JP6095492B2 - 有機化合物の濃縮水溶液の製造方法 - Google Patents
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Description
原料水溶液は、分子内に親水基を2個以上有する有機化合物Aを含有する。
有機化合物Aの濃度が40質量%未満の原料水溶液を、その濃度が40質量%以上の高濃度原料水溶液に調整する手段は特に限定されない。
濃度調整した高濃度原料水溶液に超音波を照射すると、液面から高濃度原料水溶液の液柱が立ち、その液柱から水が霧化し、その結果、高濃度原料水溶液が脱水濃縮される。なお、この脱水濃縮ステップは、濃度調整ステップ後に時間間隔をおいて行ってもよく、また、濃度調整ステップと同時進行的に連動して行ってもよい。
本実施形態に係る有機化合物の濃縮水溶液の製造方法は、脱水濃縮ステップにおいて脱水濃縮した有機化合物Aの濃縮水溶液を回収する回収ステップを更に含んでいてもよい。
本実施形態に係る有機化合物の濃縮水溶液の製造方法の具体的態様について説明する。
態様1-(i)の回分操作では、図1に示す超音波霧化装置10を用い、霧化槽11外において、有機化合物Aの濃度が40質量%未満の原料水溶液と有機化合物A又は有機化合物Aの濃度が40質量%よりも高い高濃度水溶液とを混合して、有機化合物Aの濃度を40質量%以上に調整した高濃度原料水溶液を調製した後、或いは、原料水溶液を脱水濃縮して有機化合物Aの濃度を40質量%以上に調整した高濃度原料水溶液を調製した後、その高濃度原料水溶液を超音波霧化装置10の霧化槽11に仕込む(濃度調整ステップ)。後者の濃度調整のための脱水濃縮方法としては、例えば、超音波の照射による水の霧化、加熱による水分の蒸発等が挙げられる。そして、霧化槽11において、霧化槽11内に設けられた超音波振動子12により高濃度原料水溶液に超音波を照射して水を霧化させることにより脱水濃縮する(脱水濃縮ステップ)。
[態様2A]
―態様2A-(i)―
態様2A-(i)の半回分操作では、図2〜4に示す超音波霧化装置10を用い、霧化槽11外において、有機化合物Aの濃度が40質量%未満の原料水溶液と有機化合物A又は有機化合物Aの濃度が40質量%よりも高い高濃度水溶液とを混合して、有機化合物Aの濃度を40質量%以上に調整した高濃度原料水溶液を調製した後、或いは、原料水溶液を脱水濃縮して有機化合物Aの濃度を40質量%以上に調整した高濃度原料水溶液を調製した後、それを直接超音波霧化装置10の霧化槽11に仕込む(濃度調整ステップ−初期)。後者の濃度調整のための脱水濃縮方法としては、例えば、超音波の照射による水の霧化、加熱による水分の蒸発等が挙げられる。そして、霧化槽11に初期に仕込んだ高濃度原料水溶液とは別に、有機化合物Aを濃度40質量%未満で含有する水溶液を、有機化合物Aの濃度が40質量%以上となるように調整した高濃度原料水溶液を調製し(濃度調整ステップ)、霧化槽11において、その高濃度原料水溶液を、原料槽14から延びて霧化槽11に接続された原料供給管15を介して連続的又は間欠的に供給しながら、霧化槽11内に設けられた超音波振動子12により高濃度原料水溶液に超音波を照射して水を霧化させることにより脱水濃縮する(脱水濃縮ステップ)。
態様2A-(ii)の半回分操作では、図2〜4に示す超音波霧化装置10を用い、霧化槽11に有機化合物A又は高濃度水溶液を仕込み、そこに原料水溶液を添加して有機化合物Aの濃度を40質量%以上に調整して高濃度原料水溶液を調製する(濃度調整ステップ−初期)。そして、霧化槽11に初期に仕込んだ高濃度原料水溶液とは別に、有機化合物Aを濃度40質量%未満で含有する水溶液を、有機化合物Aの濃度が40質量%以上となるように調整した高濃度原料水溶液を調製し(濃度調整ステップ)、霧化槽11において、その高濃度原料水溶液を、原料供給管15を介して連続的又は間欠的に供給しながら、超音波振動子12により高濃度原料水溶液に超音波を照射して水を霧化させることにより脱水濃縮する(脱水濃縮ステップ)。
