JP6121885B2 - 揚送研磨装置 - Google Patents

Description

本発明は、遊技媒体と研磨材とを撹拌しながら揚送することで、遊技媒体の研磨と揚送とを行うように構成された揚送研磨装置に関する。

遊技ホールには１つ以上の遊技機島が設置される。遊技機島は、遊技盤を有する複数の遊技機を有する。各遊技機は背中合わせにされ、遊技盤に沿った水平方向に配列される。遊技機において、パチンコ球、コイン、メダル、その他の遊技媒体が用いられる。遊技媒体は、各遊技機に供給され、各遊技機で用いられた後に回収される。回収された遊技媒体は、揚送研磨装置によって汚れが落とされながら揚送され、再び各遊技機に供給されることで、遊技機島内を循環する。

揚送研磨装置により遊技媒体の汚れを落とす手法の１つとして、遊技媒体と研磨材とを混ぜ合わせた状態で揚送するものがある（例えば、特許文献１）。

すなわち、各遊技機から回収された遊技媒体は、下部で研磨材と混合され、揚送されながら研磨される。遊技媒体は、上部で研磨材から分離された後、各遊技機に供給される。遊技媒体から分離された研磨材には研磨により生じた粉塵が付着しており、研磨材は、粉塵が取り除かされた後に下部に移送され、再使用される。

特開平１１−７６５８９号公報（特に図１０） 特開２０１３−３４６０１号公報（特に図３） 特開２００６−３１２０８５号公報

しかしながら、上記公報に記載された従来の手法では、遊技媒体を上部へ揚送するための機構と研磨材を下部へ返却する機構とが必要である。揚送研磨装置は、遊技機が設置可能な領域において、遊技媒体を上部へ揚送するための機構と研磨材を下部へ返却する機構とが、長手方向に並んで設けられている。そのため、揚送研磨装置自体の設置スペースが大きくなり、遊技機島全体が長手方向に大きくなっていた。従って、遊技機島の設置スペースの増大化を招き、設置可能な遊技機台数を減らさなければならないという問題があった。

この発明は、上記の問題を解決するものであり、遊技機島の省スペース化の実現に寄与することができる揚送研磨装置を提供することを目的とする。

上記課題を解決するために、請求項１記載の複数の遊技機を並置した遊技機島に設けられた揚送研磨装置は、移送手段と、分離手段と、経路とを備える。移送手段は、複数の遊技機で用いられた遊技媒体を、研磨材と混合し、下部から上部に揚送する。分離手段は、島上筐体に格納される。分離手段は、揚送された遊技媒体と研磨材との混合物から遊技媒体と研磨材とを分離する。経路は、分離された研磨材が上部から下部へと移動し、移送手段へと戻る。移送手段と経路は、遊技機の基底部高さから島上筐体下端部高さまでの高さの範囲において、遊技機の並置方向と略直交する水平方向に重畳して配置される。また、移送手段と経路は、高さの範囲より上部では、遊技機の並置方向に重畳して配置される。
また上記課題を解決するために、請求項２記載の複数の遊技機を並置した遊技機島に設けられた揚送研磨装置は、移送手段と、分離手段と、経路とを備える。移送手段は、複数の遊技機で用いられた遊技媒体を、研磨材と混合し、下部から上部に揚送する。分離手段は、島上筐体に格納され、揚送された遊技媒体と研磨材との混合物から遊技媒体と研磨材とを分離する。経路は、分離された研磨材が上部から下部へと移動し、移送手段へと戻る。移送手段と経路は、遊技機の基底部高さから島上筐体下端部高さまでの高さの範囲において、遊技機の並置方向と略直交する水平方向に重畳して配置される。経路は、第１経路と第２経路とを備える。第１経路は、高さの範囲に設けられ、鉛直方向に延びる長尺形状を有する。第１経路の上端部は、遊技媒体から分離した汚れを集塵する集塵機構と接続される。第２経路は、高さの範囲よりも上の部分に設けられ、第２経路上端の水平方向断面積が第２経路下端の水平方向断面積よりも大きい形状を有する。第２経路の上端部は、研磨材を回収する上方を向いた開口を有し、第２経路の下端部は第１経路の上端部と連通可能に接続される。

遊技媒体と研磨材とを混合して揚送する揚送研磨装置において、遊技媒体及び研磨材を下部から上部へ移送するため移送手段と、研磨材を上部から下部へ移送するための経路とを、遊技機の設置可能範囲において、複数の遊技機の配列方向と直交する水平方向に重なるように配置するようにしたので、遊技機の設置スペースに影響を与えることなく、遊技機島の長手方向の省スペース化を図ることができる。

本発明の一実施形態に係る遊技機島の一例を示す図。 揚送研磨装置の斜視図。 揚送研磨装置の正面図。 揚送研磨装置の側面図。 合流部の正面図。 実施形態の第１比較例における合流部の正面図。 実施形態の第２比較例における合流部の正面図。 加湿手段の構成例の機能ブロック図。 水供給手段の概念図。 分離手段の正面図。 漏斗体が設けられている位置の周辺を拡大して示す斜視図。 漏斗体と、縦樋との接続形態を示す斜視図。 水供給手段の他の例を示す概念図。 水供給手段の他の例を示す概念図。 水供給手段の他の例を示す概念図。

以下、本発明の実施形態を図面に基づき説明する。

なお、本明細書中において特に断りのない限り、「正面」とは、図１において遊技機２００が配置されている面であって遊技する側から見た面を意味する。また、「側面」とは、遊技機島１の「正面」に対して横方向から見た面を意味する。また、「上」、「下」、「左」、「右」とは、「正面」から遊技機島１を見た場合の上、下、左、右を意味する。

図１は、本発明の一実施形態に係る遊技機島１の一例を示す。
遊技機島１は、遊技ホールのフロア上に構築されたフレーム１００と、複数の遊技機２００と、遊技媒体循環機構とを有する。遊技機２００は、多数背中合わせにされ、表裏面に沿って配列され、フレーム１００に収容される。以下、遊技機２００をパチンコ機とし、遊技媒体を遊技球（パチンコ球）として説明する。
ここで、遊技機２００が配列される方向（配列方向）を「長手方向」という。また、長手方向と直交する水平方向を「短手方向」という。

フレーム１００は、上から幕板１０１と、収納枠１０２と、膳板（天板ともいう）１０３と、腰板１０４と、巾木（図示省略）とを有する。収納枠１０２には、遊技機２００が収納される。膳板１０３の上方には、遊技機２００が載置される。ここで、遊技機島１の正面側の幕板１０１と背面側の幕板１０１との間の空間を上部スペースという場合がある。また、膳板１０３より下方の空間で、かつ、正面側の腰板１０４と背面側の腰板１０４との間の空間を下部スペースという場合がある。

遊技媒体循環機構は、下部タンク７と、アウト球投入樋８と、アウト球誘導樋８ａと、島上樋９と、揚送研磨装置１０とを有する。

下部タンク７は、下部スペースに設けられる。遊技機２００で使用された遊技球（これを、「アウト球」という）は、アウト球投入樋８を介して下部タンク７に投入される。下部タンク７に投入されたアウト球は、アウト球誘導樋８ａを介して、遊技機島１の中央へ移送される。島上樋９は、上部スペースに設けられる。

揚送研磨装置１０は、遊技球と研磨材とを攪拌しながら遊技球の研磨と揚送とを行うように構成されている。研磨材は、樹脂製の粒であって、多孔質を有し、遊技球との攪拌により遊技球の汚れを除去し得るものである。

図２は、揚送研磨装置１０の斜視図である。図３は、揚送研磨装置１０の正面図である。図４は、揚送研磨装置１０の側面図である。
図２〜図４に示すように、揚送研磨装置１０は、本体２と、島上タンク３と、加湿手段１１とを有し、遊技機島１の中央部に設けられる。揚送研磨装置１０は、遊技機島１の中央に移送された遊技球を、加湿手段１１により水で湿らせた研磨材と撹拌して研磨しながら揚送し、揚送した遊技球を島上タンク３に貯留する。島上タンク３に貯留された遊技球は、島上樋９を介して各遊技機２００に流下される。以上のように、遊技媒体循環機構は、遊技機島１の内部で遊技球を循環して遊技球の再利用が可能に構成される。

