JP6087898B2 - 電子デバイス絶縁層及び電子デバイス絶縁層の製造方法 - Google Patents
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Description
また、有機材料を含む溶液の塗布や印刷法を用いた成膜により素子作製が可能な場合があり、大面積の基板に多数の素子を低コストで製造することが可能な場合がある。
該第1の絶縁層材料は、
感光性樹脂材料(A)と、
タングステン(V)アルコキサイド(B)と
を含有する材料であり、
該第2の絶縁層材料は、
環状エーテル構造を有する繰り返し単位と、式(1)
で表される繰り返し単位とを含む高分子化合物(D)を含有する材料である、
電子デバイス絶縁層を提供する。
下に定義された第1の官能基を含有する繰り返し単位と、式(2)
で表される繰り返し単位とを含む高分子化合物(E)と、
電磁波又は電子線の照射により酸を発生しうる化合物であって熱分解温度が200℃以下である化合物(F)
とを含有する感光性樹脂組成物である。
第1の官能基:活性水素と反応しうる第2の官能基を、電磁波もしくは熱の作用により生成しうる官能基
で表される基、及び、式(4)
で表される基から成る群より選ばれる少なくとも一種の基である
で表される繰り返し単位を含む。このように上記式(5)で表される繰り返し単位を含む高分子化合物(E)を、以下、高分子化合物(E−1)と称することがある。
環状エーテル構造を含有する繰り返し単位と、式(7)
で表される繰り返し単位とを含む高分子化合物(G)と、
電磁波又は電子線の照射により酸を発生しうる化合物(H)と
を含有する感光性樹脂組成物である。
で表される繰り返し単位、及び式(9)
で表される繰り返し単位からなる群より選ばれる少なくとも一種の繰り返し単位である。
第1の官能基:活性水素と反応しうる第2の官能基を、電磁波もしくは熱の作用により生成しうる官能基
で表される繰り返し単位、及び式(12)
で表される繰り返し単位からなる群より選ばれる少なくとも一種の繰り返し単位である。
で表される繰り返し単位、及び第1の官能基を含有する繰り返し単位からなる群より選ばれる少なくとも1種の繰り返し単位を含む。このような高分子化合物(D)を、以下、高分子化合物(D−1)と称することがある。
該第1の塗布層の一部分に電磁波又は電子線を照射する工程;
該第1の塗布層の電磁波又は電子線が照射された部分を除去して、第1の塗布層にパターンを形成する工程;
該パターンを形成した第1の塗布層に熱を印加して第1の絶縁層を形成する工程;
該第1の絶縁層上にパターニングされた電極を形成する工程;
第2の絶縁層材料と溶媒とを含む液を、該パターニングされた電極及び第1の絶縁層上に塗布して第2の塗布層を形成する工程;
該第1の絶縁層及び第2の塗布層に熱を印加する工程;
パターニングされた電極上に形成された第2の塗布層の部位を除去して、第2の絶縁層を形成する工程;
を有する電子デバイス絶縁層の製造方法であって、
該第1の絶縁層材料は、
感光性樹脂材料(A)と、
タングステン(V)アルコキサイド(B)と
を含有する材料であり、
該第2の絶縁層材料は、
環状エーテル構造を有する繰り返し単位と、式(1)
で表される繰り返し単位とを含む高分子化合物(D)を含有する材料である電子デバイス絶縁層の製造方法を提供する。
該第1の塗布層の一部分に電磁波又は電子線を照射する工程;
該第1の塗布層の電磁波又は電子線が照射されていない部分を除去して、第1の塗布層にパターンを形成する工程;
該パターンを形成した第1の塗布層に熱を印加して第1の絶縁層を形成する工程;
該第1の絶縁層上にパターニングされた電極を形成する工程;
第2の絶縁層材料と溶媒とを含む液を、該パターニングされた電極及び第1の絶縁層上に塗布して第2の塗布層を形成する工程;
該第1の絶縁層及び第2の塗布層に熱を印加する工程;
パターニングされた電極上に形成された第2の塗布層の部位を除去して、第2の絶縁層を形成する工程;
を有する電子デバイス絶縁層の製造方法であって、
該第1の絶縁層材料は、
感光性樹脂材料(A)と、
タングステン(V)アルコキサイド(B)と
を含有する材料であり、
該第2の絶縁層材料は、
環状エーテル構造を有する繰り返し単位と、式(1)
