応物由来の構造単位(下記式(3)参照)や;ブタジエン又はイソプレンの無水マレイン酸開環変性物由来の構造単位(下記式(4)参照)が含まれる。ブタジエン又はイソプレンの無水マレイン酸開環変性物の例には、ブタジエン又はイソプレンの無水マレイン酸変性物の無水マレイン酸基を、水酸基含有アクリレートで開環させたものが含まれる。一般式(4)のRは、水素原子又はメチル基を表す。
(メタ)アクリル樹脂Bは、本発明の効果を損なわない範囲で、上記以外の他の構造単位をさらに含んでいてもよい。他の構造単位の例には、前述の水酸基含有アクリレートと開環反応せずに残った、ブタジエン又はイソプレンの無水マレイン酸変性物由来の構造単位が含まれる。 The (meth) acrylic resin B may further contain other structural units other than the above as long as the effects of the present invention are not impaired. Examples of other structural units include structural units derived from maleic anhydride-modified butadiene or isoprene that remain without ring-opening reaction with the above-mentioned hydroxyl group-containing acrylate.
但し、(メタ)アクリル樹脂Bは、アクリロニトリル由来の構造単位を含まないことが好ましい。アクリロニトリル由来の構造単位は、(メタ)アクリル樹脂Bの疎水性を高めやすく、液晶材料へ溶出しやすいからである。また、アクリロニトリル由来の構造単位を含む(メタ)アクリル樹脂の硬化物は、それを含まない硬化物と比べて柔軟性が低いことから、液晶表示パネルでの接着強度が損なわれやすいからである。 However, the (meth) acrylic resin B preferably does not contain a structural unit derived from acrylonitrile. This is because the structural unit derived from acrylonitrile easily enhances the hydrophobicity of the (meth) acrylic resin B and easily elutes into the liquid crystal material. Further, the cured product of the (meth) acrylic resin containing the structural unit derived from acrylonitrile has lower flexibility than the cured product not containing the structural unit, so that the adhesive strength of the liquid crystal display panel is likely to be impaired.
(メタ)アクリル樹脂Bの例には、ポリブタジエンアクリル樹脂(日本曹達社製TE−2000等)、ポリイソプレンアクリル樹脂(クラレ社製UC−203等)及び国際公開第2012/039124号に記載の末端アクリル変性ポリブタジエン等が含まれる。 Examples of (meth) acrylic resin B include polybutadiene acrylic resin (TE-2000 manufactured by Nippon Soda Co., Ltd.), polyisoprene acrylic resin (UC-203 etc. manufactured by Kuraray Co., Ltd.), and the terminal described in International Publication No. 2012/039244. Acrylic-modified polybutadiene and the like are included.
(メタ)アクリル樹脂Bの重量平均分子量は、1000〜50000であることが好ましく、2000〜40000であることがより好ましい。(メタ)アクリル樹脂Bの重量平均分子量が1000以上であると、(メタ)アクリル樹脂Bが十分な柔軟性を有しやすく、50000以下であると、部分(メタ)アクリル変性エポキシ樹脂Aとの相溶性が損なわれにくい。 The weight average molecular weight of the (meth) acrylic resin B is preferably 1000 to 50,000, and more preferably 2000 to 40,000. When the weight average molecular weight of the (meth) acrylic resin B is 1000 or more, the (meth) acrylic resin B tends to have sufficient flexibility, and when it is 50,000 or less, it is different from the partial (meth) acrylic modified epoxy resin A. Compatibility is not easily impaired.
1−2−2.(メタ)アクリル樹脂Bの合成方法
(メタ)アクリル樹脂Bは、任意の方法で製造されるが、例えば反応性官能基を有するポリブタジエン又はポリイソプレン(反応性官能基を有し、且つ一般式(1)で表される構造単位と一般式(2)で表される構造単位の少なくとも一方を有する樹脂)を、(メタ)アクリロイル基含有化合物で変性して得ることができる。
1-2-2. Method for synthesizing (meth) acrylic resin B The (meth) acrylic resin B is produced by any method, and is produced by, for example, polybutadiene or polyisoprene having a reactive functional group (having a reactive functional group and having a general formula (meth). A resin having at least one of the structural unit represented by 1) and the structural unit represented by the general formula (2)) can be obtained by modifying it with a (meth) acryloyl group-containing compound.
「反応性官能基を有するポリブタジエン又はポリイソプレン」における反応性官能基の例には、水酸基、カルボキシ基、エポキシ基、及び酸無水物基(例えば無水マレイン酸基)が含まれる。中でも、(メタ)アクリロイル基含有化合物との反応によって水素結合性官能基を導入し得ることから、水酸基、エポキシ基、及び酸無水物基が好ましい。反応性官能基は、ポリブタジエン又はポリイソプレンの分子末端にあってもよいし、分子主鎖にあってもよい。反応性官能基を有するポリブタジエン又はポリイソプレンの例には、水酸基末端ポリブタジエン(又はポリイソプレン)(例えば、日本曹達社製Gシリーズ)、酸無水物基変性ポリブタジエン(又はポリイソプレン)(例えばCRAY VALLEY社製RiconR MAシリーズ)、エポキシ化ポリブタジエン(又はポリイソプレン)(例えば日本曹達社製JPシリーズ)等が含まれる。 Examples of reactive functional groups in "polybutadiene or polyisoprene having a reactive functional group" include hydroxyl groups, carboxy groups, epoxy groups, and acid anhydride groups (eg maleic anhydride groups). Of these, a hydroxyl group, an epoxy group, and an acid anhydride group are preferable because a hydrogen-bonding functional group can be introduced by a reaction with a (meth) acryloyl group-containing compound. The reactive functional group may be at the molecular terminal of polybutadiene or polyisoprene, or at the molecular main chain. Examples of polybutadiene or polyisoprene having a reactive functional group include hydroxyl group-terminated polybutadiene (or polyisoprene) (for example, G series manufactured by Nippon Soda Co., Ltd.) and acid anhydride group-modified polybutadiene (or polyisoprene) (for example, CRAY VALLY). Ricon R MA series manufactured by Nippon RMA series), epoxidized polybutadiene (or polyisoprene) (for example, JP series manufactured by Nippon Soda Co., Ltd.) and the like are included.
(メタ)アクリロイル基含有化合物の例には、(メタ)アクリル酸エステルであることが好ましい。(メタ)アクリル酸エステルの例には、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル等の(メタ)アクリル酸アルキルエステルが含まれる。 An example of the (meth) acryloyl group-containing compound is preferably a (meth) acrylic acid ester. Examples of (meth) acrylic acid esters include (meth) acrylic acid alkyl esters such as methyl (meth) acrylate and ethyl (meth) acrylate.
(メタ)アクリロイル基含有化合物は、反応性官能基をさらに有していてもよい。(メタ)アクリロイル基含有化合物が有する反応性官能基は、ポリブタジエン又はポリイソプレンが有する反応性官能基と反応する基であればよく、その例には、イソシアネート基、カルボキシ基及び水酸基が含まれる。「反応性官能基を有する(メタ)アクリロイル基含有化合物」の例には、水酸基を有する(メタ)アクリル酸エステル(例えばヒドロキシアルキルアクリレート)、(メタ)アクリル酸、及びイソシアネート基を有する(メタ)アクリロイル基含有化合物(下記一般式(5)で表される化合物、国際公開第2012/039124号参照)が含まれる。一般式(5)のRは、水素原子又はメチル基を表し;R’’は、アルキレン基又はシクロアルキレン基を表し;R’’’は、アルキレン基、シクロアルキレン基、アリーレン基又はヘテロアリーレン基を表す。
水素結合性官能基の導入は、例えば反応性官能基を有するポリブタジエン又はポリイソプレンを、(メタ)アクリロイル基含有化合物で変性させることによって導入することができる。 The introduction of hydrogen-bonding functional groups can be carried out, for example, by modifying polybutadiene or polyisoprene having a reactive functional group with a (meth) acryloyl group-containing compound.
例えば、「水酸基を有するポリブタジエン又はポリイソプレン」の水酸基に、「イソシアネート基を有する(メタ)アクリロイル基含有化合物」(例えば一般式(5)参照)のイソシアネート基を反応させて、「ウレタン結合を有する(メタ)アクリル樹脂B」を得ることができる。「無水マレイン酸基を有するポリブタジエン又はポリイソプレン」の無水マレイン酸基に、「水酸基を有する(メタ)アクリロイル基含有化合物」の水酸基を反応させて、「カルボキシ基を有する(メタ)アクリル樹脂B」(一般式(4)参照)を得ることができる。 For example, the hydroxyl group of "polybutadiene or polyisoprene having a hydroxyl group" is reacted with an isocyanate group of "a (meth) acryloyl group-containing compound having an isocyanate group" (see, for example, general formula (5)) to have a "urethane bond". (Meta) acrylic resin B ”can be obtained. The maleic anhydride group of "polybutadiene or polyisoprene having a maleic anhydride group" is reacted with the hydroxyl group of the "(meth) acryloyl group-containing compound having a hydroxyl group" to "(meth) acrylic resin B having a carboxy group". (See general formula (4)) can be obtained.