本体２は、遊技ホールの所定位置に固定されたベース４と、ベース４に立設された支柱５とを有する。島上タンク３は、支柱５の上部に設けられる。後述する縦樋５９が支柱５の機能を有する。後述するように、縦樋５９は、研磨材を分別する機能と、研磨材を貯留する機能とを有する。

加湿手段１１は、研磨材に汚れを付着させないように構成されている。研磨材に汚れが付着する主な原因は、揚送される間において研磨材が乾いているためである。研磨材に汚れを付着させない手段として、例えば、１）遊技球を研磨する前に研磨材を水で湿らせておく手段；２）遊技球を研磨しているときに研磨材を水で湿らせる手段；３）後述の移送手段４０を水で湿らせる手段がある。なお、１）及び２）の手段を、研磨材を水で直接的に湿らせる手段という場合がある。また、３）の手段を、研磨材を水で間接的に湿らせる手段という場合がある。実施形態では、加湿手段１１は、１）の遊技球を研磨する前に研磨材を水で湿らせる手段であるものとし、加湿手段１１の詳細については後述する。

揚送研磨装置１０は、さらに、遊技球と研磨材とが合流する合流部３１と、合流部３１から島上タンク３の上方まで略Ｊ字状に延設された円筒状の筒体３０と、合流部３１で合流された遊技球と研磨材とを筒体３０の内部で攪拌しながら揚送する移送手段４０と、移送手段４０で揚送された遊技球と研磨材とを分離する分離手段５０と、分離手段５０で分離された研磨材を回収する分離用通路５３と、分離用通路５３で回収された研磨材を揚送研磨装置１０の上部から下部に導くための経路である縦樋５９と、集塵ノズル５６と、塵埃等を集塵ノズル５６を通じて吸引する集塵装置５７と、集塵ノズル５６と集塵装置５７とを連結する集塵ホース５５と、縦樋５９の下部から合流部３１へ研磨材を導く戻し通路６０と、を有する。

揚送研磨装置１０は、さらに、分離用通路５３で回収された研磨材を縦樋５９の上部に導く漏斗体７０を有する。漏斗体７０は、分離用通路５３の下方の位置となるように、縦樋５９の上部に接続されて設けられる。漏斗体７０は、上面に設けられた開口によって分離用通路５３から落下する研磨材を回収する。縦樋５９は、上部に設けられた分別手段５２と、下部に設けられた研磨材ストック５４とを有する。分別手段５２は、漏斗体７０によって回収された研磨材から塵埃等を分別する。研磨材ストック５４は、分別手段５２によって分別された塵埃等が除去された研磨材を貯留する。ここで、塵埃等は、粉状となった研磨材や塵埃を意味する。塵埃は、分離手段５０に排出された汚れ成分を含むものとする。縦樋５９に漏斗体７０が接続されることで形成された経路と移送手段４０とは、設置される遊技機２００の高さの範囲を含む設置可能範囲において、遊技機２００の配列方向と直交する水平方向に重なるように配置される。

移送手段４０は、下部において混合された遊技球と研磨材とを、上部に設けられた島上タンク３に向けて揚送する。移送手段４０は、筒体３０の中に挿通された螺旋状のスクリュー部材４１（図２参照）と、スクリュー部材４１を筒体３０の中で回転させるモータ４２とを含んで構成される。スクリュー部材４１を所定方向に回転させることで遊技球と研磨材とが合流部３１から島上タンク３の上方へ向かって攪拌されながら搬送され、この間に遊技球が研磨材によって研磨される。

移送された遊技球と研磨材は、筒体３０の上端から分離手段５０へと流出する。分離手段５０に流出するとき、遊技球に付着された汚れ成分が研磨材により離される。離された汚れ成分は、研磨材に付着しようとする。研磨材と遊技球とを混ぜ合わせたときに生じる摩擦熱等により、筒体３０の内部の湿度は低下し、研磨材が分離手段５０に流出されるまで、研磨材の水分は失われていく。しかし、水分を失っても、最小限の水分を残すように加湿手段１１により研磨材を水で湿らせているので、汚れ成分が研磨材に付着することがない。すなわち、汚れ成分は、遊技球及び研磨材から離された状態で筒体３０から分離手段５０に排出される。

分離手段５０は、研磨材は通すが遊技球は通さない大きさの隙間や穴部などを有し、下方に傾斜する通路で構成される。ここでは、分離手段５０は、通路の長手方向に沿って細長い複数の隙間が形成された簀の子５１を有する。なお、分離手段５０は、研磨材と遊技球とを分離する機能を備えたものであればどのような構成でもかまわない。

研磨材から分離された遊技球は、島上タンク３の貯留タンクへと落下して貯留される。研磨材は分離手段５０の隙間から下方へ落下して分離用通路５３の上部へ流入し、その中を落下する。

分離用通路５３は、具体的には図２に示すように、２つの傾斜樋５３ａ、５３ｂを有する。傾斜樋５３ａと傾斜樋５３ｂとは、下方傾斜通路５０ａの下方に設けられている。傾斜樋５３ａと、傾斜樋５３ｂとは、傾斜方向が互いに反対方向となるように遊技機島１の長手方向に一定間隔をおいて設けられている。これにより、分離手段５０の隙間から下方へ落下した研磨材及び汚れ成分は、傾斜樋５３ａ、５３ｂの上面に落下し、傾斜面を通って端部から下方に落下する。また、傾斜樋５３ａと、傾斜樋５３ｂとは、傾斜樋５３ｂの端部から落下する研磨材を傾斜樋５３ａが受け止めるようにして互い違いに設けられている。また、傾斜樋５３ａは端部から落下する研磨材が、漏斗体７０の上面に設けられた開口に到達可能なような位置に備えられている。漏斗体７０は、縦樋５９の上部に、漏斗体７０と縦樋５９との間を研磨材が連通可能に接続されている。漏斗体７０の上面に設けられた開口に落下した研磨材は、縦樋５９の上部に導かれる。

集塵ノズル５６の基端部は、図２、図３に示すように、集塵ホース５５に接続され、集塵装置５７は、塵埃等を分別手段５２内の空気と共に集塵ノズル５６と集塵ホース５５とを通じて吸引する。吸引した中の塵埃等は集塵装置５７の貯留部（図示省略）に貯留される。

集塵ノズル５６に吸い込まれずに分別手段５２を落下し、研磨材ストック５４に貯留された研磨材は、戻し通路６０から合流部３１へ導かれ、合流部３１で遊技球と合流されて再使用される。研磨材ストック５４は、分別手段５２（分離用通路５３）から落下した研磨材を戻し通路６０を経由して合流部３１に移送する移送手段としての機能を有する。

図２及び図３に示すように、戻し通路６０は、下方に傾斜して配置されている。戻し通路６０の上端口は、研磨材ストック５４に連通している。戻し通路６０の下端口は、移送手段４０を臨んで開放されている。戻し通路６０は、移送手段４０に対し複数の遊技機２００の配列方向に少なくとも一部が重なるように配置され、かつ、膳板１０３の下方に配置されている。なお、戻し通路６０を分別手段５２及び研磨材ストック５４を含むものとして構成してもよい。

戻し通路６０の中間部には水供給手段２０が設けられている。戻し通路６０は、研磨材を分離手段５０（分離用通路５３、分別手段５２、研磨材ストック５４）から水供給手段２０を経由して移送手段４０に導くように構成されている。

水供給手段２０を経由することにより、移送手段４０に導かれる研磨材を必ず水で湿らせることができ、湿らせた研磨材により、アウト球を研磨することが可能となる。

戻し通路６０は、研磨材を移送手段４０の下部（始端部）に導く。その結果、研磨材により遊技球を、移送手段４０の下部（始端部）から上部（終端部）までの長い区間にわたって研磨することが可能となり、装置の研磨能力を向上させることが可能となる。