態様2A-(iii)の半回分操作では、図2〜4に示す超音波霧化装置10を用い、霧化槽11に原料水溶液を仕込み、そこに有機化合物A又は高濃度水溶液を添加して有機化合物Aの濃度を40質量%以上に調整して高濃度原料水溶液を調製する(濃度調整ステップ−初期)。そして、霧化槽11に初期に仕込んだ高濃度原料水溶液とは別に、有機化合物Aを濃度40質量%未満で含有する水溶液を、有機化合物Aの濃度が40質量%以上となるように調整した高濃度原料水溶液を調製し(濃度調整ステップ)、霧化槽11において、その高濃度原料水溶液を、原料供給管15を介して連続的又は間欠的に供給しながら、超音波振動子12により高濃度原料水溶液に超音波を照射して水を霧化させることにより脱水濃縮する(脱水濃縮ステップ)。
態様2A-(iv)の半回分操作では、図2〜4に示す超音波霧化装置10を用い、霧化槽11外で調製した高濃度原料水溶液を、原料供給管15を介して霧化槽11に仕込む(濃度調整ステップ)。そして、それに引き続き、霧化槽11において、高濃度原料水溶液を、原料供給管15を介して連続的又は間欠的に供給しながら、超音波振動子12により高濃度原料水溶液に超音波を照射して水を霧化させることにより脱水濃縮する(脱水濃縮ステップ)。従って、この態様2A-(iv)の半回分操作では、霧化槽11に初期に仕込む高濃度原料水溶液と脱水濃縮ステップにおいて供給する高濃度水溶液とが同一となる。
態様2Bの半回分操作では、図2に示す超音波霧化装置10を用い、霧化槽11に有機化合物A又は有機化合物Aの濃度が40質量%よりも高い高濃度水溶液を貯留する。そして、霧化槽11において、原料槽14に貯留された有機化合物Aの濃度が40質量%未満の原料水溶液を、原料槽14から延びて霧化槽11に接続された原料供給管15を介して連続的又は間欠的に供給し、原料水溶液と高濃度水溶液とを混合させることにより有機化合物Aの濃度を40質量%以上に調整した高濃度原料水溶液を調製しながら(濃度調整ステップ)、霧化槽11内に設けられた超音波振動子12により高濃度原料水溶液に超音波を照射して水を霧化させることにより脱水濃縮する(脱水濃縮ステップ)。このとき、原料水溶液の供給流量を、霧化槽11内の高濃度原料水溶液における有機化合物Aの濃度が40質量%以上となるように制御する。
[態様3A]
―態様3A-(i)―
態様3A-(i)の連続操作では、図2〜4に示す超音波霧化装置10を用い、霧化槽11外において、有機化合物Aの濃度が40質量%未満の原料水溶液と有機化合物A又は有機化合物Aの濃度が40質量%よりも高い高濃度水溶液とを混合して、有機化合物Aの濃度を40質量%以上に調整した高濃度原料水溶液を調製した後、或いは、原料水溶液を脱水濃縮して有機化合物Aの濃度を40質量%以上に調整した高濃度原料水溶液を調製した後、それを直接超音波霧化装置10の霧化槽11に仕込む(濃度調整ステップ−初期)。後者の濃度調整のための脱水濃縮方法としては、例えば、超音波の照射による水の霧化、加熱による水分の蒸発等が挙げられる。そして、霧化槽11に初期に仕込んだ高濃度原料水溶液とは別に、有機化合物Aを濃度40質量%未満で含有する水溶液を、有機化合物Aの濃度が40質量%以上となるように調整した高濃度原料水溶液を調製し(濃度調整ステップ)、霧化槽11において、その高濃度原料水溶液を、原料槽14から延びて霧化槽11に接続された原料供給管15を介して連続的又は間欠的に供給しながら、霧化槽11内に設けられた超音波振動子12により高濃度原料水溶液に超音波を照射して水を霧化させることにより脱水濃縮する(脱水濃縮ステップ)。また、脱水濃縮後の有機化合物Aの濃縮水溶液を、霧化槽11から延びる濃縮水溶液排出管13を介して連続的又は間欠的に排出して回収する(回収ステップ)。