液晶滴下工法用シール材における部分(メタ)アクリル変性エポキシ樹脂Aと(メタ)アクリル樹脂Bの合計含有量は、シール材の全質量に対して40〜90質量%であることが好ましい。部分(メタ)アクリル変性エポキシ樹脂と(メタ)アクリル樹脂Bの合計含有量が40質量%以上であると、シール材における一般式(1)又は(2)で表される構造単位の含有割合を多くすることができるので、シール材の硬化物に高い柔軟性を付与しやすく、シール材の硬化物の接着強度を高めやすい。部分(メタ)アクリル変性エポキシ樹脂と(メタ)アクリル樹脂Bの合計含有量が90質量%以下であると、シール材の硬化物の耐湿性を損ないにくい。シール材における部分(メタ)アクリル変性エポキシ樹脂と(メタ)アクリル樹脂Bの合計含有量は、シール材の全質量に対して60〜85質量%であることがより好ましい。 The total content of the partial (meth) acrylic-modified epoxy resin A and the (meth) acrylic resin B in the sealing material for the liquid crystal dropping method is preferably 40 to 90% by mass with respect to the total mass of the sealing material. When the total content of the partial (meth) acrylic modified epoxy resin and the (meth) acrylic resin B is 40% by mass or more, the content ratio of the structural unit represented by the general formula (1) or (2) in the sealing material is determined. Since the number can be increased, it is easy to impart high flexibility to the cured product of the sealing material, and it is easy to increase the adhesive strength of the cured product of the sealing material. When the total content of the partially (meth) acrylic modified epoxy resin and the (meth) acrylic resin B is 90% by mass or less, the moisture resistance of the cured product of the sealing material is not easily impaired. The total content of the partial (meth) acrylic modified epoxy resin and the (meth) acrylic resin B in the sealing material is more preferably 60 to 85% by mass with respect to the total mass of the sealing material.
(メタ)アクリル樹脂Bと部分(メタ)アクリル変性エポキシ樹脂Aとの含有質量比B/Aは、0.1〜0.5であることが好ましい。含有質量比B/Aが0.1以上であると、一般式(1)又は(2)で表される構造単位の含有割合を多くすることができるので、シール材の硬化物の柔軟性を高めやすい。含有質量比B/Aが0.5以下であると、一般式(1)又は(2)で表される構造単位の含有割合が多すぎないので、シール材の硬化物の柔軟性を損なうことなく耐湿性を高めやすい。 The content mass ratio B / A of the (meth) acrylic resin B and the partially (meth) acrylic-modified epoxy resin A is preferably 0.1 to 0.5. When the content mass ratio B / A is 0.1 or more, the content ratio of the structural unit represented by the general formula (1) or (2) can be increased, so that the flexibility of the cured product of the sealing material can be increased. Easy to raise. When the content mass ratio B / A is 0.5 or less, the content ratio of the structural unit represented by the general formula (1) or (2) is not too large, so that the flexibility of the cured product of the sealing material is impaired. It is easy to improve the moisture resistance.
1−3.光重合開始剤C
光重合開始剤Cは、部分(メタ)アクリル変性エポキシ樹脂Aや(メタ)アクリル樹脂Bを光硬化反応させるための光ラジカル重合開始剤である。
1-3. Photopolymerization initiator C
The photopolymerization initiator C is a photoradical polymerization initiator for allowing a partially (meth) acrylic-modified epoxy resin A or a (meth) acrylic resin B to undergo a photocuring reaction.
光ラジカル重合開始剤の例には、アルキルフェノン系化合物、アシルフォスフィンオキサイド系化合物、チタノセン系化合物、オキシムエステル系化合物、ベンゾイン系化合物、アセトフェノン系化合物、ベンゾフェノン系化合物、チオキサトン系化合物、α−アシロキシムエステル系化合物、フェニルグリオキシレート系化合物、ベンジル系化合物、アゾ系化合物、ジフェニルスルフィド系化合物、有機色素系化合物、鉄−フタロシアニン系化合物、ベンゾインエーテル系化合物、アントラキノン系化合物等が含まれる。中でも、アルキルフェノン系化合物、アシルフォスフィンオキサイド系化合物、チタノセン系化合物、オキシムエステル系化合物が好ましい。 Examples of photoradical polymerization initiators include alkylphenone compounds, acylphosphine oxide compounds, titanosen compounds, oxime ester compounds, benzoin compounds, acetophenone compounds, benzophenone compounds, thioxone compounds, and α-acido. Xim ester compounds, phenylglioxylate compounds, benzyl compounds, azo compounds, diphenyl sulfide compounds, organic dye compounds, iron-phthalocyanine compounds, benzoin ether compounds, anthraquinone compounds and the like are included. Of these, alkylphenone-based compounds, acylphosphine oxide-based compounds, titanocene-based compounds, and oxime ester-based compounds are preferable.
アルキルフェノン系化合物の例には、2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタン−1−オン(IRGACURE 651)等のベンジルジメチルケタール;2−メチル−2−モルホリノ(4−チオメチルフェニル)プロパン−1−オン(IRGACURE 907)等のα−アミノアルキルフェノン;1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン(IRGACURE 184)等のα−ヒドロキシアルキルフェノン等が含まれる。アシルフォスフィンオキサイド系化合物の例には、2,4,6−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−フォスフィンオキサイド等が含まれる。チタノセン系化合物には、ビス(η5−2,4−シクロペンタジエン−1−イル)−ビス(2,6−ジフルオロ−3−(1H−ピロール−1−イル)−フェニル)チタニウム等が含まれる。オキシムエステル化合物の例には、1,2−オクタンジオン−1−[4−(フェニルチオ)−2−(O−ベンゾイルオキシム)](IRGACURE OXE 01)等が含まれる。 Examples of alkylphenone compounds include benzyl dimethyl ketals such as 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethane-1-one (IRGACURE 651); 2-methyl-2-morpholino (4-thiomethylphenyl) propane. Includes α-aminoalkylphenones such as -1-one (IRGACURE 907); α-hydroxyalkylphenones such as 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone (IRGACURE 184). Examples of acylphosphine oxide compounds include 2,4,6-trimethylbenzoyl-diphenyl-phosphine oxide and the like. Titanocene compounds include bis (η5-2,4-cyclopentadiene-1-yl) -bis (2,6-difluoro-3- (1H-pyrrole-1-yl) -phenyl) titanium and the like. Examples of oxime ester compounds include 1,2-octanedione-1- [4- (phenylthio) -2- (O-benzoyloxime)] (IRGACURE OXE 01) and the like.
液晶滴下工法用シール材における光重合開始剤Cの含有量は、部分(メタ)アクリル変性エポキシ樹脂Aと(メタ)アクリル樹脂Bの合計質量に対して0.01〜3.0質量%であることが好ましい。光重合開始剤Cの含有量が0.01質量%以上であると、シール材の硬化性が良好となる。一方、光重合開始剤Cの含有量が3.0質量%以下であると、基板への塗布時の安定性が良好となる。 The content of the photopolymerization initiator C in the sealing material for the liquid crystal dropping method is 0.01 to 3.0% by mass with respect to the total mass of the partially (meth) acrylic-modified epoxy resin A and the (meth) acrylic resin B. Is preferable. When the content of the photopolymerization initiator C is 0.01% by mass or more, the curability of the sealing material is good. On the other hand, when the content of the photopolymerization initiator C is 3.0% by mass or less, the stability at the time of coating on the substrate is good.
1−4.熱硬化剤D
熱硬化剤Dは、通常の保存条件下(室温、可視光線下等)では部分(メタ)アクリル変性エポキシ樹脂Aを硬化させないが、熱を与えられると当該樹脂を硬化させる化合物である。熱硬化剤Dを含有するシール材は、保存安定性に優れ、且つ熱硬化性に優れる。
1-4. Thermosetting agent D
The thermosetting agent D is a compound that does not cure the partially (meth) acrylic-modified epoxy resin A under normal storage conditions (room temperature, visible light, etc.), but cures the resin when heat is applied. The sealing material containing the thermosetting agent D is excellent in storage stability and thermosetting property.
熱硬化剤Dの融点又は軟化点は、シール材の粘度安定性を高め、且つ硬化物の耐湿性を損なわない観点から、熱硬化温度にもよるが、50〜250℃であることが好ましく、70〜200℃であることがより好ましい。 The melting point or softening point of the thermosetting agent D is preferably 50 to 250 ° C., although it depends on the thermosetting temperature, from the viewpoint of enhancing the viscosity stability of the sealing material and not impairing the moisture resistance of the cured product. More preferably, it is 70 to 200 ° C.
熱硬化剤Dは、エポキシ硬化剤であることが好ましい。エポキシ硬化剤の例には、アミン系潜在性硬化剤、チオール系潜在性硬化剤が含まれる。 The thermosetting agent D is preferably an epoxy curing agent. Examples of epoxy curing agents include amine-based latent curing agents and thiol-based latent curing agents.