で表される繰り返し単位とを含む高分子化合物(D)を含有する材料である、
電子デバイス絶縁層の製造方法を提供する。
また、本発明の電子デバイス絶縁層は、電子デバイス絶縁層のパターニングを簡便な工程によって行うことができる。
更に、本発明の電子デバイス絶縁層は、電子デバイス絶縁層のパターニング、及び/又は電子デバイス絶縁層上にパターニングされた電極を形成する等の電子デバイス絶縁層の表面を損傷する工程を行った場合でも、電子デバイス絶縁層の表面に当該損傷が残らない。
本明細書において、「高分子化合物」とは、分子中に同じ構造単位が複数繰り返された構造を含む化合物をいい、いわゆる2量体もこれに含まれる。一方、「低分子化合物」とは、分子中に同じ構造単位を繰り返し有していない化合物を意味する。
<感光性樹脂材料(A)>
本発明に用いられる感光性樹脂材料(A)は、ポジ型感光性樹脂材料(A−1)及びネガ型感光性樹脂材料(A−2)が好ましい。
式(2)中、R2は、水素原子又はメチル基を表す。ある一形態では、R2は水素原子である。
炭素数1〜20の一価の有機基としては、アルキル基が好ましい。
R12で表される炭素数1〜20の一価の有機基の定義及び具体例は、前述のR4で表される炭素数1〜20の一価の有機基の定義及び具体例と同じである。
式(2)で表される繰り返し単位の原料となる重合性モノマーの仕込みモル量が70モル%を超えると溶解コントラストが低下し、解像性が悪くなる場合がある。
前記ポジ型感光性樹脂材料(A−1)は、電磁波又は電子線の照射により酸を発生しうる化合物であって熱分解温度が200℃以下である化合物(F)を含む。ここでいう熱分解とは、加熱することにより酸を発生することを意味する。
環状エーテル構造を含む化合物は、酸の存在下、カチオン重合する。そのため、高分子化合物(G)は架橋構造を形成することができる。光又は熱の作用により酸を発生させる酸発生剤、及び光又は熱の作用によりカチオン種を発生させるカチオン重合開始剤を用いて高分子化合物(G)のカチオン重合を行えば、光及び熱等のエネルギーにより重合が促進され、高分子化合物(G)を用いて形成したゲート絶縁層の架橋密度が特に高くなる。
R16で表される炭素数1〜20の一価の有機基の定義及び具体例は、前述のR4で表される炭素数1〜20の一価の有機基の定義及び具体例と同じである。
式(8)で表される繰り返し単位の原料となる重合性モノマーの仕込みモル量と式(9)で表される繰り返し単位の原料となる重合性モノマーの仕込みモル量との和は、重合に関与する全ての重合性モノマー中、好ましくは5モル%以上70モル%以下であり、より好ましくは10モル%以上50モル%以下である。
前記ネガ型感光性樹脂材料(A−2)は、電磁波又は電子線の照射により酸を発生しうる化合物(H)を含む。
本発明に用いられる第1の絶縁層材料は、タングステン(V)アルコキサイド(B)を含む。タングステン(V)アルコキサイド(B)としては、例えば、タングステン(V)メトキサイド、タングステン(V)エトキサイド、タングステン(V)イソプロポキサイド、及びタングステン(V)ブトキサイドが挙げられる。
本発明に用いられる第1の絶縁層材料は、塩基性化合物(C)を含むことができる。塩基性化合物(C)としては、例えば、アミン化合物が挙げられる。該アミン化合物としては、例えば、トリエチルアミン、ピリジン、ジエチルアミン、エタノールアミン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ−7−エン、1,5−ジアザビシクロ[4.3.0]ノナ−5−エンが挙げられる。
<高分子化合物(D)>
本発明に用いられる第2の絶縁層材料は、第1の絶縁層材料とは異なる材料である。該第2の絶縁層材料は、高分子化合物(D)を含み、該高分子化合物(D)は、環状エーテル構造を含有する繰り返し単位と酸により脱離しうる有機基を含む式(1)で表される繰り返し単位とを含有する。
R’は、水素原子又は炭素数1〜20の一価の有機基を表す。該炭素数1〜20の一価の有機基中の水素原子は、フッ素原子で置換されていてもよい。R’で表される炭素数1〜20の一価の有機基の定義及び具体例は、前述のR4で表される炭素数1〜20の一価の有機基の定義及び具体例と同じである。
