JP6093566B2 - Waste liquid treatment equipment - Google Patents

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本発明は、シリコン屑を含む液体をシリコン屑と液体とに分離する分離装置に関する。   The present invention relates to a separation device that separates liquid containing silicon waste into silicon waste and liquid.

シリコンデバイスの製造においては、シリコンインゴットを切断してシリコンウェーハを形成する工程や、シリコンウェーハを研磨する工程や、シリコンウェーハの表面に格子状に配列された多数の領域にIC、LSI等の回路を形成し各領域所定の切断ラインに沿って切断して個々のシリコンチップを形成する工程などがある。これらの工程では、例えば切削ブレードや加工点や研磨部分などを冷却したり、シリコン屑を押し流したりするために、水が用いられている。   In the manufacture of silicon devices, the process of cutting a silicon ingot to form a silicon wafer, the process of polishing the silicon wafer, and circuits such as ICs and LSIs in a large number of areas arranged in a lattice pattern on the surface of the silicon wafer And each region is cut along a predetermined cutting line to form individual silicon chips. In these processes, water is used to cool, for example, a cutting blade, a processing point, a polished portion, or to flush away silicon scraps.

シリコン屑は、微細な粒子であり、廃液中に懸濁した状態となって含まれている。一方、近年は、水の再利用やシリコンの再利用の観点から、シリコン屑を含む廃液を、シリコン屑とシリコン屑を含まない水とに分離する技術が求められており、濾過や遠心分離法によって物理的に分離する方法や、薬品を利用して化学的に分離する方法(例えば、特許文献1参照)が知られている。   Silicon scraps are fine particles and are contained in a suspended state in the waste liquid. On the other hand, in recent years, from the viewpoint of water reuse and silicon reuse, there has been a demand for a technology for separating waste liquid containing silicon waste into silicon waste and water not containing silicon waste. There are known a method of physically separating by a chemical method and a method of chemically separating using a chemical (for example, see Patent Document 1).

しかし、物理的に分離する方法では、濾過の際に目詰まりが起こったり、シリコン粒子が通過してしまったりするという問題がある。特に、遠心分離法では、水分に対してシリコン粒子の濃度が薄すぎて遠心分離の効率が悪い場合がある。また、化学的に分離する方法では、薬品を使用するために液体(水)を再利用することが難しくなるという問題がある。そのため、シリコン吸着板によって廃液中のシリコン屑を吸着することによりシリコン屑と水とに効率よく分離する分離装置が採用されている(例えば、特許文献2参照)。   However, the physical separation method has a problem that clogging occurs during filtration or silicon particles pass through. In particular, in the centrifugation method, the concentration of silicon particles with respect to moisture is too thin, and the efficiency of centrifugation may be poor. In addition, the chemical separation method has a problem that it is difficult to reuse the liquid (water) because the chemical is used. For this reason, a separation device that efficiently separates silicon waste and water into silicon waste by adsorbing silicon waste in the waste liquid using a silicon adsorption plate is used (see, for example, Patent Document 2).

特開平8−164304号公報JP-A-8-164304 特開2012−024661号公報JP 2012-024661 A

しかし、かかる分離装置では、セパレータによりシリコン屑を擦り落としシリコン屑を回収しているが、かかる回収を繰り返すことにより、シリコン吸着板表面が荒れてしまい、シリコン屑の回収量が減ってしまうという問題がある。   However, in such a separating apparatus, silicon scraps are scraped off by the separator and silicon scraps are recovered. However, by repeating such recovery, the surface of the silicon adsorbing plate becomes rough and the amount of recovered silicon scraps is reduced. There is.

本発明は、上記問題にかんがみなされたもので、シリコン屑を含む廃液をシリコン屑とシリコン屑を含まない水とに分離する分離装置において、分離時間が経過しても、廃液を効率よくシリコン屑と水とに分離できるようにすることを目的とする。   The present invention has been considered in view of the above problems, and in a separation apparatus that separates waste liquid containing silicon waste into water that does not contain silicon waste and silicon waste, the waste liquid can be efficiently removed even when the separation time elapses. The purpose is to allow separation into water and water.