アミン系潜在性硬化剤の例には、有機酸ジヒドラジド系潜在性硬化剤、イミダゾール系潜在性硬化剤、アミンアダクト系潜在性硬化剤及びポリアミン系潜在性硬化剤が含まれる。
有機酸ジヒドラジド系潜在性硬化剤の例には、アジピン酸ジヒドラジド(融点181℃)、1,3−ビス(ヒドラジノカルボエチル)−5−イソプロピルヒダントイン(融点120℃)、7,11-オクタデカジエン−1,18−ジカルボヒドラジド(融点160℃)、ドデカン二酸ジヒドラジド(融点190℃)、及びセバシン酸ジヒドラジド(融点189℃)等が含まれる。
イミダゾール系潜在性硬化剤の例には、2,4−ジアミノ−6−[2'-エチルイミダゾリル−(1')]−エチルトリアジン(融点215〜225℃)、2−フェニルイミダゾール(融点137〜147℃)、及び2,4−ジアミノ−6−[2'−メチルイミダゾリル−(1')]−エチル−s−トリアジンイソシアヌル酸付加物等が含まれる。
アミンアダクト系潜在性硬化剤は、触媒活性を有するアミン系化合物と任意の化合物とを反応させて得られる付加化合物からなる潜在性硬化剤であり、その例には、味の素ファインテクノ(株)製アミキュアPN−40(融点110℃)、味の素ファインテクノ(株)製アミキュアPN−23(融点100℃)、味の素ファインテクノ(株)製アミキュアPN−31(融点115℃)、味の素ファインテクノ(株)製アミキュアPN−H(融点115℃)、味の素ファインテクノ(株)製アミキュアMY−24(融点120℃)、及び味の素ファインテクノ(株)製アミキュアMY−H(融点131℃)等が含まれる。
ポリアミン系潜在性硬化剤は、アミンとエポキシとを反応させて得られるポリマー構造を有する潜在性硬化剤であり、その例には、(株)ADEKA製アデカハードナーEH4339S(軟化点120〜130℃)、及び(株)ADEKA製アデカハードナーEH4357S(軟化点73〜83℃)等が含まれる。
Examples of amine-based latent curing agents include organic acid dihydrazide-based latent curing agents, imidazole-based latent curing agents, amine adduct-based latent curing agents, and polyamine-based latent curing agents.
Examples of organic acid dihydrazide-based latent curing agents include adipic acid dihydrazide (melting point 181 ° C.), 1,3-bis (hydrazinocarboethyl) -5-isopropylhydranthin (melting point 120 ° C.), 7,11-octadeca. Diene-1,18-dicarbohydrazide (melting point 160 ° C.), dodecane diic acid dihydrazide (melting point 190 ° C.), sebacic acid dihydrazide (melting point 189 ° C.) and the like are included.
Examples of imidazole-based latent curing agents include 2,4-diamino-6- [2'-ethylimidazolyl- (1')]-ethyltriazine (melting point 215-225 ° C.) and 2-phenylimidazole (melting point 137-). 147 ° C.), and 2,4-diamino-6- [2'-methylimidazolyl- (1')]-ethyl-s-triazine isocyanuric acid adduct and the like.
The amine adduct-based latent curing agent is a latent curing agent composed of an additional compound obtained by reacting an amine-based compound having catalytic activity with an arbitrary compound, and an example thereof is manufactured by Ajinomoto Fine-Techno Co., Ltd. Amicure PN-40 (melting point 110 ° C), Ajinomoto Fine-Techno Co., Ltd. Amicure PN-23 (melting point 100 ° C), Ajinomoto Fine-Techno Co., Ltd. Amicure PN-31 (melting point 115 ° C), Ajinomoto Fine-Techno Co., Ltd. Amicure PN-H (melting point 115 ° C.), Ajinomoto Fine-Techno Co., Ltd. Amicure MY-24 (melting point 120 ° C.), Ajinomoto Fine-Techno Co., Ltd. Amicure MY-H (melting point 131 ° C.), and the like are included.
The polyamine-based latent curing agent is a latent curing agent having a polymer structure obtained by reacting an amine with an epoxy, and an example thereof is ADEKA Hardener EH4339S (softening point 120 to 130 ° C.) manufactured by ADEKA Corporation. , And ADEKA Hardener EH4357S (softening point 73 to 83 ° C.) manufactured by ADEKA Corporation.
チオール系硬化剤の例には、トリメチロールプロパントリス(チオグリコレート)、ペンタエリスリトールテトラキス(チオグリコレート)、エチレングリコール ジチオグリコレート、トリメチロールプロパントリス(β−チオプロピオネート)、ペンタエリスリトールテトラキス(β−チオプロピオネート)、ジペンタエリスリトールポリ(β−チオプロピオネート)等のポリオールとチオール有機酸のエステル化反応によって得られるチオール化合物;1,4−ブタンジチオール、1,6−ヘキサンジチオール、1,10−デカンジチオール等のアルキルポリチオール化合物;末端チオール基含有ポリエーテル;末端チオール基含有ポリチオエーテル;エポキシ化合物と硫化水素の反応によって得られるチオール化合物;ポリチオールとエポキシ化合物との反応によって得られる末端チオール基を有するチオール化合物等が含まれる。 Examples of thiol-based curing agents include trimethylolpropanthris (thioglycolate), pentaerythritol tetrakis (thioglycolate), ethylene glycol dithioglycolate, trimethylolpropanthris (β-thiopropionate), pentaerythritol tetrakis. A thiol compound obtained by an esterification reaction of a polyol such as (β-thiopropionate) and dipentaerythritol poly (β-thiopropionate) with a thiol organic acid; 1,4-butanedithiol, 1,6-hexane. Alkyl polythiol compounds such as dithiol and 1,10-decandithiol; terminal thiol group-containing polyether; terminal thiol group-containing polythioether; thiol compound obtained by reaction of epoxy compound and hydrogen sulfide; obtained by reaction of polythiol and epoxy compound. A thiol compound having a terminal thiol group and the like are included.
熱硬化剤Dは、一種類のみであってもよいし二種以上の組み合わせであってもよい。 The thermosetting agent D may be only one type or a combination of two or more types.
液晶滴下工法用シール材における熱硬化剤Dの含有量は、部分(メタ)アクリル変性エポキシ樹脂Aと(メタ)アクリル樹脂Bの合計質量に対して3〜30質量%であることが好ましい。熱硬化剤Dを含むシール材は、一液硬化性樹脂組成物となり得る。一液硬化性樹脂組成物は、使用に際して主剤と硬化剤を混合する必要がないことから、作業性に優れる。熱硬化剤Dの含有量が3質量%以上であると、部分(メタ)アクリル変性エポキシ樹脂Aの熱硬化反応を一層促進しやすい。 The content of the thermosetting agent D in the sealing material for the liquid crystal dropping method is preferably 3 to 30% by mass with respect to the total mass of the partially (meth) acrylic-modified epoxy resin A and the (meth) acrylic resin B. The sealing material containing the thermosetting agent D can be a one-component curable resin composition. The one-component curable resin composition is excellent in workability because it is not necessary to mix the main agent and the curing agent at the time of use. When the content of the thermosetting agent D is 3% by mass or more, the thermosetting reaction of the partial (meth) acrylic-modified epoxy resin A is more likely to be promoted.
1−5.充填剤E
充填剤Eは、シール材の粘度、硬化物の強度又は線膨張性等を調整し得る。充填剤Eは、無機充填剤又は有機充填剤であり得る。
1-5. Filler E
The filler E can adjust the viscosity of the sealing material, the strength of the cured product, the linear expandability, and the like. The filler E can be an inorganic filler or an organic filler.
無機充填剤の例には、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、硫酸バリウム、硫酸マグネシウム、珪酸アルミニウム、珪酸ジルコニウム、酸化鉄、酸化チタン、窒化チタン、酸化アルミニウム(アルミナ)、酸化亜鉛、二酸化ケイ素、チタン酸カリウム、カオリン、タルク、ガラスビーズ、セリサイト活性白土、ベントナイト、窒化アルミニウム、窒化ケイ素等が含まれる。中でも、二酸化ケイ素及びタルクが好ましい。 Examples of inorganic fillers are calcium carbonate, magnesium carbonate, barium sulfate, magnesium sulfate, aluminum silicate, zirconium silicate, iron oxide, titanium oxide, titanium nitride, aluminum oxide (alumina), zinc oxide, silicon dioxide, potassium titanate. , Kaolin, talc, glass beads, sericite activated clay, bentonite, aluminum nitride, silicon nitride and the like. Of these, silicon dioxide and talc are preferred.
有機充填剤の例には、熱可塑性樹脂粒子が含まれる。熱可塑性樹脂粒子は、環球法により測定される軟化点温度が50〜120℃、好ましくは70〜100℃の熱可塑性樹脂を含む粒子である。そのような熱可塑性樹脂粒子を含むシール材は、加熱硬化の際の収縮応力を好ましく緩和できるので、目的とする線幅でシール部材を形成しやすい。 Examples of organic fillers include thermoplastic resin particles. The thermoplastic resin particles are particles containing a thermoplastic resin having a softening point temperature of 50 to 120 ° C., preferably 70 to 100 ° C., as measured by the ring-and-ball method. Since the sealing material containing such thermoplastic resin particles can preferably relieve the shrinkage stress during heat curing, it is easy to form the sealing member with a target line width.
