JP6070719B2 - 化粧料の製造方法 - Google Patents
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Description
本発明は、環状低分子シロキサンよる、化粧料の感触や安定性が損なわれることを防止した化粧料に関するものである。また、本発明は、安定性や感触に加えて、泡立ちも損なわれない毛髪化粧料に関するものである。
シリコーンオイルは、無色、無臭で化学的、生理的にも不活性であることから、化粧料用途に広く利用されている。中でも高粘度オルガノポリシロキサンは、毛髪への付着性が良好なことから、毛髪化粧料によく用いられている。
しかし、高粘度オルガノポリシロキサンを直接乳化すると、エマルション粒子の平均粒子径は数ミクロン程度が限界で、それ以上微細なものは得難いため、エマルションの安定性が低い。
そこで、エマルションの安定性を高めるために微細なエマルション粒子を得るべく、乳化重合によるエマルションの製造方法が種々検討されてきた。例えば、環状シロキサンオリゴマーを乳化した状態で強酸あるいは強塩基によって乳化重合を行う方法が知られている（特許文献１、２、３）。しかし、いずれの方法もエマルション中に1000質量ppm以上のオクタメチルシクロテトラシロキサンが生成してしまい、このエマルションを化粧料に配合した場合では、安定性や感触が損なわれるという問題が生じる。
さらに近年、オクタメチルシクロテトラシロキサンが環境負荷物質として、懸念されるようになり、オクタメチルシクロテトラシロキサンの含有量を抑制した化粧料が求められている。
しかし、高粘度オルガノポリシロキサンを直接乳化すると、エマルション粒子の平均粒子径は数ミクロン程度が限界で、それ以上微細なものは得難いため、エマルションの安定性が低い。
そこで、エマルションの安定性を高めるために微細なエマルション粒子を得るべく、乳化重合によるエマルションの製造方法が種々検討されてきた。例えば、環状シロキサンオリゴマーを乳化した状態で強酸あるいは強塩基によって乳化重合を行う方法が知られている（特許文献１、２、３）。しかし、いずれの方法もエマルション中に1000質量ppm以上のオクタメチルシクロテトラシロキサンが生成してしまい、このエマルションを化粧料に配合した場合では、安定性や感触が損なわれるという問題が生じる。
さらに近年、オクタメチルシクロテトラシロキサンが環境負荷物質として、懸念されるようになり、オクタメチルシクロテトラシロキサンの含有量を抑制した化粧料が求められている。
従って、本発明の目的は、環状低分子シロキサンにより安定性や感触が損なわれない化粧料を提供すること、また、安定性や感触に加えて、泡立ちも損なわれない毛髪化粧料を提供することにある。
斯かる実情に鑑み、本発明者は鋭意研究を行った結果、オクタメチルシクロテトラシロキサンの含有量が1000質量ppm以下である乳化重合によって得られるオルガノポリシロキサンエマルションを得る方法を見出し、この方法により得られたオルガノポリシロキサンエマルションを用いた化粧料が、上記課題を解決できるものであることを見出し、本発明を完成するに至った。
即ち、本発明は次の化粧料を提供するものである。
(i) (a) 乳化重合によって得られ、オクタメチルシクロテトラシロキサンの含有量が1000質量ppm以下であるオルガノポリシロキサンエマルション
を0.1質量％以上含有する化粧料。
(i) (a) 乳化重合によって得られ、オクタメチルシクロテトラシロキサンの含有量が1000質量ppm以下であるオルガノポリシロキサンエマルション
を0.1質量％以上含有する化粧料。