本発明は、シリコン屑を含む廃液を、シリコン屑とシリコン屑を含まない浄水とに分離する廃液処理装置に関するもので、廃液からシリコン屑とシリコン屑を含まない浄水とに分離する分離処理手段と、分離処理手段によって分離されたシリコン屑を回収する回収手段と、から構成され、分離処理手段は、廃液を溜める液槽と、液槽の中に等間隔に複数配設され廃液中でマイナスに帯電したシリコン屑を吸着するためのプラスに帯電したシリコン吸着板と、シリコン吸着板に対向してシリコン吸着板と離間して交互に複数配設されマイナスに帯電した陰極板と、陰極板の上部に配設され上澄み液体を液槽外へ搬出する搬出部と、シリコン吸着板を陽極とし陰極板を陰極とし、シリコン吸着板と陰極板との間に電界を形成する電界形成部とを備え、回収手段は、シリコン吸着板からシリコン屑を分離させる分離部と、シリコン吸着板を分離処理手段の液槽中から分離部まで移動させる吸着板移動部と、シリコン吸着板を管理する管理手段とを備え、管理手段は、シリコン吸着板に通電しシリコンを吸着している累積時間を各々のシリコン吸着板ごとにカウントする吸着時間カウント部と、累積時間が所定時間を経過したシリコン吸着板を分離部へ移動させシリコン吸着板からシリコン屑を分離すべき旨の指令を出す指令部と、分離部によりシリコン吸着板からシリコン屑を分離した回数を各々のシリコン吸着板ごとにカウントして記憶する分離回数記憶部と、分離回数記憶部に記憶された分離回数がシリコン屑の分離によりシリコン吸着板が劣化したと考えられる所定の回数に達した否かを判断する判断部とを備えており、判断部が各々のシリコン吸着板の分離回数が所定の回数に達したと判断した場合に報知を行う報知部を備えることを特徴とする。 The present invention relates to a waste liquid treatment apparatus that separates waste liquid containing silicon waste into silicon waste and purified water that does not contain silicon waste, and a separation processing means that separates the waste liquid into purified water that does not contain silicon waste and silicon waste. And a recovery means for recovering silicon scraps separated by the separation processing means, and the separation processing means is arranged in the liquid tank at a plurality of equal intervals in the liquid tank and a liquid tank for storing the waste liquid, and is negative in the waste liquid. A positively charged silicon adsorbing plate for adsorbing charged silicon debris, a plurality of alternating negatively charged cathode plates facing the silicon adsorbing plate and spaced apart from the silicon adsorbing plate, and an upper portion of the cathode plate And an unloading section for unloading the supernatant liquid out of the liquid tank, and an electric field forming section for forming an electric field between the silicon adsorption plate and the cathode plate, with the silicon adsorption plate as the anode and the cathode plate as the cathode. The recovery unit includes a separation unit that separates silicon waste from the silicon adsorption plate, an adsorption plate moving unit that moves the silicon adsorption plate from the liquid tank of the separation processing unit to the separation unit, and a management unit that manages the silicon adsorption plate; The management means separates the adsorption time counting unit that counts the accumulated time that the silicon adsorption plate is energized and adsorbs silicon for each silicon adsorption plate, and the silicon adsorption plate that has accumulated the predetermined time A command unit that issues a command to separate the silicon scrap from the silicon suction plate by moving to the part, and a separation that counts and stores the number of times the silicon scrap is separated from the silicon suction plate by the separation unit for each silicon suction plate a frequency storage section, the silicon suction plate has reached a predetermined number of times is considered to be deteriorated by the separation of the separation count stored in separate count storage unit the silicon scrap Or provided with a determination unit for determining, characterized in that the separation number of silicon suction plate of the determination unit each comprising a notification unit that performs a notification when it is determined to have reached the predetermined number of times.

本発明に係る廃液処理装置では、シリコン吸着板からシリコン屑を分離した回数を各々のシリコン吸着板ごとにカウントして記憶する分離回数記憶部と、分離回数記憶部に記憶された分離回数が所定の回数に達した否かを判断する判断部と、判断部が各々のシリコン吸着板の分離回数が所定の回数に達したと判断した場合に報知を行う報知部とを備えているため、分離回数が所定の回数に達したシリコン吸着板については劣化したものと判断して液槽から取り除くことが可能となり、シリコン屑を含む廃液を長期的に効率よくシリコン屑と浄水とに分離することができる。   In the waste liquid treatment apparatus according to the present invention, the number of times of separation of the silicon scrap from the silicon adsorption plate is counted and stored for each silicon adsorption plate, and the number of separations stored in the separation number storage unit is predetermined. A determination unit that determines whether or not the number of times has been reached, and a notification unit that performs notification when the determination unit determines that the number of separations of each silicon adsorption plate has reached a predetermined number. The silicon adsorbing plate that has reached the predetermined number of times can be judged as deteriorated and removed from the liquid tank, and waste liquid containing silicon waste can be efficiently separated into silicon waste and purified water in the long term. it can.

廃液処理装置の一例の内部構造を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the internal structure of an example of a waste liquid processing apparatus. 一部を破断した状態の液槽並びにシリコン吸着板及び陰極板の一例を示す分解斜視図である。It is a disassembled perspective view which shows an example of the liquid tank of the state which fractured | ruptured partially, a silicon | silicone adsorption board, and a cathode plate. 液槽に収容したシリコン吸着板と陰極板との間に電を形成した状態を示す断面図である。It is a sectional view showing a state of forming a electric field between the silicon suction plate and the cathode plate accommodated in the liquid tank. 廃液処理装置における処理の内容を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the content of the process in a waste liquid processing apparatus.

図1に示す廃液処理装置1は、廃液からシリコン屑とシリコン屑を含まない浄水とに分離する分離処理手段2と、分離処理手段2によって分離されたシリコン屑を回収する回収手段3とを備えている。   A waste liquid treatment apparatus 1 shown in FIG. 1 includes a separation processing unit 2 that separates silicon waste and purified water that does not contain silicon waste, and a recovery unit 3 that collects silicon waste separated by the separation processing unit 2. ing.

分離処理手段2は、合成樹脂等の絶縁部材によって形成され処理対象の廃液を溜める液槽20を備えている。液槽20の前方には、シリコン屑が含まれる廃液を収容する廃液収容タンク40が設けられており、図示しないポンプによって、廃液収容タンク40から液槽20に廃液が導入される。図2に示すように、液槽20は、上部が開口した容器であり、長手方向の側板200の内周面には、鉛直方向に長い溝200aが形成されている。   The separation processing means 2 includes a liquid tank 20 that is formed of an insulating member such as a synthetic resin and stores a waste liquid to be processed. In front of the liquid tank 20, a waste liquid storage tank 40 for storing waste liquid containing silicon waste is provided, and the waste liquid is introduced from the waste liquid storage tank 40 into the liquid tank 20 by a pump (not shown). As shown in FIG. 2, the liquid tank 20 is a container having an open top, and a groove 200 a that is long in the vertical direction is formed on the inner peripheral surface of the side plate 200 in the longitudinal direction.