式(11)で表される繰り返し単位の原料となる重合性モノマーの仕込みモル量と式(12)で表される繰り返し単位の原料となる重合性モノマーの仕込みモル量との和は、重合に関与する全ての重合性モノマー中、好ましくは5モル%以上70モル%以下であり、より好ましくは10モル%以上50モル%以下である。
本発明に用いられる第1の絶縁層材料は、混合や粘度調節のための添加剤を含有していてもよい。添加剤としては、例えば、増感剤、レべリング剤、及び粘度調節剤が挙げられる。
図1は、本発明の一実施形態であるボトムゲートトップコンタクト型有機薄膜トランジスタの構造を示す模式断面図である。この有機薄膜トランジスタには、基板1と、基板1上に形成されたゲート電極2と、ゲート電極2上に形成された第1のゲート絶縁層3aと第1のゲート絶縁層3a上に形成された第2のゲート絶縁層3bと、第2のゲート絶縁層3b上に形成された有機半導体層4と、有機半導体層4上にチャネル部を挟んで形成されたソース電極5及びドレイン電極6と、素子全体を覆うオーバーコート7とが、備えられている。
本発明の有機薄膜トランジスタ絶縁層の形成方法の一態様は、まず、第1の絶縁層材料と溶媒とを含む液を基材に塗布して該基材上に第1の塗布層を形成する(工程S1)。
該第1の塗布層の一部分に電磁波又は電子線を照射する工程(工程S2);
該第1の塗布層の電磁波又は電子線が照射された部分を除去して、第1の塗布層にパターンを形成する工程(工程S3);
該パターンを形成した第1の塗布層に熱を印加して第1の絶縁層を形成する工程(工程S4);
該第1の絶縁層上にパターニングされた電極を形成する工程(工程S5);
第2の絶縁層材料と溶媒とを含む液を、該パターニングされた電極及び第1の絶縁層上に塗布して第2の塗布層を形成する工程(工程S6);
該第1の絶縁層及び第2の塗布層に熱を印加する工程(工程S7);
パターニングされた電極上に形成された第2の塗布層の部位を除去して、第2の絶縁層を形成する工程(工程S8);
を包含する有機薄膜トランジスタ絶縁層の製造方法である。
第1の絶縁層材料と溶媒とを含む液を基材に塗布して該基材上に第1の塗布層を形成する工程(工程T1);
該第1の塗布層の一部分に電磁波又は電子線を照射する工程(工程T2);
該第1の塗布層の電磁波又は電子線が照射されていない部分を除去して、第1の塗布層にパターンを形成する工程(工程T3);
該パターンを形成した第1の塗布層に熱を印加して第1の絶縁層を形成する工程(工程T4);
該第1の絶縁層上にパターニングされた電極を形成する工程(工程T5);
第2の絶縁層材料と溶媒とを含む液を、該パターニングされた電極及び第1の絶縁層上に塗布して第2の塗布層を形成する工程(工程T6);
該第1の絶縁層及び第2の塗布層に熱を印加する工程(工程T7);
パターニングされた電極上に形成された第2の塗布層の部位を除去して、第2の絶縁層を形成する工程(工程T8);
を包含する有機薄膜トランジスタ絶縁層の製造方法である。
該溶媒の例としては、クロロホルム、トルエン、アニソール、2−ヘプタノン、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートが挙げられる。該有機半導体塗布液は、前記絶縁層塗布液と同様にスピンコート、ダイコーター、スクリーン印刷、インクジェット等の公知の方法によりゲート絶縁層上に塗布することができる。
(高分子化合物1の合成)
三方コックを上部に付けたジムロートを200mlの三つ口フラスコに取り付け、該三つ口フラスコ中に、4−ビニル安息香酸(アルドリッチ製)を25.45g、3、4−ジヒドロ−2H−ピランを50g、触媒量の濃塩酸及び攪拌子を入れ、三つ口フラスコ内部の空気を窒素で置換した。三つ口フラスコを50℃のオイルバス中に浸け、マグネティックスターラーで攪拌子を回転させながら2時間反応させた。反応終了後、反応混合物を300mlの分液ロートに移し、ジエチルエーテル100mlを加えた後、水酸化ナトリウム水溶液を加えて水層がアルカリ性になるまで有機層を水洗し、有機層を分液した。50mlのイオン交換水で有機層の水洗を3回繰り返した後、有機層を分液し、無水硫酸マグネシウムを加えて乾燥させた。無水硫酸マグネシウムを濾別した後、濾液をロータリーエバポレーターを用いて濃縮し、化合物(1−A)を無色透明の液体として得た。化合物(1−A)の得量は38.25gであり、収率は96%であった。