態様3A-(ii)の連続操作では、図2〜4に示す超音波霧化装置10を用い、霧化槽11に有機化合物A又は高濃度水溶液を仕込み、そこに原料水溶液を添加して有機化合物Aの濃度を40質量%以上に調整して高濃度原料水溶液を調製する(濃度調整ステップ−初期)。そして、霧化槽11に初期に仕込んだ高濃度原料水溶液とは別に、有機化合物Aを濃度40質量%未満で含有する水溶液を、有機化合物Aの濃度が40質量%以上となるように調整した高濃度原料水溶液を調製し(濃度調整ステップ)、霧化槽11において、その高濃度原料水溶液を、原料供給管15を介して連続的又は間欠的に供給しながら、超音波振動子12により高濃度原料水溶液に超音波を照射して水を霧化させることにより脱水濃縮する(脱水濃縮ステップ)。また、脱水濃縮後の有機化合物Aの濃縮水溶液を、濃縮水溶液排出管13を介して連続的又は間欠的に排出して回収する(回収ステップ)。
態様3A-(iii)の連続操作では、図2〜4に示す超音波霧化装置10を用い、霧化槽11に原料水溶液を仕込み、そこに有機化合物A又は高濃度水溶液を添加して有機化合物Aの濃度を40質量%以上に調整して高濃度原料水溶液を調製する(濃度調整ステップ−初期)。そして、霧化槽11に初期に仕込んだ高濃度原料水溶液とは別に、有機化合物Aを濃度40質量%未満で含有する水溶液を、有機化合物Aの濃度が40質量%以上となるように調整した高濃度原料水溶液を調製し(濃度調整ステップ)、霧化槽11において、その高濃度原料水溶液を、原料供給管15を介して連続的又は間欠的に供給しながら、超音波振動子12により高濃度原料水溶液に超音波を照射して水を霧化させることにより脱水濃縮する(脱水濃縮ステップ)。また、脱水濃縮後の有機化合物Aの濃縮水溶液を、濃縮水溶液排出管13を介して連続的又は間欠的に排出して回収する(回収ステップ)。
態様3A-(iv)の連続操作では、図2〜4に示す超音波霧化装置10を用い、霧化槽11外で調製した高濃度原料水溶液を、原料供給管15を介して霧化槽11に仕込む(濃度調整ステップ)。そして、それに引き続き、霧化槽11において、高濃度原料水溶液を、原料供給管15を介して連続的又は間欠的に供給しながら、超音波振動子12により高濃度原料水溶液に超音波を照射して水を霧化させることにより脱水濃縮する(脱水濃縮ステップ)。従って、この態様3A-(iv)の連続操作では、霧化槽11に初期に仕込む高濃度原料水溶液と脱水濃縮ステップにおいて供給する高濃度水溶液とが同一となる。また、脱水濃縮後の有機化合物Aの濃縮水溶液を、濃縮水溶液排出管13を介して連続的又は間欠的に排出して回収する(回収ステップ)。
態様3Bの連続操作では、図2に示す超音波霧化装置10を用い、霧化槽11に有機化合物A又は有機化合物Aの濃度が40質量%よりも高い高濃度水溶液を貯留する。そして、霧化槽11において、原料槽14に貯留された有機化合物Aの濃度が40質量%未満の原料水溶液を、原料槽14から延びて霧化槽11に接続された原料供給管15を介して連続的又は間欠的に供給し、原料水溶液と高濃度水溶液とを混合させることにより有機化合物Aの濃度を40質量%以上に調整した高濃度原料水溶液を調製しながら(濃度調整ステップ)、霧化槽11内に設けられた超音波振動子12により高濃度原料水溶液に超音波を照射して水を霧化させることにより脱水濃縮する(脱水濃縮ステップ)。また、脱水濃縮後の有機化合物Aの濃縮水溶液を、霧化槽11から延びる濃縮水溶液排出管13を介して連続的又は間欠的に排出して回収する(回収ステップ)。このとき、原料水溶液の供給流量及び濃縮水溶液の回収流量を、霧化槽11内の高濃度原料水溶液における有機化合物Aの濃度が40質量%以上となるように制御する。