(ii) (a)のオルガノポリシロキサンエマルションが、下記一般式（１）で表されるオルガノポリシロキサンを乳化重合させて得られることを特徴とする、(i)記載の化粧料。
ＨＯ（Ｒ1 2ＳｉＯ）nＨ （１）
（式中、Ｒ1は、独立に、水素原子又は置換もしくは非置換の炭素原子数１〜２０の炭化水素基であり、ｎは該オルガノポリシロキサンの２５℃における動粘度が３０００〜１０００００ｍｍ2／ｓとなる数。）
ＨＯ（Ｒ1 2ＳｉＯ）nＨ （１）
（式中、Ｒ1は、独立に、水素原子又は置換もしくは非置換の炭素原子数１〜２０の炭化水素基であり、ｎは該オルガノポリシロキサンの２５℃における動粘度が３０００〜１０００００ｍｍ2／ｓとなる数。）
(iii) (a)のオルガノポリシロキサンエマルションが、
（Ｉ）（Ａ）下記一般式（１）で表され、オクタメチルシクロテトラシロキサンの含有量が１０００質量ppm以下であるオルガノポリシロキサン １００質量部、
ＨＯ（Ｒ1 2ＳｉＯ）nＨ （１）
（式中、Ｒ1は、独立に、水素原子又は置換もしくは非置換の炭素原子数１〜２０の炭化水素基であり、ｎは該オルガノポリシロキサンの２５℃における動粘度が３０００〜１０００００ｍｍ2／ｓとなる数。）
（Ｂ）ノニオン性界面活性剤 １〜１００質量部、
（Ｃ）アニオン性界面活性剤 １〜１００質量部
（ただし、（Ｂ）成分：（Ｃ）成分の質量比＝１：９９〜６５：３５の範囲である。）
及び
（Ｄ−１）水 １〜１０質量部
を含む混合物の乳化を行って第１のエマルション組成物を調製し、
（ＩＩ）該第１のエマルション組成物に、水を加えずに、又は、
（Ｄ−２）１０００００質量部以下の水
を加えた後、４０℃未満の温度で、（Ｅ）酸触媒の存在下（但し、（Ｃ）アニオン性界面活性剤が触媒作用を有する場合には、該酸触媒は不要である。）、乳化重合によって調製されることを特徴とする、(i)又は(ii)記載の化粧料。
（Ｉ）（Ａ）下記一般式（１）で表され、オクタメチルシクロテトラシロキサンの含有量が１０００質量ppm以下であるオルガノポリシロキサン １００質量部、
ＨＯ（Ｒ1 2ＳｉＯ）nＨ （１）
（式中、Ｒ1は、独立に、水素原子又は置換もしくは非置換の炭素原子数１〜２０の炭化水素基であり、ｎは該オルガノポリシロキサンの２５℃における動粘度が３０００〜１０００００ｍｍ2／ｓとなる数。）
（Ｂ）ノニオン性界面活性剤 １〜１００質量部、
（Ｃ）アニオン性界面活性剤 １〜１００質量部
（ただし、（Ｂ）成分：（Ｃ）成分の質量比＝１：９９〜６５：３５の範囲である。）
及び
（Ｄ−１）水 １〜１０質量部
を含む混合物の乳化を行って第１のエマルション組成物を調製し、
（ＩＩ）該第１のエマルション組成物に、水を加えずに、又は、
（Ｄ−２）１０００００質量部以下の水
を加えた後、４０℃未満の温度で、（Ｅ）酸触媒の存在下（但し、（Ｃ）アニオン性界面活性剤が触媒作用を有する場合には、該酸触媒は不要である。）、乳化重合によって調製されることを特徴とする、(i)又は(ii)記載の化粧料。
(iv) (iii)の乳化重合時の温度が、−15〜5℃であることを特徴とする(ii) 又は(iii)に記載の化粧料。
(v) (a)の乳化重合によって得られるオルガノポリシロキサンエマルション中のD4のD3〜D10までの合計量に占める割合が60質量％以上であることを特徴とする(i)〜(iv)の何れか１項記載の化粧料。
(vi) (a)の乳化重合によって得られるオルガノポリシロキサンエマルション中のD3〜D10までの合計量が1000質量ppm以下であることを特徴とする(i)〜(v)の何れか１項記載の化粧料。
(vii) (a)のオルガノポリシロキサンエマルションの平均粒子径が300nm以下であることを特徴とする、(i)〜(vi)の何れか１項記載の化粧料。ここで、平均粒子径は体積基準のメジアン径の値である。