溝200aには、シリコン吸着板21と、陰極版22とが交互に挿入されている。シリコン吸着板21及び陰極板22は、それぞれが等間隔に複数配置されている。   Silicon adsorbing plates 21 and cathode plates 22 are alternately inserted into the grooves 200a. A plurality of silicon adsorption plates 21 and cathode plates 22 are arranged at equal intervals.

シリコン吸着板21は、銅、ステンレス等の導電性部材により構成され、液槽20の中に等間隔に複数配設されている。シリコン吸着板21の上部には、幅方向に間隔をあけて一対の被係合片210が上方に突出した状態で形成されている。被係合片210には、シリコン吸着板21の幅方向に貫通する係合孔211が形成されている。   The silicon adsorption plate 21 is made of a conductive member such as copper or stainless steel, and a plurality of silicon adsorption plates 21 are arranged at equal intervals in the liquid tank 20. A pair of engaged pieces 210 are formed on the upper portion of the silicon adsorption plate 21 so as to protrude upward with a gap in the width direction. An engagement hole 211 that penetrates in the width direction of the silicon suction plate 21 is formed in the engaged piece 210.

陰極板22は、シリコン吸着板21に対向するとともに、シリコン吸着板21と離間して複数配設されている。陰極板22の上部には、液槽20の上澄み液体を液槽20外へ搬出する搬出部220を備えている。搬出部220は、陰極板22の幅方向にのびる円筒形状の吸引パイプ221を備えている。吸引パイプ221の側面には、長手方向に沿って複数の吸引口222が設けられている。また、一方の端部には、送出口223が形成されている。吸引パイプ220は、吸引口221から液槽20中の上澄み液体を吸い込み、送出口223から液槽20外へ搬出することができる。   A plurality of cathode plates 22 are arranged opposite to the silicon adsorption plate 21 and spaced from the silicon adsorption plate 21. On the upper part of the cathode plate 22, a carry-out part 220 for carrying the supernatant liquid of the liquid tank 20 out of the liquid tank 20 is provided. The carry-out unit 220 includes a cylindrical suction pipe 221 extending in the width direction of the cathode plate 22. A plurality of suction ports 222 are provided in the side surface of the suction pipe 221 along the longitudinal direction. Further, a delivery port 223 is formed at one end. The suction pipe 220 can suck the supernatant liquid in the liquid tank 20 from the suction port 221 and carry it out of the liquid tank 20 from the delivery port 223.

図3に示すように、液槽20に挿入されたシリコン吸着板21は、直流電源からなる電形成部5の陽極50に接続されてプラスに帯電して陽極となり、陰極板22は、直流電源5の陰極51に接続されてマイナスに帯電して陰極となるため、シリコン吸着板21と陰極板22との間には電が形成される。廃液中のシリコン屑はマイナスに帯電しているため、マイナスに帯電した陰極板22からは反発し、プラスに帯電したシリコン吸着板22に吸着される。また、陰極板22に備えた送出口223は、送給ポンプ25に連通している。 As shown in FIG. 3, the silicon adsorption plate 21 inserted into the liquid tank 20 becomes the anode and positively charged is connected to the anode 50 of the composed electric field forming unit 5 from the DC power source, the cathode plate 22, DC since the cathode charged negatively is connected to the cathode 51 of the power source 5, the electric field is formed between the silicon adsorption plate 21 and the cathode plate 22. Since the silicon waste in the waste liquid is negatively charged, it repels from the negatively charged cathode plate 22 and is adsorbed by the positively charged silicon adsorption plate 22. Further, the delivery port 223 provided in the cathode plate 22 communicates with the feed pump 25.

図1に示すように、回収手段3は、分離処理手段2の側方に配設されシリコン吸着板21からシリコン屑を分離させる分離部30と、シリコン吸着板21を分離処理手段2の液槽20から分離部30まで移動させる吸着板移動部31と、シリコン吸着板21と電気的に接続されシリコン吸着板21を管理する管理手段32とを備えている。   As shown in FIG. 1, the recovery means 3 includes a separation unit 30 that is disposed on the side of the separation processing means 2 and separates silicon scraps from the silicon adsorption plate 21, and a liquid tank of the separation treatment means 2. An adsorption plate moving unit 31 that moves from 20 to the separation unit 30 and a management unit 32 that is electrically connected to the silicon adsorption plate 21 and manages the silicon adsorption plate 21 are provided.

分離部30は、シリコン吸着板21を通すことができるスリット300が上面に設けられ下部が開口した箱型の分離容器301と、分離容器301の内部に設けられた図示しない一対のスクレーパと、スクレーパを回転させる図示しない回転機構とを備えている。スリット300には、シリコン吸着板21を通して異物が侵入するのを防止するシャッター300aが設けられている。スクレーパは、ゴムなどの弾性を有する合成樹脂によって形成され、分離容器301内に収容されたシリコン吸着板21を互いの間に位置づける。スクレーパは、帯板状に形成され、長手方向が液槽20の幅方向と平行になるように設けられる。スクレーパは、回転機構によって駆動されて回転することによって、分離容器301内に収容されたシリコン吸着板21の表面に対して下端部が接したり離れたりする。回転機構は、スクレーパの中央部を液槽20の幅方向と平行な軸心周りに回転させる。   The separation unit 30 includes a box-shaped separation container 301 having a slit 300 through which the silicon adsorption plate 21 can be passed on the upper surface and an opening at the bottom, a pair of scrapers (not shown) disposed inside the separation container 301, and a scraper And a rotation mechanism (not shown) for rotating the. The slit 300 is provided with a shutter 300 a that prevents foreign matter from entering through the silicon adsorption plate 21. The scraper is made of a synthetic resin having elasticity such as rubber, and positions the silicon adsorption plates 21 accommodated in the separation container 301 between them. The scraper is formed in a strip shape, and is provided so that the longitudinal direction is parallel to the width direction of the liquid tank 20. The scraper is driven and rotated by a rotation mechanism, so that the lower end of the scraper comes into contact with or separates from the surface of the silicon adsorption plate 21 accommodated in the separation container 301. The rotation mechanism rotates the central portion of the scraper around an axis parallel to the width direction of the liquid tank 20.

