JP6075611B2 - 成膜装置 - Google Patents

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本発明は成膜装置に関する。
従来、成膜装置としては、スパッタリング室を備えスパッタリング法により透明電極膜を形成する成膜装置が知られている。(例えば、特許文献1参照)。
この特許文献1にかかる成膜装置では、スパッタリング時の成膜温度を上昇させるために、基板のストッカーにおいて予備加熱を行っており、このストッカーで基板を加熱し基板温度を上昇させてからスパッタリング室へ搬送する。
特開2009−149945号公報
しかしながら、近年では基板が厚いため、一度スパッタリング室に搬入する前に加熱したとしてもスパッタリング中に基板温度が低下してしまう。このように基板温度が低下すると、所望の膜質の膜を得ることができないという問題がある。さらに、基板の一方面のみ(もしくは基板の端部のみ)基板温度が低下して、基板に応力が生じて基板の割れが生じる場合もある。
そこで、本発明の課題は、上記従来技術の問題点を解決することにあり、成膜中の基板温度を保持して所望の膜質の膜を形成することができる成膜装置を提供しようとするものである。
本発明の成膜装置は、複数の成膜室を備え、基板上に複数層を形成するインライン式の成膜装置であって、前記複数の成膜室よりも上流側に設けられ、搬送された前記基板を加熱する第1加熱室と、前記複数の成膜室間に設けられ、搬送された前記基板を加熱する第2加熱室とを少なくとも備え、前記第2加熱室の前記基板の搬送位置よりも天井面側及び床面側にそれぞれターボ分子ポンプが設けられていることを特徴とする。第2加熱室を備えることで、成膜中に基板温度が低下したとしても加熱することができ、基板温度を保持して第2加熱室よりも下流側の成膜室における膜の膜質を向上させることができる。また、ターボ分子ポンプが設けられていることで、真空アニールを行うことができ、これにより膜の膜質を向上させることができる。
本発明の好ましい実施形態としては、前記基板の厚みが2.8mm以上であることが挙げられる。
本発明の好ましい実施形態としては、前記成膜室には、スパッタリング法により成膜を行う成膜手段が設けられていることが挙げられる。
本実施形態にかかる成膜装置の構成を示す模式図である。 本実施形態にかかる成膜装置により形成される積層構造の断面を示す模式図である。 比抵抗と加熱温度との関係を示すグラフである。 比抵抗と真空アニール温度との関係を示すグラフである。 比抵抗とアニール条件との関係を示すグラフである。
本発明の成膜装置について図1を用いて説明する。
図1に示すように、成膜装置1は、複数の処理室を有する。本実施形態では、成膜装置1は、基板搬入室11、第1加熱室12、第1成膜室13、第2成膜室14、第2加熱室15、第3成膜室16、及び基板搬出室17をこの順で備えたインライン式の成膜装置である。
成膜装置1には、基板搬送手段20が設けられている。基板搬送手段20は、複数のローラーであり、各ローラーは図示しない駆動手段によって回転駆動される。基板搬入室11に搬入された基板Sは、このローラー上に載置され、搬送される。この基板搬送手段20は、基板搬入室11〜基板搬出室17に亘って設けられており、基板Sは、この基板搬送手段20によって各処理室に順次搬入され、ローラー上を移動する間に所定の処理が成されて次の処理室へ搬送され、基板S上に所定の積層構造が形成される。この基板Sはガラス基板である。また、基板Sの厚みは2.8mm以上(本実施形態では、3.2mm)である。
基板搬入室11及び基板搬出室17は、いわゆるロードロック室である。ロードロック室では、各処理室(加熱室、成膜室)内を真空に保持し大気に開放しないことを目的に、各処理室への処理前、処理後の基板Sの出し入れを行うために設置されている。ロードロック室と各処理室とはゲートバルブで仕切られ、基板搬入室11及び基板搬出室17内が真空になった状態で、ゲートバルブを開いて各処理室へ基板Sを搬入、あるいは搬出する。
第1加熱室12は、成膜前に所定の加熱処理を行う加熱室である。第1加熱室12には、基板Sの搬送される位置(ローラーである基板搬送手段20の設置位置)よりも天井側に第1加熱手段21が設けられると共に、底壁側に第2加熱手段22が設けられている。即ち、本実施形態では、第1加熱室12において基板Sはその両面から加熱される。