熱可塑性樹脂粒子の例には、エポキシ基と二重結合基とを含む樹脂を、ラジカル重合可能なモノマーと懸濁重合して得られる微粒子が含まれる。エポキシ基と二重結合基とを含む樹脂の例には、ビスフェノールF型エポキシ樹脂とメタアクリル酸を三級アミン存在下で反応させた樹脂が含まれる。ラジカル重合可能なモノマーの例には、ブチルアクリレート、グリシジルメタクリレート、及びジビニルベンゼンが含まれる。 Examples of the thermoplastic resin particles include fine particles obtained by suspend-polymerizing a resin containing an epoxy group and a double bond group with a monomer capable of radical polymerization. Examples of resins containing an epoxy group and a double bond group include a resin obtained by reacting a bisphenol F type epoxy resin and methacrylic acid in the presence of a tertiary amine. Examples of radically polymerizable monomers include butyl acrylate, glycidyl methacrylate, and divinylbenzene.
充填剤Eの形状は、球状、板状、針状等の定形状であってもよいし、非定形状であってもよい。 The shape of the filler E may be a fixed shape such as a spherical shape, a plate shape, or a needle shape, or may be a non-fixed shape.
充填剤Eが球状の無機充填剤である場合、充填剤Eの平均一次粒子径は、1.5μm以下であり、且つ比表面積が0.5〜20m2/gであることが好ましい。充填剤Eの平均一次粒子径は、JIS Z8825−1に記載のレーザー回折法により測定することができる。充填剤Eの比表面積は、JIS Z8830に記載のBET法により測定することができる。 When the filler E is a spherical inorganic filler, the average primary particle size of the filler E is preferably 1.5 μm or less, and the specific surface area is preferably 0.5 to 20 m 2 / g. The average primary particle size of the filler E can be measured by the laser diffraction method described in JIS Z8825-1. The specific surface area of the filler E can be measured by the BET method described in JIS Z8830.
充填剤Eが球状の有機充填剤である場合、有機充填剤の数平均粒子径は、0.05〜5μm、好ましくは0.1〜3μmであることが好ましい。数平均粒子径は、乾式粒度分布計で測定され得る。 When the filler E is a spherical organic filler, the number average particle size of the organic filler is preferably 0.05 to 5 μm, preferably 0.1 to 3 μm. The number average particle size can be measured with a dry particle size counter.
液晶滴下工法用シール材における充填剤Eの含有量は、シール材の全質量に対して5〜30質量%であることが好ましい。充填剤Eの含有量が5質量%以上であると、シール材の硬化物の耐湿性を高めやすく、30質量%以下であると、シール材の塗工安定性が損なわれにくい。上記範囲は、部分(メタ)アクリル変性エポキシ樹脂Aと(メタ)アクリル樹脂Bの合計質量に対して5.5〜75質量%の範囲に相当し得る。 The content of the filler E in the sealing material for the liquid crystal dropping method is preferably 5 to 30% by mass with respect to the total mass of the sealing material. When the content of the filler E is 5% by mass or more, the moisture resistance of the cured product of the sealing material is easily increased, and when it is 30% by mass or less, the coating stability of the sealing material is not easily impaired. The above range may correspond to a range of 5.5 to 75% by mass with respect to the total mass of the partially (meth) acrylic modified epoxy resin A and the (meth) acrylic resin B.
1−6.その他の成分
本発明の液晶滴下工法用シール材は、本発明の効果を損なわない範囲で、その他の成分をさらに含んでいてもよい。その他の成分の例には、他の(メタ)アクリル樹脂、熱硬化性樹脂、熱ラジカル重合開始剤、シランカップリング剤等のカップリング剤、イオントラップ剤、イオン交換剤、レベリング剤、顔料、染料、可塑剤、消泡剤及び液晶表示パネルのギャップを調整するためのスペーサー等が含まれる。中でも、本発明の液晶滴下工法用シール材は、他の(メタ)アクリル樹脂、熱硬化性樹脂、又はシランカップリング剤を含み得る。
1-6. Other Components The sealing material for the liquid crystal dropping method of the present invention may further contain other components as long as the effects of the present invention are not impaired. Examples of other components include other (meth) acrylic resins, thermosetting resins, thermal radical polymerization initiators, coupling agents such as silane coupling agents, ion trapping agents, ion exchangers, leveling agents, pigments, etc. Includes dyes, plasticizers, defoamers and spacers for adjusting gaps in liquid crystal display panels. Among them, the sealing material for the liquid crystal dropping method of the present invention may contain other (meth) acrylic resin, thermosetting resin, or silane coupling agent.
1−6−1.他の(メタ)アクリル樹脂F
他の(メタ)アクリル樹脂Fは、(メタ)アクリロイル基を有する樹脂である。但し、他の(メタ)アクリル樹脂Fは、前述の部分(メタ)アクリル変性エポキシ樹脂Aとは異なり、エポキシ基を含まず;(メタ)アクリル樹脂Bとは異なり、一般式(1)で表される構造単位や一般式(2)で表される構造単位を含ままない。(メタ)アクリル樹脂Fの1分子あたりの(メタ)アクリロイル基の数は、1又は2以上である。他の(メタ)アクリル樹脂Fは、(メタ)アクリル基を有する化合物のモノマーであってもよく、オリゴマーやポリマーであってもよい。
1-6-1. Other (meth) acrylic resin F
The other (meth) acrylic resin F is a resin having a (meth) acryloyl group. However, the other (meth) acrylic resin F does not contain an epoxy group unlike the above-mentioned partial (meth) acrylic modified epoxy resin A; unlike the (meth) acrylic resin B, it is represented by the general formula (1). It does not include the structural unit to be used or the structural unit represented by the general formula (2). The number of (meth) acryloyl groups per molecule of the (meth) acrylic resin F is 1 or 2 or more. The other (meth) acrylic resin F may be a monomer of a compound having a (meth) acrylic group, or may be an oligomer or a polymer.
1分子内に1つの(メタ)アクリロイル基を有する樹脂の例には、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸2―ヒドロキシエチルエステル等の(メタ)アクリル酸アルキルエステルが含まれる。 Examples of resins having one (meth) acryloyl group in one molecule include (meth) acrylic acids such as methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, and 2-hydroxyethyl ester of (meth) acrylic acid. Includes alkyl esters.
1分子内に2以上の(メタ)アクリロイル基を有する樹脂の例には、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ポリプロピレングリコール等のジ(メタ)アクリレート;トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレートのジ(メタ)アクリレート;ネオペンチルグリコール1モルに4モル以上のエチレンオキサイド若しくはプロピレンオキサイドを付加して得たジオールのジ(メタ)アクリレート;ビスフェノールA1モルに2モルのエチレンオキサイド若しくはプロピレンオキサイドを付加して得たジオールのジ(メタ)アクリレート;トリメチロールプロパン1モルに3モル以上のエチレンオキサイド若しくはプロピレンオキサイドを付加して得たトリオールのジ若しくはトリ(メタ)アクリレート;ビスフェノールA1モルに4モル以上のエチレンオキサイド若しくはプロピレンオキサイドを付加して得たジオールのジ(メタ)アクリレート;トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレートトリ(メタ)アクリレート;トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、又はそのオリゴマー;ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート又はそのオリゴマー;ジペンタエリスリトールのポリ(メタ)アクリレート;トリス(アクリロキシエチル)イソシアヌレート;カプロラクトン変性トリス(アクリロキシエチル)イソシアヌレート;カプロラクトン変性トリス(メタクリロキシエチル)イソシアヌレート;アルキル変性ジペンタエリスリトールのポリアクリレート又はポリメタクリレート;カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールのポリアクリレート又はポリメタクリレート;ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジアクリレート又はジメタクリレート;カプロラクトン変性ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート;エチレンオキサイド変性リン酸アクリレート又はジメタクリレート;エチレンオキサイド変性アルキル化リン酸(メタ)アクリレート;ネオペンチルグルコール、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトールのオリゴ(メタ)アクリレート等が含まれる。 Examples of resins having two or more (meth) acryloyl groups in one molecule include di (meth) acrylates such as polyethylene glycol, propylene glycol and polypropylene glycol; di (meth) of tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate. Acrylate: Di (meth) acrylate of diol obtained by adding 4 mol or more of ethylene oxide or propylene oxide to 1 mol of neopentyl glycol; diol obtained by adding 2 mol of ethylene oxide or propylene oxide to 1 mol of bisphenol A. Di (meth) acrylate; Di or tri (meth) acrylate of triol obtained by adding 3 mol or more of ethylene oxide or propylene oxide to 1 mol of trimethylolpropane; 4 mol or more of ethylene oxide or propylene to 1 mol of bisphenol A Di (meth) acrylate of diol obtained by adding oxide; tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate tri (meth) acrylate; trimethylol propantri (meth) acrylate or oligomer thereof; pentaerythritol tri (meth) acrylate Or an oligomer thereof; poly (meth) acrylate of dipentaerythritol; tris (acryloxyethyl) isocyanurate; caprolactone-modified tris (acryloxyethyl) isocyanurate; caprolactone-modified tris (methacryloxyethyl) isocyanurate; alkyl-modified dipentaerythritol Polyacrylate or polymethacrylate; Polyacrylate or polymethacrylate of caprolactone-modified dipentaerythritol; Neopentyl glycol diacrylate or dimethacrylate of hydroxypivalate; Neopentyl glycol di (meth) acrylate of caprolactone-modified hydroxypivalate; Ethyleneoxide-modified phosphoric acid Acrylate or dimethacrylate; ethylene oxide-modified alkylated phosphoric acid (meth) acrylate; neopentylglucol, trimethylolpropane, oligo (meth) acrylate of pentaerythritol and the like are included.