なお、研磨材を導く位置は、移送手段４０の始端部に限らず、移送手段４０の始端部から終端部までの区間のいずれかの他の部分であってもよい。それにより、戻し通路６０や水供給手段２０などを設計するときの自由度を高めることが可能となる。

また、戻し通路６０は、研磨材を移送手段４０の始端部及び他の部分（例えば、中間部）に導いてもよい。湿らせた研磨材を始端部ばかりでなく、他の部位に導くことを通して、噴霧される水として用いられるアルカリ電解水の、後述する説明において述べたような浸透、剥離効果、石鹸効果、殺菌効果、及び、防錆効果を高めることが可能となる。

戻し通路６０の底面には、排出口部５８が設けられている。排出口部５８は、塵埃等は通るが研磨材は通らない程度の隙間を有する。排出口部５８は集塵ホース５５に接続され、集塵装置５７は、戻し通路６０内の空気と共に塵埃等を排出口部５８と集塵ホース５５とを通じて吸引する。吸引された塵埃等は、集塵装置５７の貯留部（図示省略）に貯留される。

移送手段４０は、実施形態における「第１移送手段」の一例である。研磨材ストック５４は、実施形態における「第２移送手段」の一例である。分離手段５０は、実施形態における「分離手段」の一例である。戻し通路６０は、実施形態における「戻し通路」の一例である。

ここで、下方領域を膳板１０３の下方の領域とし、上方領域を分離手段５０を除く領域であって膳板１０３の上方の領域として、揚送研磨装置１０の構成についてより具体的に説明する。揚送研磨装置１０は、下方領域において遊技球（アウト球）と研磨材とを混合して分離手段５０に向けて揚送する。分離手段５０は、研磨後の遊技球と研磨材とを分離する。揚送研磨装置１０は、上方領域において、分離手段５０により分離された研磨材と研磨により生じた塵埃等を分別し、下方領域に研磨材を戻す。以下、このような揚送研磨装置１０の構成について、下方領域、分離手段５０、及び、上方領域に分けて説明する。

［下方領域］
（戻し通路６０）
図１〜図３に示すように、戻し通路６０の始端部は、遊技機島１の長手方向の成分と短手方向の成分とを有する斜め方向に、研磨材ストック５４の下端に連通している。そして、移送手段４０と戻し通路６０とは、複数の遊技機２００の配列方向に少なくとも一部が重なるように配置され、かつ、戻し通路６０は、前述したように、膳板１０３の下方に配置されている。具体的には、移送手段４０と戻し通路６０とは、遊技機島１の長手方向に重なるように配置され、かつ、戻し通路６０は、膳板１０３の下端部より下方に配置されている。膳板１０３の上方には、遊技機２００の遊技機の高さの範囲を含む設置可能範囲が設定される。

戻し通路６０を膳板１０３の下方に配置することにより、揚送研磨装置１０と遊技機２００とが長手方向で干渉し合うことがなくなる。その結果、遊技機２００の設置スペースに影響を与えることなく、遊技機島１の長手方向の省スペース化を図ることができる。

（合流部３１）
合流部３１では、複数の遊技機２００で使用された遊技球と戻し通路６０によって導かれた研磨材とが合流する。戻し通路６０を膳板１０３の下方に配置する場合でも、水平方向を基準とした戻し通路６０の傾斜角度は、所定の傾斜角度範囲内に設定される必要がある。ここで、所定の傾斜角度範囲は、最小角度である第１傾斜角度以上で、かつ、最大角度である第２傾斜角度未満である。第１傾斜角度は、例えば、合流部３１に向けてスムーズに導かれる程度に研磨材と塵埃等の流れの確保が可能な角度として設定される。第２傾斜角度は、例えば、合流部３１において研磨材の詰まりが生ずることなく、かつ、排出口部５８から塵埃等の十分な排出が可能な程度に研磨材と塵埃等の流れの確保が可能な角度として設定される。

図５は、実施形態における合流部３１の正面図である。図６は、実施形態の第１比較例における合流部３１の正面図である。図７は、実施形態の第２比較例における合流部３１の正面図である。
ベース４には、固定部材６２が設けられている。固定部材６２は、戻し通路６０の終端部と移送手段４０の下部とを固定する。固定部材６２は、例えば、底板６２ａと、底板６２ａの対向する辺に直交するようにベース４に対して互いに平行に立設される２枚の立設部材６２ｂとを含んで構成される。底板６２ａには、研磨材が通る程度の穴部が形成されている。

戻し通路６０の終端部は、移送手段４０の下部に研磨材を導くための導入口部６３を有する。また、戻し通路６０の天井部には、通路内に突出するように変更部材６４が設けられている。具体的には、変更部材６４は、戻し通路６０の天井部に研磨材の流れ方向と直交すように設けられている。変更部材６４は、戻し通路６０により導かれた研磨材の流れを変更し、研磨材を導入口部６３に導く。

固定部材６２は、導入口部６３に導かれてから研磨材が底板６２ａの穴部に落下するように、導入口部６３と底板６２ａの穴部とが対向配置された状態で戻し通路６０を固定する。上記のように、変更部材６４は、戻し通路６０により導かれた研磨材の流れを、導入口部６３に向かうように変更する。これにより、戻し通路６０により導かれた研磨材が、導入口部６３を通って移送手段４０の下部に導入される。

移送手段４０は、開口部４３を有する。固定部材６２は、アウト球誘導樋８ａを介して揚送研磨装置１０側に導かれた遊技球が落下する位置に開口部４３が配置されるように、移送手段４０の下部を固定する。

固定部材６２における底板６２ａが設けられる高さ位置を下げることにより、上記の傾斜角度範囲内の傾斜角度を維持したまま戻し通路６０が膳板１０３の下方に配置される。この際、複数の遊技機２００から回収された遊技球の開口部４３への導入が、遊技球の回収方向と異なる方向から移送された研磨材の導入口部６３への導入を阻害しないように、開口部４３と導入口部６３とが設けられる。

具体的には、図５に示すように、導入口部６３は、複数の遊技機２００の配列方向に開口部４３と並んで配置され、かつ、開口部４３より高い位置に設けられる。戻し通路６０は、変更部材６４により、開口部４３の上方位置に移送された研磨材の流れを変更し、導入口部６３に導く。

これに対して、図６に示す実施形態の第１比較例では、複数の遊技機２００から回収された遊技球の開口部４３への導入が、研磨材の導入口部６３への導入を阻害しない。しかしながら、底板６２ａの高さ位置が、例えば固定部材６２の高さ位置と略同じである。そのため、戻し通路６０を膳板１０３の下方に配置しようとすると、戻し通路６０の傾斜角度をより小さくして研磨材の流れの勢いを低下させてしまう。

また、図７に示す実施形態の第２比較例のように、単純に、戻し通路６０の傾斜角度を所定の傾斜角度範囲内に維持したまま、戻し通路６０をより下方に配置しようとすると、遊技球の開口部４３への導入が、研磨材の導入口部６３への導入を阻害してしまう。

このように、実施形態によれば、研磨材や塵埃等の流れの勢いを変更することなく、戻し通路６０の傾斜角度を維持したまま、戻し通路６０を膳板１０３の下方に配置することが可能となる。この際、開口部４３での遊技球の詰まりや、導入口部６３での研磨材の詰まりを生ずることがない。すなわち、移送手段４０への遊技球の導入と研磨材の導入とを互いに阻害することなく、戻し通路６０を膳板１０３の下方に配置することができるようになる。