[高速液体クロマトグラフ(HPLC)の測定条件]
採取した有機化合物水溶液中の有機化合物の濃度を、高速液体クロマトグラフ(HPLC)を用いて定量した。HPLCの分析条件は、次の通りである。
・装置名:LaChrom Elite (HITACHI製)
・カラム:ICSep ICE-ION-300
・溶離液:0.0085規定 硫酸、0.4mL/min
・検出法:RI(HITACHI、L-2490)
・カラム温度:40℃
・注入液量:20μL
・保持時間:40min
(実験用超音波霧化装置)
図5は、下記の実験で用いた実験用の超音波霧化装置20を示す。
<実施例1>
グリセリン(炭素数:3、分子量:92、親水基:3個)の濃度が20.7質量%のグリセリン水溶液にグリセリンを添加して濃度を48質量%に調整した。そして、この濃度を48質量%に調整したグリセリン水溶液841gを上記実験用の超音波霧化装置20の原料槽24に仕込み、グリセリン水溶液の温度を60℃に調温して原料槽24と霧化槽21との間を原料供給管25及び戻り管26を介して循環させながら、回分操作で超音波の照射による脱水濃縮を9.0時間行った。そして、霧回収器29に回収された液滴の量及びその液滴中のグリセリンの濃度、並びに霧化槽21内の脱水濃縮された濃縮水溶液中のグリセリンの濃度を測定した。
グリセリンの濃度が10.1質量%のグリセリン水溶液にグリセリンを添加して濃度を59質量%に調整した。そして、この濃度を59質量%に調整したグリセリン水溶液804gを上記実験用の超音波霧化装置20の原料槽24に仕込み、グリセリン水溶液の温度を50℃に調温して原料槽24と霧化槽21との間を原料供給管25及び戻り管26を介して循環させながら、回分操作で超音波の照射による脱水濃縮を2.5時間行った。そして、実施例1と同様、霧回収器29に回収された液滴の量及びそこに含まれるグリセリンの濃度、並びに霧化槽21内の脱水濃縮された濃縮水溶液中のグリセリンの濃度を測定した。
乳酸(炭素数:3、分子量:90、親水基:2個)の濃度が5.00質量%の乳酸水溶液に乳酸を添加して濃度を44質量%に調整した。そして、この濃度を44質量%に調整した乳酸水溶液805gを上記実験用の超音波霧化装置20の原料槽24に仕込み、乳酸水溶液の温度を50℃に調温して原料槽24と霧化槽21との間を原料供給管25及び戻り管26を介して循環させながら、回分操作で超音波の照射による脱水濃縮を6.0時間行った。そして、実施例1と同様、霧回収器29に回収された液滴の量及びその液滴中の乳酸の濃度、並びに霧化槽21内の脱水濃縮された濃縮水溶液中の乳酸の濃度を測定した。
グルコース(炭素数:6、分子量:180、親水基:5個)の濃度が5.00質量%のグルコース水溶液にグルコースを添加して濃度を62質量%に調整した。そして、この濃度を62質量%に調整したグルコース水溶液800gを上記実験用の超音波霧化装置20の原料槽24に仕込み、グルコース水溶液の温度を50℃に調温して原料槽24と霧化槽21との間を原料供給管25及び戻り管26を介して循環させながら、回分操作で超音波の照射による脱水濃縮を1.0時間行った。そして、実施例1と同様、霧回収器29に回収された液滴の量及びその液滴中のグルコースの濃度、並びに霧化槽21内の脱水濃縮された濃縮水溶液中のグルコースの濃度を測定した。