他の(メタ)アクリル樹脂Fの市販品の例には、ケーエスエム社製、BAEA−100(アクリル変性ビスフェノールA型エポキシ樹脂)、BAEM−100(メタクリル変性ビスフェノールA型エポキシ樹脂)等が含まれる。 Examples of other commercially available products of the (meth) acrylic resin F include BAEA-100 (acrylic modified bisphenol A type epoxy resin) and BAEM-100 (methacrylic modified bisphenol A type epoxy resin) manufactured by KSM.
1−6−2.熱硬化性樹脂G
熱硬化性樹脂Gは、エポキシ樹脂であることが好ましい。但し、エポキシ樹脂は、部分(メタ)アクリル変性エポキシ樹脂Aとは異なるものであり、(メタ)アクリロイル基を有しない。エポキシ樹脂を含むシール材は、液晶に対する溶解性や拡散性が低く、得られる液晶表示パネルの表示特性を良好とするだけでなく、硬化物の耐湿性を高め得る。
1-6-2. Thermosetting resin G
The thermosetting resin G is preferably an epoxy resin. However, the epoxy resin is different from the partially (meth) acrylic-modified epoxy resin A and does not have a (meth) acryloyl group. The sealing material containing an epoxy resin has low solubility and diffusibility in liquid crystal, and can not only improve the display characteristics of the obtained liquid crystal display panel but also enhance the moisture resistance of the cured product.
エポキシ樹脂は、芳香族エポキシ化合物であることが好ましい。芳香族エポキシ樹脂の例には、ビスフェノールA、ビスフェノールS、ビスフェノールF、ビスフェノールAD等で代表される芳香族ジオール類及びそれらをエチレングリコール、プロピレングリコール、アルキレングリコール変性したジオール類と、エピクロルヒドリンとの反応で得られた芳香族多価グリシジルエーテル化合物;フェノール又はクレゾールとホルムアルデヒドとから誘導されたノボラック樹脂、ポリアルケニルフェノールやそのコポリマー等で代表されるポリフェノール類と、エピクロルヒドリンとの反応で得られたノボラック型多価グリシジルエーテル化合物;キシリレンフェノール樹脂のグリシジルエーテル化合物類等が含まれる。中でも、クレゾールノボラック型エポキシ化合物、フェノールノボラック型エポキシ化合物、ビスフェノールA型エポキシ化合物、ビスフェノールF型エポキシ化合物、トリフェノールメタン型エポキシ化合物、トリフェノールエタン型エポキシ化合物、トリスフェノール型エポキシ化合物、ジシクロペンタジエン型エポキシ化合物、ジフェニルエーテル型エポキシ化合物及びビフェニル型エポキシ化合物が好ましい。エポキシ化合物は、一種類であってもよいし、二種類以上の組み合わせであってもよい。 The epoxy resin is preferably an aromatic epoxy compound. Examples of aromatic epoxy resins include aromatic diols typified by bisphenol A, bisphenol S, bisphenol F, bisphenol AD, etc., and diols obtained by modifying them with ethylene glycol, propylene glycol, alkylene glycol, and reaction with epichlorohydrin. Aromatic polyvalent glycidyl ether compound obtained in the above; Novolac resin derived from phenol or cresol and formaldehyde, polyphenols represented by polyalkenylphenol and its copolymers, etc., and novolak type obtained by reaction with epichlorohydrin. Polyvalent glycidyl ether compound; glycidyl ether compounds of xylylene phenol resin and the like are included. Among them, cresol novolac type epoxy compound, phenol novolac type epoxy compound, bisphenol A type epoxy compound, bisphenol F type epoxy compound, triphenol methane type epoxy compound, triphenol ethane type epoxy compound, trisphenol type epoxy compound, dicyclopentadiene type. Epoxy compounds, diphenyl ether type epoxy compounds and biphenyl type epoxy compounds are preferable. The epoxy compound may be one kind or a combination of two or more kinds.
エポキシ樹脂は、液状であってもよいし、固形であってもよい。液晶汚染を抑制しやすい点では、固形のエポキシ化合物が好ましい。固形のエポキシ化合物の軟化点は、40〜150℃であることが好ましい。 The epoxy resin may be liquid or solid. A solid epoxy compound is preferable from the viewpoint of easily suppressing liquid crystal contamination. The softening point of the solid epoxy compound is preferably 40 to 150 ° C.
エポキシ樹脂の例には、ビスフェノールA型エポキシ樹脂(三菱化学社製1001、固形状)、及びビスフェノールA型エポキシ樹脂(三菱化学社製825、液状)が含まれる。 Examples of the epoxy resin include a bisphenol A type epoxy resin (1001, solid state manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) and a bisphenol A type epoxy resin (825 manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, liquid).
エポキシ樹脂の重量平均分子量は、500〜10000であることが好ましい。エポキシ樹脂の重量平均分子量が500以上であると、液晶へ溶解しにくいため液晶の汚染を抑制しやすく、10000以下であると、シール材の粘度が高くなりすぎるのを抑制しやすい。エポキシ樹脂の重量平均分子量は、1000〜5000であることがより好ましい。エポキシ樹脂の重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)によりポリスチレン換算にて測定することができる。 The weight average molecular weight of the epoxy resin is preferably 500 to 10000. When the weight average molecular weight of the epoxy resin is 500 or more, it is difficult to dissolve in the liquid crystal, so that it is easy to suppress the contamination of the liquid crystal. When it is 10,000 or less, it is easy to prevent the viscosity of the sealing material from becoming too high. The weight average molecular weight of the epoxy resin is more preferably 1000 to 5000. The weight average molecular weight of the epoxy resin can be measured by gel permeation chromatography (GPC) in terms of polystyrene.
1−6−3.シランカップリング剤H
シランカップリング剤Hの例には、ビニルトリメトキシシラン、γ−(メタ)アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン等が含まれる。
1-6-3. Silane coupling agent H
Examples of the silane coupling agent H include vinyltrimethoxysilane, γ- (meth) acryloxipropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltriethoxysilane, and the like. ..
液晶滴下工法用シール材におけるシランカップリング剤Hの含有量は、シール材の全質量に対して0.01〜3質量%であり得る。シランカップリング剤Hの含有量が0.01質量%以上であると、シール材の硬化物が十分な接着性を有しやすい。 The content of the silane coupling agent H in the sealing material for the liquid crystal dropping method may be 0.01 to 3% by mass with respect to the total mass of the sealing material. When the content of the silane coupling agent H is 0.01% by mass or more, the cured product of the sealing material tends to have sufficient adhesiveness.
1−7.液晶滴下工法用シール材の物性
本発明の液晶滴下工法用シール材の25℃、2.5rpmにおける粘度は、200〜450Pa・sであることが好ましい。シール材の粘度が上記範囲にあると、ディスペンサーによる塗布性が良好となる。シール材の粘度は、300〜400Pa・sであることがより好ましい。シール材の粘度は、E型粘度計で測定することができる。
1-7. Physical Properties of Sealing Material for Liquid Crystal Dropping Method The viscosity of the sealing material for liquid crystal dropping method of the present invention at 25 ° C. and 2.5 rpm is preferably 200 to 450 Pa · s. When the viscosity of the sealing material is within the above range, the applicability by the dispenser becomes good. The viscosity of the sealing material is more preferably 300 to 400 Pa · s. The viscosity of the sealing material can be measured with an E-type viscometer.
2.液晶表示パネル及びその製造方法
本発明の液晶表示パネルは、一対の基板と、該一対の基板の間に配置される枠状のシール部材と、該一対の基板の間の枠状のシール部材で囲まれた空間に充填された液晶層とを含む。シール部材を、本発明の液晶滴下工法用シール材の硬化物とし得る。
2. 2. Liquid crystal display panel and its manufacturing method The liquid crystal display panel of the present invention is composed of a pair of substrates, a frame-shaped seal member arranged between the pair of substrates, and a frame-shaped seal member between the pair of substrates. Includes a liquid crystal layer filled in the enclosed space. The sealing member can be a cured product of the sealing material for the liquid crystal dropping method of the present invention.
一対の基板は、いずれも透明基板である。透明基板の材質は、ガラス、又はポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート、ポリエーテルサルフォン及びPMMA等のプラスチックである。 The pair of substrates are all transparent substrates. The material of the transparent substrate is glass or plastic such as polycarbonate, polyethylene terephthalate, polyether sulfone and PMMA.
一対の基板のうち一方の基板の表面には、マトリックス状のTFT、カラーフィルタ、ブラックマトリクス等が配置され得る。該一方の基板の表面には、さらに配向膜が配置され得る。配向膜には、公知の有機配向剤や無機配向剤が含まれる。 A matrix-like TFT, a color filter, a black matrix, or the like may be arranged on the surface of one of the pair of substrates. An alignment film may be further arranged on the surface of the one substrate. The alignment film includes a known organic alignment agent or an inorganic alignment agent.