第1加熱手段21は、天井面のほぼ全域を覆うことができるような大型のものである。第2加熱手段22は、第1加熱手段21よりも小さなものであり、底壁側に二つ設けられており、互いに離間して設けられている。そして、この第2加熱手段22間には、排気手段としてのターボ分子ポンプ23が設けられている。
各第1加熱手段21及び第2加熱手段22はそれぞれ独立して温度設定を行うことができ、所望の温度で搬入された基板Sを加熱することが可能である。
第1成膜室13は、第1加熱室12において所望の温度まで昇温された基板Sに対して、成膜を行う。第1成膜室13における成膜手段は、スパッタリング法を用いた成膜手段であり、第1成膜室13には、スパッタリングターゲット24が設けられている。第1成膜室13には、このスパッタリングターゲット24を用いて成膜すべく、スパッタリングガスを導入するガス導入手段(図示せず)が設けられている。
本実施形態では、スパッタリングターゲット24は、酸化亜鉛からなり、さらに酸化アルミニウム、酸化ガリウム等が所定量添加された透明導電膜を形成することができるものである。この他にスパッタリングターゲット24としては、例えば酸化インジウムや酸化スズ等をターゲット材料として用いることができる。また、ガス導入手段により導入されるガスとしては、通常用いられるスパッタリングガス、例えばアルゴンガスを用いることができる。
さらに、第1成膜室13には、スパッタリングターゲット24に対向する位置に第2加熱手段22が設けられている。この第2加熱手段22間にもターボ分子ポンプ23が設けられている。
第2成膜室14は、第1成膜室13と同一の構成となっている。この第2成膜室14においても、第1成膜室13と同様に基板Sに対して、成膜を行う。
第2加熱室15は、第1加熱室12とは、第1加熱手段21の裏面側(天井側)にさらに排気手段としてのターボ分子ポンプ23が設けられている点で異なる。即ち、第2加熱室15においては、基板Sの搬送位置に対して上下に(天井側及び床面側に)それぞれターボ分子ポンプ23が設けられている。このように第2加熱室15を第1加熱室12にさらにターボ分子ポンプ23が設けられている構成とすることで、アニール時のパーティクルを減少させることができる。また、基板Sが連続搬送された場合には、基板間が数mm間隔で連続搬送されていることから、基板Sの上面側及び下面側でそれぞれガス雰囲気差が生じることが考えられるが、基板Sの上下にターボ分子ポンプ23が設けられていることでそれぞれ別個に排気を行うことができ、基板Sの上面側及び下面側におけるガス雰囲気差を低減することが可能である。これにより、均一な膜質で成膜を行うことができる。この第2加熱室15においても、第1加熱室12と同様に基板Sの加熱を行う。
第3成膜室16は、第1成膜室13と同一の構成となっている。この第3成膜室16においても、第1成膜室13と同様に基板Sに対して、成膜を行う。
このような成膜装置1においては、基板搬送手段20で基板Sを第1成膜室13から順次搬送する。これにより、基板S上には図2に示す積層構造が形成される。
ここで、図2を用いて基板上に形成される積層構造について説明する。図2に示す積層構造Iは、基板S上に、第1層31、第2層32、第3層33がこの順で形成されたものである。基板Sに対して成膜される第1層31は、第1成膜室13において成膜される。この第1層31上に形成された第2層32は、第2成膜室14において成膜される。第2層32上には、第3成膜室16で成膜された第3層33が形成されている。
図1に戻り、かかる積層構造を成膜装置1によりどのように形成するのかを説明する。基板Sは、始めに基板搬入室11から第1加熱室12に基板搬送手段20により搬入される。搬送された基板Sは、第1加熱室12において所定の温度(例えば250℃)まで加熱される。第1加熱室12における第1加熱手段21の設定温度は410℃、第2加熱手段22の設定温度は上流側が420℃、下流側が410℃である。なお、本実施形態においては、基板Sの搬送スピードは800〜900mm/分であるため、例えば基板Sが各処理室で加熱される時間は110〜130秒程度である。このように各成膜室で基板Sが搬出されるまでに約2分程度かかるとすれば、上述したような厚い基板Sであれば、二つの成膜室を通過するまでに基板温度が低下してしまう。
次いで、基板Sは、基板搬送手段20により第1成膜室13に搬入される。第1成膜室13では、例えばガス種:Arガス、成膜室内圧力:0.2〜5Paの条件でスパッタリングを行って基板S上に第1層31を形成する。この場合に、第1加熱室12における加熱と、第1成膜室13における第2加熱手段22(設定温度は410℃)により基板Sの表面の温度が200〜250℃程度となっていることから、所望の比抵抗の低い膜を形成することができる。