1,2−プロパンジオール(炭素数:3、分子量:76、親水基:2個)の濃度が5.00質量%の1,2−プロパンジオール水溶液に1,2−プロパンジオールを添加して濃度を51質量%に調整した。そして、この濃度を51質量%に調整した1,2−プロパンジオール水溶液504gを上記実験用の超音波霧化装置20の原料槽24に仕込み、1,2−プロパンジオール水溶液の温度を50℃に調温して原料槽24と霧化槽21との間を原料供給管25及び戻り管26を介して循環させながら、回分操作で超音波の照射による脱水濃縮を0.5時間行った。そして、実施例1と同様、霧回収器29に回収された液滴の量及びその液滴中の1,2−プロパンジオールの濃度、並びに霧化槽21内の脱水濃縮された濃縮水溶液中の1,2−プロパンジオールの濃度を測定した。
キシロース(炭素数:5、分子量:150、親水基:4個)の濃度が5.00質量%のキシロース水溶液にキシロースを添加して濃度を42質量%に調整した。そして、この濃度を42質量%に調整したキシロース水溶液801gを上記実験用の超音波霧化装置20の原料槽24に仕込み、キシロース水溶液の温度を50℃に調温して原料槽24と霧化槽21との間を原料供給管25及び戻り管26を介して循環させながら、回分操作で超音波の照射による脱水濃縮を0.4時間行った。そして、実施例1と同様、霧回収器29に回収された液滴の量及びその液滴中のキシロースの濃度、並びに霧化槽21内の脱水濃縮された濃縮水溶液中のキシロースの濃度を測定した。
ヒドロキシメチルフルフラール(炭素数:6、分子量:126、親水基:3個)の濃度が5.00質量%のヒドロキシメチルフルフラール水溶液にヒドロキシメチルフルフラールを添加して濃度を51質量%に調整した。そして、この濃度を51質量%に調整したヒドロキシメチルフルフラール水溶液600gを上記実験用の超音波霧化装置20の原料槽24に仕込み、ヒドロキシメチルフルフラール水溶液の温度を50℃に調温して原料槽24と霧化槽21との間を原料供給管25及び戻り管26を介して循環させながら、回分操作で超音波の照射による脱水濃縮を1.5時間行った。そして、実施例1と同様、霧回収器29に回収された液滴の量及びその液滴中のヒドロキシメチルフルフラールの濃度、並びに霧化槽21内の脱水濃縮された濃縮水溶液中のヒドロキシメチルフルフラールの濃度を測定した。
グリセリンの濃度が22質量%のグリセリン水溶液801gを上記実験用の超音波霧化装置20の原料槽24に仕込み、グリセリン水溶液の温度を50℃に調温して原料槽24と霧化槽21との間を原料供給管25及び戻り管26を介して循環させながら、回分操作で超音波の照射による脱水濃縮を2.3時間行った。そして、実施例1と同様、霧回収器29に回収された液滴の量及びその液滴中のグリセリンの濃度、並びに霧化槽21内の脱水濃縮された濃縮水溶液中のグリセリンの濃度を測定した。
乳酸の濃度が4.8質量%の乳酸水溶液857gを上記実験用の超音波霧化装置20の原料槽24に仕込み、乳酸水溶液の温度を70℃に調温して原料槽24と霧化槽21との間を原料供給管25及び戻り管26を介して循環させながら、回分操作で超音波の照射による脱水濃縮を1.7時間行った。そして、実施例1と同様、霧回収器29に回収された液滴の量及びその液滴中の乳酸の濃度、並びに霧化槽21内の脱水濃縮された濃縮水溶液中の乳酸の濃度を測定した。
乳酸の濃度が20質量%の乳酸水溶液701gを上記実験用の超音波霧化装置20の原料槽24に仕込み、乳酸水溶液の温度を50℃に調温して原料槽24と霧化槽21との間を原料供給管25及び戻り管26を介して循環させながら、回分操作で超音波の照射による脱水濃縮を2.0時間行った。そして、実施例1と同様、霧回収器29に回収された液滴の量及びその液滴中の乳酸の濃度、並びに霧化槽21内の脱水濃縮された濃縮水溶液中の乳酸の濃度を測定した。