液晶表示パネルは、本発明の液晶滴下工法用シール材を用いて製造される。液晶表示パネルの製造方法には、一般に、液晶滴下工法と、液晶注入工法とがあるが、本発明の液晶表示パネルは、液晶滴下工法で製造されることが好ましい。 The liquid crystal display panel is manufactured by using the sealing material for the liquid crystal dropping method of the present invention. The method for manufacturing a liquid crystal display panel generally includes a liquid crystal dropping method and a liquid crystal injection method, but the liquid crystal display panel of the present invention is preferably manufactured by the liquid crystal dropping method.
液晶滴下工法による液晶表示パネルの製造方法は、
1)一方の基板に、本発明の液晶滴下工法用シール材のシールパターンを形成する工程と、
2)シールパターンが未硬化の状態において、基板のシールパターンで囲まれた領域内、又はシールパターンで囲まれた領域に対向する他方の基板の領域に、液晶を滴下する工程と、
3)一方の基板と他方の基板とをシールパターンを介して重ね合わせる工程と、
4)シールパターンを硬化させる工程と
を含む。
The manufacturing method of the liquid crystal display panel by the liquid crystal dropping method is
1) A step of forming a seal pattern of the seal material for the liquid crystal dropping method of the present invention on one substrate, and
2) In a state where the seal pattern is uncured, a step of dropping the liquid crystal into the region surrounded by the seal pattern of the substrate or the region of the other substrate facing the region surrounded by the seal pattern.
3) The process of superimposing one substrate and the other substrate via a seal pattern,
4) Includes a step of curing the seal pattern.
2)の工程において、シールパターンが未硬化の状態とは、シール材の硬化反応がゲル化点までは進行していない状態を意味する。このため、2)の工程では、シール材の液晶への溶解を抑制するために、シールパターンを光照射又は加熱して半硬化させてもよい。 In the step 2), the state in which the seal pattern is uncured means a state in which the curing reaction of the sealing material has not progressed to the gel point. Therefore, in the step 2), the seal pattern may be semi-cured by irradiating or heating the seal pattern in order to suppress the dissolution of the seal material in the liquid crystal.
4)の工程では、光照射による硬化を行った後、加熱による硬化を行うことが好ましい。光照射による硬化を行うことで、シール材を短時間で硬化させることができるので、液晶への溶解を抑制できる。光照射による硬化と加熱による硬化とを組み合わせることで、光照射による硬化のみの場合と比べて光による液晶層へのダメージを少なくすることができる。 In the step 4), it is preferable to perform curing by light irradiation and then by heating. By curing by light irradiation, the sealing material can be cured in a short time, so that dissolution in the liquid crystal can be suppressed. By combining curing by light irradiation and curing by heating, damage to the liquid crystal layer due to light can be reduced as compared with the case where only curing by light irradiation is performed.
照射する光は、波長340〜450nmの光であることが好ましい。上記波長の光は、液晶や駆動電極に与えるダメージが比較的少ないからである。光の照射は、紫外線や可視光を発する公知の光源を使用できる。可視光を照射する場合、高圧水銀ランプ、低圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、キセノンランプ、蛍光灯等を使用できる。 The light to be irradiated is preferably light having a wavelength of 340 to 450 nm. This is because light having the above wavelength causes relatively little damage to the liquid crystal and the drive electrode. For the irradiation of light, a known light source that emits ultraviolet rays or visible light can be used. When irradiating visible light, a high-pressure mercury lamp, a low-pressure mercury lamp, a metal halide lamp, a xenon lamp, a fluorescent lamp, or the like can be used.
光照射エネルギーは、(メタ)アクリル樹脂Bを硬化させる程度のエネルギーであればよく、例えば100mW/cm2程度とし得る。光硬化時間は、シール材の組成や光照射エネルギーにもよるが、例えば積算照射量が3J/cm2以上となるように設定されればよく、光照射エネルギー100mW/cm2で照射する場合は1分以内とし得る。 The light irradiation energy may be any energy sufficient to cure the (meth) acrylic resin B, and may be, for example, about 100 mW / cm 2 . The light curing time depends on the composition of the sealing material and the light irradiation energy, but for example, the integrated irradiation amount may be set to 3 J / cm 2 or more, and when irradiating with a light irradiation energy of 100 mW / cm 2. It can be within 1 minute.
熱硬化温度は、シール材の組成にもよるが、例えば120℃とし、熱硬化時間は1〜2時間程度とし得る。 The thermosetting temperature may be, for example, 120 ° C., and the thermosetting time may be about 1 to 2 hours, although it depends on the composition of the sealing material.
本発明の液晶滴下工法用シール材は、液晶への溶出が低減されている。従って、本発明の液晶滴下工法用シール材の硬化物を有する液晶表示パネルは、液晶の汚染が少なく、高品質の表示性能を有し得る。 The sealing material for the liquid crystal dropping method of the present invention has reduced elution into the liquid crystal. Therefore, the liquid crystal display panel having the cured product of the sealing material for the liquid crystal dropping method of the present invention can have high quality display performance with less contamination of the liquid crystal.
以下において、実施例を参照して本発明をより詳細に説明する。これらの実施例によって、本発明の範囲は限定して解釈されない。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples. These examples do not limit the scope of the invention.
1.液晶滴下工法用シール材の材料
(1)部分(メタ)アクリル変性エポキシ樹脂A
メタクリル変性ビスフェノールA型エポキシ樹脂:ケーエスエム社製、BAEM−50、メタクリル変性率50%
1. 1. Material of sealing material for liquid crystal dripping method (1) Part (meth) Acrylic modified epoxy resin A
Methacrylic modified bisphenol A type epoxy resin: manufactured by KSM, BAEM-50, methacrylic modification rate 50%
(2)(メタ)アクリル樹脂
(2−1)(メタ)アクリル樹脂B
ポリブタジエンアクリル樹脂:日本曹達社製TE−2000、重量平均分子量2500、アクリロイル基当量1600〜2100g/eq、水素結合性官能基(ウレタン結合)当量800〜1050g/eq(下記式参照)、ポリブタジエンアクリル樹脂(TE−2000)を構成する構造単位の全質量に対する一般式(2)で表される構造単位の含有量=61質量%
Polybutadiene acrylic resin: TE-2000 manufactured by Nippon Soda Co., Ltd., weight average molecular weight 2500, acryloyl group equivalent 1600-2100 g / eq, hydrogen-binding functional group (urethane bond) equivalent 800-1050 g / eq (see formula below), polybutadiene acrylic resin Content of structural unit represented by general formula (2) with respect to total mass of structural unit constituting (TE-2000) = 61 mass%
(2−2)他の(メタ)アクリル樹脂
メタクリル変性ビスフェノールA型エポキシ樹脂:ケーエスエム社製BAEM−100(メタクリル変性率100%)
ウレタンアクリル樹脂:共栄社化学社製AH−600(フェニルグリシジルエーテルアクリレートヘキサメチレンジイソシアネートウレタンプレポリマー)
(2-2) Other (meth) acrylic resin Methacrylic modified bisphenol A type epoxy resin: BAEM-100 manufactured by KSM (methacryl modification rate 100%)
Urethane acrylic resin: AH-600 (phenylglycidyl ether acrylate hexamethylene diisocyanate urethane prepolymer) manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.
(3)光重合開始剤C
オキシムエステル系光重合開始剤:BASF社製OXE−01(1,2−オクタンジオン,1−[4−(フェニルチオ)−2−(O−ベンゾイルオキシム)])
(3) Photopolymerization initiator C
Oxime ester-based photopolymerization initiator: OXE-01 manufactured by BASF (1,2-octanedione, 1- [4- (phenylthio) -2- (O-benzoyl oxime)])
(4)熱硬化剤D
アミン系潜在性硬化剤:
大塚化学社製SDH(セバシン酸ジヒドラジド、融点180℃)
四国化成社製2MA−OK((2,4−ジアミノ−6−[2'−メチルイミダゾリル−(1')]−エチル−s-トリアジン)イソシアヌル酸付加物)
(4) Thermosetting agent D
Amine-based latent hardener:
SDH manufactured by Otsuka Chemical Co., Ltd. (sebacic acid dihydrazide, melting point 180 ° C)
2MA-OK manufactured by Shikoku Kasei Co., Ltd. ((2,4-diamino-6- [2'-methylimidazolyl- (1')]-ethyl-s-triazine) isocyanuric acid adduct)
(5)充填剤E
シリカ粒子:(株)日本触媒化学社製KE−S100、平均粒子径1μm
熱可塑性樹脂粒子:アイカ工業社製F351、軟化点120℃、平均粒子径0.3μm
(5) Filler E
Silica particles: KE-S100 manufactured by Nippon Shokubai Kagaku Co., Ltd., average particle diameter 1 μm
Thermoplastic resin particles: F351 manufactured by Aica Kogyo Co., Ltd., softening point 120 ° C., average particle diameter 0.3 μm
(6)シランカップリング剤H
γ-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン:信越シリコーン社製KBM-403
(6) Silane coupling agent H
γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane: KBM-403 manufactured by Shinetsu Silicone Co., Ltd.