（加湿手段１１）
図８は、加湿手段１１の構成例の機能ブロック図である。
加湿手段１１は、湿度センサ１２と、制御手段１３と、水供給手段２０とを有する。

加湿手段１１は、筒体３０内の湿度に基づいて、移送手段４０により移送される前の研磨材に対して水を連続的にまたは間欠的に供給することを通して、研磨材を水で湿らせることにより、筒体３０の内部を加湿して、筒体３０内の湿度を予め定められた範囲に保つように構成されている。なお、遊技球を研磨する前（遊技球が移送手段４０に導かれる直前）までに研磨材を水で湿らせておけば、加湿手段１１はどのように構成されてもよい。移送手段４０に導かれる直前位置に加湿手段１１を配置すれば、研磨材を効果的に水で湿らせることができる。直前位置からある程度離れた位置に加湿手段１１を配置すれば、有効な空きスペースに加湿手段１１を配置することが可能となる。

予め定められた範囲としては、例えば、５０％〜６０％であることが好ましい。その範囲とした理由は、湿度が５０％未満では、研磨材に汚れ成分を付着させない効果が低くなり、また、静電気の発生を抑える効果も低くなる。さらに、湿度が６０％を超えると、遊技球や研磨材の湿り気により、汚れ成分が遊技球や研磨材に付着する傾向が生じ、汚れ成分を分離させ難くなる。

湿度センサ１２は、筒体３０内の湿度に対応する信号を出力する。制御手段１３は、湿度センサ１２から出力された信号に基づいて、筒体３０内の湿度を調整するように、例えば、水供給手段２０により供給される時間当たりの水の量を制御する。

なお、湿度センサ１２は、筒体３０の全長にわたって複数箇所に、例えば、始端部（下端部）、中間部、及び、終端部（上端部）にそれぞれ配置されてもよい。このとき、制御手段１３は、各湿度センサ１２の出力信号に基づき、筒体３０内の湿度を細かく調整するように水供給手段２０を制御する。

（水供給手段２０）
図２及び図３に示すように、水供給手段２０は戻し通路６０の途中に配置されている。水供給手段２０は、戻し通路６０を通る研磨材を水で湿らせるように構成されている。戻し通路６０を通る研磨材の全部を水で湿らせるような構成であれば、どのような構成であってもよい。

一例としては、戻し通路６０内の研磨材に水を噴霧することにより、研磨材を湿らせる構成がある。

図９は、水供給手段２０の概念図である。
図９に示すように、戻し通路６０内の研磨材に水を噴霧する手段は、例えば、ノズル２１、ポンプ２２、タンク（水槽）２３、水量センサ２４を有している。ノズル２１は戻し通路６０の天井部に配置されている。ポンプ２２は、タンク２３内の水を高圧でノズル２１に供給する。水量センサ２４は、タンク２３内の水量に応じた信号を出力する。出力された信号に基づいて、タンク２３内の水量を報知する報知手段を設けてもよい。

戻し通路６０を通る研磨材の全部を水により湿らせるようにするためには、水を噴霧する範囲が戻し通路６０の所定領域（全幅及び所定長）になるように構成すればよい。

例えば、水を噴霧する範囲を戻し通路６０の所定領域に広げるように構成すればよい。このとき、一度の噴霧により、所定領域内の研磨材の全部を湿らせるようにできるため、水を間欠的に噴霧すればよい。

また、例えば、水を噴霧する範囲が戻し通路６０の全幅に対して狭いとき、噴霧する方向を幅方向に沿って変えるように構成すればよい。それにより、戻し通路６０の中央部を通る研磨材ばかりでなく、戻し通路６０の端を通る研磨材にも水をかけることができる。

さらに、例えば、水を噴霧する範囲が戻し通路６０の所定長に対して狭いとき、水を噴霧する範囲に研磨材が長さ方向に沿って流れてくるので、水を連続的に噴霧すれば、流れてくる研磨材を湿らせることができる。

なお、戻し通路６０において、研磨材が上下に重なり合うとき、噴霧された水が研磨材間の隙間に入っていき、下側の研磨材も湿らせることができるものとする。

噴霧される水には、８〜１２のｐＨ値を有するアルカリ電解水が用いられことが好ましい。研磨材を湿らせているアルカリ電解水は、その浸透力により、汚れと研磨材との隙間に浸透し、汚れがとりかこまれて、汚れ成分が研磨材に付着しないようになる（浸透、剥離効果）。また、汚れうちの脂質が分解して石鹸化される（石鹸効果）。さらに、アルカリ電解水が遊技球に触れることにより、遊技球が除菌される（殺菌効果）。さらに、アルカリ電解水によって遊技球が錆びることがない（防錆効果）。

なお、アルカリ電解水のｐＨ値を高くしていくと、それらの効果が高まるため、汚れの程度に応じたｐＨ値のアルカリ電解水を用いればよい。８未満のｐＨ値のアルカリ電解水では、それぞれの効果を十分に得られない傾向が生じる。１２を超えるｐＨ値のアルカリ電解水では、それぞれの効果は高まるものの、過酸化ナトリウムや過酸化水素を加える必要があるため、製造コストが一段と嵩む。

（水量調整手段２５）
水量調整手段２５は、図２における水供給手段２０内に配置され、または、水供給手段２０に接続されている。水量調整手段２５は、例えば、戻し通路６０内を流れる研磨材の量に応じて、水の量を調整するように構成されている。

水の量を調整する手段としては、例えば、ノズルの口径を調整可能に構成するもの、あるいは、ポンプによりノズルに供給される水の圧力を調整可能に構成するものがある。ノズル口径や水圧の調整は、手動で行うようにしてもよく、自動で行うようにしてもよい。

遊技機島１に用いられる遊技球の数量は、営業時間や営業日に応じて予測できる。そのため、研磨材の量も予測できるので、営業時間や営業日に応じて、ノズルの口径等を手動により調整すればよい。

また、戻し通路６０内を流れる研磨材の量を検出するセンサ（図示省略）を設けておき、センサにより出力される信号に基づいて、ノズルの口径等を自動調整すればよい。

［分離手段］
図１０は、分離手段５０の正面図である。
分離手段５０は、排出された遊技球、研磨材、及び汚れ成分をそれぞれ分離するように構成されている。分離手段５０は、遊技球、研磨材、及び汚れ成分を分離できれば、どのような手段であってもよい。遊技球、研磨材、及び汚れ成分は、それらの大きさや重さが互いに異なることに基づいて、分離される。

例えば、図２及び図１０に示すように、分離手段５０は、簀の子５１、のれん５１ａ、分別手段５２、集塵ホース５５、分離用通路５３、分離排出口部３２を有している。分離手段５０は、複数の遊技機２００の配列方向である第１方向に沿って下方に傾斜するように設けられた下方傾斜通路５０ａと、下方傾斜通路５０ａの下方に設けられ第１方向と反対方向の第２方向に沿って下方に傾斜するように設けられた分離用通路５３とを含んで構成される。下方傾斜通路５０ａの上端部には、筒体３０の上端から遊技球や研磨材や汚れ成分が排出される。下方傾斜通路５０ａは、第１方向に沿って下方に傾斜するように設けられた複数の傾斜通路を有し、各傾斜通路の間には段差が設けられている。各傾斜通路には、簀の子５１が形成される。のれん５１ａは、例えば、各傾斜通路の間に設けられた段差位置や、各傾斜通路の中間位置に設けられる。

簀の子５１は、所定幅の隙間を空けて並べられた複数のレールを有している。複数のレールは、レールに沿って遊技球を導くとともに、隙間から研磨材及び汚れ成分を落下させるように構成されている。簀の子５１の下方には、分離用通路５３が設けられる。

のれん５１ａは、可撓性を有する。傾斜通路により下流側に導かれる遊技球がのれん５１ａに当たると、のれん５１ａが撓み、のれん５１ａが表面に接触しながら遊技球は下流側に通過する。すなわち、のれん５１ａは、通過する遊技球の表面に付着した研磨材や塵埃等を遊技球の表面から払い落とす手段としての機能を有する。のれん５１ａにより払い落とされた研磨材や塵埃等は、簀の子５１の隙間を通って下方に落下する。また、のれん５１ａは、傾斜通路により下流側に導かれる遊技球の飛び跳ねる動き等を抑制する手段としての機能を有する。また、のれん５１ａは、傾斜通路により下流側に導かれる遊技球を下方に押さえつけ、遊技球が上方に整列される段数の増加を抑制する手段としての機能を有する。