(高分子化合物2の合成)
50ml耐圧容器(エース製)に、4-(1−エトキシエトキシ)スチレン(東ソー有機化学製)を3.00g、アクリロニトリル(和光純薬製)を0.55g、2,3,4,5,6−ペンタフルオロスチレン(アルドリッチ製)を2.02g、グリシジルメタクリレート(和光純薬製)を2.22g、2,2’−アゾビス(2−メチルプロピオニトリル)を0.04g、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(東京化成製)を18.28g入れ、溶存酸素を除去するためにアルゴンガスでバブリングした後、密栓した。80℃のオイルバス中で8時間重合させ、高分子化合物2が溶解している粘稠なプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液を得た。高分子化合物2は、下記繰り返し単位を有している。括弧の添え数字は繰り返し単位のモル分率を示している。
(高分子化合物3の合成)
2,1,3−ベンゾチアジアゾール−4,7−ジ(エチレンボロネート)を1.88g、及び2,6−ジブロモ−(4,4−ビス−ヘキサデカニル−4H−シクロペンタ[2,1−b;3,4−b’]−ジチオフェンを3.81g含む80mLのトルエン中に、窒素雰囲気下において、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウムを0.75g、メチルトリオクチルアンモニウムクロライド(Aldrich製、商品名「Aliquat 336」(登録商標))を1.0g、及び2Mの炭酸ナトリウム水溶液を24mL加えた。得られた混合物を激しく攪拌し、加熱して24時間還流させた。得られた粘稠な反応混合物をアセトン500mLに注ぎ、繊維状の黄色のポリマーを沈澱させた。このポリマーを濾過して集め、アセトンで洗浄し、真空オーブンにおいて60℃で一晩乾燥させた。得られたポリマーを高分子化合物3とよぶ。高分子化合物3は、下記繰り返し単位を有している。nは繰り返し単位の数を示している。
(化合物(4−A)の合成)
三方コック及びセプタムを取り付けた300mlの三つ口フラスコに、3−エチル−3−ヒドロキシメチルオキセタン(東亞合成製、商品名:OXT−101)を33.29g、トリエチルアミン(和光純薬製)を48.31g、脱水テトラヒドロフラン(和光純薬製)を200ml、及び攪拌子を入れ、フラスコ内部の空気を窒素で置換した。フラスコを氷浴中に浸け、マグネティックスターラーで攪拌子を回転させることにより反応混合物を攪拌させながら、ガスタイトシリンジを用いてメタクリロイルクロライド25.00gをゆっくり滴下した。滴下終了後、氷浴中で更に2時間攪拌を続け、その後、室温で一晩攪拌を続けて反応させた。反応終了後、生成したトリエチルアミン塩酸塩を濾別し、濾液を500mlの分液ロートに移し、濾液にジエチルエーテル200mlを加えた後、100mlのイオン交換水で有機層を水洗し、有機層を分液した。有機層の水洗を3回繰り返した後、有機層を分液し、無水硫酸マグネシウムを加えて乾燥させた。無水硫酸マグネシウムを濾別した後、濾液をロータリーエバポレーターを用いて濃縮し、化合物(4−A)を淡褐色液体として得た。化合物(4−A)の得量は29.3gであり、収率は61.3%であった。
150ml耐圧容器(エース製)に、化合物(4−A)を12.00g、4−(1−エトキシエトキシ)スチレン(東ソー有機化学製)を7.51g、グリシジルメタクリレート(和光純薬製)を1.85g、2−(O−[1’−メチルプロピリデンアミノ]カルボキシアミノ〕エチル−メタクリレート(昭和電工製、商品名「カレンズMOI−BM」)を6.26g、4−メトキシスチレン(東京化成工業製)を8.74g、アクリロニトリル(和光純薬製)を2.77g、2,2’−アゾビス(2−メチルプロピオニトリル)を0.20g、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(東京化成製)を91.75g入れ、アルゴンガスでバブリングした後、密栓した。60℃のオイルバス中で20時間重合させ、高分子化合物1が溶解している粘稠なプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液を得た。高分子化合物4は、下記繰り返し単位を有している。括弧の添え数字は繰り返し単位のモル分率を示している。
