JP6124959B2 - Ｘ線管 - Google Patents

Description

本発明は、医療用や工業用のＸ線発生装置に適用できるＸ線管に関し、特に透過型ターゲットを用いた透過型Ｘ線管に関する。

透過型Ｘ線管は、陰極、陽極及び絶縁管からなる真空管であり、陰極の電子源から放出された電子を、陰極−陽極間に加えられた高電圧で加速し陽極に配置されたターゲットに照射してＸ線を発生させる。発生したＸ線はＸ線取り出し窓を兼ねるターゲットから外部に放出される。

従来、上記のような透過型Ｘ線管や反射型Ｘ線管では、Ｘ線管の耐電圧性能（以下、「耐圧」という。）が問題となって小型軽量化を実現するのが困難となっていた。

特許文献１には、透過型Ｘ線管において、小型化の目的で集束電極の陰極側の端部を絶縁管と陰極との間に挟んだ構造とし、耐圧確保の目的で絶縁管の内壁と集束電極の外面との間に一定間隔の隙間を設けて沿面距離を稼いだ構造とすることが開示されている。

また、特許文献２には、反射型Ｘ線管において、陰極部の先端付近でガラス管の内径を広げ陰極部とガラス管の内壁との距離を長くした構成をとっており、耐圧向上に寄与しているとも考えられる。

特開平０９−１８０６６０号公報 特開平０７−３１２１８９号公報

特許文献１に記載の技術では次のような課題があった。陰極と陽極との間にある絶縁管の内壁の電位は、絶縁管を構成する材料の誘電率（場合によっては体積抵抗）によって場所毎に決まる。このような場合、集束電極の外面と絶縁管の内壁との距離によっては集束電極の外面と絶縁管の内壁との間で放電が発生するおそれがあり、高耐圧及び小型化の障壁となっていた。

また、特許文献２に記載の技術では、陰極部の先端付近でガラス管の内径と共にガラス管の外径も広がっており小型化とは方向性が異なるためＸ線管の小型化を実現できない。

そこで、本発明は、耐圧向上と小型化を実現したＸ線管を提供することを目的とする。

上記課題を解決するために、本発明は、絶縁管と、前記絶縁管の管軸方向の一端に接続された陰極と、前記絶縁管の管軸方向の他端に接続された陽極と、前記陰極から前記陽極に向けて突出し、前記絶縁管の内壁から離間して配置された電子銃と、前記陽極に電気的に接続され前記電子銃から放出された電子の照射によりＸ線を発生させるターゲットと、を有し、
前記電子銃は、前記陽極の側から前記陰極の側に向かって順に、集束電極、グリッド電極、および、電子源を有しているＸ線管であって、
前記電子銃の前記陽極側の端部の位置を前記絶縁管の内壁へ投影した端部位置を基準として、前記端部位置から前記陰極に向かって、前記絶縁管の内壁は前記電子銃に近づくように傾斜し、前記端部位置から前記陰極に向かって前記絶縁管の壁厚が連続的に増加していることを特徴とするＸ線管を提供するものである。

本発明によれば、電子銃の外面と筒形の絶縁管の内壁との間に隙間を設け、電子銃の陽極側の端部の位置を絶縁管の内壁へ投影した端部位置を基準として、陰極側の方が陽極側よりも絶縁管の胴部の平均壁厚が厚い構成をとる。これにより、端部位置の電位を下げ、端部位置と電子銃の外面との間の電界強度を弱めることができるためＸ線管の耐圧向上を実現でき、かつ絶縁管の胴部全体に渡って壁厚を厚くした場合と比べてＸ線管の小型化を実現できる。

本発明のＸ線管の参考実施形態の構成図である。 本発明のＸ線管の実施形態の構成図である。 本発明のＸ線管の他の参考実施形態の構成図である。 比較例１及び２のＸ線管の構成図である。

以下、図面を参照して本発明のＸ線管の好適な実施形態を例示的に説明する。但し、以下の実施形態に記載されている構成部材の材質、寸法、形状、相対配置等は、特に記載がない限り本発明の範囲をそれらのみに限定する趣旨のものではない。

図１は参考実施形態のＸ線管の構成図であり、本参考実施形態のＸ線管を陰極、陽極、絶縁管、電子銃及びターゲットを含む平面で切断したときの断面模式図である。

Ｘ線管１は、筒形の絶縁管４の胴部の一端に陰極２、他端に陽極３を備えて内部が密閉された外囲器と、外囲器内に配置された電子銃と、陽極に配置されたターゲットとからなる真空管である。

