JP6093566B2 - Waste liquid treatment equipment - Google Patents
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Description
本発明は、シリコン屑を含む液体をシリコン屑と液体とに分離する分離装置に関する。 The present invention relates to a separation device that separates liquid containing silicon waste into silicon waste and liquid.
シリコンデバイスの製造においては、シリコンインゴットを切断してシリコンウェーハを形成する工程や、シリコンウェーハを研磨する工程や、シリコンウェーハの表面に格子状に配列された多数の領域にIC、LSI等の回路を形成し各領域所定の切断ラインに沿って切断して個々のシリコンチップを形成する工程などがある。これらの工程では、例えば切削ブレードや加工点や研磨部分などを冷却したり、シリコン屑を押し流したりするために、水が用いられている。 In the manufacture of silicon devices, the process of cutting a silicon ingot to form a silicon wafer, the process of polishing the silicon wafer, and circuits such as ICs and LSIs in a large number of areas arranged in a lattice pattern on the surface of the silicon wafer And each region is cut along a predetermined cutting line to form individual silicon chips. In these processes, water is used to cool, for example, a cutting blade, a processing point, a polished portion, or to flush away silicon scraps.
シリコン屑は、微細な粒子であり、廃液中に懸濁した状態となって含まれている。一方、近年は、水の再利用やシリコンの再利用の観点から、シリコン屑を含む廃液を、シリコン屑とシリコン屑を含まない水とに分離する技術が求められており、濾過や遠心分離法によって物理的に分離する方法や、薬品を利用して化学的に分離する方法(例えば、特許文献1参照)が知られている。 Silicon scraps are fine particles and are contained in a suspended state in the waste liquid. On the other hand, in recent years, from the viewpoint of water reuse and silicon reuse, there has been a demand for a technology for separating waste liquid containing silicon waste into silicon waste and water not containing silicon waste. There are known a method of physically separating by a chemical method and a method of chemically separating using a chemical (for example, see Patent Document 1).
しかし、物理的に分離する方法では、濾過の際に目詰まりが起こったり、シリコン粒子が通過してしまったりするという問題がある。特に、遠心分離法では、水分に対してシリコン粒子の濃度が薄すぎて遠心分離の効率が悪い場合がある。また、化学的に分離する方法では、薬品を使用するために液体(水)を再利用することが難しくなるという問題がある。そのため、シリコン吸着板によって廃液中のシリコン屑を吸着することによりシリコン屑と水とに効率よく分離する分離装置が採用されている(例えば、特許文献2参照)。 However, the physical separation method has a problem that clogging occurs during filtration or silicon particles pass through. In particular, in the centrifugation method, the concentration of silicon particles with respect to moisture is too thin, and the efficiency of centrifugation may be poor. In addition, the chemical separation method has a problem that it is difficult to reuse the liquid (water) because the chemical is used. For this reason, a separation device that efficiently separates silicon waste and water into silicon waste by adsorbing silicon waste in the waste liquid using a silicon adsorption plate is used (see, for example, Patent Document 2).
しかし、かかる分離装置では、セパレータによりシリコン屑を擦り落としシリコン屑を回収しているが、かかる回収を繰り返すことにより、シリコン吸着板表面が荒れてしまい、シリコン屑の回収量が減ってしまうという問題がある。 However, in such a separating apparatus, silicon scraps are scraped off by the separator and silicon scraps are recovered. However, by repeating such recovery, the surface of the silicon adsorbing plate becomes rough and the amount of recovered silicon scraps is reduced. There is.
本発明は、上記問題にかんがみなされたもので、シリコン屑を含む廃液をシリコン屑とシリコン屑を含まない水とに分離する分離装置において、分離時間が経過しても、廃液を効率よくシリコン屑と水とに分離できるようにすることを目的とする。 The present invention has been considered in view of the above problems, and in a separation apparatus that separates waste liquid containing silicon waste into water that does not contain silicon waste and silicon waste, the waste liquid can be efficiently removed even when the separation time elapses. The purpose is to allow separation into water and water.