(viii) (a)に加えて、
(b)界面活性剤
(c)カチオン性ポリマー
を含有する(i)〜(vii)の何れか１項記載の化粧料。
(b)界面活性剤
(c)カチオン性ポリマー
を含有する(i)〜(vii)の何れか１項記載の化粧料。
(ix) 毛髪化粧料である(i)〜(viii)の何れか１項記載の化粧料。
本発明によれば、環状低分子シロキサンよる化粧料の安定性や感触が損なわれない化粧料を得ることができる。また更に、毛髪用途では、安定性や感触に加えて、あわ立ちも損なわれない毛髪化粧料を得ることができる。
−材料−
まず、本発明に用いる原料、材料について説明する。
＜(a)オクタメチルシクロテトラシロキサンの含有量が1000質量ppm以下である乳化重合によって得られるオルガノポリシロキサンエマルション＞
このエマルションは、例えば次の方法により調製することができる。
まず、本発明に用いる原料、材料について説明する。
＜(a)オクタメチルシクロテトラシロキサンの含有量が1000質量ppm以下である乳化重合によって得られるオルガノポリシロキサンエマルション＞
このエマルションは、例えば次の方法により調製することができる。
すなわち、（Ａ）下記一般式（１）で表され、オクタメチルシクロテトラシロキサンの含有量が１０００質量ppm以下であるオルガノポリシロキサン
ＨＯ（Ｒ1 2ＳｉＯ）nＨ （１）
（式中、Ｒ1は、独立に、水素原子又は置換もしくは非置換の炭素原子数１〜２０の炭化水素基であり、ｎは該オルガノポリシロキサンの２５℃における動粘度が３０００〜１０００００ｍｍ2/ｓとなる数。)
を、乳化剤と水により、O/Wのエマルションを調製後、酸または塩基触媒を添加することで乳化重合を行うことで調製することができる。
ＨＯ（Ｒ1 2ＳｉＯ）nＨ （１）
（式中、Ｒ1は、独立に、水素原子又は置換もしくは非置換の炭素原子数１〜２０の炭化水素基であり、ｎは該オルガノポリシロキサンの２５℃における動粘度が３０００〜１０００００ｍｍ2/ｓとなる数。)
を、乳化剤と水により、O/Wのエマルションを調製後、酸または塩基触媒を添加することで乳化重合を行うことで調製することができる。
詳細には、次の方法が好ましい。
（Ｉ）（Ａ）下記一般式（１）で表され、オクタメチルシクロテトラシロキサンの含有量が１０００質量ppm以下であるオルガノポリシロキサン
ＨＯ（Ｒ1 2ＳｉＯ）nＨ （１）
（式中、Ｒ1及びｎは前記と同じものを示す)
（Ｂ）ノニオン性界面活性剤
（Ｃ）アニオン性界面活性剤
（ただし、（Ｂ）成分：（Ｃ）成分の質量比＝１：９９〜６５：３５の範囲である。）
及び
（Ｄ−１）水
を含む混合物の乳化を行って第１のエマルション組成物を調製し、
（ＩＩ）該第１のエマルション組成物に、水を加えずに、又は、
（Ｄ−２）水
を加えた後、４０℃未満の温度で、（Ｅ）酸触媒の存在下（但し、（Ｃ）アニオン性界面活性剤が触媒作用を有する場合には、該酸触媒は不要である。）、乳化重合によって調製する。
ＨＯ（Ｒ1 2ＳｉＯ）nＨ （１）
（式中、Ｒ1及びｎは前記と同じものを示す)
（Ｂ）ノニオン性界面活性剤
（Ｃ）アニオン性界面活性剤
（ただし、（Ｂ）成分：（Ｃ）成分の質量比＝１：９９〜６５：３５の範囲である。）
及び
（Ｄ−１）水
を含む混合物の乳化を行って第１のエマルション組成物を調製し、
（ＩＩ）該第１のエマルション組成物に、水を加えずに、又は、
（Ｄ−２）水
を加えた後、４０℃未満の温度で、（Ｅ）酸触媒の存在下（但し、（Ｃ）アニオン性界面活性剤が触媒作用を有する場合には、該酸触媒は不要である。）、乳化重合によって調製する。
以上のようにして得られたエマルション中のオクタメチルシクロテトラシロキサンの含有量は1000質量ppm以下である。