(電界効果型有機薄膜トランジスタの製造)
20mlのサンプル瓶に、合成例1で得た高分子化合物1のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液を5.00g、光酸発生剤である下記化合物「MBZ−101(みどり化学製)」を0.045g、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを5.00g、タングステン(V)エトキサイド(ゲレスト製)を0.21g、アセチルアセトン(和光純薬製)を0.5g、塩基性化合物である1,8−ジアザビシクロ[5,4,0]−ウンデカ−7−エン(アルドリッチ製)を0.0014g入れ、攪拌しながら溶解させ、第1の絶縁層材料である均一な塗布溶液1を調製した。
こうして作製した電界効果型有機薄膜トランジスタについて、ゲート電圧Vgを20〜−40V、ソース・ドレイン間電圧Vsdを0〜−40Vに変化させた条件で、そのトランジスタ特性を真空プロ−バ(BCT22MDC−5−HT−SCU;Nagase Electronic Equipments Service Co., LTD製)を用いて測定した。リーク電流は、ゲート電圧が−40Vの時のゲート・ドレイン間に流れる電流を測定した。結果を表1に示す。
第1の絶縁層材料及び第2の絶縁層材料のレジスト特性は、25μm角のパターンが解像するか否かで評価した。解像した場合を「○」、しなかった場合を「×」で表した。
(電界効果型有機薄膜トランジスタの製造)
20mlのサンプル瓶に、合成例4で得た高分子化合物4のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液を6.00g、光酸発生剤であるMBZ−101(みどり化学製)を0.036g、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを4.00g、タングステン(V)エトキサイド(ゲレスト製)を0.12g、アセチルアセトン(和光純薬製)を0.1g、塩基性化合物である1,8−ジアザビシクロ[5,4,0]−ウンデカ−7−エン(アルドリッチ製)を0.0011g入れ、攪拌しながら溶解させ、第1の絶縁層材料である均一な塗布溶液4を調製した。
前記塗布溶液2を孔径0.45μmのメンブレンフィルターを用いて濾過し、モリブデンを除去した第1のゲート絶縁層上にスピンコートした後、ホットプレート上で100℃で1分間乾燥させ、その後、ホットプレート上で120℃で30分間焼成して第2のゲート絶縁層を形成し、第1のゲート絶縁層上に第2のゲート絶縁層を積層させた基材を得た。
(電界効果型有機薄膜トランジスタの製造)
20mlのサンプル瓶に、感光性樹脂であるスミレジストPFI−89B9(住友化学製)を5.00g、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを5.00g、タングステン(V)エトキサイド(ゲレスト製)を0.12g、アセチルアセトン(和光純薬製)を0.4g入れ、撹拌しながら溶解させ、第1の絶縁層材料である均一な塗布溶液5を調製した。
(電界効果型有機薄膜トランジスタの製造)
第2のゲート絶縁層を形成しなかった以外は実施例1と同様にして電界効果型有機薄膜トランジスタを作製し、トランジスタ特性及び第1の絶縁層材料のレジスト特性を評価した。結果を表1に示す。
(電界効果型有機薄膜トランジスタの製造)
第1のゲート絶縁層上にスパッタ法でモリブデンを積層する工程、及びモリブデンエッチング液を用いてモリブデンを除去する工程を行わなかった以外は比較例1と同様にして電界効果型トランジスタを作製し、トランジスタ特性を評価した。結果を表1に示す。
(電界効果型有機薄膜トランジスタの製造)
第2のゲート絶縁層を形成しなかった以外は実施例2と同様にして電界効果型有機薄膜トランジスタを作製し、トランジスタ特性及びレジスト特性を評価した。結果を表1に示す。
(電界効果型有機薄膜トランジスタの製造)
第1のゲート絶縁層上にスパッタ法でモリブデンを積層する工程、及びモリブデンエッチング液を用いてモリブデンを除去する工程を行わなかった以外は比較例3と同様にして電界効果型トランジスタを作製し、トランジスタ特性を評価した。結果を表1に示す。