次に、基板搬送手段20により基板Sは第2成膜室14に搬入される。第2成膜室14では、例えばガス種:Arガス、成膜室内圧力:0.2〜5Paの条件でスパッタリングを行って基板Sの第1層31上に第2層32を形成する。この場合に、第1加熱室12における加熱と、第2成膜室14における第2加熱手段22(設定温度は410℃)により基板Sの表面の温度が180〜200℃程度となっていることから、所望の比抵抗の低い膜を形成することができる。
次に、基板搬送手段20により基板Sは第2加熱室15に搬入される。第2加熱室15では、第1加熱手段21の設定温度が370℃であり、第2加熱手段22の設定温度が370℃である。これにより、基板Sは再度250℃程度まで昇温される。
このように第2加熱室15で再度加熱することで基板Sの温度が昇温されて第1層31及び第2層32がそれぞれアニールされる。図3は、成膜時の基板温度に対する比抵抗を示しているグラフである。図3中◆で示されているのは、成膜時に各温度で加熱した場合の比抵抗である。図3に示すように、成膜時の温度が高いほど膜の比抵抗は低くなる。従って、本実施形態のように第2加熱室15を設けて第1成膜室13、第2成膜室14を通過して基板温度が低くなった基板Sを昇温させて第3成膜室16での成膜時の基板温度を高めて比抵抗を小さくすることが好ましいのである。
第2加熱室15で加熱することで、第1層31と第2層32の比抵抗を小さくすることができる。この点について、図4を用いて説明する。図4は、真空アニール(250℃)を行った場合の成膜温度に対する比抵抗を示しているグラフである。図4中×で示すように、どの成膜温度に対しても、図3に示す真空アニールを行わない場合と比較して比抵抗が低下していることが分かった。特に、本実施形態のように250℃で成膜し、真空アニールを250℃で一時間行った場合には、比抵抗は約440μΩ・cmであった。従って、図4で示すように、高温で真空アニールを行うことで、比抵抗は低下することがわかった。
また、比較として大気中でアニール(250℃)を行った場合の比抵抗を図5に示す。アニールを行わなかった場合よりも大気アニールを行った場合の方が比抵抗は低下したが、大気アニールを行った場合よりも真空アニールを行った場合に最も比抵抗は低下した。
即ち、図3から図5に示すように、所望の温度で加熱すると共に、成膜後にアニールを行うことが膜の比抵抗を低くする場合に有用である。特に、真空アニールが好ましい。従って、本実施形態のようなインライン式の成膜装置においては、複数の成膜室を有する場合には、成膜中に下がってしまった基板温度を上昇させると共にアニールを行うために成膜室間に加熱室を設けることで比抵抗を低下させることができるのである。また、第2加熱室15では、基板Sの上下にターボ分子ポンプ23が設けられていることで、連続搬送時においても膜の面内均一性が良い。
次に、基板搬送手段20により基板Sは第3成膜室16へ搬入される。この場合に、第2加熱室15における加熱と、第3成膜室16における第2加熱手段22(設定温度は420℃)により基板Sの表面の温度が200〜250℃程度となっていることから、所望の比抵抗の小さい透明導電膜を形成することができる。
成膜条件は、例えばガス種:Arガス、成膜室内圧力:0.2〜5Paである。即ち、第2加熱室15における加熱がない場合には、基板Sの表面温度が例えば180℃よりも低くなってしまうことが考えられ、これにより所望の膜を成膜することができない場合が考えられる。これに対し、本実施形態では、第2加熱室15を第2成膜室14と第3成膜室16との間に設けていることで、上述のように第3成膜室16での基板Sの表面温度を所望の温度まで上昇させることができる。
このように、本実施形態では、基板Sの搬送時において基板Sの表面温度が成膜中に低下してしまうことを防止するために、第2加熱室15を成膜室間に設けているのである。かつ、このように第2層32を形成した後に第2加熱室15により加熱することで、アニールを簡易に行うことができる。さらには、この第2加熱室15にもターボ分子ポンプ23が設けられていることで、アニール中のパーティクルも少なく、これによりアニール時にパーティクルが膜面に付着することを抑制できる。さらにまた、基板Sが連続搬送された場合には、基板の上面側及び下面側にそれぞれターボ分子ポンプ23が設けられていることでそれぞれ別個に排気を行うことができ、基板の上面側及び下面側におけるガス雰囲気差を低減することが可能である。これにより、均一な膜質で成膜を行うことができる。