グルコースの濃度が20質量%のグルコース水溶液801gを上記実験用の超音波霧化装置20の原料槽24に仕込み、乳酸水溶液の温度を50℃に調温して原料槽24と霧化槽21との間を原料供給管25及び戻り管26を介して循環させながら、回分操作で超音波の照射による脱水濃縮を0.9時間行った。そして、実施例1と同様、霧回収器29に回収された液滴の量及びその液滴中のグルコースの濃度、並びに霧化槽21内の脱水濃縮された濃縮水溶液中のグルコースの濃度を測定した。
グリセリンの濃度が30質量%のグリセリン水溶液801gを上記実験用の超音波霧化装置20の原料槽24に仕込み、乳酸水溶液の温度を50℃に調温して原料槽24と霧化槽21との間を原料供給管25及び戻り管26を介して循環させながら、回分操作で超音波の照射による脱水濃縮を0.3時間行った。そして、実施例1と同様、霧回収器29に回収された液滴の量及びその液滴中のグリセリンの濃度、並びに霧化槽21内の脱水濃縮された濃縮水溶液中のグリセリンの濃度を測定した。
1,2−プロパンジオールの濃度が31質量%の1,2−プロパンジオール水溶液402gを上記実験用の超音波霧化装置20の原料槽24に仕込み、乳酸水溶液の温度を50℃に調温して原料槽24と霧化槽21との間を原料供給管25及び戻り管26を介して循環させながら、回分操作で超音波の照射による脱水濃縮を0.4時間行った。そして、実施例1と同様、霧回収器29に回収された液滴の量及びその液滴中の1,2−プロパンジオールの濃度、並びに霧化槽21内の脱水濃縮された濃縮水溶液中の1,2−プロパンジオールの濃度を測定した。
キシロースの濃度が30質量%のキシロース水溶液802gを上記実験用の超音波霧化装置20の原料槽24に仕込み、乳酸水溶液の温度を50℃に調温して原料槽24と霧化槽21との間を原料供給管25及び戻り管26を介して循環させながら、回分操作で超音波の照射による脱水濃縮を0.5時間行った。そして、実施例1と同様、霧回収器29に回収された液滴の量及びその液滴中のキシロースの濃度、並びに霧化槽21内の脱水濃縮された濃縮水溶液中のキシロースの濃度を測定した。
表1及び2は上記の実験結果を示す。
<実施例8>
グリセリンの濃度が20質量%のグリセリン水溶液にグリセリンを添加して濃度を60質量%に調整した。そして、この濃度を60質量%に調整したグリセリン水溶液を、超音波霧化装置20の原料槽24に300g及び霧化槽21に200gそれぞれ仕込み、グリセリン水溶液の温度を50℃に調温し、原料槽24から霧化槽21へのグリセリン水溶液の供給速度が113g/hrになるようにその供給流量を調整して、半回分操作で超音波の照射による脱水濃縮を1.0時間行った(態様2A-(i)-a)。そして、実施例1と同様、霧回収器29に回収された液滴の量及びその液滴中のグリセリンの濃度、並びに霧化槽21内の脱水濃縮された濃縮水溶液中のグリセリンの濃度を測定した。
グリセリンの濃度が30質量%のグリセリン水溶液201gを超音波霧化装置20の原料槽24に、及び60質量%のグリセリン水溶液251gを霧化槽21にそれぞれ仕込んだ。そして、グリセリン水溶液の温度を50℃に調温し、原料槽24から霧化槽21へのグリセリン水溶液の供給速度が37g/hrになるようにその供給流量を調整することにより、霧化槽21内のグリセリン水溶液のグリセリンの濃度を40質量%以上に維持し、半回分操作で超音波の照射による脱水濃縮を1.1時間行った(態様2B)。そして、実施例1と同様、霧回収器29に回収された液滴の量及びその液滴中のグリセリンの濃度、並びに霧化槽21内の脱水濃縮された濃縮水溶液中のグリセリンの濃度を測定した。