陰極２は、陰極２から突出した形状を有する電子銃に接続されている。電子銃は電子源５、グリッド電極６、集束電極７、電子源駆動用端子９、グリッド電極用端子１０及び集束電極用端子１１からなり、電子銃の外面と絶縁管４の内壁との間には隙間が設けられている。本実施形態における「電子銃の外面」とは、絶縁管４の内壁に最も近い電極及び端子の外面、即ち集束電極７及び集束電極用端子１１における絶縁管４の内壁側の面のことである。「絶縁管４の内壁」とは、絶縁管４の胴部の内壁のことである。

また、陰極２は絶縁部材８を有する。絶縁部材８には電子源駆動用端子９とグリッド電極用端子１０が、陰極２とは電気的に絶縁されるように固定されている。電子源駆動用端子９、グリッド電極用端子１０はＸ線管１内の電子源５、グリッド電極６から陰極側に向かって延びておりＸ線管１の外部へと引き出されている。集束電極７は陰極２に固定された集束電極用端子１１に接続され、陰極２と同電位に規定されている。但し、集束電極７も陰極２と絶縁して別の電位を与えられるようにしても良い。

電子源５は、電子を放出する電極であり、陰極２から突出して延びる電子源駆動用端子９の先端に、ターゲット１２に対向させて配置されている。電子源５は電子源駆動用端子９と一体として形成しても良い。電子源５には電子放出素子として冷陰極、熱陰極のいずれも用いることができるが、本実施形態のＸ線管１に適用する電子源５としては、大電流を安定して取り出せる含浸型カソード（熱陰極）を好適に用いることができる。含浸型カソードは、電子放出部（エミッタ）近傍のヒーターに通電することによりカソードの温度を上昇させて電子を放出する。

グリッド電極６は、電子源５から放出された電子を真空中に引き出すために所定の電圧が印加される電極であり、陰極２から突出して延びるグリッド電極用端子１０の先端に、電子源５から所定の距離だけ離しターゲット１２に対向させて配置されている。グリッド電極６はグリッド電極用端子１０と一体として形成しても良い。グリッド電極６の形状、孔径、開口率等は、電子線の引き出し効率やカソード近傍の排気コンダクタンスを考慮して決定される。通常、線径５０μｍ程度のタングステンメッシュを好適に用いることができる。

集束電極７は、グリッド電極６によって引き出された電子線の広がり（ビーム径）を制御するための電極であり、陰極２から突出して延びる集束電極用端子１１の先端に、ターゲット１２に対向させて配置されている。集束電極７は集束電極用端子１１と一体として形成しても良い。通常、集束電極７には数百Ｖ〜数ｋＶ程度の電圧が印加されてビーム径の調節を行う。電子源５近傍の構造や印加電圧によっては集束電極７を省略し、電界によるレンズ効果のみによって電子線を集束することも可能である。

陽極３は、ターゲット１２に電気的に接続されている。陽極３とターゲット１２の接合は、熱的接合の他、真空の保持を考慮してろう附けや溶接が好適である。通常、陽極３には数十ｋＶ〜百ｋＶ程度の電圧が印加される。電子源５により発生しグリッド電極６により引き出された所定のエネルギーを有する電子線は、集束電極７により陽極３上のターゲット１２へと向けられ、陽極３に印加された電圧により加速されてターゲット１２に衝突する。電子線の衝突によりターゲット１２からＸ線が発生し全方向に放射される。全方向に放射されたＸ線のうちターゲット１２を透過したＸ線がＸ線管１の外部に取り出される。