該エマルション(a)の化粧料への配合量は、0.1質量％以上であるが、0.1〜10質量％が好ましく、さらに0.2〜3質量％が好ましい。
該エマルション(a)の化粧料への配合量は、0.1質量％以上であるが、0.1〜10質量％が好ましく、さらに0.2〜3質量％が好ましい。
次に、上記製造法に用いる原料について更に詳細に説明する。
＜（Ａ）オルガノポリシロキサン＞
（Ａ）は上記一般式（１）で表され、オクタメチルシクロテトラシロキサンの含有量が１０００質量ppm以下であるオルガノポリシロキサンである。
（Ａ）は上記一般式（１）で表され、オクタメチルシクロテトラシロキサンの含有量が１０００質量ppm以下であるオルガノポリシロキサンである。
一般式（１）中、Ｒ1は水素原子又は置換もしくは非置換の炭素原子数１〜２０の炭化水素基である。非置換の炭素原子数１〜２０の炭化水素基としては、例えば、炭素原子数１〜２０のアルキル基、炭素原子数３〜２０のシクロアルキル基、炭素原子数２〜２０のアルケニル基、炭素原子数６〜２０のアリール基、炭素原子数７〜２０のアラルキル基が挙げられる。具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ドデシル基、テトラデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基等のアルキル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等のシクロアルキル基、ビニル、アリル等のアルケニル基、フェニル基、トリル基、ナフチル基等のアリール基等が挙げられる。置換された炭素原子数１〜２０の炭化水素基としては、上に例示した炭素原子数１〜２０の１価炭化水素基中の水素原子の一部をハロゲン原子、アミノ基、アクリロキシ基、メタクリロキシ基、エポキシ基、メルカプト基、カルボキシル基、ヒドロキシル基等で置換したものが例示される。好ましくは、炭素原子数１〜６の炭化水素基であり、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、フェニル基である。更に好ましくは、全Ｒ1の８０質量％以上がメチル基であるものである。
一般式（１）中、ｎは、該オルガノポリシロキサンの２５℃における動粘度が３０００〜１０００００ｍｍ2／ｓとなる値である。同粘度が３０００ｍｍ2／ｓ未満であると、目的エマルション中に含まれるオルガノポリシロキサンを所望の粘度にするために乳化重合の時間を長くする必要が生じ、乳化重合中に副生するオクタメチルシクロテトラシロキサンの量が多くなるため、化粧料に配合した時の安定性や感触、あわ立ちに負の影響を与えてしまう。一方で、粘度が高すぎると、得られる目的エマルションの安定性が悪くなるため、化粧料に配合した時の安定性も悪くなってしまう。この粘度は、好ましくは３０００〜５００００ｍｍ2／ｓであり、特に好ましくは４０００〜２００００ｍｍ2／ｓである。
＜（Ｂ）成分のノニオン性界面活性剤＞
（Ｂ）成分のノニオン性界面活性剤としては、例えばポリオキシアルキレンアルキルエーテル、ポリオキシアルキレンアルキルフェノールエーテル、ポリオキシアルキレンアルキルエステル、ポリオキシアルキレンソルビタンアルキルエステル、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ジエチレングリコール等が例示される。中でも、一般式：