(電界効果型有機薄膜トランジスタの製造)
第2のゲート絶縁層を形成しなかった以外は実施例3と同様にして電界効果型有機薄膜トランジスタを作製し、トランジスタ特性及びレジスト特性を評価した。結果を表1に示す。
(電界効果型有機薄膜トランジスタの製造)
第1のゲート絶縁層上にスパッタ法でモリブデンを積層する工程、及びモリブデンエッチング液を用いてモリブデンを除去する工程を行なわなかった以外は比較例3と同様にして電界効果型トランジスタを作製し、トランジスタ特性を評価した。結果を表1に示す。
2…ゲート電極、
3a…第1のゲート絶縁層、
3b…第2のゲート絶縁層、
4…有機半導体層、
5…ソース電極、
6…ドレイン電極、
7…オーバーコート。
Claims (20)
- 第1の絶縁層材料から形成された第1の絶縁層と、第2の絶縁層材料から該第1の絶縁層上に形成された第2の絶縁層とを有する電子デバイス絶縁層であって、
該第1の絶縁層材料は、
感光性樹脂材料(A)と、
タングステン(V)アルコキサイド(B)と
を含有する材料であり、
該第2の絶縁層材料は、
環状エーテル構造を有する繰り返し単位と、式(1)
[式中、R1は、水素原子又はメチル基を表す。RAは、高分子化合物の主鎖と側鎖とを連結し、フッ素原子を有していてもよい連結部分を表す。Rは、酸により脱離しうる有機基を表す。R’は、水素原子又は炭素数1〜20の一価の有機基を表す。該炭素数1〜20の一価の有機基中の水素原子は、フッ素原子で置換されていてもよい。p1は、0又は1の整数を表し、p2は、1〜5の整数を表す。Rが複数個ある場合、それらは同一であっても相異なってもよい。R’が複数個ある場合、それらは同一であっても相異なってもよい。]
で表される繰り返し単位とを含む高分子化合物(D)を含有する材料である、
電子デバイス絶縁層。 - 前記第1の絶縁層材料が、さらに、塩基性化合物(C)を含む請求項1に記載の電子デバイス絶縁層。
- 前記感光性樹脂材料(A)が、ポジ型感光性樹脂材料(A−1)又はネガ型感光性樹脂材料(A−2)である請求項1又は2に記載の電子デバイス絶縁層。
- 前記ポジ型感光性樹脂材料(A−1)が、
下に定義された第1の官能基を含有する繰り返し単位と、式(2)
[式中、R2は、水素原子又はメチル基を表す。RBは、高分子化合物の主鎖と側鎖とを連結し、フッ素原子を有していてもよい連結部分を表す。R3は、酸により脱離しうる有機基を表す。R4は、水素原子又は炭素数1〜20の一価の有機基を表す。該炭素数1〜20の一価の有機基中の水素原子は、フッ素原子で置換されていてもよい。q1は、0又は1の整数を表し、q2は、1〜5の整数を表す。R3が複数個ある場合、それらは同一であっても相異なってもよい。R4が複数個ある場合、それらは同一であっても相異なってもよい。]
で表される繰り返し単位とを含む高分子化合物(E)と、
電磁波又は電子線の照射により酸を発生しうる化合物であって熱分解温度が200℃以下である化合物(F)と
を含有する感光性樹脂組成物である請求項3に記載の電子デバイス絶縁層。
第1の官能基:活性水素と反応しうる第2の官能基を、電磁波もしくは熱の作用により生成しうる官能基 - 前記第1の官能基が、ブロック化剤でブロックされたイソシアナト基及びブロック化剤でブロックされたイソチオシアナト基からなる群から選ばれる少なくとも1種の基である請求項4に記載の電子デバイス絶縁層。
- 前記高分子化合物(E)が、更に、式(5)
[式中、R10は、水素原子又はメチル基を表す。RCは、高分子化合物の主鎖と側鎖とを連結し、フッ素原子を有していてもよい連結部分を表す。R11は、酸により脱離しうる有機基を表す。R12は、水素原子又は炭素数1〜20の一価の有機基を表す。該炭素数1〜20の一価の有機基中の水素原子は、フッ素原子で置換されていてもよい。r1は、0又は1の整数を表し、r2は、1〜5の整数を表す。R11が複数個ある場合、それらは同一であっても相異なってもよい。R12が複数個ある場合、それらは同一であっても相異なってもよい。]
で表される繰り返し単位を含む請求項4〜6のいずれか一項に記載の電子デバイス絶縁層。 - 前記ネガ型感光性樹脂材料(A−2)が、
環状エーテル構造を含有する繰り返し単位と、式(7)
