JP6126798B2 - 放射源およびリソグラフィ装置 - Google Patents
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Description
上の式で、λは、使用される放射の波長であり、NAは、パターンを印刷するために使用される投影システムの開口数であり、k1は、レイリー定数とも呼ばれているプロセス依存調節係数であり、CDは、印刷されたフィーチャのフィーチャサイズ(またはクリティカルディメンジョン)である。式(1)から、フィーチャの最小印刷可能サイズの縮小は、以下の3つの方法:露光波長λを短くすることによって、開口数NAを大きくすることによって、あるいはk1の値を小さくすることによって、達成することができると言える。
‐放射ビームB(例えば、EUV放射)を調整するように構成された照明システム(イルミネータ)ILと、
‐パターニングデバイス(例えば、マスクまたはレチクル)MAを支持するように構築され、かつパターニングデバイスを正確に位置決めするように構成された第1ポジショナPMに連結されるサポート構造(例えば、マスクテーブル)MTと、
‐基板(例えば、レジストコートウェーハ)Wを保持するように構成され、かつ基板を正確に位置決めするように構成された第2ポジショナPWに連結される基板テーブル(例えば、ウェーハテーブル)と、
‐パターニングデバイスMAによって放射ビームBに付けられたパターンを基板Wのターゲット部分C(例えば、1つ以上のダイを含む)上に投影するように構成された投影システム(例えば、反射投影システム)PSと、を備える。
1.ステップモードにおいては、サポート構造(例えば、マスクテーブル)MTおよび基板テーブルWTを基本的に静止状態に保ちつつ、放射ビームに付けられたパターン全体を一度にターゲット部分C上に投影する(すなわち、単一静的露光)。その後、基板テーブルWTは、Xおよび/またはY方向に移動され、それによって別のターゲット部分Cを露光することができる。
2.スキャンモードにおいては、サポート構造(マスクテーブル)MTおよび基板テーブルWTを同期的にスキャンする一方で、放射ビームに付けられたパターンをターゲット部分C上に投影する(すなわち、単一動的露光)。サポート構造(マスクテーブル)MTに対する基板テーブルWTの速度および方向は、投影システムPSの(縮小)拡大率および像反転特性によって決めることができる。
3.別のモードにおいては、プログラマブルパターニングデバイスを保持した状態で、サポート構造(マスクテーブル)MTを基本的に静止状態に保ち、また基板テーブルWTを動かす、またはスキャンする一方で、放射ビームに付けられているパターンをターゲット部分C上に投影する。このモードにおいては、通常、パルス放射源が採用されており、さらにプログラマブルパターニングデバイスは、基板テーブルWTの移動後ごとに、またはスキャン中の連続する放射パルスと放射パルスとの間に、必要に応じて更新される。この動作モードは、前述の型のプログラマブルミラーアレイといったプログラマブルパターニングデバイスを利用するマスクレスリソグラフィに容易に適用することができる。
Claims (15)
- レーザビームによって蒸発させてプラズマを形成するために燃料をプラズマ放出位置に供給する燃料源と、
前記プラズマにより放出されたEUV放射を集光し、かつ中間焦点に向けて誘導するコレクタであって、さらに、前記プラズマにより放出された赤外放射を回折する回折格子を備えるコレクタと、
前記中間焦点の前に配置された放射導管であって、前記放射導管は、内側に向けてテーパをつけられた本体を備え、前記本体は、入口アパーチャと、前記本体を通じて前記入口アパーチャに接続する出口アパーチャとを有しており、前記出口アパーチャは、前記入口アパーチャよりも、前記中間焦点に近く、前記本体は、内側部分及び外側部分を備え、前記内側部分が前記外側部分よりも前記中間焦点に近く、前記内側部分は、前記回折格子から回折して、前記入口アパーチャを通じて前記内側部分に入射する赤外放射を前記外側部分に向けて反射する、放射導管と、
を備える、放射源。 - 前記内側部分が反射構造を備え、前記外側部分が吸収構造を備える、請求項1に記載の放射源。
- 前記内側部分が、前記回折格子から回折して前記内側部分に入射する赤外放射を前記外側部分に向けて反射するように向けられた複数の面を備える、請求項1に記載の放射源。
- 前記複数の面が、前記回折格子から回折して前記内側部分に入射する1次回折赤外放射を前記外側部分に向けて反射するように向けられる、請求項3に記載の放射源。
- 前記複数の面のうち少なくともいくつかが前記放射導管のテーパ角度に対して70°未満の角度を成す、請求項3又は請求項4に記載の放射源。
- 前記複数の面のうち少なくともいくつかが前記放射導管のテーパ角度に対して61°以下の角度を成す、請求項4に記載の放射源。
- 前記複数の面が、前記放射源の光軸に対して略横断する方向に前記放射導管の内側に周設される、請求項3乃至請求項6のうち何れか1項に記載の放射源。
- 前記外側部分が、前記中間焦点から離れる方向に角度付けられた複数のリッジを備える、請求項1乃至請求項7のうち何れか1項に記載の放射源。
- 前記外側部分が第1吸収構造および第2吸収構造を備える、請求項1乃至請求項7のうち何れか1項に記載の放射源。
- 前記第2吸収構造が前記放射導管の前記内側部分から反射された赤外放射を受光し、かつ、前記放射導管内を横切って赤外放射を反射する複数の面を備える、請求項9に記載の放射源。
- 前記第2吸収構造が鋸歯形状を有する、請求項9又は請求項10に記載の放射源。
- 前記第2吸収構造が、互いに略垂直であり、かつ前記放射導管内を横切って移動してきた赤外放射を再帰反射させるように向けられた複数の面を備える、請求項11に記載の放射源。
- 前記第1吸収構造が、前記中間焦点から離れる方向に角度付けられた複数のリッジを備える、請求項9乃至請求項12のうち何れか1項に記載の放射源。
- レーザビームによって蒸発させてプラズマを形成するために燃料をプラズマ放出位置に供給する燃料源と、
前記プラズマにより放出されたEUV放射を集光し、かつ中間焦点に向けて誘導するコレクタであって、さらに、前記プラズマにより放出された赤外放射を回折する回折格子を備えるコレクタと、
前記中間焦点の前に配置された放射導管であって、前記放射導管は、内側に向けてテーパをつけられた本体を備え、前記本体は、入口アパーチャと、前記本体を通じて前記入口アパーチャに接続する出口アパーチャとを有しており、前記出口アパーチャは、前記入口アパーチャよりも、前記中間焦点に近く、前記本体は、内側部分及び外側部分を備え、前記内側部分が前記外側部分よりも前記中間焦点に近く、前記内側部分は、前記回折格子から回折して、前記入口アパーチャを通じて前記内側部分に入射する赤外放射を前記外側部分に向けて反射する、放射導管と、
を備える、放射源。 - 請求項1乃至請求項14のうち何れか1項に記載の放射源と、
放射ビームを調整する照明システムと、
パターニングデバイスを支持するサポートであって、前記パターニングデバイスが前記放射ビームの断面にパターンを付与してパターン付き放射ビームを形成することができる、サポートと、
基板を保持する基板テーブルと、
前記パターン付き放射ビームを前記基板のターゲット部分上に投影する投影システムと、
を備える、リソグラフィ装置。
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