分離部30の下方には、回収手段3により回収されたシリコン屑を収容するシリコン屑タンク60が配設されている。シリコン屑タンク60は、上部が開口した容器であり、分離部30の下部に連結され、分離部30において分離されたシリコン屑を貯蔵する。   A silicon waste tank 60 that stores the silicon waste recovered by the recovery means 3 is disposed below the separation unit 30. The silicon waste tank 60 is a container having an open top, is connected to the lower part of the separation unit 30, and stores silicon waste separated in the separation unit 30.

また、分離部30は、シリコン屑タンク60に貯蔵されたシリコン屑から発生する水素ガスを外部に排出する水素ガス排出手段302を備えている。水素ガス排出手段302は、分離容器301の壁を貫通することにより、分離容器301の内外を連通し、分離容器301の内部を大気に開放している。   Further, the separation unit 30 includes hydrogen gas discharge means 302 that discharges hydrogen gas generated from the silicon scrap stored in the silicon scrap tank 60 to the outside. The hydrogen gas discharge means 302 passes through the wall of the separation container 301 to communicate the inside and outside of the separation container 301 and open the inside of the separation container 301 to the atmosphere.

シリコン屑タンク60の下方には、重量計61が配設されている。重量計61は、周知のロードセルなどを備えて構成され、シリコン屑タンク60の重量を測定し、測定結果を管理手段32に出力する。   Below the silicon waste tank 60, a weight meter 61 is disposed. The weigh scale 61 includes a known load cell and the like, measures the weight of the silicon waste tank 60, and outputs the measurement result to the management means 32.

図1に示すように、吸着板移動部31は、液槽20の上方に配設されており、シリコン吸着板21を保持する保持部33と、保持部33を昇降させる昇降部34と、保持部33及び昇降部34を水平移動させる水平駆動部35とを備えている。   As shown in FIG. 1, the suction plate moving unit 31 is disposed above the liquid tank 20, and includes a holding unit 33 that holds the silicon suction plate 21, a lifting unit 34 that moves the holding unit 33 up and down, and a holding unit. A horizontal drive unit 35 that horizontally moves the unit 33 and the lifting unit 34.

保持部33は、内部にナットを有する基台330と、基台330の下部に取り付けられた一対のチャックシリンダ331とを備えている、チャックシリンダ331は、液槽20の幅方向に間隔をあけて配設されている。チャックシリンダ331は、基台330に固定されたシリンダ本体332と、シリンダ本体332から出没自在なピン333とから構成されている。ピン333は、シリコン吸着板21に形成された被係合片210の係合孔211に挿入可能な円柱状に形成されている。   The holding unit 33 includes a base 330 having a nut therein and a pair of chuck cylinders 331 attached to the lower portion of the base 330. The chuck cylinder 331 is spaced in the width direction of the liquid tank 20. Arranged. The chuck cylinder 331 includes a cylinder main body 332 fixed to the base 330 and a pin 333 that can be moved out and in from the cylinder main body 332. The pin 333 is formed in a columnar shape that can be inserted into the engagement hole 211 of the engagement piece 210 formed in the silicon suction plate 21.

昇降部34は、鉛直方向にのびる鉛直ボールネジ340と、鉛直ボールネジ340と平行に配設されたガイドレール341と、図示しないモータを駆動源として鉛直ボールネジ340を回動させるベルト342とから構成されており、ベルト342が鉛直ボールネジ340を回動させることにより、保持部33の基台330がガイドレール341にガイドされて昇降する構成となっている。そして、基台330の昇降により、基台330に取り付けられたチャックシリンダ331も昇降するため、チャックシリンダ331のピン333に係合したシリコン吸着板21を昇降させることができる。   The elevating unit 34 includes a vertical ball screw 340 extending in the vertical direction, a guide rail 341 disposed in parallel with the vertical ball screw 340, and a belt 342 that rotates the vertical ball screw 340 using a motor (not shown) as a drive source. In addition, the base 330 of the holding unit 33 is guided by the guide rail 341 and moved up and down by the belt 342 rotating the vertical ball screw 340. Since the chuck 330 331 attached to the base 330 is also moved up and down as the base 330 is moved up and down, the silicon suction plate 21 engaged with the pin 333 of the chuck cylinder 331 can be moved up and down.

水平駆動部35は、液槽20の長手方向にのびる水平ボールネジ350と、水平ボールネジ350と平行にのびるガイドレール351と、ボールネジ350に螺合するナットを内部に有するとともに昇降部34を吊持する吊持部352と、水平ボールネジ350を回動させる図示しないモータとを備えており、モータの駆動により水平ボールネジ350が回動することにより吊持部352がガイドレール351にガイドされて水平方向に移動する構成となっている。水平ボールネジ350及びガイドレール351は、液槽20の上方から分離部30の上方にわたる長さを有しており、吊持部352の水平移動により、保持部33が保持したシリコン吸着板21を液槽20から分離部30に移動させることができる。   The horizontal drive unit 35 has a horizontal ball screw 350 extending in the longitudinal direction of the liquid tank 20, a guide rail 351 extending in parallel with the horizontal ball screw 350, and a nut screwed into the ball screw 350 inside, and suspends the lifting unit 34. A suspension portion 352 and a motor (not shown) that rotates the horizontal ball screw 350 are provided. The horizontal ball screw 350 is rotated by driving the motor, whereby the suspension portion 352 is guided by the guide rail 351 in the horizontal direction. It is configured to move. The horizontal ball screw 350 and the guide rail 351 have a length extending from the upper part of the liquid tank 20 to the upper part of the separating part 30, and the silicon adsorbing plate 21 held by the holding part 33 is liquidated by the horizontal movement of the suspension part 352. It can be moved from the tank 20 to the separation unit 30.