[式中、R14は、水素原子又はメチル基を表す。REは、高分子化合物の主鎖と側鎖とを連結し、フッ素原子を有していてもよい連結部分を表す。R15は、酸により脱離しうる有機基を表す。R16は、水素原子又は炭素数1〜20の一価の有機基を表す。該炭素数1〜20の一価の有機基中の水素原子は、フッ素原子で置換されていてもよい。t1は、0又は1の整数を表し、t2は、1〜5の整数を表す。R15が複数個ある場合、それらは同一であっても相異なってもよい。R16が複数個ある場合、それらは同一であっても相異なってもよい。]
で表される繰り返し単位とを含む高分子化合物(G)と、
電磁波又は電子線の照射により酸を発生しうる化合物(H)と
を含有する感光性樹脂組成物である請求項3に記載の電子デバイス絶縁層。 - 前記高分子化合物(G)が含む環状エーテル構造を含有する繰り返し単位が、式(8)
[式中、R17は、水素原子又はメチル基を表す。R18、R19、及びR20は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数1〜20の一価の有機基を表す。該炭素数1〜20の一価の有機基中の水素原子は、フッ素原子で置換されていてもよい。RGは、高分子化合物の主鎖と側鎖とを連結し、フッ素原子を有していてもよい連結部分を表す。uは、0または1の整数を表す。]
で表される繰り返し単位、及び式(9)
[式中、R21は、水素原子又はメチル基を表す。R22、R23、R24、R25、及びR26は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数1〜20の一価の有機基を表す。該炭素数1〜20の一価の有機基中の水素原子は、フッ素原子で置換されていてもよい。RHは、高分子化合物の主鎖と側鎖とを連結し、フッ素原子を有していてもよい連結部分を表す。vは、0又は1の整数を表す。]
で表される繰り返し単位からなる群より選ばれる少なくとも一種の繰り返し単位である請求項8に記載の電子デバイス絶縁層。 - 前記高分子化合物(G)が、更に、下に定義された第1の官能基を含有する繰り返し単位からなる群より選ばれる少なくとも1種の繰り返し単位を含む請求項8又は9に記載の電子デバイス絶縁層。
第1の官能基:活性水素と反応しうる第2の官能基を、電磁波もしくは熱の作用により生成しうる官能基 - 前記第2の絶縁層材料が、高分子化合物(D)からなる材料である請求項1〜10のいずれか一項に記載の電子デバイス絶縁層。
- 前記高分子化合物(D)が含む環状エーテル構造を含有する繰り返し単位が、式(11)
[式中、R28は、水素原子又はメチル基を表す。R29、R30、及びR31は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数1〜20の一価の有機基を表す。該炭素数1〜20の一価の有機基中の水素原子は、フッ素原子で置換されていてもよい。RKは、高分子化合物の主鎖と側鎖とを連結し、フッ素原子を有していてもよい連結部分を表す。xは、0または1の整数を表す。]
で表される繰り返し単位、及び式(12)
[式中、R32は、水素原子又はメチル基を表す。R33、R34、R35、R36、及びR37は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数1〜20の一価の有機基を表す。該炭素数1〜20の一価の有機基中の水素原子は、フッ素原子で置換されていてもよい。RLは、高分子化合物の主鎖と側鎖とを連結し、フッ素原子を有していてもよい連結部分を表す。yは、0又は1の整数を表す。]
で表される繰り返し単位からなる群より選ばれる少なくとも一種の繰り返し単位である請求項1〜11のいずれか一項に記載の電子デバイス絶縁層。 - 前記高分子化合物(D)が、更に、式(13)
[式中、R38は、水素原子又はメチル基を表す。Rf3は、フッ素原子又はフッ素原子を有していてもよい炭素数1〜20の一価の有機基を表す。RMは、高分子化合物の主鎖と側鎖とを連結し、フッ素原子を有していてもよい連結部分を表す。z1は、0または1の整数を表し、z2は、1〜5の整数を表す。Rf3が複数個ある場合、それらは同一でも相異なっていてもよい。ただし、少なくとも1個のRf3は、フッ素原子又はフッ素原子を有する炭素数1〜20の一価の有機基である。]