以上のように、下方傾斜通路５０ａにおいて、遊技球と、研磨材及び汚れ成分とが分離される。下方傾斜通路５０ａにより分離された遊技球は、その後、島上樋９を介して複数の遊技機２００に供給される。下方傾斜通路５０ａにより分離された研磨材及び汚れ成分は、分離用通路５３に落下し、漏斗体７０の上部開口７１に導かれる。

筒体３０の上端部の近傍には、分離排出口部３２が設けられている。分離排出口部３２は、筒体３０の内部で揚送された遊技球、研磨材、及び汚れ成分のうち、研磨材及び汚れ成分のみを排出する。分離排出口部３２から排出された研磨材及び汚れ成分は、分離用通路５３に落下し、漏斗体７０の上部開口７１に導かれる。

分別手段５２は、落下する研磨材及び汚れ成分をそれぞれ分けるように構成されている。分別手段５２の一例として、汚れ成分が研磨材に比べ極めて軽いことに基づいて、汚れ成分を集塵することにより、汚れ成分と研磨材とを分ける。汚れ成分の集塵は、落下する研磨材及び汚れ成分のうちから、汚れ成分のみを吸い込むことにより行われ、また、汚れ成分のみを吹き飛ばすことにより行われる。図２に示す分別手段５２は、汚れ成分を吸い込むタイプのものである。

図２に示すように、簀の子５１により遊技球から分離された研磨材及び汚れ成分は、分別手段５２の入口（図２では、分別手段５２の上端）に導かれる。分離用通路５３と分別手段５２との間には、集塵ホース５５が配置されていて、汚れ成分は集塵ホース５５に吸い込まれ、研磨材のみが研磨材ストック５４に導かれる。

研磨材と汚れ成分とから分離された遊技球は遊技機２００に送られ、遊技に用いられる。遊技球と汚れ成分とから分離された研磨材は、移送手段４０に導かれ、遊技球の研磨に用いられる。遊技球と研磨材とから分離された汚れ成分は、分別手段５２により集塵され、遊技機や筒体３０に送られないようにされる。

［上方領域］
分離手段５０により分離された研磨材は、上方領域に導かれる。すなわち、分離手段５０により分離された研磨材は、上記のように、分離用通路５３を介して、漏斗体７０の上面に設けられた上部開口７１に落下し、縦樋５９の上部に導かれる。この実施形態の揚送研磨装置１０は、以下のように構成することで、上方領域において、遊技機２００の設置可能範囲を大きく確保し、島上タンク３の短手方向の厚みを小さくすることができる。

図１１は、漏斗体７０が設けられている位置の周辺を拡大して示す斜視図である。図１２は、漏斗体７０と、縦樋５９との接続形態を示す斜視図である。

図１１に示すように、漏斗体７０は、縦樋５９の上部に接続されている。漏斗体７０と縦樋５９との接続部には開口６１を有する。漏斗体７０から開口６１を介して研磨材が縦樋５９の上部に導かれる。移送手段４０は、漏斗体７０と長手方向に重なるように設けられ、縦樋５９と短手方向に重なるように設けられる。

（漏斗体）
漏斗体７０は、上部開口７１、下部開口７２を備える中空の容器により構成される。漏斗体７０は、分離用通路５３から落下する研磨材を上部開口７１から回収し、回収した研磨材を下部開口７２から分別手段５２に渡す。

上部開口７１は、上端部に研磨材を回収するための上方を向いた開口である。漏斗体７０及び／又は分離用通路５３は、上部開口７１が分離用通路５３から落下する研磨材を効率よく回収可能となるような位置に設置される。上部開口７１の短手方向の幅はなるべく小さいように構成される。上部開口７１の短手方向の幅は、例えば、筒体３０の短手方向の幅（直径）と同じ幅とすることができる。

下部開口７２は、分別手段５２と連通するための開口である。下部開口７２は、漏斗体７０の分別手段５２と対向する側面の少なくとも一部に設けられる。また、下部開口７２は、該側面のうち分別手段５２と対向する部分の少なくとも一部に設けられる。下部開口７２に対向する分別手段５２の部分が開口していることで、下部開口７２と、分別手段５２とが連通する。

漏斗体７０は、上部開口７１から下端部７３に向かって水平方向の断面の大きさが鉛直下方に向かって減少していく漏斗形状を有する。漏斗体７０は、具体的には、上部開口７１を上面とする直方体形状を有する直方体部７０ａ、長手方向の少なくとも一方の側面を斜面とすることで漏斗形状をなす第１の漏斗部７０ｂ、短手方向の側面のうちの一方の側面を斜面とすることで漏斗形状をなす第２の漏斗部７０ｃが上から下に順に形成される形状を有する。

（漏斗部）
漏斗体７０は、前述のように、直方体部７０ａ、第１の漏斗部７０ｂ、第２の漏斗部７０ｃから構成されている。第１の漏斗部７０ｂにおいて水平方向の断面の長手方向の幅が鉛直下方に向かって一定割合で減少する。この減少によって、第１の漏斗部７０ｂの下端における長手方向の幅は、上部開口７１の長手方向の幅の３分の１程度となる。この幅は、第２の漏斗部７０ｃの長手方向の幅となる。さらに、漏斗体７０は、第２の漏斗部７０ｃにおいて水平方向の断面の短手方向の幅が鉛直下方に向かって一定割合で減少する。この減少によって、第１の漏斗部７０ｂの下端における短手方向の幅はほぼ０となる。

（第１の漏斗部）
第１の漏斗部７０ｂは、第１の傾斜面７０ｄを有する。第１の傾斜面７０ｄは、第１の漏斗部７０ｂの側面を構成する、長手方向に傾斜する面である。第１の傾斜面７０ｄは、傾斜面が斜め上を向くように形成されている。傾斜樋５３ｂから上部開口７１に落下した研磨材の一部は、この第１の傾斜面７０ｄにおいて反射し第２の漏斗部７０ｃに落下する。

（第２の漏斗部）
第２の漏斗部７０ｃは、第２の傾斜面７０ｅを有する。第２の傾斜面７０ｅは、第２の漏斗部７０ｃの側面を構成する、短手方向に傾斜する面である。第２の傾斜面７０ｅは、傾斜面が斜め上を向くように、かつ、下部開口７２を有する接続面７４と対向するように形成されている。第１の漏斗部７０ｂを通って第２の漏斗部７０ｃに落下した研磨材は、第２の傾斜面７０ｅによって、接続面７４に向かう方向に反射する。研磨材は、第２の傾斜面７０ｅで反射することで、下部開口７２に導かれる。

図１２に示すように、接続面７４は、漏斗体７０の側面のうち縦樋５９の側面に接続される面である。接続面７４は第２の漏斗部７０ｃを形成する側面のうち、第２の傾斜面７０ｅの逆側の面である。接続面７４の少なくとも一部には下部開口７２が設けられている。下部開口７２は、接続面７４の全面に形成されていてもよい。下部開口７２が接続面７４の全面に形成される場合、下部開口７２は、鉛直方向に細長い長方形状となる。

漏斗体７０は、研磨材を下部開口７２に導くという観点からは第２の漏斗部７０ｃ（第２の傾斜面７０ｅ）を少なくとも有して構成されるが、第２の漏斗部７０ｃの長手方向の幅を狭くし、かつ上部開口７１の開口面積を大きく確保する観点から、さらに第１の漏斗部７０ｂ（第１の傾斜面７０ｄ）を有する構成とすることができる。第１の漏斗部７０ｂは、上部開口７１の開口面積を大きく確保できるような傾斜成分を有する曲面を有して構成されてもよい。また、第２の漏斗部７０ｃは、研磨材を下部開口７２に導くような傾斜成分を有する曲面を有して構成されてもよい。また、漏斗体７０は、開口面積を大きく確保できるような傾斜成分と、研磨材を下部開口７２に導くような傾斜成分とを有する連続した曲面部を有して構成されてもよい。