本発明は、シリコン屑を含む廃液を、シリコン屑とシリコン屑を含まない浄水とに分離する廃液処理装置に関するもので、廃液からシリコン屑とシリコン屑を含まない浄水とに分離する分離処理手段と、分離処理手段によって分離されたシリコン屑を回収する回収手段と、から構成され、分離処理手段は、廃液を溜める液槽と、液槽の中に等間隔に複数配設され廃液中でマイナスに帯電したシリコン屑を吸着するためのプラスに帯電したシリコン吸着板と、シリコン吸着板に対向してシリコン吸着板と離間して交互に複数配設されマイナスに帯電した陰極板と、陰極板の上部に配設され上澄み液体を液槽外へ搬出する搬出部と、シリコン吸着板を陽極とし陰極板を陰極とし、シリコン吸着板と陰極板との間に電界を形成する電界形成部とを備え、回収手段は、シリコン吸着板からシリコン屑を分離させる分離部と、シリコン吸着板を分離処理手段の液槽中から分離部まで移動させる吸着板移動部と、シリコン吸着板を管理する管理手段とを備え、管理手段は、シリコン吸着板に通電しシリコンを吸着している累積時間を各々のシリコン吸着板ごとにカウントする吸着時間カウント部と、累積時間が所定時間を経過したシリコン吸着板を分離部へ移動させシリコン吸着板からシリコン屑を分離すべき旨の指令を出す指令部と、分離部によりシリコン吸着板からシリコン屑を分離した回数を各々のシリコン吸着板ごとにカウントして記憶する分離回数記憶部と、分離回数記憶部に記憶された分離回数がシリコン屑の分離によりシリコン吸着板が劣化したと考えられる所定の回数に達した否かを判断する判断部とを備えており、判断部が各々のシリコン吸着板の分離回数が所定の回数に達したと判断した場合に報知を行う報知部を備えることを特徴とする。 The present invention relates to a waste liquid treatment apparatus that separates waste liquid containing silicon waste into silicon waste and purified water that does not contain silicon waste, and a separation processing means that separates the waste liquid into purified water that does not contain silicon waste and silicon waste. And a recovery means for recovering silicon scraps separated by the separation processing means, and the separation processing means is arranged in the liquid tank at a plurality of equal intervals in the liquid tank and a liquid tank for storing the waste liquid, and is negative in the waste liquid. A positively charged silicon adsorbing plate for adsorbing charged silicon debris, a plurality of alternating negatively charged cathode plates facing the silicon adsorbing plate and spaced apart from the silicon adsorbing plate, and an upper portion of the cathode plate And an unloading section for unloading the supernatant liquid out of the liquid tank, and an electric field forming section for forming an electric field between the silicon adsorption plate and the cathode plate, with the silicon adsorption plate as the anode and the cathode plate as the cathode. The recovery unit includes a separation unit that separates silicon waste from the silicon adsorption plate, an adsorption plate moving unit that moves the silicon adsorption plate from the liquid tank of the separation processing unit to the separation unit, and a management unit that manages the silicon adsorption plate; The management means separates the adsorption time counting unit that counts the accumulated time that the silicon adsorption plate is energized and adsorbs silicon for each silicon adsorption plate, and the silicon adsorption plate that has accumulated the predetermined time A command unit that issues a command to separate the silicon scrap from the silicon suction plate by moving to the part, and a separation that counts and stores the number of times the silicon scrap is separated from the silicon suction plate by the separation unit for each silicon suction plate a frequency storage section, the silicon suction plate has reached a predetermined number of times is considered to be deteriorated by the separation of the separation count stored in separate count storage unit the silicon scrap Or provided with a determination unit for determining, characterized in that the separation number of silicon suction plate of the determination unit each comprising a notification unit that performs a notification when it is determined to have reached the predetermined number of times.