ターゲット１２は、金属膜と金属膜を支持する基板からなる構成、又は金属膜のみからなる構成とすることができる。金属膜と金属膜を支持する基板からなる構成とする場合には、Ｘ線を透過する基板の電子線照射面（電子銃側の面）に、電子線の衝突によりＸ線を発生する金属膜を配置する。金属膜は通常、原子番号２６以上の金属材料を用いることができる。具体的にはタングステン、モリブデン、クロム、銅、コバルト、鉄、ロジウム、レニウム等、又はこれらの合金材料からなる薄膜を好適に用いることができ、スパッタリング等の物理成膜によって緻密な膜構造をとるように形成される。金属膜の膜厚は、加速電圧によって電子線浸入深さ即ちＸ線発生領域が異なるため最適な値が異なるが、百ｋＶ程度の加速電圧を印加する場合には通常、数μｍ〜十μｍ程度の厚さである。一方、基板はＸ線の透過率が高く、熱伝導率が高く、真空封止に耐える必要があり、ダイヤモンド、窒化ケイ素、炭化ケイ素、炭化アルミ、窒化アルミ、グラファイト、ベリリウム等を好適に用いることができる。Ｘ線の透過率がアルミニウムよりも低く熱伝導率がタングステンよりも高い、ダイヤモンド、窒化アルミ、窒化ケイ素を用いるのがより好ましい。特にダイヤモンドは、他の材料に比べて熱伝導率が極めて高く、Ｘ線の透過率も高く、真空を保持しやすいため、より優れている。基板の厚さは、上記の機能を満足すれば良く、材料によって異なるが、０．１ｍｍ以上２ｍｍ以下が好ましい。

絶縁管４は、ガラスやセラミック等の絶縁部材で形成された絶縁性を有する管であり、筒形の形状を有する。形状に制約は多くないが、小型化や作り易さの観点からすると円筒形が好ましい。角筒形としても良い。絶縁管４の胴部の両端はそれぞれ陰極２、陽極３とろう附けや溶接によって接合される。Ｘ線管１内の真空度を良くするために加熱排気を行う場合には、陰極２、陽極３、絶縁管４及び絶縁部材８は熱膨張率が近い材料を用いるのが良い。例えば陰極２及び陽極３にはコバールやタングステン、絶縁管４及び絶縁部材８にはホウケイ酸ガラスやアルミナを用いると良い。

本発明では絶縁管４の内壁と電子銃の外面との間の空間耐圧を向上させることにより、Ｘ線管の小型化や安定化を実現できる。空間耐圧の向上は、絶縁管４の内壁と電子銃の外面との間の電界強度を弱めることにより達成できるが、絶縁管４の内壁と電子銃の外面との距離を長くする方法はＸ線管の小型化と矛盾する。よって、本発明では絶縁管４の内壁の電位を下げることにより絶縁管４の内壁と電子銃の外面との間の電界強度を弱める方法を提案する。この方法では、空間耐圧の向上は、電子銃の陽極側の端部の位置を絶縁管４の内壁へ投影した位置（以下、「端部位置」という。）を基準として、陰極側の絶縁管４の胴部の平均壁厚を、陽極側の絶縁管４の胴部の平均壁厚よりも厚くすることで達成できる。絶縁管４を構成する材料として誘電率の高いものを用いた場合、絶縁管４の内壁の電位は静的には絶縁管４が支配的に決める。例えばアルミナの比誘電率は１０程度、ホウケイ酸ガラスの比誘電率は５程度である。また、絶縁管４の内壁の電位は高電位である陽極に近いほど高い。このため、本発明では端部位置を基準として陰極側の絶縁管４の胴部の平均壁厚を陽極側よりも厚くする。これにより、絶縁管４の相対的な容量が大きくなり、端部位置の電位が下がるためＸ線管の耐圧向上を実現でき、かつ絶縁管４の胴部全体に渡って壁厚を厚くした場合と比べてＸ線管の小型化を実現できる。本実施形態のＸ線管１では、電子銃を構成する部材の中で、集束電極７及び集束電極用端子１１が絶縁管４の内壁に最も近い位置に配置されている。この場合、集束電極７の陽極側の端部の位置を絶縁管４の内壁へ投影した位置が端部位置である。また、集束電極７の陽極側の端部は、図１のように集束電極用端子１１よりも絶縁管４の内壁側に突出していなくても良いし、集束電極用端子１１よりも絶縁管４の内壁側に突出していても良い。