（縦樋の構成）
縦樋５９は、中空の容器により構成される。縦樋５９は鉛直方向に延びる長尺形状を有する。縦樋５９の形状は、具体的には、鉛直方向に延びる直方体である。縦樋５９は、上面５９ｅ、側面５９ａ〜ｄ及び底面５９ｆ（図示せず）で直方体を形成する。縦樋５９は、例えば、短手方向に平行な側面５９ａ及び５９ｂの幅が長手方向に平行な側面５９ｃ及び５９ｄの幅よりも大きい。

縦樋５９は、遊技機２００の設置可能範囲に設けられる。遊技機２００の設置可能範囲は、設置される遊技機２００の高さの範囲を含む。設置される遊技機２００の高さの範囲は、具体的には、膳板１０３が設置されている高さから、島上タンク３の下面の高さまでの範囲をいう。

縦樋５９は、直方体を構成する底面５９ｆの高さが、膳板１０３が設置高さ又はその近傍の高さとなるように、かつ上面５９ｅの高さが、島上タンク３の下面の高さ又はその近傍の高さとなるように設置される。このことから、縦樋５９の鉛直方向の長さは、膳板１０３と島上タンク３の下面との高さ方向の距離とほぼ等しくなる。

（縦樋と漏斗体との接続）
図１２に示すように、漏斗体７０は、縦樋５９の分別手段５２が設けられている位置に接続される。漏斗体７０は、縦樋５９を形成する側面のうち長手方向に平行な側面に接続される。漏斗体７０が設置される側面は、長手方向に平行な側面のうち、アウト球誘導樋８ａ側の側面５９ｃとすることができる。この側面に、漏斗体７０の接続面７４が接することで縦樋５９に漏斗体７０が接続される。接続面７４の鉛直方向の接続位置は、例えば、第２の漏斗部７０ｃの上端面と縦樋５９の上端面とが同一平面上となるような位置とすることができる。また、接続面７４の長手方向の接続位置は、例えば、第２の漏斗部７０ｃの側面が縦樋５９の側面と同一平面上となるような位置とすることができる。漏斗体７０と、縦樋５９とが前記のように接続される第１の理由は、移送手段４０と短手方向に重なって設けられた縦樋５９に研磨材を供給するためである。第２の理由は、漏斗体７０の下部において側部に縦樋５９との連通口を設けることで、狭窄する部分に集中した研磨材を側部から縦樋５９に供給するため、狭窄する部分、つまり第２の漏斗部７０ｃにおける研磨材による詰まりを起きにくくすることができるからである。

縦樋５９は、接続面７４が接続される部分に開口５９ｇを有する。この開口５９ｇと下部開口７２とが連通することによって、漏斗体７０で回収された研磨材が縦樋５９内に導かれる。開口５９ｇの形状は、例えば、下部開口７２の形状と同一の形状を有している。

下部開口７２が接続面７４の全面に形成される場合、開口５９ｇは、下部開口７２の形状と同様な鉛直方向に細長の直方形状を有する。開口５９ｇは、例えば、側面５９ｃの上端辺を含む角部に形成され、開口５９ｇを塞ぐようにして接続面７４が接続され、開口６１が形成される。

（縦樋と移送手段との位置関係）
移送手段４０と縦樋５９（分別手段５２及び研磨材ストック５４）とは、短手方向に少なくとも一部が重なるように配置されている。移送手段４０と縦樋５９とが重なる順番は、アウト球誘導樋８ａが設置されている側から、移送手段４０、縦樋５９の順番であっても、縦樋５９、移送手段４０の順番であってもよいが、図２に示すような、アウト球誘導樋８ａが設置されている側から、短手方向に移送手段４０、縦樋５９の順番で重なるように配置されることが好ましい。その理由は、アウト球誘導樋８ａの上方に、紙幣搬送手段（図示せず）が設けられる場合があるからである。また、遊技機２００の設置可能範囲を広くする観点から、縦樋５９の長手方向の幅が小さくなるように構成される。縦樋５９の長手方向の幅は、例えば、第２の漏斗部の長手方向の幅の大きさと、筒体３０の長手方向の幅（直径）の大きさとを足しあわせた幅とすることができる。

移送手段４０の長手方向の位置は、短手方向に少なくとも一部が重なるように、かつ縦樋５９に接続される漏斗体７０に干渉しない位置であれば、限定されるものではない。移送手段４０は、例えば、縦樋５９の長手方向の中心近傍を通過するように設けられる。

（集塵ノズル）
集塵ノズル５６は、図２に示すように、縦樋５９（分別手段５２）の上端近傍の位置に配置されている。集塵ノズル５６は、縦樋５９の側壁に設けられた穴から分別手段５２の内部へ突出するようにして取り付けられている。集塵ノズル５６は、短手方向に平行な側面５９ａ及び５９ｂのうちのいずれかの側壁に設けられる。集塵ノズル５６は、これらの側壁のうち、例えば、漏斗体７０に近い側の側壁に設けられる。また、集塵ノズル５６は、この側壁の開口５９ｇと同じ高さの位置、又はその近傍の位置に設けられる。集塵ノズル５６は、塵埃等は通るが研磨材は通らない程度の隙間を有する。

〔作用〕
次に、揚送研磨装置１０の作用について説明する。

（移送手段と戻し通路の配置）
移送手段４０と戻し通路６０とは、複数の遊技機２００の配列方向に少なくとも一部が重なるように配置され、かつ、戻し通路６０は、膳板１０３の下方に配置されている。戻し通路６０を膳板１０３の下方に配置することで、揚送研磨装置１０と遊技機２００とが長手方向で干渉し合うことがなくなる。

（移送手段と研磨材ストックの配置）
移送手段４０と縦樋５９（分別手段５２及び研磨材ストック５４）とは、設置可能範囲において、複数の遊技機２００の配列方向と直交する水平方向に少なくとも一部が重なるように配置されている。このような移送手段４０と縦樋５９（研磨材ストック５４）の配置によっても、揚送研磨装置１０と遊技機２００とが長手方向で干渉し合うことがなくなる。さらに、揚送研磨装置１０の長手方向の幅を従来のものよりも小さくすることができる。これらのことにより、遊技機２００の水平方向の設置可能範囲を拡げることができる。

（移送手段と漏斗体の配置）
移送手段４０と、漏斗体７０とが長手方向に重なるように配置されるので、揚送研磨装置１０の上部において、短手方向の幅を小さくすることができる。

（漏斗体の形態）
漏斗体７０は、第１の漏斗部７０ｂを有して構成されるので、漏斗体７０の下部において長手方向の幅を狭くしつつも上部開口７１の開口面積を大きく確保することができる。また、漏斗体７０は、第２の漏斗部７０ｃを有して構成されるので、漏斗体７０に回収された研磨材を、開口６１を介して縦樋５９に導くことができる。

漏斗体７０は、下方に向かうに従って水平断面積が減少し、下端において０となるように形成されるので、漏斗体７０において研磨材を効率よく集めることができる。また、漏斗体７０の下部を形成する第２の漏斗部７０ｃに、開口６１を形成する開口５９ｇを設けたので、集められた研磨材を縦樋５９に導くことができる。これにより、研磨材の回収及び縦樋５９への輸送を効率よく行うことができる。

（集塵ノズルが設けられる位置）
集塵ノズル５６は、縦樋５９の短手方向に平行な側面に設けられ、この側面のうち漏斗体７０と縦樋５９との接続部に近い側の側面に備えられる。また、集塵ノズル５６は、この接続部と同じ高さ、又はその高さの近傍に設けられる。接続部には、研磨材が通過する開口６１を有するので、漏斗体７０の下部に集まった研磨材を、開口６１を介して分別手段５２で集塵することで、効率のよい集塵を行うことができる。また、漏斗体７０の、縦樋５９に接続する第２の漏斗部７０ｃの水平方向断面の大きさを、上部開口７１の開口面の大きさよりも小さくなるように構成した。そのため、集塵装置による塵埃等の吸引を効率よく行うことができる。