（Ｂ）成分のノニオン性界面活性剤としては、例えばポリオキシアルキレンアルキルエーテル、ポリオキシアルキレンアルキルフェノールエーテル、ポリオキシアルキレンアルキルエステル、ポリオキシアルキレンソルビタンアルキルエステル、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ジエチレングリコール等が例示される。中でも、一般式：
Ｒ2Ｏ（ＥＯ）p（ＡＯ）qＨ
（式中、Ｒ2は炭素原子数８〜３０の直鎖又は分岐のアルキル基であり、ＥＯはエチレンオキシド基、ＡＯは炭素数３〜６のアルキレンオキシド基を表し、それらの配列はブロック状でもランダム状でもよい。ｐ及びｑは独立に０〜１００の整数であり、ただし、ｐ＋ｑ＞０である。）
で表されるものが好ましい。ここで、ＡＯで示される炭素数３〜６のアルキレンオキシド基としては、プロピレンオキシド基、ブチレンオキシド基、ヘキシレンオキシド基が挙げられる。特に好ましくは、Ｒ2は炭素原子数８〜１２の直鎖又は分岐のアルキル基で、ｐ及びｑは独立に０〜２５のものである。
で表されるものが好ましい。ここで、ＡＯで示される炭素数３〜６のアルキレンオキシド基としては、プロピレンオキシド基、ブチレンオキシド基、ヘキシレンオキシド基が挙げられる。特に好ましくは、Ｒ2は炭素原子数８〜１２の直鎖又は分岐のアルキル基で、ｐ及びｑは独立に０〜２５のものである。
（Ｂ）成分の使用量は、（Ａ）成分１００質量部に対して、１〜１００質量部用いることができ、好ましくは、２〜２５質量部、特に好ましくは、３〜１０質量部である。（Ｂ）成分は、１種単独でも２種以上組み合わせて使用してもよい。
＜（Ｃ）成分のアニオン性界面活性剤＞
（Ｃ）成分のアニオン性界面活性剤としては、例えば、次に示すものが挙げられる。
・一般式（Ｃ−１）：
（Ｃ）成分のアニオン性界面活性剤としては、例えば、次に示すものが挙げられる。
・一般式（Ｃ−１）：
Ｒ3ＯＳＯ3Ｍ （Ｃ−１）
（式中、Ｒ3は炭素原子数６〜３０の直鎖又は分岐のアルキル基で、Ｍは水素原子、カリウム、ナトリウム等のアルカリ金属原子、マグネシウム、カルシウム等のアルカリ土類金属原子、アンモニウムイオン又は第４級アンモニウムイオンである。）
で表されるアルキル硫酸又はその塩
・一般式（Ｃ−２）：
で表されるアルキル硫酸又はその塩
・一般式（Ｃ−２）：
Ｒ3−Ｐｈ−ＳＯ3Ｍ （Ｃ−２）
（式中、Ｒ3及びＭは式（Ｃ−１）で定義と同じである）
で表されるアルキルベンゼンスルホン酸又はその塩
で表されるアルキルベンゼンスルホン酸又はその塩
式（Ｃ−１）及び式（Ｃ−２）において、好ましくは、Ｒ3が炭素原子数６〜１２の直鎖又は分岐のアルキル基であり、Ｍが水素原子、カリウム、ナトリウム等のアルカリ金属原子、マグネシウム、カルシウム等のアルカリ土類金属原子、アンモニウムイオン又は第４級アンモニウムイオンであるものである。
式（Ｃ−１）で表されるアルキル硫酸又はその塩の具体例としては、ヘキシル硫酸、オクチル硫酸、デシル硫酸、ドデシル硫酸、テトラデシル硫酸、セチル硫酸、オクタデシル硫酸、アラキル硫酸およびそれらのリチウム塩、ナトリウム塩、カリウム塩等のアルカリ金属塩、マグネシウム塩、カルシウム塩等のアルカリ土類金属塩、トリエタノールアンモニウム塩、アンモニウム塩が挙げられる。
式（Ｃ−２）で表されるアルキルベンゼンスルホン酸又はその塩の具体例としては、ヘキシルベンゼンスルホン酸、オクチルベンゼンスルホン酸、デシルベンゼンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、セチルベンゼンスルホン酸、ミリスチルベンゼンスルホン酸及びその塩等が例示される。
・一般式（Ｃ−３）：
Ｒ3Ｏ（ＥＯ）n（ＡＯ）mＳＯ3Ｍ （Ｃ−３）