本発明に係る廃液処理装置では、シリコン吸着板からシリコン屑を分離した回数を各々のシリコン吸着板ごとにカウントして記憶する分離回数記憶部と、分離回数記憶部に記憶された分離回数が所定の回数に達した否かを判断する判断部と、判断部が各々のシリコン吸着板の分離回数が所定の回数に達したと判断した場合に報知を行う報知部とを備えているため、分離回数が所定の回数に達したシリコン吸着板については劣化したものと判断して液槽から取り除くことが可能となり、シリコン屑を含む廃液を長期的に効率よくシリコン屑と浄水とに分離することができる。 In the waste liquid treatment apparatus according to the present invention, the number of times of separation of the silicon scrap from the silicon adsorption plate is counted and stored for each silicon adsorption plate, and the number of separations stored in the separation number storage unit is predetermined. A determination unit that determines whether or not the number of times has been reached, and a notification unit that performs notification when the determination unit determines that the number of separations of each silicon adsorption plate has reached a predetermined number. The silicon adsorbing plate that has reached the predetermined number of times can be judged as deteriorated and removed from the liquid tank, and waste liquid containing silicon waste can be efficiently separated into silicon waste and purified water in the long term. it can.
図1に示す廃液処理装置1は、廃液からシリコン屑とシリコン屑を含まない浄水とに分離する分離処理手段2と、分離処理手段2によって分離されたシリコン屑を回収する回収手段3とを備えている。
A waste liquid treatment apparatus 1 shown in FIG. 1 includes a separation processing unit 2 that separates silicon waste and purified water that does not contain silicon waste, and a
分離処理手段2は、合成樹脂等の絶縁部材によって形成され処理対象の廃液を溜める液槽20を備えている。液槽20の前方には、シリコン屑が含まれる廃液を収容する廃液収容タンク40が設けられており、図示しないポンプによって、廃液収容タンク40から液槽20に廃液が導入される。図2に示すように、液槽20は、上部が開口した容器であり、長手方向の側板200の内周面には、鉛直方向に長い溝200aが形成されている。
The separation processing means 2 includes a
溝200aには、シリコン吸着板21と、陰極版22とが交互に挿入されている。シリコン吸着板21及び陰極板22は、それぞれが等間隔に複数配置されている。
シリコン吸着板21は、銅、ステンレス等の導電性部材により構成され、液槽20の中に等間隔に複数配設されている。シリコン吸着板21の上部には、幅方向に間隔をあけて一対の被係合片210が上方に突出した状態で形成されている。被係合片210には、シリコン吸着板21の幅方向に貫通する係合孔211が形成されている。
The
陰極板22は、シリコン吸着板21に対向するとともに、シリコン吸着板21と離間して複数配設されている。陰極板22の上部には、液槽20の上澄み液体を液槽20外へ搬出する搬出部220を備えている。搬出部220は、陰極板22の幅方向にのびる円筒形状の吸引パイプ221を備えている。吸引パイプ221の側面には、長手方向に沿って複数の吸引口222が設けられている。また、一方の端部には、送出口223が形成されている。吸引パイプ220は、吸引口221から液槽20中の上澄み液体を吸い込み、送出口223から液槽20外へ搬出することができる。
A plurality of
図3に示すように、液槽20に挿入されたシリコン吸着板21は、直流電源からなる電界形成部5の陽極50に接続されてプラスに帯電して陽極となり、陰極板22は、直流電源5の陰極51に接続されてマイナスに帯電して陰極となるため、シリコン吸着板21と陰極板22との間には電界が形成される。廃液中のシリコン屑はマイナスに帯電しているため、マイナスに帯電した陰極板22からは反発し、プラスに帯電したシリコン吸着板22に吸着される。また、陰極板22に備えた送出口223は、送給ポンプ25に連通している。
As shown in FIG. 3, the
図1に示すように、回収手段3は、分離処理手段2の側方に配設されシリコン吸着板21からシリコン屑を分離させる分離部30と、シリコン吸着板21を分離処理手段2の液槽20から分離部30まで移動させる吸着板移動部31と、シリコン吸着板21と電気的に接続されシリコン吸着板21を管理する管理手段32とを備えている。
As shown in FIG. 1, the recovery means 3 includes a