2.液晶滴下工法用シール材の調製と評価
(実施例1)
部分(メタ)アクリル樹脂AとしてビスフェノールAエポキシアクリル変性体(ケーエスエム社製、BAEM−50)を80質量部と、(メタ)アクリル樹脂Bとして、ポリブタジエンアクリル樹脂(日本曹達社製TE−2000)を20質量部と、光重合開始剤Cとしてオキシムエステル系光重合開始剤を1質量部と、熱硬化剤Dとしてセバシン酸ジヒドラジド(大塚化学社製SDH)を6質量部、イミダゾール系潜在性硬化剤(四国化成社製2MA−OK)を1質量部と、充填剤Eとしてシリカ粒子(日本触媒化学社製、KE−S100)を5質量部と、熱可塑性樹脂粒子F351(アイカ工業社製)を5質量部と、シランカップリング剤Hとしてγ-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン(信越シリコーン社製KBM−403)を1質量部とを、三本ロールミルを用いて均一な液となるように十分に混合して、シール材を得た。
2. 2. Preparation and evaluation of sealing material for liquid crystal dropping method (Example 1)
80 parts by mass of bisphenol A epoxy acrylic modified product (manufactured by KSM, BAEM-50) as the partial (meth) acrylic resin A, and polybutadiene acrylic resin (TE-2000, manufactured by Nippon Soda) as the (meth) acrylic resin B. 20 parts by mass, 1 part by mass of an oxime ester-based photopolymerization initiator as the photopolymerization initiator C, 6 parts by mass of sebacic acid dihydrazide (SDH manufactured by Otsuka Chemical Co., Ltd.) as the heat curing agent D, and an imidazole-based latent curing agent. 1 part by mass of (2MA-OK manufactured by Shikoku Kasei Co., Ltd.), 5 parts by mass of silica particles (KE-S100 manufactured by Nippon Catalytic Chemical Co., Ltd.) as filler E, and thermoplastic resin particles F351 (manufactured by Aika Kogyo Co., Ltd.). Sufficient to make a uniform liquid using 5 parts by mass and 1 part by mass of γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane (KBM-403 manufactured by Shinetsu Silicone Co., Ltd.) as the silane coupling agent H using a three-roll mill. To obtain a sealing material.
(実施例2〜4、比較例1〜3)
表1に示される組成に変更した以外は実施例1と同様にしてシール材を得た。
(Examples 2 to 4, Comparative Examples 1 to 3)
A sealing material was obtained in the same manner as in Example 1 except that the composition was changed to that shown in Table 1.
得られたシール材の粘度安定性、該シール材を用いた液晶表示パネルの表示特性及び接着強度を、以下の方法で評価した。 The viscosity stability of the obtained sealing material, the display characteristics of the liquid crystal display panel using the sealing material, and the adhesive strength were evaluated by the following methods.
[粘度安定性]
ディスペンス用シリンジに、10gのシール材を入れ、脱泡処理を行った。脱法処理後のシール材2gの初期粘度を、E型粘度計にて25℃、2.5rpmの条件で測定した。また、このシール材を23℃、50%RHで1週間保存した後、同様にして粘度を測定した。そして、以下の基準に基づいて粘度安定性を評価した。
○:初期粘度に対する1週間後の粘度の割合(上昇率)が1.2倍以下
△:初期粘度に対する1週間後の粘度の割合(上昇率)が1.2倍を超えて、1.5倍以下
×:初期粘度に対する1週間後の粘度の割合(上昇率)が1.5倍を超える
[Viscosity stability]
10 g of a sealing material was put into a syringe for dispensing, and defoaming treatment was performed. The initial viscosity of 2 g of the sealing material after the de-method treatment was measured with an E-type viscometer under the conditions of 25 ° C. and 2.5 rpm. Further, after storing this sealing material at 23 ° C. and 50% RH for 1 week, the viscosity was measured in the same manner. Then, the viscosity stability was evaluated based on the following criteria.
◯: The ratio of viscosity after 1 week (rate of increase) to the initial viscosity is 1.2 times or less Δ: The ratio of viscosity after 1 week to the initial viscosity (rate of increase) exceeds 1.2 times, 1.5 times Double or less ×: The ratio (rate of increase) of viscosity after one week to the initial viscosity exceeds 1.5 times
[液晶表示パネルの表示特性]
ディスペンサー(「ショットマスター」、武蔵エンジニアリング製)を使用し、透明電極及び配向膜を付した40mm×45mmのガラス基板(「RT−DM88−PIN」、EHC社製)上にシール材を塗布し、35mm×40mmの四角形枠状のシールパターン(線の断面積:3500μm2)(メインシール)を作製した。更に、作製したメインシールを囲むように、同一の条件でシール材を塗布した。
次いで、メインシールの枠内に、貼り合せ後のパネル内容量に相当する量の液晶材料(「MLC−11900−000」、メルク社製)を、ディスペンサーを用いて精密に滴下した。上記ガラス基板と、対向するガラス基板とを減圧下で重ね合わせた後、大気圧下に開放して貼り合わせた。貼り合わせたガラス基板を遮光ボックスに3分間保持後、3000mJ/cm2の紫外線を照射してメインシール(シール材)を仮硬化させた。次いで、120℃で60分加熱してメインシール(シール材)を熱硬化させて、液晶表示パネルを得た。
得られた液晶表示パネルを、直流電源装置を使用して印加電圧5Vで駆動させ、メインシール(シール材)近傍における液晶の色むら発生の有無を目視観察した。そして、以下の基準に基づいて液晶表示パネルの表示特性を評価した。
○:シール際まで表示機能が発揮されており、表示機能の異常が認められない
△:シール際0.3mm以内の位置で表示機能の異常が認められる
×:シール際0.3mmを超える位置で表示機能の異常が認められる
[Display characteristics of liquid crystal display panel]
Using a dispenser ("Shot Master", manufactured by Musashi Engineering), apply a sealing material on a 40 mm x 45 mm glass substrate ("RT-DM88-PIN", manufactured by EHC) with a transparent electrode and an alignment film. A quadrangular frame-shaped seal pattern (line cross-sectional area: 3500 μm 2 ) (main seal) of 35 mm × 40 mm was produced. Further, a sealing material was applied under the same conditions so as to surround the produced main seal.
Next, an amount of liquid crystal material (“MLC-11900-000”, manufactured by Merck & Co., Inc.) corresponding to the capacity of the panel after bonding was precisely dropped into the frame of the main seal using a dispenser. The glass substrate and the opposite glass substrate were overlapped under reduced pressure, and then opened under atmospheric pressure to be bonded. After holding the bonded glass substrate in a light-shielding box for 3 minutes, the main seal (seal material) was temporarily cured by irradiating it with ultraviolet rays of 3000 mJ / cm 2 . Next, the main seal (seal material) was thermoset by heating at 120 ° C. for 60 minutes to obtain a liquid crystal display panel.
The obtained liquid crystal display panel was driven by an applied voltage of 5 V using a DC power supply device, and the presence or absence of color unevenness of the liquid crystal in the vicinity of the main seal (seal material) was visually observed. Then, the display characteristics of the liquid crystal display panel were evaluated based on the following criteria.
◯: The display function is exhibited up to the time of sealing, and no abnormality in the display function is observed. Δ: Abnormality in the display function is observed at a position within 0.3 mm at the time of sealing. Abnormal display function is observed
[接着強度]
上記「液晶表示パネルの表示特性」に記載した手順と同様の手順で作製した液晶表示パネルを、高温高湿条件下(70℃、95%RH)で500時間保存した。そして、高温高湿条件下に放置後の液晶表示パネルの二枚のガラス基板の平面引張強度(接着強度)を、引張試験装置(インテスコ社製)を用いて引張速度2mm/分の条件で測定した。そして、以下の基準に基づいて接着強度を評価した。
○:接着強度が20MPa以上
△:接着強度が15MPa以上、20MPa未満
×:接着強度が15MPa未満
[Adhesive strength]
A liquid crystal display panel produced in the same procedure as the procedure described in the above "Display characteristics of the liquid crystal display panel" was stored under high temperature and high humidity conditions (70 ° C., 95% RH) for 500 hours. Then, the plane tensile strength (adhesive strength) of the two glass substrates of the liquid crystal display panel after being left under high temperature and high humidity conditions is measured using a tensile test device (manufactured by Intesco) under the condition of a tensile speed of 2 mm / min. did. Then, the adhesive strength was evaluated based on the following criteria.
◯: Adhesive strength is 20 MPa or more Δ: Adhesive strength is 15 MPa or more and less than 20 MPa ×: Adhesive strength is less than 15 MPa
実施例1〜4及び比較例1〜3の評価結果を表1に示す。 The evaluation results of Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 3 are shown in Table 1.
表1に示されるように、実施例1〜4のシール材は、いずれも粘度安定性、表示特性及び接着強度がいずれも良好であることがわかる。 As shown in Table 1, it can be seen that the sealing materials of Examples 1 to 4 all have good viscosity stability, display characteristics, and adhesive strength.