（研磨材の収容）
揚送研磨装置１０においては、研磨材は研磨に繰り返し用いられる。研磨材は、研磨材ストック５４を含む、揚送研磨装置１０の内部に収容されている。

（遊技球の研磨）
揚送研磨装置１０を始動すると、モータ４２が回転して、移送手段４０により筒体３０の内部で遊技球と研磨材とが混ぜ合わされた状態で移送される。遊技球と研磨材とを混ぜ合わせているとき、研磨材に水を湿らせているため、汚れ成分が研磨材に付着しない。それにより、研磨材が汚れない。また、遊技球、研磨材及び汚れ成分が離れた状態で分離手段５０に排出される。

（分離）
遊技球、研磨材及び汚れ成分が筒体３０から分離手段５０に排出されると、簀の子５１により遊技球と、研磨材及び汚れ成分とが分離される。さらに、分別手段５２により、研磨材と汚れ成分とが分離される。それにより、分離された遊技球を遊技に用いることが可能となり、また、研磨材を研磨に再度用いることが可能となり、さらに、分離された汚れ成分を、遊技球や研磨材に接触しないように、回収することが可能となる。

（研磨材を水で湿らせる）
分離された研磨材は、戻し通路６０により水供給手段２０を経由して移送手段４０に導かれる。それにより、研磨材を遊技球の研磨に繰り返し用いることができる上に、研磨材を研磨に用いる度に、水供給手段２０を経由しているので、確実に研磨材を水で湿らせることができる。それにより、研磨に繰り返し用いたとしても、研磨材が汚れることはなく、研磨材の洗浄回数を少なくすることが可能となる。

（遊技球と研磨材との合流）
各遊技機で使用された遊技球は、アウト球誘導樋８ａを介してアウト球として開口部４３から移送手段４０に導かれる。分離された研磨材は、導入口部６３から移送手段４０に導かれる。このとき、遊技球の開口部４３への導入は、研磨材の導入口部６３への導入を阻害しない。そして、移送手段４０は、遊技球と研磨材とを混ぜ合わされた状態で島上タンク３に向けて揚送する。

（遊技球の遊技利用及び回収）
また、研磨材により研磨された遊技球は、汚れ成分と離され、所定の通路を通って、各遊技機に供給され、遊技機２００から再び揚送研磨装置１０に回収されるが、研磨により遊技球に汚れが付着していないため、また、遊技球に遊技１回分の汚れが付着しているため、汚れを起因として、遊技に支障を来すことが回避される。

（遊技球の再研磨）
遊技機から回収された遊技球と、戻し通路６０により移送手段４０に導かれ、水を湿らせた研磨材とを、筒体３０の内部で混ぜ合わせることで、遊技球を研磨することが可能となる。

（水供給手段２０等の保守、点検等）
遊技機島１には、移送手段４０の保守点検用の開口が設けられ、保守点検時に開けられ、通常には蓋部材（図示省略）で閉じられている。水供給手段２０は、移送手段４０の始端部（アウト球や研磨材が導かれる所）の近傍に配されている（図２参照）。

保守点検用の開口を開くと、開口を通して水供給手段２０を見ることができ、移送手段４０の保守点検を行う際に、一緒に、水供給手段２０の保守点検（ノズル２１、ポンプ２２、タンク２３の水量、水量センサ２４等の保守点検）を行うことができる。

以上のように、前記実施形態に係る揚送研磨装置１０によれば、研磨材を研磨に繰り返し用いても汚れが付着しないので、研磨材の洗浄作業の回数を減少させることが可能となる。

また、研磨材が研磨に用いられる前に、必ず水供給手段２０を経由することにより研磨材を確実に水で湿らせるように構成することができる。さらに、分別手段５２により、汚れ成分を確実に集塵することが可能となるという効果を奏する。

（変形例）
（水供給手段２０の他の例）
実施形態では、水を噴霧することにより研磨材を湿らせるように構成された水供給手段２０について説明したが、これに限らない。

次に、水供給手段２０の他の例について図１３を参照して説明する。水供給手段２０は、戻し通路６０内の研磨材に水を滴下することにより、研磨材を湿らせるように構成されている。

図１３は、水供給手段の他の例を示す概念図である。図１３に示すように、水供給手段２０は、タンク２３、水量センサ２４、水量調整手段２５、及び、開閉器２６を有している。水量調整手段２５は、滴下される水の量を調整するものである。開閉器２６は、流路を開閉して、水が滴下するのを許容／禁止するものである。

戻し通路６０を通る研磨材の全部を水により湿らせるようにするために、水を滴下する範囲が戻し通路６０の所定領域（全幅及び所定長）になるように構成すること、また、滴下される水としてアルカリ電解水を用いることは、水を噴霧する上記実施形態と同様である。

さらに、水供給手段２０の他の例について図１４を参照して説明する。水供給手段２０の他の例としては、戻し通路６０内を加湿状態にすることにより、研磨材を湿らせるように構成されている。

図１４は、水供給手段２０の他の例を示す概念図である。図１４に示すように、水供給手段２０は、タンク２３、水量センサ２４、ファン２７、及び、超音波発生器２８を有している。この水供給手段２０は、超音波発生器２８の超音波振動によって水を細かく破砕し、それをファン２７によって吹き出すものである。戻し通路６０の壁（底壁及び側壁）には、吹き出された水の粒を通すための微細穴（図示省略）が設けられている。なお、水供給手段２０としては、超音波発生器２８に代えて、ヒータ（図示省略）を設け、水を加熱することにより発生させた水蒸気をファン２７により吹き出させるものでもよい。

戻し通路６０を通る研磨材の全部を水により湿らせるように、戻し通路６０内を加湿状態にすること、また、加湿状態を作るときの水としてアルカリ電解水を用いること、さらに、加湿状態を調整する水量調整手段を設けることは、水を噴霧する上記実施形態と同様である。

以上の実施形態及び変形例において、遊技球を研磨する前に研磨材を水で湿らせておく手段について説明した。

次に、遊技球を研磨しているときに研磨材を水で湿らせる手段の一例について図１５を参照して説明する。

図１５は、水供給手段２０の他の例を示す概念図である。図１５に示すように、水供給手段２０は、筒体３０の内部に水を噴霧することにより、筒体３０の内部を加湿するように構成されている。筒体３０の内部に水を噴霧することにより、筒体３０の内部の湿度を上昇させるとともに、筒体３０内の研磨材を水で湿らせることができる。それにより、研磨材に汚れ成分が付着するのを防止することが可能となる。

また、遊技球と研磨材とを混ぜ合わせたときの摩擦熱等により筒体３０内の湿度が低下すると、静電気が発生し易くなって、研磨材や汚れ成分に帯電し、研磨材に汚れ成分が付着しようとするが、筒体３０の内部に水を噴霧することにより、筒体３０内の湿度の低下が抑えられ、静電気の発生を抑えることが可能となる。

筒体３０の始端部（下端部）及び中間部に配置された水供給手段２０を図１５に示す。水供給手段２０の上流側には、筒体３０内の湿度に対応する信号を出力する湿度センサ１２が配置されている。なお、図１５では、筒体３０の始端部及び中間部に水供給手段２０が一つずつ配置されたものを示したが、複数個ずつ（例えば、筒体３０の周方向に所定間隔で）配置されてもよい。

噴霧する水としてアルカリ電解水を用いること、また、噴霧する水の量を調整する水量調整手段を設けることは、上記実施形態と同様である。

なお、遊技球を研磨しているときに研磨材を水で湿らせる水供給手段２０としては、水を噴霧するものに限らず、水を滴下するものであってもよい。

図１５に示す変形例では、加湿手段１１として、遊技球を研磨しているときに研磨材を水で直接的に湿らせる手段について説明したが、研磨材を水で間接的に湿らせる手段であってもよい。