管理手段32は、CPU及びメモリを備えており、シリコン吸着板21に通電しシリコンを吸着している累積時間を各々のシリコン吸着板21ごとにカウントする吸着時間カウント部320と、累積時間が所定時間を経過したシリコン吸着板21を分離部30へ移動させシリコン吸着板21からシリコン屑を分離すべき旨の指令を吸着板移動部31及び分離部30に出す指令部321と、分離部30によりシリコン吸着板21からシリコン屑を分離した回数を各々のシリコン吸着板21ごとにカウントして記憶する分離回数記憶部322と、分離回数記憶部322に記憶された分離回数が所定の回数を経過したか否かを判断する判断部323と、分離回数が所定の回数を経過したと判断部323が判断した場合にその旨を報知する報知部324とを備えている。   The management unit 32 includes a CPU and a memory, and includes an adsorption time counting unit 320 that counts the accumulated time during which the silicon adsorption plate 21 is energized and adsorbs silicon for each silicon adsorption plate 21, and the accumulated time is predetermined. An instruction unit 321 for moving the silicon adsorbing plate 21 after the time to the separating unit 30 and issuing an instruction to separate the silicon scrap from the silicon adsorbing plate 21 to the adsorbing plate moving unit 31 and the separating unit 30, and the separating unit 30 A separation number storage unit 322 that counts and stores the number of times silicon dust is separated from the silicon adsorption plate 21 for each silicon adsorption plate 21, and a predetermined number of times the separation number stored in the separation number storage unit 322 has passed. A determination unit 323 for determining whether or not, and a notification unit 32 for notifying that when the determination unit 323 determines that the predetermined number of separations has passed. It is equipped with a door.

液槽20の前方には、液槽20から浄水を排出する排出部7が配設されている。排出部7は、液槽20の側面に配設された送給配管70と、送給配管70に連結された開閉バルブ71とを備えている。   A discharge unit 7 that discharges purified water from the liquid tank 20 is disposed in front of the liquid tank 20. The discharge unit 7 includes a supply pipe 70 disposed on the side surface of the liquid tank 20 and an open / close valve 71 connected to the supply pipe 70.

廃液収容タンク40の上方には、分離処理手段2において分離されたシリコン屑を含まない浄水を貯水する浄水貯水タンク41が配設されている。浄水貯水タンク41は、タンク本体410と、浄水中の気泡を消すための消泡傾斜板411と、複数の供給口412とを備えている。   Above the waste liquid storage tank 40, a purified water storage tank 41 for storing purified water separated by the separation processing means 2 and not containing silicon waste is disposed. The purified water storage tank 41 includes a tank main body 410, a defoaming inclined plate 411 for erasing bubbles in the purified water, and a plurality of supply ports 412.

消泡傾斜板411は、タンク本体410の長手方向に沿って上下方向に傾斜する平板状に形成され、タンク本体410を上下2つの空間に仕切っている。消泡傾斜板411の長辺側とタンク本体410の内壁との間には、浄水を通すための隙間が形成されている。   The defoaming inclined plate 411 is formed in a flat plate shape that is inclined in the vertical direction along the longitudinal direction of the tank body 410, and divides the tank body 410 into two upper and lower spaces. A gap for passing purified water is formed between the long side of the defoaming inclined plate 411 and the inner wall of the tank body 410.

供給口412は、排出部7から排出された浄水をタンク本体410に供給する。供給口412は、排出部7の送給配管70及び開閉バルブ71と同数設けられている。供給口412は、タンク本体410の上部を貫通している。   The supply port 412 supplies the purified water discharged from the discharge unit 7 to the tank body 410. The same number of supply ports 412 as the supply pipes 70 and the open / close valves 71 of the discharge unit 7 are provided. The supply port 412 passes through the upper part of the tank body 410.

以下では、以上のように構成される廃液処理装置1の動作について、図4のフローチャートを参照して説明する。   Below, operation | movement of the waste-liquid processing apparatus 1 comprised as mentioned above is demonstrated with reference to the flowchart of FIG.

廃液処理装置1においては、図3に示した電形成部5によって、シリコン吸着板21と陰極板22との間に電を形成する。一方、研磨装置、切削装置等において生じたシリコン屑入りの廃液は、処理装置1の廃液収容タンク40に収容される。 In the waste water treatment apparatus 1, the electric field forming unit 5 shown in FIG. 3, to form an electric field between the silicon adsorption plate 21 and the cathode plate 22. On the other hand, waste liquid containing silicon waste generated in a polishing apparatus, a cutting apparatus, or the like is stored in a waste liquid storage tank 40 of the processing apparatus 1.

開閉バルブ71を閉じた状態として、廃液収容タンク40内の廃液が液槽20に収容されると、液槽20内に廃液が溜まり、廃液内にシリコン吸着板21及び陰極板22が浸漬した状態となる。   When the open / close valve 71 is closed and the waste liquid in the waste liquid storage tank 40 is stored in the liquid tank 20, the waste liquid accumulates in the liquid tank 20, and the silicon adsorption plate 21 and the cathode plate 22 are immersed in the waste liquid. It becomes.