で表される繰り返し単位、及び第1の官能基を含有する繰り返し単位からなる群より選ばれる少なくとも1種の繰り返し単位を含む請求項1〜12のいずれか一項に記載の電子デバイス絶縁層。 - 有機薄膜トランジスタ絶縁層である請求項1〜13のいずれか一項に記載の電子デバイス絶縁層。
- 第1の絶縁層材料と溶媒とを含む液を基材に塗布して該基材上に第1の塗布層を形成する工程;
該第1の塗布層の一部分に電磁波又は電子線を照射する工程;
該第1の塗布層の電磁波又は電子線が照射された部分を除去して、第1の塗布層にパターンを形成する工程;
該パターンを形成した第1の塗布層に熱を印加して第1の絶縁層を形成する工程;
該第1の絶縁層上にパターニングされた電極を形成する工程;
第2の絶縁層材料と溶媒とを含む液を、該パターニングされた電極及び第1の絶縁層上に塗布して第2の塗布層を形成する工程;
該第1の絶縁層及び第2の塗布層に熱を印加する工程;
パターニングされた電極上に形成された第2の塗布層の部位を除去して、第2の絶縁層を形成する工程;
を有する電子デバイス絶縁層の製造方法であって、
該第1の絶縁層材料は、
感光性樹脂材料(A)と、
タングステン(V)アルコキサイド(B)と
を含有する材料であり、
該第2の絶縁層材料は、
環状エーテル構造を有する繰り返し単位と、式(1)
[式中、R1は、水素原子又はメチル基を表す。RAは、高分子化合物の主鎖と側鎖とを連結し、フッ素原子を有していてもよい連結部分を表す。Rは、酸により脱離しうる有機基を表す。R’は、水素原子又は炭素数1〜20の一価の有機基を表す。該炭素数1〜20の一価の有機基中の水素原子は、フッ素原子で置換されていてもよい。p1は、0又は1の整数を表し、p2は、1〜5の整数を表す。Rが複数個ある場合、それらは同一であっても相異なってもよい。R’が複数個ある場合、それらは同一であっても相異なってもよい。]
で表される繰り返し単位とを含む高分子化合物(D)を含有する材料である、
電子デバイス絶縁層の製造方法。 - 第1の絶縁層材料と溶媒とを含む液を基材に塗布して該基材上に第1の塗布層を形成する工程;
該第1の塗布層の一部分に電磁波又は電子線を照射する工程;
該第1の塗布層の電磁波又は電子線が照射されていない部分を除去して、第1の塗布層にパターンを形成する工程;
該パターンを形成した第1の塗布層に熱を印加して第1の絶縁層を形成する工程;
該第1の絶縁層上にパターニングされた電極を形成する工程;
第2の絶縁層材料と溶媒とを含む液を、該パターニングされた電極及び第1の絶縁層上に塗布して第2の塗布層を形成する工程;
該第1の絶縁層及び第2の塗布層に熱を印加する工程;
パターニングされた電極上に形成された第2の塗布層の部位を除去して、第2の絶縁層を形成する工程;
を有する電子デバイス絶縁層の製造方法であって、
該第1の絶縁層材料は、
感光性樹脂材料(A)と、
タングステン(V)アルコキサイド(B)と
を含有する材料であり、
該第2の絶縁層材料は、
環状エーテル構造を有する繰り返し単位と、式(1)
[式中、R1は、水素原子又はメチル基を表す。RAは、高分子化合物の主鎖と側鎖とを連結し、フッ素原子を有していてもよい連結部分を表す。Rは、酸により脱離しうる有機基を表す。R’は、水素原子又は炭素数1〜20の一価の有機基を表す。該炭素数1〜20の一価の有機基中の水素原子は、フッ素原子で置換されていてもよい。p1は、0又は1の整数を表し、p2は、1〜5の整数を表す。Rが複数個ある場合、それらは同一であっても相異なってもよい。R’が複数個ある場合、それらは同一であっても相異なってもよい。]
で表される繰り返し単位とを含む高分子化合物(D)を含有する材料である、
電子デバイス絶縁層の製造方法。 - 前記電磁波が紫外線である請求項15又は16に記載の電子デバイス絶縁層の製造方法。
- ゲート電極と、ソース電極と、ドレイン電極と、有機半導体層と、請求項14に記載の電子デバイス絶縁層とを、有する有機薄膜トランジスタ。
- 請求項1〜14のいずれか一項に記載の電子デバイス絶縁層を含むディスプレイ用部材。
- 請求項19に記載のディスプレイ用部材を含むディスプレイ。
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