次に、研磨材を水で間接的に湿らせる手段の一例として、移送手段４０を水で湿らせる手段について説明する。例えば、移送手段４０は保水性を有している。それにより、移送手段４０を水で湿らせることが可能となる。例えば、移送手段４０において、揚送時に研磨材と接する面（搬送面）は保水性を有している。搬送面を水で湿らせておくと、揚送時に研磨材が搬送面と接することにより、研磨材を間接的に水で湿らせることが可能となる。また、移送手段４０を水で湿らせることにより、筒体３０の内部を加湿することができ、静電気の発生をし難くすることが可能となる。

移送手段４０を湿らせておく水としてアルカリ電解水を用いること、また、水の量を調整する水量調整手段を設けることは、上記実施形態と同様である。

前記実施形態では、遊技球を研磨する前に研磨材を水で湿らせる水供給手段２０を示した。また、図１５に示す変形例では、遊技球を研磨しているときに研磨材を水で湿らせる水供給手段２０を示したが、これらの水供給手段２０を組み合わせたものであってもよい。それにより、研磨材をより適時、かつ、より適所で水で湿らせることが可能となる。

上記の実施形態又はその変形例に係る揚送研磨装置から、下記の付記１〜５に記載した構成に係る揚送研磨装置の特定が可能である。

〔付記１〕
それぞれが膳板（１０３）の上方に設置され所定の方向に配列された複数の遊技機（２００）で用いられた遊技媒体を研磨材と混合して移送するための揚送研磨装置（１０）において、遊技媒体と研磨材とを下部から上部へ移送するための第１移送手段と、第１移送手段（４０）によって上部へ移送された遊技媒体と研磨材とを分離する分離手段（５０）と、分離手段（５０）によって分離された研磨材を上部から下部へ移送するための第２移送手段と、第２移送手段によって下部へ移送された研磨材を第１移送手段（４０）の下部に導く戻し通路（６０）と、を有し、第１移送手段（４０）と戻し通路（６０）とは、複数の遊技機（２００）の配列方向に少なくとも一部が重なるように配置され、かつ、戻し通路（６０）は、膳板（１０３）の下方に配置されている、ことを特徴とする揚送研磨装置。

付記１に係る揚送研磨装置によると、移送手段（４０）に対応する第１移送手段と戻し通路（６０）とは、複数の遊技機（２００）の配列方向に少なくとも一部が重なるように配置され、かつ、戻し通路（６０）は、膳板（１０３）の下方に配置されている。戻し通路（６０）を膳板（１０３）の下方に配置することで、揚送研磨装置（１０）と遊技機（２００）とが長手方向で干渉し合うことがなくなる。これにより、遊技機（２００）の設置スペースに影響を与えることなく、遊技機島の長手方向の省スペース化を図ることができる。第２移送手段は、縦樋（５９）を少なくとも含む。

〔付記２〕
戻し通路（６０）は、その終端部に設けられ第１移送手段の下部に研磨材を導くための導入口部（６３）を有し、第１移送手段は、遊技媒体を導入するための開口部（４３）を有し、複数の遊技機（２００）から回収された遊技媒体の開口部（４３）への導入が、遊技媒体の回収方向と異なる方向から移送された研磨材の導入口部（６３）への導入を阻害しないように、開口部（４３）と導入口部（６３）とが設けられている、ことを特徴とする前記付記１に記載の揚送研磨装置。

〔付記３〕
導入口部（６３）は、配列方向に開口部（４３）と並んで配置され、かつ、開口部（４３）より高い位置に設けられ、戻し通路（６０）は、開口部（４３）の上方位置に移送された研磨材の流れを変更し、導入口部（６３）に導く変更部材（６４）を有することを特徴とする前記付記２に記載の揚送研磨装置。

〔付記４〕
変更部材（６４）は、戻し通路（６０）の天井部に研磨材の流れ方向と直交するように設けられていることを特徴とする前記付記３に記載の揚送研磨装置。

付記２〜４に係る揚送研磨装置によると、研磨材や塵埃等の流れの勢いを変更することなく、戻し通路（６０）の傾斜角度を維持したまま、戻し通路（６０）を膳板（１０３）の下方に配置することが可能となる。この際、開口部（４３）での遊技球の詰まりや、導入口部（６３）での研磨材の詰まりを生ずることがない。すなわち、移送手段（４０）への遊技球の導入と研磨材の導入とを互いに阻害することなく、戻し通路（６０）を膳板（１０３）の下方に配置することができるようになる。

〔付記５〕
遊技機島は、前記付記１〜前記付記４のいずれか１つに記載の揚送研磨装置を備える。

付記５に係る遊技機島によると、前記付記１〜前記付記４に係る揚送研磨装置において述べた作用効果と同様な作用効果を有することができる。

１ 遊技機島
２ 本体
３ 島上タンク
４ ベース
５ 支柱
７ 下部タンク
８ アウト球投入樋
８ａ アウト球誘導樋
９ 島上樋
１０ 揚送研磨装置
１１ 加湿手段
１２ 湿度センサ
１３ 制御手段
２０ 水供給手段
２１ ノズル
２２ ポンプ
２３ タンク
２４ 水量センサ
２５ 水量調整手段
２６ 開閉器
２７ ファン
２８ 超音波発生器
３０ 筒体
３１ 合流部
３２ 分離排出口部
４０ 移送手段
４１ スクリュー部材
４２ モータ
４３ 開口部
５０ 分離手段
５１ 簀の子
５２ 分別手段
５３ 分離用通路
５４ 研磨材ストック
５５ 集塵ホース
５６ 集塵ノズル
５７ 集塵装置
５８ 排出口部
５９ 縦樋
６０ 戻し通路
６２ 固定部材
６２ａ 底板
６３ 導入口部
６４ 変更部材
７０ 漏斗体
１００ フレーム
１０１ 幕板
１０２ 収納枠
１０３ 膳板（天板）
１０４ 腰板
２００ 遊技機

Claims (2)

1. 複数の遊技機を並置した遊技機島に設けられた揚送研磨装置において、
   前記複数の遊技機で用いられた遊技媒体を、研磨材と混合し下部から上部に揚送する移送手段と、
   島上筐体に格納され、揚送された前記遊技媒体と前記研磨材との混合物から前記遊技媒体と前記研磨材とを分離する分離手段と、
   前記分離された研磨材が上部から下部へと移動し、前記移送手段へと戻る経路と、
   を備え、
   前記移送手段と前記経路とは、前記遊技機の基底部高さから前記島上筐体の下端部高さまでの高さの範囲において、前記遊技機の並置方向と略直交する水平方向に重畳して配置され、
   前記高さの範囲より上部では、前記遊技機の並置方向に重畳して配置される、
   ことを特徴とする揚送研磨装置。
2. 複数の遊技機を並置した遊技機島に設けられた揚送研磨装置において、
   前記複数の遊技機で用いられた遊技媒体を、研磨材と混合し、下部から上部に揚送する移送手段と、
   島上筐体に格納され、揚送された前記遊技媒体と前記研磨材との混合物から前記遊技媒体と前記研磨材とを分離する分離手段と、
   前記分離された研磨材が上部から下部へと移動し、前記移送手段へと戻る経路と、
   を備え、
   前記移送手段と前記経路とは、前記遊技機の基底部高さから前記島上筐体の下端部高さまでの高さの範囲において、前記遊技機の並置方向と略直交する水平方向に重畳して配置され、
   前記経路は、第１経路と第２経路とを備え、
   前記第１経路は、前記高さの範囲に設けられ、鉛直方向に延びる長尺形状を有し、前記第１経路の上端部は、前記遊技媒体から分離した汚れを集塵する集塵機構と接続され、
   前記第２経路は、前記高さの範囲よりも上の部分に設けられ、前記第２経路の上端の前記水平方向の断面積が前記第２経路の下端の前記水平方向の断面積よりも大きい形状を有し、前記第２経路の上端部は前記研磨材を回収する上方を向いた開口を有し、前記第２経路の下端部は前記第１経路の上端部と連通可能に接続される、
   ことを特徴とする揚送研磨装置。

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