分離部30は、シリコン吸着板21を通すことができるスリット300が上面に設けられ下部が開口した箱型の分離容器301と、分離容器301の内部に設けられた図示しない一対のスクレーパと、スクレーパを回転させる図示しない回転機構とを備えている。スリット300には、シリコン吸着板21を通して異物が侵入するのを防止するシャッター300aが設けられている。スクレーパは、ゴムなどの弾性を有する合成樹脂によって形成され、分離容器301内に収容されたシリコン吸着板21を互いの間に位置づける。スクレーパは、帯板状に形成され、長手方向が液槽20の幅方向と平行になるように設けられる。スクレーパは、回転機構によって駆動されて回転することによって、分離容器301内に収容されたシリコン吸着板21の表面に対して下端部が接したり離れたりする。回転機構は、スクレーパの中央部を液槽20の幅方向と平行な軸心周りに回転させる。
The
分離部30の下方には、回収手段3により回収されたシリコン屑を収容するシリコン屑タンク60が配設されている。シリコン屑タンク60は、上部が開口した容器であり、分離部30の下部に連結され、分離部30において分離されたシリコン屑を貯蔵する。
A
また、分離部30は、シリコン屑タンク60に貯蔵されたシリコン屑から発生する水素ガスを外部に排出する水素ガス排出手段302を備えている。水素ガス排出手段302は、分離容器301の壁を貫通することにより、分離容器301の内外を連通し、分離容器301の内部を大気に開放している。
Further, the
シリコン屑タンク60の下方には、重量計61が配設されている。重量計61は、周知のロードセルなどを備えて構成され、シリコン屑タンク60の重量を測定し、測定結果を管理手段32に出力する。
Below the
図1に示すように、吸着板移動部31は、液槽20の上方に配設されており、シリコン吸着板21を保持する保持部33と、保持部33を昇降させる昇降部34と、保持部33及び昇降部34を水平移動させる水平駆動部35とを備えている。
As shown in FIG. 1, the suction
保持部33は、内部にナットを有する基台330と、基台330の下部に取り付けられた一対のチャックシリンダ331とを備えている、チャックシリンダ331は、液槽20の幅方向に間隔をあけて配設されている。チャックシリンダ331は、基台330に固定されたシリンダ本体332と、シリンダ本体332から出没自在なピン333とから構成されている。ピン333は、シリコン吸着板21に形成された被係合片210の係合孔211に挿入可能な円柱状に形成されている。
The
昇降部34は、鉛直方向にのびる鉛直ボールネジ340と、鉛直ボールネジ340と平行に配設されたガイドレール341と、図示しないモータを駆動源として鉛直ボールネジ340を回動させるベルト342とから構成されており、ベルト342が鉛直ボールネジ340を回動させることにより、保持部33の基台330がガイドレール341にガイドされて昇降する構成となっている。そして、基台330の昇降により、基台330に取り付けられたチャックシリンダ331も昇降するため、チャックシリンダ331のピン333に係合したシリコン吸着板21を昇降させることができる。
The elevating
水平駆動部35は、液槽20の長手方向にのびる水平ボールネジ350と、水平ボールネジ350と平行にのびるガイドレール351と、ボールネジ350に螺合するナットを内部に有するとともに昇降部34を吊持する吊持部352と、水平ボールネジ350を回動させる図示しないモータとを備えており、モータの駆動により水平ボールネジ350が回動することにより吊持部352がガイドレール351にガイドされて水平方向に移動する構成となっている。水平ボールネジ350及びガイドレール351は、液槽20の上方から分離部30の上方にわたる長さを有しており、吊持部352の水平移動により、保持部33が保持したシリコン吸着板21を液槽20から分離部30に移動させることができる。
The
管理手段32は、CPU及びメモリを備えており、シリコン吸着板21に通電しシリコンを吸着している累積時間を各々のシリコン吸着板21ごとにカウントする吸着時間カウント部320と、累積時間が所定時間を経過したシリコン吸着板21を分離部30へ移動させシリコン吸着板21からシリコン屑を分離すべき旨の指令を吸着板移動部31及び分離部30に出す指令部321と、分離部30によりシリコン吸着板21からシリコン屑を分離した回数を各々のシリコン吸着板21ごとにカウントして記憶する分離回数記憶部322と、分離回数記憶部322に記憶された分離回数が所定の回数を経過したか否かを判断する判断部323と、分離回数が所定の回数を経過したと判断部323が判断した場合にその旨を報知する報知部324とを備えている。
The
液槽20の前方には、液槽20から浄水を排出する排出部7が配設されている。排出部7は、液槽20の側面に配設された送給配管70と、送給配管70に連結された開閉バルブ71とを備えている。
A
廃液収容タンク40の上方には、分離処理手段2において分離されたシリコン屑を含まない浄水を貯水する浄水貯水タンク41が配設されている。浄水貯水タンク41は、タンク本体410と、浄水中の気泡を消すための消泡傾斜板411と、複数の供給口412とを備えている。
Above the waste
消泡傾斜板411は、タンク本体410の長手方向に沿って上下方向に傾斜する平板状に形成され、タンク本体410を上下2つの空間に仕切っている。消泡傾斜板411の長辺側とタンク本体410の内壁との間には、浄水を通すための隙間が形成されている。
The defoaming inclined
供給口412は、排出部7から排出された浄水をタンク本体410に供給する。供給口412は、排出部7の送給配管70及び開閉バルブ71と同数設けられている。供給口412は、タンク本体410の上部を貫通している。
The
以下では、以上のように構成される廃液処理装置1の動作について、図4のフローチャートを参照して説明する。 Below, operation | movement of the waste-liquid processing apparatus 1 comprised as mentioned above is demonstrated with reference to the flowchart of FIG.