一方、比較例1のシール材は、表示特性が特に低いことがわかる。これは、アクリル変性エポキシ樹脂が水素結合性官能基を有しないことから、液晶材料の汚染を抑制できなかったためであると考えられる。比較例2のシール材は、表示特性だけでなく、接着強度も低いことがわかる。これは、アクリル変性エポキシ樹脂の柔軟性自体が低いだけでなく、柔軟性が低い部分(メタ)アクリル樹脂の含有比率が多いからであると考えられる。比較例3のシール材は、接着強度が低いことがわかる。これは、ウレタンアクリレートの柔軟性が十分でないからであると考えられる。 On the other hand, it can be seen that the sealing material of Comparative Example 1 has particularly low display characteristics. It is considered that this is because the acrylic-modified epoxy resin does not have a hydrogen-bonding functional group, so that the contamination of the liquid crystal material could not be suppressed. It can be seen that the sealing material of Comparative Example 2 has low adhesive strength as well as display characteristics. It is considered that this is because not only the flexibility of the acrylic-modified epoxy resin itself is low, but also the content ratio of the low-flexibility portion (meth) acrylic resin is high. It can be seen that the sealing material of Comparative Example 3 has low adhesive strength. It is considered that this is because the urethane acrylate is not sufficiently flexible.
本発明は、例えばシール部材を狭額縁化しても液晶表示パネルの基板に対して高い接着強度を有し、且つ液晶の汚染を抑制できる液晶滴下工法用シール材を提供することができる。 INDUSTRIAL APPLICABILITY The present invention can provide a sealing material for a liquid crystal dropping method, which has high adhesive strength to a substrate of a liquid crystal display panel even when the sealing member is narrowed, and can suppress contamination of the liquid crystal.
Claims (7)
下記一般式(1)で表される構造単位と下記一般式(2)で表される構造単位の少なくとも一方を有し、且つ水酸基およびカルボキシ基からなる群より選ばれる水素結合性官能基を有する(メタ)アクリル樹脂Bと、
光重合開始剤Cと、
熱硬化剤Dと、
充填剤Eとを含む(但し、前記部分(メタ)アクリル変性エポキシ樹脂Aは、前記一般式(1)で表される構造単位と前記一般式(2)で表される構造単位とを含まない)、
液晶滴下工法用シール材。
It has at least one of the structural unit represented by the following general formula (1) and the structural unit represented by the following general formula (2), and has a hydrogen-bonding functional group selected from the group consisting of a hydroxyl group and a carboxy group. (Meta) acrylic resin B and
Photopolymerization initiator C and
Thermosetting agent D and
The partial (meth) acrylic-modified epoxy resin A containing the filler E does not include the structural unit represented by the general formula (1) and the structural unit represented by the general formula (2). ),
Sealing material for liquid crystal dripping method.
請求項1に記載の液晶滴下工法用シール材。 The hydrogen-bonding functional group equivalent of the (meth) acrylic resin B is 500 to 8000 g / eq.
The sealing material for the liquid crystal dropping method according to claim 1 .
請求項1または2に記載の液晶滴下工法用シール材。 The total content of the structural unit represented by the general formula (1) and the structural unit represented by the general formula (2) is 30 with respect to the total mass of the structural unit constituting the (meth) acrylic resin B. ~ 99% by mass,
The sealing material for the liquid crystal dropping method according to claim 1 or 2 .
請求項1〜3のいずれか一項に記載の液晶滴下工法用シール材。 The content mass ratio B / A of the (meth) acrylic resin B and the partial (meth) acrylic-modified epoxy resin A is 0.1 to 0.5.
The sealing material for the liquid crystal dropping method according to any one of claims 1 to 3 .
請求項1〜4のいずれか一項に記載の液晶滴下工法用シール材。 The thermosetting agent D is an amine-based latent curing agent or a thiol-based latent curing agent.
The sealing material for the liquid crystal dropping method according to any one of claims 1 to 4 .
前記シールパターンが未硬化の状態において、前記シールパターンの枠内、又は前記一方の基板と対になる他方の基板に液晶を滴下する工程と、
前記一方の基板と前記他方の基板とを、前記シールパターンを介して重ね合わせる工程と、
前記シールパターンを光硬化させた後、熱硬化させる工程と、
を含む、
液晶表示パネルの製造方法。 A step of forming a frame-shaped seal pattern on one of the substrates by using the seal material for the liquid crystal dropping method according to any one of claims 1 to 5 .
A step of dropping a liquid crystal into the frame of the seal pattern or on the other substrate paired with the one substrate in a state where the seal pattern is uncured.
A step of superimposing the one substrate and the other substrate via the seal pattern, and
A step of photo-curing the seal pattern and then heat-curing it,
including,
Manufacturing method of liquid crystal display panel.
前記一対の基板の間に配置された枠状のシール部材と、
前記一対の基板の間の前記シール部材で囲まれた空間に充填された液晶層とを含み、
前記シール部材が、請求項1〜5のいずれか一項に記載の液晶滴下工法用シール材の硬化物である、
液晶表示パネル。
A pair of boards and
A frame-shaped sealing member arranged between the pair of substrates,
A liquid crystal layer filled in a space surrounded by the sealing member between the pair of substrates is included.
The sealing member is a cured product of the sealing material for the liquid crystal dropping method according to any one of claims 1 to 5 .
Liquid crystal display panel.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016111292A JP6793470B2 (en) | 2016-06-02 | 2016-06-02 | Sealing material for liquid crystal dripping method, liquid crystal display panel and manufacturing method of liquid crystal display panel |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016111292A JP6793470B2 (en) | 2016-06-02 | 2016-06-02 | Sealing material for liquid crystal dripping method, liquid crystal display panel and manufacturing method of liquid crystal display panel |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2017219564A JP2017219564A (en) | 2017-12-14 |
JP6793470B2 true JP6793470B2 (en) | 2020-12-02 |
Family
ID=60656122
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016111292A Active JP6793470B2 (en) | 2016-06-02 | 2016-06-02 | Sealing material for liquid crystal dripping method, liquid crystal display panel and manufacturing method of liquid crystal display panel |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6793470B2 (en) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6837781B2 (en) * | 2016-08-31 | 2021-03-03 | 日本化薬株式会社 | Liquid crystal sealant and liquid crystal display cell using it |
JPWO2022181498A1 (en) * | 2021-02-26 | 2022-09-01 |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006030481A (en) * | 2004-07-14 | 2006-02-02 | Sekisui Chem Co Ltd | Sealing material for liquid crystal display element, vertically conducting material, and liquid crystal display element |
WO2013038571A1 (en) * | 2011-09-15 | 2013-03-21 | Henkel Ag & Co. Kgaa | Sealant composition |
-
2016
- 2016-06-02 JP JP2016111292A patent/JP6793470B2/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2017219564A (en) | 2017-12-14 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6793474B2 (en) | Sealing material for liquid crystal dripping method, liquid crystal display panel and manufacturing method of liquid crystal display panel | |
WO2011118191A1 (en) | Liquid crystal sealing agent, method for producing liquid crystal display panel using same, and liquid crystal display panel | |
KR101962082B1 (en) | Photo-curable resin composition, display element sealing agent, liquid crystal sealing agent, liquid crystal display panel and manufacturing method thereof | |
JP5986987B2 (en) | Liquid crystal sealant, liquid crystal display panel manufacturing method using the same, and liquid crystal display panel | |
JP6566994B2 (en) | Liquid crystal sealant and cured product thereof, and liquid crystal display panel and method for producing the same | |
JP2010256777A (en) | Liquid crystal sealing agent, and liquid crystal display cell using the same | |
JP6793471B2 (en) | Sealing material for liquid crystal dropping method, liquid crystal display panel and manufacturing method of liquid crystal display panel | |
JP2019091086A (en) | Sealant for liquid crystal display, vertical conduction material, and liquid crystal display | |
JP6127223B1 (en) | Photocurable resin composition, display element sealant, liquid crystal sealant, liquid crystal display panel, and method for producing liquid crystal display panel | |
JP6793470B2 (en) | Sealing material for liquid crystal dripping method, liquid crystal display panel and manufacturing method of liquid crystal display panel | |
JP6523167B2 (en) | Sealant for liquid crystal dropping method, vertical conduction material, and liquid crystal display element | |
TW201437274A (en) | Liquid crystal sealing agent and liquid crystal display cell using same | |
WO2021002318A1 (en) | Sealant for display element, vertically electroconductive material, and display element | |
WO2020085081A1 (en) | Sealant for display element, cured product, vertical conductive material, and display element | |
TWI723102B (en) | Display element sealant, liquid crystal display panel and manufacturing method thereof | |
JP5559458B2 (en) | Sealant for liquid crystal dropping method, vertical conduction material, and liquid crystal display element | |
JP7411693B2 (en) | Photothermosetting resin composition, liquid crystal sealant containing the same, liquid crystal display panel, and manufacturing method thereof | |
JP7029027B1 (en) | Sealant for display element, vertical conduction material, and display element | |
JP6835980B2 (en) | Sealing agent for liquid crystal display element, vertical conduction material, and liquid crystal display element | |
JP7053471B2 (en) | Sealant for liquid crystal display element, vertical conduction material, and liquid crystal display element | |
WO2022181498A1 (en) | Photocurable resin composition, liquid crystal sealing agent, liquid crystal display panel using same, and production method therefor | |
WO2021177111A1 (en) | Sealing agent for liquid crystal dropping methods and method for producing liquid crystal display panel |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20190424 |
|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20190621 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20191105 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20200421 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20200617 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20201104 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20201110 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6793470 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |