JP2011177810A - Coolant purifying device - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、研削盤等の工作機械に用いられるクーラントに混入した混入物を除去するクーラント浄化装置に関する。 The present invention relates to a coolant purification device that removes contaminants mixed in coolant used in a machine tool such as a grinding machine.
工作機械等(以下、加工母機という)に用いられるクーラントに混入したワークの切りくず(以下、スラッジという)や砥粒等の混入物を取り除き、クーラントの浄化を行うクーラント浄化装置が既に知られている。 There is already known a coolant purifying apparatus that removes contaminants such as chips (hereinafter referred to as sludge) and abrasive grains mixed in coolant used in machine tools (hereinafter referred to as processing base machines) and purifies the coolant. Yes.
このようなクーラント浄化装置としては、例えば、特許文献1に示すものがある。特許文献1に示すクーラント浄化装置では、加工母機から流入されるクーラントを磁性分離装置、渦流槽、クリーン槽の順に通過させ、クーラントに混入した混入物を分離・除去するようにしている。磁性分離装置は、クーラントが通過する流路に円筒状の磁石を配設したものであり、渦流槽は、タンク内に渦流を発生させ、磁性分離装置で除去しきれなかったスラッジ、砥粒等を中央部底面近傍に集積するようにしたものであり、クリーン槽は、渦流槽において混入物を除去されたクーラントが流入されるタンクである。クリーン槽のクーラントは、ポンプで再び加工母機に送り出されるようになっている。
As such a coolant purifying apparatus, there exists a thing shown in
従って、加工母機から流入されるクーラントは、磁性分離装置を通過する際に円筒状の磁石によりクーラントに混入したスラッジの大半を除去され、渦流槽へ流出する。渦流槽では、液中に混入した気泡と共に浮上した微細スラッジ(等)が液面近傍で浮遊する一方、磁性分離装置で除去しきれなかった微細スラッジや砥粒等が中央部底面近傍に集積される。そして、渦流槽とクリーン槽との間には、クーラントの液面に浮遊する微細スラッジ(等)のクリーン槽への流入を防止する仕切り板が設けられており、これらの構成により、浮遊物やスラッジ等が除去されたクーラントがクリーン槽に流入し、このクーラントが再び加工母機に送り出されるように構成されている。 Therefore, most of the sludge mixed in the coolant is removed by the cylindrical magnet when passing through the magnetic separator, and flows out to the vortex tank. In the vortex tank, fine sludge (etc.) that floats with bubbles mixed in the liquid floats near the liquid surface, while fine sludge, abrasive grains, etc. that could not be removed by the magnetic separator are collected near the bottom of the center. The A partition plate is provided between the vortex tank and the clean tank to prevent fine sludge (and the like) floating on the coolant level from flowing into the clean tank. The coolant from which the sludge and the like are removed flows into the clean tank, and this coolant is again sent out to the processing mother machine.
更に、特許文献1に示すクーラント浄化装置には、砥粒沈降槽が設けられており、渦流層の中央部底面近傍に集積したスラッジ、砥粒等と共にクーラントを吸引し、吸引したクーラント中の砥粒を砥粒沈降槽において沈降させるようにしている。砥粒を沈降させたクーラントは、再び、磁性分離装置へ送られ、クーラントを循環させることで、クーラントをより浄化するようにしている。
Furthermore, the coolant purifying apparatus shown in
上述したクーラント浄化装置においては、渦流槽に隣接して、仕切り板を介して、クリーン槽が設けられているため(特許文献1の図1等参照)、大きな設置面積が必要となる問題があった。 In the coolant purifying apparatus described above, a clean tank is provided via a partition plate adjacent to the vortex tank (see FIG. 1 of Patent Document 1), and thus there is a problem that a large installation area is required. It was.
又、クーラントを循環しているとは言え、渦流槽の下流側に砥粒沈降槽が設けられているため、渦流槽内にある微細スラッジや砥粒等が、渦流槽に隣接するクリーン槽に流入するおそれがあった。特に、装置を停止した場合には、渦流槽とクリーン槽の液面は同じであるため、微細スラッジや砥粒等がクリーン槽へも流入し、クリーン槽自体を汚染することになり、クーラントの浄化効率の向上を図る上では、問題となっていた。 Although the coolant is circulated, an abrasive settling tank is provided on the downstream side of the vortex tank, so that fine sludge, abrasive grains, etc. in the vortex tank are transferred to the clean tank adjacent to the vortex tank. There was a risk of inflow. In particular, when the equipment is stopped, the liquid level of the vortex tank and the clean tank are the same, so fine sludge, abrasive grains, etc. also flow into the clean tank and contaminate the clean tank itself. It was a problem in improving the purification efficiency.
加えて、渦流槽のメンテナンスを行う際には、渦流層の中央部底面近傍に集積している微細スラッジや砥粒等が対象となるが、渦流槽の上流側にある磁性分離装置では、磁性材料の混入物しか除去できないので、渦流槽のメンテナンス頻度が高くなるという問題もあった。 In addition, when performing maintenance of the vortex tank, fine sludge and abrasive grains accumulated near the bottom of the central part of the vortex layer are targeted. Since only the contamination of the material can be removed, there is also a problem that the maintenance frequency of the vortex tank increases.
本発明は上記課題に鑑みなされたもので、メンテナンス性、浄化効率を向上させると共に設置面積を小さくしたクーラント浄化装置を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to provide a coolant purifying apparatus that improves maintainability and purifying efficiency and has a reduced installation area.
上記課題を解決する第1の発明に係るクーラント浄化装置は、
加工母機で使用したクーラントに混入した混入物から磁性材料を除去する磁性分離手段と、
前記磁性分離手段を通過し、貯留されたクーラントに渦流を形成する渦流形成手段を中央部に有し、前記混入物を中央部に集積する渦流槽と、
浄化されたクーラントを再度前記加工母機へ送り出すため、前記渦流槽の渦流の外周側のクーラントを貯留するクリーン槽とを有するクーラント浄化装置において、
前記渦流槽の上部に前記クリーン槽を独立して設け、前記渦流槽の渦流の外周側に前記渦流槽のクーラントを汲み上げて、前記クリーン槽に流入させる汲上用ポンプを設けたことを特徴とする。
A coolant purifying apparatus according to the first invention for solving the above-mentioned problems is as follows.
Magnetic separation means for removing magnetic material from contaminants mixed in the coolant used in the processing mother machine;
A vortex tank that passes through the magnetic separation means and has a vortex forming means for forming a vortex in the stored coolant in the central part, and accumulates the contaminants in the central part;
In order to send the purified coolant to the processing mother machine again, in the coolant purification device having a clean tank for storing the coolant on the outer peripheral side of the vortex of the vortex tank,
The clean tank is provided independently on the upper part of the vortex tank, and a pump for pumping is provided on the outer peripheral side of the vortex of the vortex tank so that the coolant of the vortex tank is pumped up and flows into the clean tank. .
上記課題を解決する第2の発明に係るクーラント浄化装置は、
上記第1の発明に記載のクーラント浄化装置において、
前記渦流形成手段は、前記渦流槽のクーラントを汲み上げて、前記渦流槽に戻す他の汲上用ポンプを有するものであり、
更に、前記加工母機と前記磁性分離手段との間に前記混入物を沈殿させる第1の沈殿槽を設けると共に、前記他の汲上用ポンプで汲み上げたクーラントの一部を前記第1の沈殿槽へ分配する配管とを設けたことを特徴とする。
A coolant purifying apparatus according to a second invention for solving the above-mentioned problems is as follows.
In the coolant purification apparatus according to the first invention,
The vortex forming means has another pump for pumping up the coolant of the vortex tank and returning it to the vortex tank;
Furthermore, a first settling tank is provided between the processing mother machine and the magnetic separation means to precipitate the contaminants, and a part of the coolant pumped up by the other pump for pumping is supplied to the first settling tank. A distribution pipe is provided.
上記課題を解決する第3の発明に係るクーラント浄化装置は、
上記第1又は第2の発明に記載のクーラント浄化装置において、
前記クリーン槽の上面の高さを、前記渦流形成手段で用いるポンプ又は前記汲上用ポンプの最上部の高さより低くしたことを特徴とする。
A coolant purifying apparatus according to a third aspect of the present invention for solving the above problem is as follows.
In the coolant purifying apparatus according to the first or second invention,
The height of the upper surface of the clean tank is lower than the height of the uppermost part of the pump used in the vortex forming means or the pump for pumping.
上記課題を解決する第4の発明に係るクーラント浄化装置は、
上記第1〜第3のいずれか1つの発明に記載のクーラント浄化装置において、
前記クリーン槽に、ドレイン部を設けると共に、該ドレイン部の底部に、下部の前記渦流槽と連通する開口部を設けたことを特徴とする。
A coolant purifying apparatus according to a fourth invention for solving the above-mentioned problems is as follows.
In the coolant purifying apparatus according to any one of the first to third inventions,
The clean tank is provided with a drain portion, and an opening communicating with the lower vortex tank is provided at the bottom of the drain portion.
上記課題を解決する第5の発明に係るクーラント浄化装置は、
上記第1〜第4のいずれか1つの発明に記載のクーラント浄化装置において、
前記渦流槽の形状を矩形状とすると共に、前記渦流槽の1つの側壁から渦流の方向に沿って延設された湾曲板を設け、前記湾曲板と前記渦流槽の側壁との間に前記汲上用ポンプを配置したことを特徴とする。
A coolant purifying apparatus according to a fifth invention for solving the above-described problems is
In the coolant purifying apparatus according to any one of the first to fourth inventions,
The vortex tank has a rectangular shape, a curved plate extending from one side wall of the vortex tank along the direction of the vortex flow is provided, and the pumping is performed between the curved plate and the side wall of the vortex tank. It is characterized by arranging a pump.
第1、第3の発明によれば、クリーン槽を渦流槽の上部に独立して設けたので、又、クリーン槽の高さを、渦流槽に設けたポンプの高さより低くしたので、クーラント浄化装置の設置面積を低減して、省スペース化を図ることができる。又、クリーン槽と渦流槽の設置高さが異なるので、装置停止時に、渦流槽のクーラントがクリーン槽に流入することはなく、渦流槽中の混入物がクリーン槽に流入することを防止することができる。その結果、クリーン槽の清掃頻度を低減して、メンテナンス性の向上を図ることができる。 According to the first and third inventions, the clean tank is provided independently on the upper part of the vortex tank, and the height of the clean tank is lower than the height of the pump provided in the vortex tank. It is possible to reduce the installation area of the apparatus and save space. Also, since the installation height of the clean tank and the vortex tank are different, the coolant of the vortex tank does not flow into the clean tank when the equipment is stopped, and the contaminants in the vortex tank are prevented from flowing into the clean tank. Can do. As a result, the cleaning frequency of the clean tank can be reduced, and maintenance can be improved.
第2の発明によれば、渦流槽から汲み上げたクーラントの一部を第1の沈殿槽へ分配する(戻す)ので、クーラントを系全体で循環させて、浄化効率を向上させることができる。 According to the second invention, since a part of the coolant pumped from the vortex tank is distributed (returned) to the first sedimentation tank, the coolant can be circulated throughout the system to improve the purification efficiency.
第4の発明によれば、クリーン槽のドレイン部から渦流槽へ、オーバーフローしたクーラントを戻すので、きれいなクーラントを循環させることにより、その浄化効率を向上させることができる。 According to the fourth aspect of the invention, since the overflowed coolant is returned from the drain portion of the clean tank to the vortex tank, the purification efficiency can be improved by circulating the clean coolant.
第5の発明によれば、矩形状の渦流槽の1つの側壁から渦流の方向に沿って湾曲板を延設し、湾曲板と渦流槽の側壁との間に汲上用ポンプを配置したので、渦流槽の中できれいなクーラントが流入する領域において、汲上用ポンプでクーラントを汲み上げ、クリーン槽へ送出するので、より浄化されたクーラントをクリーン槽へ送出することになり、浄化効率の向上を図ることができる。 According to the fifth aspect of the present invention, the curved plate is extended along the direction of the vortex from one side wall of the rectangular vortex tank, and the pump for pumping is disposed between the curved plate and the side wall of the vortex tank. In the area where clean coolant flows in the vortex tank, the pump pumps up the coolant and sends it to the clean tank, so that the purified coolant is sent to the clean tank, and the purification efficiency is improved. Can do.
以下、図1〜図4を参照して、本発明に係るクーラント浄化装置の実施形態例を説明する。 Hereinafter, with reference to FIGS. 1-4, the example of embodiment of the coolant purification apparatus which concerns on this invention is demonstrated.
(実施例1)
図1は、本実施例のクーラント浄化装置を説明する系統図であり、図2(a)は、本実施例のクーラント浄化装置の構成を示す上面図であり、図2(b)は、その側面図である。又、図3(a)は、図1、図2に示したクーラント浄化装置の第1の沈殿槽を示す側面図であり、図3(b)は、図3(a)のB−B線矢視断面図である。又、図4は、図1、図2に示したクーラント浄化装置の第2の沈殿槽を示すものであり、図2(a)のA−A線矢視断面図である。なお、図中の矢印はクーラントの移動方向を示している。又、図中の“P”、“M”は、ポンプ、モータを各々表している。
Example 1
FIG. 1 is a system diagram for explaining the coolant purification apparatus of the present embodiment, FIG. 2 (a) is a top view showing the configuration of the coolant purification apparatus of the present embodiment, and FIG. It is a side view. 3A is a side view showing the first settling tank of the coolant purifying apparatus shown in FIGS. 1 and 2, and FIG. 3B is a BB line in FIG. 3A. It is arrow sectional drawing. FIG. 4 shows a second settling tank of the coolant purifying apparatus shown in FIGS. 1 and 2, and is a cross-sectional view taken along the line AA in FIG. 2 (a). In addition, the arrow in a figure has shown the moving direction of coolant. Further, “P” and “M” in the figure represent pumps and motors, respectively.
本実施例のクーラント浄化装置1は、工作機械等の加工母機2の切削加工等に使用されたクーラントに混入したワークのスラッジや砥粒等の混入物を取り除き、クーラントの浄化を行うものである。
The
クーラント浄化装置1は、主に、磁性分離装置20(磁性分離手段)と、矩形状の渦流槽40と、クリーン槽50とから構成されている。
The
本実施例において、加工母機2と磁性分離装置20との間には第1の沈殿槽10が設けられており、加工母機2から流出されたクーラントは、第1の沈殿槽10を経由し、配管15を通って、磁性分離装置20へ流入される。
In the present embodiment, a
第1の沈殿槽10は、図3(a)、(b)に示すように、加工母機2から流出されたクーラントを受けて流通させる樋部14と、クーラントに混入されたスラッジ、砥粒等を沈殿するための沈殿部11とを有している。沈殿部11の底部は、樋部14の底部より低い位置に配置されており、沈殿部11と樋部14には段差が設けられている。そして、沈殿部11の下流側であり、沈殿部11の底部より高い位置に配管15が設けられており、沈殿されたスラッジ、砥粒等を除いたクーラントが磁性分離装置20へ流入するようになっている。
As shown in FIGS. 3 (a) and 3 (b), the
又、沈殿部11において、クーラントが流れる方向の側方となる側壁は、その下方から上方にかけて、中心側から外側に向かうような傾斜を有する傾斜部12となっている。なお、沈殿部11の側壁のうち、少なくとも片側の側壁に傾斜部12を設ければよく、又、側壁の一部又は全部を傾斜させてもよい。そして、メンテナンスを行う際には、第1の沈殿槽10の上部の蓋13に設けた掻き出し口(図示省略)から、掻き出し棒等を用いて、沈殿部11の底部に沈殿したスラッジ、砥粒等を、傾斜部12の傾斜を利用して、外部に掻き出すようにしている。第1の沈殿槽10の近傍には、後述するスラッジ箱22と同様のスラッジ箱(図示省略)が設置されており、掻き出したスラッジ等を収納するようにしている。
Moreover, in the
磁性分離装置20は、加工母機2から流入されたクーラント中に混入した混入物から磁性材料(例えば、スラッジ等)を吸着処理するものである。具体的には、磁力によってスラッジを吸着する円筒状の磁石21が、磁性分離装置20の内部に回転可能に軸支されており、磁石21に吸着したスラッジをゴムローラ23によって脱水した後、磁性分離装置20の近傍に設置したスラッジ箱22に収納するようにしている。第1の沈殿槽10が無い場合、クーラントには多くの砥粒が含まれるため、この砥粒によりゴムローラ23が偏摩耗し、磁性分離装置20の性能、寿命に悪影響を与えていたが、本実施例では、第1の沈殿槽10で混入物を沈殿させ、クーラントに含まれる砥粒を低減させた後、磁性分離装置20でスラッジ等の吸着処理を行うので、磁性分離装置20の性能の低下を防止し、その寿命を向上させることができる。
The
磁性分離装置20により、スラッジ等が除去されたクーラントは、配管25を通って、磁性分離装置20から第2の沈殿槽30へ流入される。
The coolant from which the sludge and the like have been removed by the
第2の沈殿槽30は、側壁34を介して、渦流槽40に隣接して設けられており、側壁34の高さの中央の高さ位置には、クーラントを第2の沈殿槽30から渦流槽40へ流出させるための連通孔31が設けられている。この連通孔31は、上端が第2の沈殿槽30中のクーラントの液面の下限より低くなるように設定される一方、下端が第2の沈殿槽30に沈殿したスラッジ等が渦流槽40へ流出しない位置に設定されている。これは、クーラントより比重が重い混入物は、第2の沈殿槽30の底部に沈殿し、クーラントより比重が軽い混入物は、第2の沈殿槽30の上部に浮遊することになるからである。その結果、それらを除去するように、クーラントは第2の沈殿槽30から渦流槽40へ流入することになる。
The
又、配管25を通って第2の沈殿槽30へ流入してくるクーラントに残っている混入物が、できるだけ渦流槽40側へ流入しないように、連通孔31は、図4に示すように、配管25から離れた位置(後述する傾斜部32寄りの位置)に設けられている。
Further, as shown in FIG. 4, the
又、第2の沈殿槽30の内部には、下方から上方にかけて、中心側から外側に向かうような傾斜を有する傾斜部32が設けられており、ここでは、配管25から一番遠い側壁に設けられている。なお、傾斜部32は、側壁の一部に設けても良いし、全部に設けてもよい。メンテナンスを行う際には、第2の沈殿槽30上部の蓋33に設けた掻き出し口(図示省略)から、掻き出し棒等を用いて、第2の沈殿槽30の底部に沈殿したスラッジ、砥粒等を、傾斜部32の傾斜を利用して、外部に掻き出すようにしている。第2の沈殿槽30の近傍には、前述したスラッジ箱22と同様のスラッジ箱(図示省略)が設置されており、掻き出したスラッジ等を収納するようにしている。
In addition, an
渦流槽40は、その中央部に汲み上げ用ポンプ43を備えている。汲み上げ用ポンプ43には、配管44、45、46の三つの配管が接続されている。この汲み上げ用ポンプ43によって、渦流層40の中央部底面近傍からクーラントを汲み上げ、汲み上げたクーラントを配管44、45、46の三方向に分配することになる。配管44は前述の第1の沈殿槽10と接続しており、渦流槽40で汲み上げたクーラントを第1の沈殿槽10へ戻すことにより、クーラントを系全体で循環するようにしている。
The
一方、配管45、46は、渦流槽40の中央部から互いに相反する方向に延設された後、再び、渦流槽40自体と接続されており、各々の排出口が渦流槽40の底面側かつ側壁側に配置されている。そして、配管45、46の排出口は、汲み上げ用ポンプ43を中心として、同一の回転方向(ここでは上面から見て反時計回り)に向かってクーラントを吐出するように、それらの向きが各々設定されている。従って、配管45、46の排出口から渦流槽40に戻すクーラントを利用して、渦流槽40内のクーラントに渦流を形成している(渦流形成手段)。
On the other hand, the
又、矩形状の渦流槽40内部の4つの隅部には、この隅部を上面から見て円弧状に覆うように、湾曲板47、48が配設されている。湾曲板47、48は、配管45、46によって、渦流槽40内に渦流を発生させた際に、クーラントが渦流槽40内で円滑に流動するように設けたものである。但し、湾曲板48は、渦流槽40の側壁から離間するように配置されている。クーラント中の混入物は渦流により中央部に集積されるため、この湾曲板48の外側(渦流槽40の中央部から遠い方)は、混入物が除外されたきれいなクーラントが流入する領域となる。そして、この湾曲板48の外側に、汲み上げポンプ41(汲上用ポンプ)が設けられており、汲み上げポンプ41に汲み上げられたきれいなクーラントが、配管42を通って、クリーン槽50に流入されることになる。
In addition,
又、本実施例では、第2の沈殿槽30の連通孔31に向かってクーラントを吐出するように、配管46の排出口の向きを設定しており、湾曲板48、汲み上げポンプ41の配置位置は、渦流の流れに沿う方向においては、連通孔31から遠い位置になっている。このことも、湾曲板48の外側にきれいなクーラントが流入することに寄与している。
In this embodiment, the direction of the discharge port of the
渦流槽40のきれいなクーラントが流入されるクリーン槽50は、渦流槽40の上部に配置されている。渦流槽40の上部には、その中央部に汲み上げポンプ43が配置され、その隅部の1つに汲み上げポンプ41が配置されているので、中央部の汲み上げポンプ43を挟んで、隅部の汲み上げポンプ41とは反対側にクリーン槽50は設けられている。このクリーン槽50の上面の高さは、汲み上げポンプ41、43の最上部と同じ高さか、これらより低いものであり、そのため、渦流槽40の上部にクリーン槽50を配置しても、従来のクーラント浄化装置と高さは何ら変わらない。むしろ、従来、渦流槽とクリーン槽とを同じ高さ位置に並べて配置していたため、それらのために広い設置面積が必要だったが、本実施例では、渦流槽40の上部にクリーン槽50を配置しているので、クリーン槽50の設置面積が不要となり、その分、装置の設置面積を小さくすることができる。
The
又、クリーン槽50には、加工母機の砥石のドレッシング用のクーラントを吐出するために設けられたドレス用ポンプ53、加工母機のベッドにクーラントを吐出するために設けられたフラッシング用ポンプ55、加工母機による加工箇所へクーラントを吐出するために設けられた加工部用ポンプ57との三つのポンプと共に、液面計52を備えている。
The
又、クリーン槽50には、ドレイン部51も設けられており、その底面には渦流層40と連通して、クリーン槽50をオーバーフローしたクーラントを流出する開口部が設けられている。このドレイン部51を利用することにより、オーバーフローしたクーラントを循環するようにしている。
The
なお、液面計52は、クリーン槽50におけるクーラントの液面の位置を検出し、液面の位置が予め設定した下限に達した場合はこれを報知するように構成されている。又、クリーン槽50の外部には、クーラント浄化装置1の各種制御を行う制御装置が設置されているが、ここでは、図示を省略している。
The
第2沈殿槽30と渦流槽40とは同じ高さ位置に配置されているが、クリーン槽50は、それらの上面の高さ以上の位置に設けられている。第1の沈殿槽10、磁性分離装置20の配置位置は、クーラントが循環できれば、その高さ位置を限定する必要は無い。なお、図示を省略しているが、第1沈殿槽10、第2沈殿槽30だけでなく、渦流槽40、クリーン槽50も、各々、蓋によって上面がほぼ覆われるように構成されている。
Although the
又、本実施例のクーラント浄化装置1においては、清掃頻度(メンテナンス頻度)が高くなる第1の沈殿槽10、磁性分離装置20及び第2の沈殿槽30を、装置外周側に配置している。この第1の沈殿槽10及び第2の沈殿槽30を設けることにより、渦流槽40の上流側で積極的に混入物を除去するようにして、渦流槽40に流入する混入物を減少させているので、渦流槽40自体の清掃頻度(メンテナンス頻度)を低くすることができる。その結果、渦流槽40自体は、装置外周側に必ずしも配置する必要は無く、装置内側に配置することも可能となり、レイアウト上の自由度が高くなる。
Moreover, in the
クリーン槽50は、渦流槽40とは独立して、渦流槽40の上部に設け、2階建て構造としている。このことは、装置全体としての設置面積の省スペース化を図る目的もあるが、省スペースを図りながらも、渦流槽40の大きさ(浄化する必要があるクーラント量を収納する大きさ)を確保するのにも有利となる。渦流槽とクリーン槽を同じ高さ位置に設ける場合には、互いに大きさを制約してしまうことになるが、本実施例のように、2階建て構造とする場合には、渦流槽40は、クリーン槽50の大きさに制約されることはなく、大きな面積を確保することができる。渦流槽40が大きな面積を確保できれば、浄化可能なクーラント量を多くすることができ、又、渦流の中心と外周との距離も離れるので、外周側に流れるクーラント中の混入物もより少なくして、浄化効率の向上を図ることができる。
The
以上、本実施例のクーラント浄化装置1について、各部の構成、配置を説明してきたが、ここで、本実施例のクーラント浄化装置1における一連の動作について説明する。
As mentioned above, although the structure and arrangement | positioning of each part were demonstrated about the
本実施例のクーラント浄化装置1において、加工母機2から流出されるクーラントは、最初に、第1の沈殿槽10に流入する。この第1の沈殿槽10でクーラント中の混入物が沈殿されることになる。その後、沈殿により混入物が除去されたクーラントが、配管15を介して、磁性分離装置20に流入する。磁性分離装置20に流入したクーラントは、磁石21、ゴムローラ23によって大半のスラッジを吸着・分離され、配管25を介して、第2の沈殿槽30側へ流出される。
In the
磁性分離装置20から第2の沈殿槽30に流入するクーラントには、磁性分離装置20で除去しきれなかった微細なスラッジや砥粒等(以下、残留混入物という)が含まれており、このような残留混入物は第2の沈殿槽30内で沈殿させている。
The coolant flowing into the
第2の沈殿槽30において残留混入物の大部分を除去されたクーラントは、更に、側壁34に設けられた連通孔31を通って渦流槽40側へと流出される。
The coolant from which most of the residual contaminants have been removed in the
上述したように、側壁34に設けられた連通孔31は、その上端がクーラントの液面の下限より低い位置となるように設定されると共に、下端が第2の沈殿槽30に沈殿したスラッジ等が第2の沈殿槽30から渦流槽40へ流出しないような位置に設定されている。そのため、第2の沈殿槽30中でクーラントが泡立ち、この泡に残留混入物が含まれるような状況が生じた場合、残留混入物が連通孔31を通って渦流槽40に流出することは無く、又、第2の沈殿槽30の底面に沈殿した残留混入物が連通孔31を通って渦流槽40に流出することも無く、クーラントを渦流槽40へと流出させることができる。
As described above, the
そして、渦流槽40では、汲み上げ用ポンプ43によって汲み上げられたクーラントが配管45、配管46から渦流槽40の底面且つ側壁近傍で吐出されることにより、渦流が形成されている。渦流槽40に流入したクーラントには、第2の沈殿槽30で除去しきれなかった微細なスラッジや砥粒等の残留混入物が含まれているため、渦流槽40内で渦流が生じると、槽内の渦流によって、残留混入物は渦流槽40の中央部の底面近傍に集まり、常時、クーラントと共に汲み上げ用ポンプ43によって汲み上げられることとなる。
In the
汲み上げ用ポンプ43によって汲み上げられた残留混入物を含むクーラントは、上述したように、配管45、46から渦流槽40の底面且つ側壁近傍に吐出される一方、配管44から第1の沈殿槽10へと送り出される。これにより、加工母機2から送り出されたクーラントと共に、渦流槽40内のクーラントを、再度、第1の沈殿槽10、磁性分離装置20及び第2の沈殿槽30に通過させており、第1の沈殿槽10、磁性分離装置20、第2の沈殿槽30及び渦流槽40を循環させながら、繰り返し混入物の除去処理を行うようにしている。
As described above, the coolant containing residual contaminants pumped by the
渦流槽40では、槽内の渦流の中央部に残留混入物が集積される一方、渦流外周側の湾曲板48の外側にはきれいなクーラントが流入することになる。そして、この流入領域に汲み上げポンプ41を設け、きれいなクーラントを汲み上げて、クリーン槽50に送出するようにしている。
In the
クリーン槽50には、ドレイン部51が設けられており、クリーン槽50に貯留したクーラントは、ドレイン部51底部に設けた開口部を通って、再び、渦流槽40内に流入するようにしている。渦流槽40に戻ったクーラントは、上述したように、第1の沈殿槽10、磁性分離装置20、第2の沈殿槽30及び渦流槽40を循環されながら、繰り返し混入物の除去処理が行われるようにしている。これにより、クリーン槽50内のクーラントをより混入物の少ない状態とすることができる。
The
そして、クリーン槽50内に貯留したクーラントが、ドレス用ポンプ53、フラッシング用ポンプ55及び加工用ポンプ57に汲み上げられて、各々砥石のドレス用、ベッドフラッシング用及び加工部冷却用として加工母機2へ送り出されることになる。
Then, the coolant stored in the
以上説明してきたように、本実施例のクーラント浄化装置1によれば、磁性分離装置20の上流側に第1の沈殿槽10を設け、渦流槽40の上流側に第2の沈殿槽30を設けているので、渦流槽40に流入する混入物を減少させることができる。その結果、渦流槽40におけるクーラント内の混入物が少ないので、より浄化されたクーラントをクリーン槽50へ送出でき、浄化効率を向上させることができる。
As described above, according to the
又、クーラント内の大半の混入物は、磁性分離装置20で除去されるか、又は、第1の沈殿槽10及び第2の沈殿槽30の底面に沈殿するので、メンテナンス時には、クーラント浄化装置1の外周側に配置した第1の沈殿槽10及び第2の沈殿槽30の底面に沈殿した混入物を外部に掻き出すことで、容易に清掃を実施することができ、メンテナンス性を向上させることができる。加えて、渦流槽40に流入する混入物が少ないので、渦流槽40の中央部に集積される混入物も少なくなり、タンク全体を引き出して全てのクーラントを交換するような清掃を行う頻度を低減して、メンテナンス性を向上させることができる。
Further, most of the contaminants in the coolant are removed by the
又、渦流槽40では、クーラントに渦流を発生させることにより、第1の沈殿槽10、磁性分離装置20及び第2の沈殿槽30で除去しきれなかった残留混入物を中央部底面近傍に集める一方、渦流外周側の湾曲板48の外側にはきれいなクーラントが流入する流入領域を形成している。そして、クリーン槽50を渦流槽40から独立して設け、この流入領域からきれいなクーラントを汲み上げて、クリーン槽50へ送出するので、浄化効率を向上させることができる
Further, in the
又、加工母機2から送り出されたクーラントは、第1の沈殿槽10、磁性分離装置20、第2の沈殿槽30及び渦流槽40を循環させながら、混入物を除去する用にしているので、更に浄化効率を向上させることができる。
Further, the coolant sent out from the
このように、本実施例のクーラント浄化装置1によれば、メンテナンス性を向上させることができると共に、浄化効率を向上させ、加工母機から送り出されたクーラント中に混入したスラッジ等をより確実に除去することができる。又、装置の設置面積の省スペース化を図ることもでき、例えば、加工母機2の装置下部内に収納することも可能となる。
Thus, according to the
本発明は、クーラント浄化装置に好適なものである。 The present invention is suitable for a coolant purifying apparatus.
1 クーラント浄化装置
2 加工母機
10 第1の沈殿槽
11 沈殿部
12 傾斜部
20 磁性分離装置
30 第2の沈殿槽
31 連通孔
32 傾斜部
40 渦流槽
41、43 汲み上げ用ポンプ
42、44、45、46 配管
47、48 湾曲板
50 クリーン槽
51 ドレイン部
DESCRIPTION OF
Claims (5)
前記磁性分離手段を通過し、貯留されたクーラントに渦流を形成する渦流形成手段を中央部に有し、前記混入物を中央部に集積する渦流槽と、
浄化されたクーラントを再度前記加工母機へ送り出すため、前記渦流槽の渦流の外周側のクーラントを貯留するクリーン槽とを有するクーラント浄化装置において、
前記渦流槽の上部に前記クリーン槽を独立して設け、前記渦流槽の渦流の外周側に前記渦流槽のクーラントを汲み上げて、前記クリーン槽に流入させる汲上用ポンプを設けたことを特徴とするクーラント浄化装置。 Magnetic separation means for removing magnetic material from contaminants mixed in the coolant used in the processing mother machine;
A vortex tank that passes through the magnetic separation means and has a vortex forming means for forming a vortex in the stored coolant in the central part, and accumulates the contaminants in the central part;
In order to send the purified coolant to the processing mother machine again, in the coolant purification device having a clean tank for storing the coolant on the outer peripheral side of the vortex of the vortex tank,
The clean tank is provided independently on the upper part of the vortex tank, and a pump for pumping is provided on the outer peripheral side of the vortex of the vortex tank so that the coolant of the vortex tank is pumped up and flows into the clean tank. Coolant purification device.
前記渦流形成手段は、前記渦流槽のクーラントを汲み上げて、前記渦流槽に戻す他の汲上用ポンプを有するものであり、
更に、前記加工母機と前記磁性分離手段との間に前記混入物を沈殿させる第1の沈殿槽を設けると共に、前記他の汲上用ポンプで汲み上げたクーラントの一部を前記第1の沈殿槽へ分配する配管とを設けたことを特徴とするクーラント浄化装置。 In the coolant purifying apparatus according to claim 1,
The vortex forming means has another pump for pumping up the coolant of the vortex tank and returning it to the vortex tank;
Furthermore, a first settling tank is provided between the processing mother machine and the magnetic separation means to precipitate the contaminants, and a part of the coolant pumped up by the other pump for pumping is supplied to the first settling tank. A coolant purifier having a distribution pipe.
前記クリーン槽の上面の高さを、前記渦流形成手段で用いるポンプ又は前記汲上用ポンプの最上部の高さより低くしたことを特徴とするクーラント浄化装置。 In the coolant purifying apparatus according to claim 1 or 2,
The coolant purifier according to claim 1, wherein the height of the upper surface of the clean tank is lower than the height of the uppermost part of the pump used in the vortex forming means or the pump for pumping.
前記クリーン槽に、ドレイン部を設けると共に、該ドレイン部の底部に、下部の前記渦流槽と連通する開口部を設けたことを特徴とするクーラント浄化装置。 In the coolant purification device according to any one of claims 1 to 3,
A coolant purifier having a drain portion provided in the clean tank and an opening communicating with the lower vortex tank at the bottom of the drain portion.
前記渦流槽の形状を矩形状とすると共に、前記渦流槽の1つの側壁から渦流の方向に沿って延設された湾曲板を設け、前記湾曲板と前記渦流槽の側壁との間に前記汲上用ポンプを配置したことを特徴とするクーラント浄化装置。 In the coolant purification apparatus according to any one of claims 1 to 4,
The vortex tank has a rectangular shape, a curved plate extending from one side wall of the vortex tank along the direction of the vortex flow is provided, and the pumping is performed between the curved plate and the side wall of the vortex tank. A coolant purifying device characterized in that a pump is disposed.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2010042481A JP2011177810A (en) | 2010-02-26 | 2010-02-26 | Coolant purifying device |
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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WO2016132449A1 (en) * | 2015-02-17 | 2016-08-25 | ヤマザキマザック株式会社 | Coolant processing apparatus |
JPWO2019054018A1 (en) * | 2017-09-14 | 2020-10-15 | 住友重機械ファインテック株式会社 | Coolant liquid treatment system |
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- 2010-02-26 JP JP2010042481A patent/JP2011177810A/en not_active Withdrawn
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JPWO2016132449A1 (en) * | 2015-02-17 | 2017-04-27 | ヤマザキマザック株式会社 | Coolant processing equipment |
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