グリセリンの濃度が20質量%のグリセリン水溶液にグリセリンを添加して濃度を60質量%に調整した。そして、この濃度を60質量%に調整したグリセリン水溶液を超音波霧化装置20の原料槽24に300g及び霧化槽21に201gそれぞれ仕込み、グリセリン水溶液の温度を50℃に調温し、原料槽24から霧化槽21へのグリセリン水溶液の供給速度が104g/hrになるようにその供給流量を調整すると共に、霧化槽21からの濃縮されたグリセリン水溶液の排出速度が74g/hrになるようにその回収流量を調整して、連続操作で超音波の照射による脱水濃縮を1.0時間行った(態様3A-(i)-a)。そして、実施例1と同様、霧回収器29に回収された液滴の量及びその液滴中のグリセリンの濃度、並びに霧化槽21内の脱水濃縮された濃縮水溶液中のグリセリンの濃度を測定した。
グリセリンの濃度が30質量%のグリセリン水溶液262gを超音波霧化装置20の原料槽24に、及び60質量%のグリセリン水溶液251gを霧化槽21にそれぞれ仕込んだ。そして、グリセリン水溶液の温度を50℃に調温し、原料槽24から霧化槽21へのグリセリン水溶液の供給速度が40g/hrになるようにその供給流量を調整すると共に、霧化槽21からの濃縮されたグリセリン水溶液の排出速度が61g/hrになるようにその回収流量を調整することにより、霧化槽21内のグリセリン水溶液のグリセリンの濃度を40質量%以上に維持し、連続操作で超音波の照射による脱水濃縮を1.1時間行った(態様3B)。そして、実施例1と同様、霧回収器29に回収された液滴の量及びその液滴中のグリセリンの濃度、並びに霧化槽21内の脱水濃縮された濃縮水溶液中のグリセリンの濃度を測定した。
表3は実施例8〜11の実験結果を示す。
11,21 霧化槽
12,22 超音波振動子
13 濃縮水溶液排出管
14,24 原料槽
15,25 原料供給管
16,18,26 戻り管
17 有機化合物A供給管
19 濃度調整部
27 キャリアガス供給管
28 霧回収管
29 霧回収器
Claims (19)
- 分子内に親水基を2個以上有する有機化合物を濃度40質量%未満で含有する水溶液を、前記有機化合物の濃度が40質量%以上となるように調整する濃度調整ステップと、
前記濃度調整ステップにおいて前記有機化合物の濃度を40質量%以上に調整した水溶液に超音波を照射して水を霧化させることにより脱水濃縮する脱水濃縮ステップと、
を含む、有機化合物の濃縮水溶液の製造方法。 - 前記濃度調整ステップにおける濃度調整を、前記有機化合物を濃度40質量%未満で含有する水溶液と、前記有機化合物又は前記有機化合物の濃度が40質量%よりも高い水溶液とを混合することにより行う、請求項1に記載された有機化合物の濃縮水溶液の製造方法。
- 前記脱水濃縮ステップにおいて脱水濃縮して得られた前記有機化合物の濃縮水溶液を回収する回収ステップを更に含む、請求項1又は2に記載された有機化合物の濃縮水溶液の製造方法。
- 前記濃度調整ステップにおける濃度調整を、超音波振動子が設けられた霧化槽を備えた超音波霧化装置において行う、請求項1〜3のいずれかに記載された有機化合物の濃縮水溶液の製造方法。
- 前記濃度調整ステップにおいて、前記有機化合物の濃度を40質量%以上に調整した水溶液を、超音波振動子が設けられた霧化槽に仕込む、請求項1〜4のいずれかに記載された有機化合物の濃縮水溶液の製造方法。
- 前記有機化合物の濃縮水溶液の製造を回分操作で行う、請求項1〜5のいずれかに記載された有機化合物の濃縮水溶液の製造方法。
- 前記脱水濃縮ステップにおいて脱水濃縮する前記有機化合物の水溶液に、前記濃度調整ステップにおいて前記有機化合物を濃度40質量%未満で含有する水溶液を、前記有機化合物の濃度が40質量%以上となるように調整した水溶液を連続的又は間欠的に供給し、前記有機化合物の濃縮水溶液の製造を半回分操作で行う、請求項1〜5のいずれかに記載された有機化合物の濃縮水溶液の製造方法。