液槽20内に所定量の廃液が溜まると、すべての開閉バルブ71を開ける。すべての開閉バルブ71が開くまでに、マイナスの電荷を帯びたシリコン屑が、プラスに帯電したシリコン吸着板21に吸着される。一方、シリコン屑が除去された浄水は、図3に示した陰極板22の上部に配設された吸引口222からポンプ25によって吸引され、送出口223を通って図1に示した供給口412に至り、浄水貯水タンク41に導かれる(ステップS1)。   When a predetermined amount of waste liquid accumulates in the liquid tank 20, all the open / close valves 71 are opened. By the time that all the open / close valves 71 are opened, silicon scraps having a negative charge are adsorbed by the silicon adsorption plate 21 that is positively charged. On the other hand, the purified water from which the silicon waste has been removed is sucked by the pump 25 from the suction port 222 disposed at the upper part of the cathode plate 22 shown in FIG. 3 and passes through the delivery port 223 to the supply port 412 shown in FIG. To the purified water storage tank 41 (step S1).

管理手段32を構成する吸着時間カウント部320は、シリコン吸着板21ごとに、電形成部5の陽極50と通電しシリコンを吸着している累積時間をカウントする(ステップS2)。そして、当該累積時間が所定の時間を経過したシリコン吸着板21があると、指令部321は、そのシリコン吸着板21を分離部30へ移動させて当該シリコン吸着板21からシリコン屑を分離除去すべき旨の指令を吸着板移動部31及び分離部30に出力する(ステップS3、S4)。一方、累積吸着時間が所定時間を経過したシリコン吸着板がない場合は、廃液からのシリコン屑の分離処理を続行する(ステップS3、S1)。 Adsorption time counting unit 320 constituting the management unit 32, for each silicon suction plate 21, counts the cumulative time adsorbed silicon energized anode 50 of the electric field forming unit 5 (step S2). When there is a silicon adsorption plate 21 whose cumulative time has passed a predetermined time, the command unit 321 moves the silicon adsorption plate 21 to the separation unit 30 to separate and remove silicon debris from the silicon adsorption plate 21. A command to the effect is output to the suction plate moving unit 31 and the separating unit 30 (steps S3 and S4). On the other hand, when there is no silicon adsorption plate whose accumulated adsorption time has passed the predetermined time, the separation process of silicon waste from the waste liquid is continued (steps S3 and S1).

シリコン屑を分離除去すべき旨の指令が指令部321から出力されると、管理手段32による管理の下で、水平ボールネジ350を回動させることにより、シリコン屑を分離すべきシリコン吸着板21の直上に保持部33を移動させる。そして、その状態において、鉛直ボールネジ340を回動させることにより保持部33を降下させていき、チャックシリンダ331をシリコン吸着板21の被係合片210の水平方向延長上に位置づける。   When a command to separate and remove silicon waste is output from the command unit 321, the horizontal ball screw 350 is rotated under the management of the management unit 32, so that the silicon suction plate 21 from which silicon waste is to be separated is rotated. The holding part 33 is moved immediately above. In this state, the holding part 33 is lowered by rotating the vertical ball screw 340, and the chuck cylinder 331 is positioned on the horizontal extension of the engaged piece 210 of the silicon suction plate 21.

次に、チャックシリンダ331のピン333をシリンダ本体332から突出させることにより、被係合片210に形成された係合孔211にピン333を挿入して係合させる。そして、その状態のまま鉛直ボールネジ340を逆方向に回動させて保持手段33を上昇させることにより、シリコン吸着板21を液槽20の上方に引き上げる。   Next, the pin 333 of the chuck cylinder 331 is projected from the cylinder main body 332, whereby the pin 333 is inserted into the engagement hole 211 formed in the engaged piece 210 and engaged. Then, in this state, the vertical ball screw 340 is rotated in the reverse direction to raise the holding means 33, thereby pulling up the silicon adsorption plate 21 above the liquid tank 20.

こうしてシリコン吸着板21が液槽20の上方に引き上げられると、管理手段32による制御の下で、引き上げられたシリコン吸着板21の両隣の開閉バルブ71を閉じ、そこからの浄水貯水タンク41への送給を停止する。   When the silicon adsorbing plate 21 is pulled up above the liquid tank 20, the open / close valve 71 on both sides of the pulled silicon adsorbing plate 21 is closed under the control of the management means 32, and the purified water storage tank 41 from there is closed. Stop feeding.

次に、吸着板移動部31は、水平ボールネジ350を回動させることにより、シリコン吸着板21を保持した保持部33を分離部30の直上に移動させる。そして、鉛直ボールネジ340を回動させて保持部33を降下させていくことにより、シリコン吸着板21を、スリット300を通して分離容器301内に挿入する。このとき、分離部30に備えた図示しない一対のスクレーパは互いに間隔を空けて平行な状態となっている。   Next, the suction plate moving unit 31 moves the holding unit 33 holding the silicon suction plate 21 directly above the separation unit 30 by rotating the horizontal ball screw 350. Then, the silicon adsorbing plate 21 is inserted into the separation container 301 through the slit 300 by rotating the vertical ball screw 340 to lower the holding portion 33. At this time, a pair of scrapers (not shown) provided in the separation unit 30 are in a parallel state with a space therebetween.

シリコン吸着板21が降下した後、スクレーパの下端部をシリコン吸着板21に接触させ、その状態で、鉛直ボールネジ340を逆方向に回動させて保持部33及び保持されたシリコン吸着板21を上昇させていくと、シリコン吸着板21が上昇するにつれてスクレーパによってシリコン屑が掻き落とされて分離される(ステップS5)。分離されたシリコン屑は、シリコン屑タンク60に収容される。   After the silicon adsorbing plate 21 is lowered, the lower end portion of the scraper is brought into contact with the silicon adsorbing plate 21, and in this state, the vertical ball screw 340 is rotated in the reverse direction to raise the holding unit 33 and the held silicon adsorbing plate 21. As the silicon adsorbing plate 21 rises, silicon scraps are scraped off and separated by the scraper (step S5). The separated silicon waste is stored in the silicon waste tank 60.