廃液処理装置1においては、図3に示した電界形成部5によって、シリコン吸着板21と陰極板22との間に電界を形成する。一方、研磨装置、切削装置等において生じたシリコン屑入りの廃液は、処理装置1の廃液収容タンク40に収容される。
In the waste water treatment apparatus 1, the electric field forming unit 5 shown in FIG. 3, to form an electric field between the
開閉バルブ71を閉じた状態として、廃液収容タンク40内の廃液が液槽20に収容されると、液槽20内に廃液が溜まり、廃液内にシリコン吸着板21及び陰極板22が浸漬した状態となる。
When the open /
液槽20内に所定量の廃液が溜まると、すべての開閉バルブ71を開ける。すべての開閉バルブ71が開くまでに、マイナスの電荷を帯びたシリコン屑が、プラスに帯電したシリコン吸着板21に吸着される。一方、シリコン屑が除去された浄水は、図3に示した陰極板22の上部に配設された吸引口222からポンプ25によって吸引され、送出口223を通って図1に示した供給口412に至り、浄水貯水タンク41に導かれる(ステップS1)。
When a predetermined amount of waste liquid accumulates in the
管理手段32を構成する吸着時間カウント部320は、シリコン吸着板21ごとに、電界形成部5の陽極50と通電しシリコンを吸着している累積時間をカウントする(ステップS2)。そして、当該累積時間が所定の時間を経過したシリコン吸着板21があると、指令部321は、そのシリコン吸着板21を分離部30へ移動させて当該シリコン吸着板21からシリコン屑を分離除去すべき旨の指令を吸着板移動部31及び分離部30に出力する(ステップS3、S4)。一方、累積吸着時間が所定時間を経過したシリコン吸着板がない場合は、廃液からのシリコン屑の分離処理を続行する(ステップS3、S1)。
Adsorption
シリコン屑を分離除去すべき旨の指令が指令部321から出力されると、管理手段32による管理の下で、水平ボールネジ350を回動させることにより、シリコン屑を分離すべきシリコン吸着板21の直上に保持部33を移動させる。そして、その状態において、鉛直ボールネジ340を回動させることにより保持部33を降下させていき、チャックシリンダ331をシリコン吸着板21の被係合片210の水平方向延長上に位置づける。
When a command to separate and remove silicon waste is output from the
次に、チャックシリンダ331のピン333をシリンダ本体332から突出させることにより、被係合片210に形成された係合孔211にピン333を挿入して係合させる。そして、その状態のまま鉛直ボールネジ340を逆方向に回動させて保持手段33を上昇させることにより、シリコン吸着板21を液槽20の上方に引き上げる。
Next, the
こうしてシリコン吸着板21が液槽20の上方に引き上げられると、管理手段32による制御の下で、引き上げられたシリコン吸着板21の両隣の開閉バルブ71を閉じ、そこからの浄水貯水タンク41への送給を停止する。
When the
次に、吸着板移動部31は、水平ボールネジ350を回動させることにより、シリコン吸着板21を保持した保持部33を分離部30の直上に移動させる。そして、鉛直ボールネジ340を回動させて保持部33を降下させていくことにより、シリコン吸着板21を、スリット300を通して分離容器301内に挿入する。このとき、分離部30に備えた図示しない一対のスクレーパは互いに間隔を空けて平行な状態となっている。
Next, the suction
シリコン吸着板21が降下した後、スクレーパの下端部をシリコン吸着板21に接触させ、その状態で、鉛直ボールネジ340を逆方向に回動させて保持部33及び保持されたシリコン吸着板21を上昇させていくと、シリコン吸着板21が上昇するにつれてスクレーパによってシリコン屑が掻き落とされて分離される(ステップS5)。分離されたシリコン屑は、シリコン屑タンク60に収容される。
After the
こうしてシリコン屑が分離されたシリコン吸着板21が上昇し、分離部30の上方に引き上げられると、分離部30へのシリコン吸着板22の搬送時とは逆方向に水平ボールネジ350を回動させ、シリコン吸着板21を、液槽20の元の収容場所の上方まで移動させる。そして、鉛直ボールネジ340を回動させて、シリコン吸着板21を液槽20の元の場所に戻す。
When the
管理手段32を構成する分離回数記憶部322は、シリコン吸着板21の分離回数を記憶する記憶領域をシリコン吸着板ごとに確保しており、ステップS5が完了すると、そのシリコン吸着板21の分離回数をカウントアップして分離回数記憶部322に記憶させる(ステップS6)。
The separation
管理手段32を構成する判断部323は、分離回数記憶部322に記憶された分離回数が所定の回数に達したか否かを判断し(ステップS7)、分離回数が所定の回数に達したと判断した場合は、報知部324からその旨をオペレータに報知する(ステップS8)。シリコン屑の分離回数が所定回数に達したシリコン吸着板21は、分離作業によって劣化したと考えられるため、そのシリコン吸着板21を液槽20から取り除き、新たに別のシリコン吸着板を液槽20に収容することで、シリコン屑を含む廃液を長期的に効率よくシリコン屑と浄水とに分離することができる。