因みに、このような基板Sの表面温度の低下は、本実施形態のような厚い基板(2.8mm以上)の基板を用いて、かつ、ローラーにより搬送する場合に生じる問題である。つまり、基板が厚い場合には加熱しても昇温しにくい。また、ローラー搬送の場合には、基板Sを例えばキャリアに設置することなく直接成膜することで成膜面積を広くすることはできるものの、昇温させ難い。このような場合には、基板Sの表面と裏面とで、また、基板の面内において温度差が生じて基板Sが割れてしまうことがある。従って、本実施形態のように成膜室間に加熱室を設けることが好ましいのである。
そして、このように三層形成されてなる積層構造Iが形成された基板Sは基板搬出室17へ搬送され、成膜装置1外へ搬送される。
このようにして得られた基板S上の積層構造Iは、比抵抗値が低く、例えば薄膜太陽電池用透明導電膜として有用である。かつ、アニール中におけるパーティクルが少ないことから透明性が高い。
このように、本実施形態の成膜装置1においては、複数の成膜室よりも上流側に一つ加熱室を設けると共に成膜室間にも加熱室を設けることで、所望の成膜を行うことができる。
本実施形態では、第2加熱室は第2成膜室と第3成膜室との間に設けたが、これに限定されない。加熱室の設置位置は、例えば、第1加熱室12、第1成膜室13、第2加熱室15、第2成膜室14、第2加熱室15と同一構成の第3加熱室、及び第3成膜室16の順に設けてもよい。この場合には、成膜後すぐに加熱室で加熱できることにより基板温度が下がりにくいため、比抵抗を低下させることができる。
即ち、膜の比抵抗は、成膜後、基板温度が大幅に低下する前に(例えば100℃以上低下する前に)アニールを行うことで低下する。例えば、第2加熱室15を第3成膜室16の下流側に設けるとすれば、基板温度が低下してしまった後にアニールを行うために、比抵抗は本実施形態のように低下しない。例えば、本実施形態では、比抵抗は440μΩ・cmであったが、第2加熱室15を第3成膜室16の下流側に設ける場合には、同条件で真空アニールを行ったとしても比抵抗は530μΩ・cmであった。このように、真空アニールする場合には、基板温度が大きく低下する前に加熱することで比抵抗を低下させやく、かつ、装置負荷を小さくすることができる。
従って、本実施形態のように基板温度が低下する前に真空アニールを行うことができるように、成膜室間に加熱室を設けることが好ましい。
また、成膜室と加熱室とを同一チャンバで行うことも考えられるが、成膜時の基板条件と加熱条件とが異なり、より高熱で加熱する場合には、搬送している基板を停止させてチャンバ内を加熱する必要がある。この場合には、本実施形態よりもタクトタイムが上昇してしまうことも考えられるので、本実施形態のように成膜室と加熱室とを独立して別個に設けるほうが好ましい。
本実施形態では、成膜方法はスパッタリング法であったが、これに限定されない。例えば他の成膜手段(CVD法、蒸着法)でも用いることができるが、本実施形態のようにスパッタリング法での基板の温度低下が一番問題となる。なお、本実施形態では成膜装置1にはスパッタリング法により成膜する成膜室のみ設けられているが、これに限定されない。例えば、他の成膜手段により成膜する成膜室を設けていてもよい。
本実施形態では、透明導電膜を形成したが、これに限定されない。他の電極膜等を形成することも可能である。
1 成膜装置
11 基板搬入室
12 第1加熱室
13 第1成膜室
14 第2成膜室
15 第2加熱室
16 第3成膜室
17 基板搬出室
20 基板搬送手段
21 第1加熱手段
22 第2加熱手段
23 ターボ分子ポンプ
24 スパッタリングターゲット
31 第1層
32 第2層
33 第3層

Claims (3)

  1. 複数の成膜室を備え、基板上に複数層を形成するインライン式の成膜装置であって、
    前記複数の成膜室よりも上流側に設けられ、搬送された前記基板を加熱する第1加熱室と、
    前記複数の成膜室間に設けられ、搬送された前記基板を加熱する第2加熱室とを少なくとも備え、
    前記第2加熱室の前記基板の搬送位置よりも天井面側及び床面側にそれぞれターボ分子ポンプが設けられていることを特徴とする成膜装置。
  2. 前記基板の厚みが2.8mm以上であることを特徴とする請求項1記載の成膜装置。
  3. 前記成膜室には、スパッタリング法により成膜を行う成膜手段が設けられていることを特徴とする請求項1又は2に記載の成膜装置。
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