こうしてシリコン屑が分離されたシリコン吸着板21が上昇し、分離部30の上方に引き上げられると、分離部30へのシリコン吸着板22の搬送時とは逆方向に水平ボールネジ350を回動させ、シリコン吸着板21を、液槽20の元の収容場所の上方まで移動させる。そして、鉛直ボールネジ340を回動させて、シリコン吸着板21を液槽20の元の場所に戻す。   When the silicon adsorbing plate 21 from which the silicon scrap is separated ascends and is pulled up above the separating unit 30, the horizontal ball screw 350 is rotated in the direction opposite to that when the silicon adsorbing plate 22 is conveyed to the separating unit 30, The silicon adsorption plate 21 is moved to above the original storage location of the liquid tank 20. Then, the vertical ball screw 340 is rotated to return the silicon adsorption plate 21 to the original location of the liquid tank 20.

管理手段32を構成する分離回数記憶部322は、シリコン吸着板21の分離回数を記憶する記憶領域をシリコン吸着板ごとに確保しており、ステップS5が完了すると、そのシリコン吸着板21の分離回数をカウントアップして分離回数記憶部322に記憶させる(ステップS6)。   The separation number storage unit 322 constituting the management means 32 secures a storage area for storing the number of separations of the silicon adsorption plate 21 for each silicon adsorption plate, and when step S5 is completed, the number of separations of the silicon adsorption plate 21 is completed. Is counted and stored in the separation number storage unit 322 (step S6).

管理手段32を構成する判断部323は、分離回数記憶部322に記憶された分離回数が所定の回数に達したか否かを判断し(ステップS7)、分離回数が所定の回数に達したと判断した場合は、報知部324からその旨をオペレータに報知する(ステップS8)。シリコン屑の分離回数が所定回数に達したシリコン吸着板21は、分離作業によって劣化したと考えられるため、そのシリコン吸着板21を液槽20から取り除き、新たに別のシリコン吸着板を液槽20に収容することで、シリコン屑を含む廃液を長期的に効率よくシリコン屑と浄水とに分離することができる。   The determination unit 323 constituting the management unit 32 determines whether or not the number of separations stored in the separation number storage unit 322 has reached a predetermined number (step S7), and the number of separations has reached a predetermined number. If it is determined, the notification unit 324 notifies the operator to that effect (step S8). The silicon adsorbing plate 21 in which the number of separations of the silicon waste has reached a predetermined number is considered to have deteriorated due to the separation operation. Therefore, the silicon adsorbing plate 21 is removed from the liquid tank 20 and another silicon adsorbing plate is newly added. The waste liquid containing silicon waste can be efficiently separated into silicon waste and purified water over a long period of time.

重量計61は、シリコン屑タンク60の重量を測定し、所定の重量に達すると、その旨を管理手段32に通知し、管理手段32は、報知手段324からその旨を報知することにより、シリコン屑タンク60からシリコン屑を取り出すことをオペレータに促す。   The weigh scale 61 measures the weight of the silicon waste tank 60, and when it reaches a predetermined weight, notifies the management means 32 of the fact, and the management means 32 notifies the fact from the notification means 324, so that the silicon The operator is urged to remove silicon waste from the waste tank 60.

以上のように、廃液処理装置1は、プラスに帯電したシリコン吸着板21がシリコン屑を吸着することにより、シリコン屑と浄水とに分離することができる。したがって、シリコン屑を含む廃液を効率よく再利用できる状態とすることができる。   As described above, the waste liquid treatment apparatus 1 can be separated into silicon waste and purified water by the positively charged silicon adsorption plate 21 adsorbing silicon waste. Therefore, the waste liquid containing silicon waste can be made into a state where it can be reused efficiently.

また、シリコン屑を吸着している累積時間が所定時間に達した場合にシリコン吸着板21からシリコン屑の除去を行うため、吸着能力が低下する前の適切なタイミングでシリコン屑を除去することができる。しかも、かかる管理を各々のシリコン吸着板21ごとに行うため、シリコン吸着板ごとに、常に吸着能力が維持される。   Further, when the accumulated time for adsorbing silicon debris reaches a predetermined time, the silicon debris is removed from the silicon adsorbing plate 21, so that the silicon debris can be removed at an appropriate timing before the adsorbing capacity is reduced. it can. In addition, since such management is performed for each silicon adsorption plate 21, the adsorption capability is always maintained for each silicon adsorption plate.

さらに、分離回数を各々のシリコン吸着板ごとにカウントし、分離回数が所定回数に達したシリコン吸着板21については、その旨を報知することにより、劣化したシリコン吸着板を新たなものに交換することが可能となるため、シリコン屑を含む廃液を長期的に効率よくシリコン屑と浄水とに分離することができる。   Further, the number of separations is counted for each silicon adsorption plate, and for the silicon adsorption plate 21 in which the number of separations reaches a predetermined number, by notifying that fact, the deteriorated silicon adsorption plate is replaced with a new one. Therefore, waste liquid containing silicon waste can be efficiently separated into silicon waste and purified water in the long term.