The
重量計61は、シリコン屑タンク60の重量を測定し、所定の重量に達すると、その旨を管理手段32に通知し、管理手段32は、報知手段324からその旨を報知することにより、シリコン屑タンク60からシリコン屑を取り出すことをオペレータに促す。
The
以上のように、廃液処理装置1は、プラスに帯電したシリコン吸着板21がシリコン屑を吸着することにより、シリコン屑と浄水とに分離することができる。したがって、シリコン屑を含む廃液を効率よく再利用できる状態とすることができる。
As described above, the waste liquid treatment apparatus 1 can be separated into silicon waste and purified water by the positively charged
また、シリコン屑を吸着している累積時間が所定時間に達した場合にシリコン吸着板21からシリコン屑の除去を行うため、吸着能力が低下する前の適切なタイミングでシリコン屑を除去することができる。しかも、かかる管理を各々のシリコン吸着板21ごとに行うため、シリコン吸着板ごとに、常に吸着能力が維持される。
Further, when the accumulated time for adsorbing silicon debris reaches a predetermined time, the silicon debris is removed from the
さらに、分離回数を各々のシリコン吸着板ごとにカウントし、分離回数が所定回数に達したシリコン吸着板21については、その旨を報知することにより、劣化したシリコン吸着板を新たなものに交換することが可能となるため、シリコン屑を含む廃液を長期的に効率よくシリコン屑と浄水とに分離することができる。
Further, the number of separations is counted for each silicon adsorption plate, and for the
1:廃液処理装置
2:分離処理手段
20:液槽 200:側版 200a:溝
21:シリコン吸着板 210:被係合片 211:係合孔
22:陰極板 220:排出部 221:吸引パイプ 222:吸引口 223:送出口
25:ポンプ
3:回収手段
30:分離部 300:スリット 300a:シャッター 301:分離容器
302:水素ガス排出手段
31:吸着板移動部
32:管理手段
320:吸着時間カウント部 321:指令部 322:分離回数記憶部
323:判断部 324:報知部
33:保持部
330:基台 331:チャックシリンダ 332:シリンダ本体 333:ピン
34:昇降部 340:鉛直ボールネジ 341:ガイドレール 342:ベルト
35:水平移動部 350:水平ボールネジ 351:ガイドレール 352:吊持部
40:廃液収容タンク
41:浄水貯水タンク 410:タンク本体 411:消泡傾斜板 412:供給口
5:電界形成部 50:陽極 51:陰極
60:シリコン屑タンク 61:重量計
7:排出部 70:送給配管 71:開閉バルブ
1: Waste liquid processing apparatus 2: Separation processing means 20: Liquid tank 200:
Claims (1)
廃液からシリコン屑とシリコン屑を含まない浄水とに分離する分離処理手段と、該分離処理手段によって分離されたシリコン屑を回収する回収手段と、から構成され、
該分離処理手段は、該廃液を溜める液槽と、該液槽の中に等間隔に複数配設され該廃液中でマイナスに帯電したシリコン屑を吸着するためのプラスに帯電したシリコン吸着板と、該シリコン吸着板に対向して該シリコン吸着板と離間して交互に複数配設されマイナスに帯電した陰極板と、該陰極板の上部に配設され上澄み液体を該液槽外へ搬出する搬出部と、該シリコン吸着板を陽極とし該陰極板を陰極とし、該シリコン吸着板と該陰極板との間に電界を形成する電界形成部とを備え、
該回収手段は、該シリコン吸着板からシリコン屑を分離させる分離部と、該シリコン吸着板を該分離処理手段の該液槽中から該分離部まで移動させる吸着板移動部と、該シリコン吸着板を管理する管理手段とを備え、
該管理手段は、該シリコン吸着板に通電しシリコンを吸着している累積時間を各々のシリコン吸着板ごとにカウントする吸着時間カウント部と、該累積時間が所定時間を経過したシリコン吸着板を分離部へ移動させ該シリコン吸着板からシリコン屑を分離すべき旨の指令を出す指令部と、該分離部により該シリコン吸着板からシリコン屑を分離した回数を各々のシリコン吸着板ごとにカウントして記憶する分離回数記憶部と、該分離回数記憶部に記憶された分離回数がシリコン屑の分離により該シリコン吸着板が劣化したと考えられる所定の回数に達した否かを判断する判断部とを備えており、
該判断部が各々のシリコン吸着板の分離回数が所定の回数に達したと判断した場合に報知を行う報知部を備えることを特徴とする廃液処理装置。 A waste liquid treatment apparatus for separating waste liquid containing silicon waste into purified water not containing silicon waste and silicon waste,