図１では、絶縁管４の内壁は、端部位置よりも陰極側に１つの段差を有しており、端部位置から陰極側において絶縁管４の内壁を電子銃の外面に近づけることにより絶縁管４の胴部の平均壁厚を厚くしている。端部位置を基準として陰極側の絶縁管４の胴部の平均壁厚を陽極側よりも厚くすることにより小型化できると上述したが、絶縁管４の内壁を図１のようにすると、絶縁管４の外壁が外方に張出さないため更に小型化できる。具体的には陰極２から段差の位置までの距離をｌ₃、陰極２から端部位置までの距離をｌ₁としたとき、ｌ₁／３＜ｌ₃＜ｌ₁を満たす構成とするのが好ましい。また、この条件を満たし、かつ絶縁管４の外壁から電子銃の外面までの距離をｔ₄、段差の位置よりも陰極側における絶縁管４の内壁から電子銃の外面までの距離をｔ₃としたとき、ｔ₄／１０＜ｔ₃＜ｔ₄／２を満たす構成とすることもできる。この構成とした場合、より確実に耐圧向上の効果が得られ、より小型化できる。「絶縁管４の外壁」とは、絶縁管４の胴部の外壁のことである。

次に、Ｘ線管の他の実施形態について説明する。図２はＸ線管の実施形態を、図３は他の参考実施形態を示す構成図（図１と同じ平面で切断したときの断面模式図）である。図２では、絶縁管４の内壁は、端部位置から陰極２までが傾斜しており、端部位置から陰極側に向かって絶縁管４の胴部の壁厚が連続的に増加している。図３では、絶縁管４の内壁は、端部位置よりも陰極側に複数の段差を有している。複数の段差は２つ以上の段差であれば良い。絶縁管４の内壁を図２又は図３のようにすると、端部位置よりも陰極側において絶縁管４の内壁と電子銃の外面との距離を急に縮めることなく電界強度の上昇を抑制できるため更に耐圧向上できる。

また、Ｘ線管１の小型化のためとはいえ、端部位置と電子銃の陽極側の端部との間の電界強度、及び陽極３と電子銃の陽極側の端部との間の電界強度が共に限界を超えることはできない。特に陽極３と電子銃の陽極側の端部との間で放電が発生してしまうと、電子源５から陽極３が直接見えてしまうために電子源５にダメージを生じる場合がある。よって、陽極３と電子銃の陽極側の端部との間の電界強度は、端部位置と電子銃の陽極側の端部との間の電界強度以下であることが好ましい。より具体的には次の条件を満たすことが好ましい。
ｔ₁≦（ｌ₂−ｄ）・ｌ₁・ｔ₂／（ｄ・ｌ₂）

ここで、ｔ₁は端部位置よりも陰極側の胴部の平均壁厚、ｔ₂は端部位置よりも陽極側の胴部の平均壁厚、ｌ₁は陰極２から端部位置までの距離、ｌ₂は端部位置から陽極３までの距離、ｄは端部位置から電子銃の陽極側の端部までの距離である。

以上では、集束電極７を設けたＸ線管で説明したが、本発明は集束電極７が無い場合でも適用できる。この場合、グリッド電極６が絶縁管４の内壁に最も近くなる。よって、上記説明の集束電極７をグリッド電極６と置き換えて考えれば良い。電子源５の形態によってはグリッド電極６が無い場合もあるが、そのような場合でも絶縁管４の内壁に最も近い電極の陽極側の端部の位置を絶縁管４の内壁へ投影した端部位置を基準として本発明が適用可能である。グリッド電極６のみ無い場合には集束電極７が絶縁管４の内壁に最も近くなり、集束電極７とグリッド電極６の両方が無い場合には電子源５が絶縁管４の内壁に最も近くなる。また上記説明したＸ線管１は各種Ｘ線発生装置に用いることが可能である。

以下、具体的な実施例を挙げて本発明について説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。

［参考実施例１］
参考実施例のＸ線管の構成図を図１に示す。図１のＸ線管の構成の説明は上述のとおりであるため省略する。

陰極２及び陽極３にはコバール、絶縁管４及び絶縁部材８にはアルミナを用い、これらを溶接によって接合した。絶縁管４は円筒形とした。電子源５には東京カソード研究所社製含浸型カソードを用いた。このカソードは電子放出部（エミッタ）が含浸された円柱形状をしており、筒形のスリーブ上端に固定されている。スリーブ内にはヒーターが取り付けられており、このヒーターに電子源駆動用端子９より通電することによってカソードが加熱されて電子が放出される。電子源駆動用端子９は絶縁部材８にろう附けした。