- 前記脱水濃縮ステップにおいて脱水濃縮する前記有機化合物の水溶液に、前記濃度調整ステップにおいて前記有機化合物を濃度40質量%未満で含有する水溶液を、前記有機化合物の濃度が40質量%以上となるように調整した水溶液を連続的又は間欠的に供給すると共に、前記有機化合物の濃縮水溶液を連続的又は間欠的に回収し、前記有機化合物の濃縮水溶液の製造を連続操作で行う、請求項1〜5のいずれかに記載された有機化合物の濃縮水溶液の製造方法。
- 前記脱水濃縮ステップにおいて前記有機化合物の水溶液に連続的又は間欠的に供給する水溶液の前記濃度調整ステップにおける濃度調整を、前記脱水濃縮ステップと同時進行的に、前記有機化合物を濃度40質量%未満で含有する水溶液と、前記有機化合物の濃度が40質量%よりも高い水溶液とを混合することにより行う、請求項7又は8に記載された有機化合物の濃縮水溶液の製造方法。
- 前記有機化合物の濃度が40質量%よりも高い水溶液の一部又は全部が、前記脱水濃縮ステップにおいて脱水濃縮して得られた前記有機化合物の濃縮水溶液である、請求項9に記載された有機化合物の濃縮水溶液の製造方法。
- 前記脱水濃縮ステップにおいて脱水濃縮する前記有機化合物の水溶液に、前記有機化合物を濃度40質量%未満で含有する水溶液を連続的又は間欠的に供給し、このとき、有機化合物を濃度40質量%未満で含有する水溶液の供給流量を、前記脱水濃縮する前記有機化合物の水溶液における前記有機化合物の濃度が40質量%以上となるように制御することにより前記濃度調整ステップを実施し、前記有機化合物の濃縮水溶液の製造を半回分操作で行う、請求項1〜5のいずれかに記載された有機化合物の濃縮水溶液の製造方法。
- 前記脱水濃縮ステップにおいて脱水濃縮する前記有機化合物の水溶液に、前記有機化合物を濃度40質量%未満で含有する水溶液を連続的又は間欠的に供給すると共に、前記脱水濃縮ステップにおいて脱水濃縮して得られた前記有機化合物の濃縮水溶液を連続的又は間欠的に回収し、このとき、前記有機化合物を濃度40質量%未満で含有する水溶液の供給流量及び前記濃縮水溶液の回収流量を、前記脱水濃縮する前記有機化合物の水溶液における前記有機化合物の濃度が40質量%以上となるように制御することにより前記濃度調整ステップを実施し、前記有機化合物の濃縮水溶液の製造を連続操作で行う、請求項1〜5のいずれかに記載された有機化合物の濃縮水溶液の製造方法。
- 前記脱水濃縮ステップにおいて超音波を照射する水溶液の温度を10℃以上100℃以下とする、請求項1〜12のいずれかに記載された有機化合物の濃縮水溶液の製造方法。
- 前記有機化合物が、親水基として、水酸基、カルボキシル基、カルボニル基、エステル基、アセタール基、ヘミアセタール基、エーテル基、アミノ基、アンモニウム基、アミド基、スルホン酸基、硫酸エステル基、ホスホン酸基、リン酸基、及びウレイド基のうちから選ばれる1種又は2種以上を有する、請求項1〜13のいずれかに記載された有機化合物の濃縮水溶液の製造方法。
- 前記有機化合物が多価アルコールを含む、請求項14に記載された有機化合物の濃縮水溶液の製造方法。
- 前記有機化合物がカルボキシル基を有する有機化合物を含む、請求項14又は15に記載された有機化合物の濃縮水溶液の製造方法。
- 前記有機化合物の分子内の炭素数が2以上、22以下である、請求項1〜16のいずれかに記載された有機化合物の濃縮水溶液の製造方法。
- 前記有機化合物の分子量が50以上、400以下である、請求項1〜17のいずれかに記載された有機化合物の濃縮水溶液の製造方法。
- 分子内に親水基を2個以上有する有機化合物を濃度40質量%未満で含有する水溶液を、前記有機化合物の濃度が40質量%以上となるように調整した後、前記有機化合物の濃度が40質量%以上となるように調整した水溶液に超音波を照射して水を霧化させることにより脱水濃縮する脱水濃縮方法。
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