The separation processing means for separating the silicon waste from the waste liquid and the purified water containing no silicon waste, and the recovery means for recovering the silicon waste separated by the separation processing means,
The separation processing means includes: a liquid tank for storing the waste liquid; a plurality of positively charged silicon adsorption plates that are disposed in the liquid tank at equal intervals and adsorb negatively charged silicon debris in the waste liquid; A plurality of negatively charged cathode plates arranged alternately and spaced apart from the silicon adsorbing plate, opposite to the silicon adsorbing plate, and a supernatant liquid disposed above the cathode plate to carry out the liquid tank. An unloading section, and an electric field forming section for forming an electric field between the silicon adsorption plate and the cathode plate, with the silicon adsorption plate as an anode and the cathode plate as a cathode,
The recovery unit includes a separation unit that separates silicon waste from the silicon adsorption plate, an adsorption plate moving unit that moves the silicon adsorption plate from the liquid tank of the separation processing unit to the separation unit, and the silicon adsorption plate Management means for managing
The management means separates an adsorption time count unit for energizing the silicon adsorbing plate and adsorbing silicon for each silicon adsorbing plate, and a silicon adsorbing plate after the predetermined time has elapsed. And a command unit that issues a command to separate the silicon scrap from the silicon adsorption plate, and counts the number of times the silicon scrap is separated from the silicon adsorption plate by the separation unit for each silicon adsorption plate. A separation number storage unit for storing, and a determination unit for determining whether or not the number of separations stored in the separation number storage unit has reached a predetermined number of times that the silicon adsorption plate is considered to have deteriorated due to separation of silicon debris. Has
A waste liquid processing apparatus comprising: a notification unit that performs notification when the determination unit determines that the number of separations of each silicon adsorption plate has reached a predetermined number.
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