ターゲット１２は板厚０．５ｍｍのシリコンカーバイド基板上に膜厚５μｍのタングステン膜を形成した構成とし、陽極３にろう附けした。電子源５とターゲット１２の間には電子源５に近い順にグリッド電極６と集束電極７を配置した。グリッド電極６はグリッド電極用端子１０から通電され、電子源５から電子を効率良く引き出す。グリッド電極用端子１０は電子源駆動用端子９と同様に絶縁部材８にろう附けした。集束電極７は集束電極用端子１１と一体として形成した。以下、集束電極７と集束電極用端子１１を合わせて「集束電極」として説明する。集束電極は陰極２に溶接し、陰極２と同電位に規定した。集束電極はグリッド電極６によって引き出された電子線のビーム径を絞り、電子線を効率良くターゲット１２に照射する。

陰極２、陽極３及び絶縁管４の外径はΦ５６ｍｍ、集束電極の外形はほぼ円柱でΦ２５ｍｍであり、それぞれの中心を合わせている。絶縁管４の長さは７０ｍｍであり、集束電極は陰極２よりも４０ｍｍ突き出ているため、集束電極の陽極側の端部の位置を絶縁管４の内壁へ投影した端部位置は、絶縁管４の内壁に沿って陰極２から４０ｍｍの位置である。絶縁管４の胴部は陰極２から２０ｍｍのところまでが壁厚１０ｍｍ、それ以外は壁厚５ｍｍである。端部位置よりも陰極側の絶縁管４の胴部の平均壁厚はｔ₁＝７．５ｍｍ、端部位置よりも陽極側の絶縁管４の胴部の平均壁厚はｔ₂＝５ｍｍである。陰極２から端部位置までの距離はｌ₁＝４０ｍｍ、端部位置から陽極３までの距離はｌ₂＝３０ｍｍ、端部位置から集束電極の陽極側の端部までの距離はｄ＝１０．５ｍｍである。陰極２から段差の位置までの距離はｌ₃＝２０ｍｍ、段差の位置よりも陰極側における絶縁管４の内壁から電子銃の外面までの距離はｔ₃＝５．５ｍｍ、絶縁管４の外壁から電子銃の外面までの距離はｔ₄＝１５．５ｍｍである。

このように構成されたＸ線管１は、最後に、加熱しながら、陰極２に溶接された不図示の排気管から排気し封止された。

［比較例１］
本比較例のＸ線管の構成図（図１と同じ平面で切断したときの断面模式図）を図４に示す。本比較例のＸ線管は、絶縁管４の胴部の壁厚を陰極２から陽極３まで一定とした。各部材を構成する材料は参考実施例１と同じである。

陰極２、陽極３及び絶縁管４の外径はΦ６０ｍｍであり、絶縁管４の胴部の壁厚は陰極２から陽極３まで５ｍｍで一定である。端部位置よりも陰極側の絶縁管４の胴部の平均壁厚はｔ₁＝５ｍｍ、端部位置よりも陽極側の絶縁管４の胴部の平均壁厚はｔ₂＝５ｍｍである。陰極２から端部位置までの距離はｌ₁＝４０ｍｍ、端部位置から陽極３までの距離はｌ₂＝３０ｍｍ、端部位置から集束電極の陽極側の端部までの距離はｄ＝１２．５ｍｍである。

＜参考実施例１の評価＞
端部位置と集束電極の陽極側の端部との間の電界強度の比は参考実施例１と比較例１とで１：１．０２でほぼ同等であった。また、参考実施例１のＸ線管と比較例１のＸ線管の耐圧を測定したところ同等の耐圧であった。よって、参考実施例１のＸ線管は耐圧を劣化させることなく、比較例１に対して体積比で１３％の小型化を実現できた。

［実施例２］
本実施例のＸ線管の構成図を図２に示す。本実施例のＸ線管は、陰極２、陽極３及び絶縁管４の外径と、絶縁管４の内壁の形状が参考実施例１と異なる。各部材を構成する材料は参考実施例１と同じである。

陰極２、陽極３及び絶縁管４の外径はΦ５４ｍｍである。絶縁管４の胴部の壁厚は、陽極３から端部位置までは５ｍｍ、陰極側の端部で１４ｍｍであり、端部位置から陰極側の端部までは直線的に徐々に厚くなっている。端部位置よりも陰極側の絶縁管４の胴部の平均壁厚はｔ₁＝９．５ｍｍ、端部位置よりも陽極側の絶縁管４の胴部の平均壁厚はｔ₂＝５ｍｍである。陰極２から端部位置までの距離はｌ₁＝４０ｍｍ、端部位置から陽極３までの距離はｌ₂＝３０ｍｍ、端部位置から集束電極の陽極側の端部までの距離はｄ＝９．５ｍｍである。