1:廃液処理装置
2:分離処理手段
20:液槽 200:側版 200a:溝
21:シリコン吸着板 210:被係合片 211:係合孔
22:陰極板 220:排出部 221:吸引パイプ 222:吸引口 223:送出口
25:ポンプ
3:回収手段
30:分離部 300:スリット 300a:シャッター 301:分離容器
302:水素ガス排出手段
31:吸着板移動部
32:管理手段
320:吸着時間カウント部 321:指令部 322:分離回数記憶部
323:判断部 324:報知部
33:保持部
330:基台 331:チャックシリンダ 332:シリンダ本体 333:ピン
34:昇降部 340:鉛直ボールネジ 341:ガイドレール 342:ベルト
35:水平移動部 350:水平ボールネジ 351:ガイドレール 352:吊持部
40:廃液収容タンク
41:浄水貯水タンク 410:タンク本体 411:消泡傾斜板 412:供給口
5:電形成部 50:陽極 51:陰極
60:シリコン屑タンク 61:重量計
7:排出部 70:送給配管 71:開閉バルブ
1: Waste liquid processing apparatus 2: Separation processing means 20: Liquid tank 200: Side plate 200a: Groove 21: Silicon adsorption plate 210: Engagement piece 211: Engagement hole 22: Cathode plate 220: Discharge unit 221: Suction pipe 222 : Suction port 223: delivery port 25: pump 3: recovery means 30: separation part 300: slit 300 a: shutter 301: separation container 302: hydrogen gas discharge means 31: adsorption plate moving part 32: management means 320: adsorption time counting part 321: Command unit 322: Separation count storage unit 323: Judgment unit 324: Notification unit 33: Holding unit 330: Base 331: Chuck cylinder 332: Cylinder body 333: Pin 34: Lifting unit 340: Vertical ball screw 341: Guide rail 342 : Belt 35: Horizontal moving part 350: Horizontal ball screw 351: Guide rail 352: Suspension part 40: Waste Holding tank 41: purified water storage tank 410: Tank body 411: antifoaming inclined plate 412: supply port 5: electric field forming unit 50: anode 51: cathode 60: silicon waste tank 61: gravimeter 7: discharge section 70: feed Piping 71: Open / close valve

Claims (1)

シリコン屑を含む廃液を、シリコン屑とシリコン屑を含まない浄水とに分離する廃液処理装置であって、
廃液からシリコン屑とシリコン屑を含まない浄水とに分離する分離処理手段と、該分離処理手段によって分離されたシリコン屑を回収する回収手段と、から構成され、
該分離処理手段は、該廃液を溜める液槽と、該液槽の中に等間隔に複数配設され該廃液中でマイナスに帯電したシリコン屑を吸着するためのプラスに帯電したシリコン吸着板と、該シリコン吸着板に対向して該シリコン吸着板と離間して交互に複数配設されマイナスに帯電した陰極板と、該陰極板の上部に配設され上澄み液体を該液槽外へ搬出する搬出部と、該シリコン吸着板を陽極とし該陰極板を陰極とし、該シリコン吸着板と該陰極板との間に電界を形成する電界形成部とを備え、
該回収手段は、該シリコン吸着板からシリコン屑を分離させる分離部と、該シリコン吸着板を該分離処理手段の該液槽中から該分離部まで移動させる吸着板移動部と、該シリコン吸着板を管理する管理手段とを備え、
該管理手段は、該シリコン吸着板に通電しシリコンを吸着している累積時間を各々のシリコン吸着板ごとにカウントする吸着時間カウント部と、該累積時間が所定時間を経過したシリコン吸着板を分離部へ移動させ該シリコン吸着板からシリコン屑を分離すべき旨の指令を出す指令部と、該分離部により該シリコン吸着板からシリコン屑を分離した回数を各々のシリコン吸着板ごとにカウントして記憶する分離回数記憶部と、該分離回数記憶部に記憶された分離回数がシリコン屑の分離により該シリコン吸着板が劣化したと考えられる所定の回数に達した否かを判断する判断部とを備えており、
該判断部が各々のシリコン吸着板の分離回数が所定の回数に達したと判断した場合に報知を行う報知部を備えることを特徴とする廃液処理装置。
A waste liquid treatment apparatus for separating waste liquid containing silicon waste into purified water not containing silicon waste and silicon waste,
The separation processing means for separating the silicon waste from the waste liquid and the purified water containing no silicon waste, and the recovery means for recovering the silicon waste separated by the separation processing means,
The separation processing means includes: a liquid tank for storing the waste liquid; a plurality of positively charged silicon adsorption plates that are disposed in the liquid tank at equal intervals and adsorb negatively charged silicon debris in the waste liquid; A plurality of negatively charged cathode plates arranged alternately and spaced apart from the silicon adsorbing plate, opposite to the silicon adsorbing plate, and a supernatant liquid disposed above the cathode plate to carry out the liquid tank. An unloading section, and an electric field forming section for forming an electric field between the silicon adsorption plate and the cathode plate, with the silicon adsorption plate as an anode and the cathode plate as a cathode,
The recovery unit includes a separation unit that separates silicon waste from the silicon adsorption plate, an adsorption plate moving unit that moves the silicon adsorption plate from the liquid tank of the separation processing unit to the separation unit, and the silicon adsorption plate Management means for managing
The management means separates an adsorption time count unit for energizing the silicon adsorbing plate and adsorbing silicon for each silicon adsorbing plate, and a silicon adsorbing plate after the predetermined time has elapsed. And a command unit that issues a command to separate the silicon scrap from the silicon adsorption plate, and counts the number of times the silicon scrap is separated from the silicon adsorption plate by the separation unit for each silicon adsorption plate. A separation number storage unit for storing, and a determination unit for determining whether or not the number of separations stored in the separation number storage unit has reached a predetermined number of times that the silicon adsorption plate is considered to have deteriorated due to separation of silicon debris. Has
A waste liquid processing apparatus comprising: a notification unit that performs notification when the determination unit determines that the number of separations of each silicon adsorption plate has reached a predetermined number.
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