＜実施例２の評価＞
端部位置と集束電極の陽極側の端部との間の電界強度の比は実施例２と参考実施例１とで０．９７：１で若干実施例２の方が低くなった。また、実施例２のＸ線管と参考実施例１のＸ線管の耐圧を測定したところ同等の耐圧であった。よって、実施例２のＸ線管は耐圧を劣化させることなく、比較例１に対して体積比で約２０％の小型化を実現できた。

［実施例３］
本実施例のＸ線管は、絶縁管４としてホウケイ酸ガラスを用いたことを除いては実施例２と同じ材料を用い、同じ構成とした。

［比較例２］
本比較例のＸ線管は、絶縁管４としてホウケイ酸ガラスを用いたことを除いては比較例１と同じ材料を用い、同じ構成とした。

＜実施例３の評価＞
実施例３のＸ線管と比較例２のＸ線管の耐圧を測定したところ同等の耐圧であった。よって、実施例３のＸ線管は耐圧を劣化させることなく、比較例２に対して体積比で約２０％の小型化を実現できた。

１：Ｘ線管、２：陰極、３：陽極、４：絶縁管、５：電子源、６：グリッド電極、７：集束電極、８：絶縁部材、９：電子源駆動用端子、１０：グリッド電極用端子、１１：集束電極用端子、１２：ターゲット

Claims (10)

1. 絶縁管と、前記絶縁管の管軸方向の一端に接続された陰極と、前記絶縁管の管軸方向の他端に接続された陽極と、前記陰極から前記陽極に向けて突出し、前記絶縁管の内壁から離間して配置された電子銃と、前記陽極に電気的に接続され前記電子銃から放出された電子の照射によりＸ線を発生させるターゲットと、を有し、
   前記電子銃は、前記陽極の側から前記陰極の側に向かって順に、集束電極、グリッド電極、および、電子源を有しているＸ線管であって、
   前記電子銃の前記陽極側の端部の位置を前記絶縁管の内壁へ投影した端部位置を基準として、前記端部位置から前記陰極に向かって、前記絶縁管の内壁は前記電子銃に近づくように傾斜し、前記端部位置から前記陰極に向かって前記絶縁管の壁厚が連続的に増加していることを特徴とするＸ線管。
2. 前記端部位置よりも前記陰極側の方が前記陽極側よりも前記絶縁管の平均壁厚が厚いことを特徴とする請求項１に記載のＸ線管。
3. 前記陰極から前記端部位置までの距離をｌ₁、前記端部位置から前記陽極までの距離をｌ₂、前記端部位置から前記電子銃の前記陽極側の端部までの距離をｄ、前記端部位置よりも前記陰極側の前記絶縁管の平均壁厚をｔ１、前記端部位置よりも前記陽極側の前記絶縁管の平均壁厚をｔ₂としたとき、以下の条件を満たすことを特徴とする請求項１または２に記載のＸ線管。
   ｔ₁≦（ｌ₂−ｄ）・ｌ₁・ｔ₂／（ｄ・ｌ₂）
4. 前記ターゲットは、透過型ターゲットであることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載のＸ線管。
5. 前記透過型ターゲットは、前記電子銃の側に金属膜を有し、前記金属膜で発生したＸ線を透過する透過基板を前記金属膜よりも前記電子銃に対して遠い側に位置し、前記透過基板は、前記金属膜を支持していることを特徴とする請求項４に記載のＸ線管。
6. 前記金属膜は、タングステン、モリブデン、クロム、銅、コバルト、鉄、ロジウム、レニウムの少なくともいずれかを含むことを特徴とする請求項５に記載のＸ線管。
7. 前記透過基板は、ダイヤモンド、窒化ケイ素、炭化ケイ素、炭化アルミ、窒化アルミ、グラファイト、ベリリウムのいずれかを含むことを特徴とする請求項５または６に記載のＸ線管。
8. 前記絶縁管は、セラミックで構成されていることを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載のＸ線管。
9. 前記セラミックは、アルミナが含まれることを特徴とする請求項８に記載のＸ線管。
10. 前記電子銃の前記陽極側の前記端部は、前記集束電極の前記陽極側の端部により規定されていることを特徴とする請求項１乃至９のいずれか１項に記載のＸ線管。

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