（式中、Ｒ3は炭素原子数６〜３０の直鎖又は分岐のアルキル基で、Ｍは水素原子、カリウム、ナトリウム等のアルカリ金属原子、マグネシウム、カルシウム等のアルカリ土類金属原子、アンモニウムイオン又は第４級アンモニウムイオンで、ＥＯはエチレンオキシド基、ＡＯは炭素数３〜６のアルキレンオキシド基を表し、それらの配列はブロック状でもランダム状でもよい。ｎ及びｍは独立に０〜１００の整数であり、但し、ｎ＋ｍ＞０である。）
で表されるポリオキシアルキレンアルキルエーテル硫酸又はポリオキシアルキレンアルキルエーテル硫酸エステル塩が挙げられる。ここで、ＡＯで示される炭素数３〜６のアルキレンオキシド基としては、プロピレンオキシド基、ブチレンオキシド基、ヘキシレンオキシド基が挙げられる。具体例としては、ポリオキシエチレンヘキシルエーテル硫酸、ポリオキシエチレンオクチルエーテル硫酸、ポリオキシエチレンデシルエーテル硫酸、ポリオキシエチレンドデシルエーテル硫酸、ポリオキシエチレンテトラデシルエーテル硫酸、ポリオキシエチレンセチルエーテル硫酸、ポリオキシエチレンオクタデシルエーテル硫酸、ポリオキシエチレンアラキルエーテル硫酸およびそれらのリチウム塩、ナトリウム塩、カリウム塩等のアルカリ金属塩、マグネシウム塩、カルシウム塩等のアルカリ土類金属塩、トリエタノールアンモニウム塩、アンモニウム塩が挙げられる。
Ｒ3Ｏ（ＥＯ）n（ＡＯ）mＳＯ3Ｍ （Ｃ−３）
（式中、Ｒ3は炭素原子数６〜３０の直鎖又は分岐のアルキル基で、Ｍは水素原子、カリウム、ナトリウム等のアルカリ金属原子、マグネシウム、カルシウム等のアルカリ土類金属原子、アンモニウムイオン又は第４級アンモニウムイオンで、ＥＯはエチレンオキシド基、ＡＯは炭素数３〜６のアルキレンオキシド基を表し、それらの配列はブロック状でもランダム状でもよい。ｎ及びｍは独立に０〜１００の整数であり、但し、ｎ＋ｍ＞０である。）
で表されるポリオキシアルキレンアルキルエーテル硫酸又はポリオキシアルキレンアルキルエーテル硫酸エステル塩が挙げられる。ここで、ＡＯで示される炭素数３〜６のアルキレンオキシド基としては、プロピレンオキシド基、ブチレンオキシド基、ヘキシレンオキシド基が挙げられる。具体例としては、ポリオキシエチレンヘキシルエーテル硫酸、ポリオキシエチレンオクチルエーテル硫酸、ポリオキシエチレンデシルエーテル硫酸、ポリオキシエチレンドデシルエーテル硫酸、ポリオキシエチレンテトラデシルエーテル硫酸、ポリオキシエチレンセチルエーテル硫酸、ポリオキシエチレンオクタデシルエーテル硫酸、ポリオキシエチレンアラキルエーテル硫酸およびそれらのリチウム塩、ナトリウム塩、カリウム塩等のアルカリ金属塩、マグネシウム塩、カルシウム塩等のアルカリ土類金属塩、トリエタノールアンモニウム塩、アンモニウム塩が挙げられる。
・一般式（Ｃ−４）：
Ｒ3−Ｐｈ−Ｏ（ＥＯ）n（ＡＯ）mＳＯ3Ｍ （Ｃ−４）
（式中、Ｒ3、Ｍ、ＥＯ、ＡＯ、ｎ及びｍは式（Ｃ−３）で定義の通り）
で表されるポリオキシアルキレンアルキルフェニルエーテル硫酸及びポリオキシアルキレンアルキルフェニルエーテル硫酸エステル塩等がある。その具体例としては、ポリオキシエチレンヘキシルフェニルエーテル硫酸、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル硫酸、ポリオキシエチレンデシルフェニルエーテル硫酸、ポリオキシエチレンドデシルフェニルエーテル硫酸、ポリオキシエチレンセチルフェニルエーテル硫酸、ポリオキシエチレンミリスチルフェニルエーテル硫酸及びそれらのリチウム塩、ナトリウム塩、カリウム塩等のアルカリ金属塩、マグネシウム塩、カルシウム塩等のアルカリ土類金属塩、トリエタノールアンモニウム塩、アンモニウム塩が挙げられる。
Ｒ3−Ｐｈ−Ｏ（ＥＯ）n（ＡＯ）mＳＯ3Ｍ （Ｃ−４）
（式中、Ｒ3、Ｍ、ＥＯ、ＡＯ、ｎ及びｍは式（Ｃ−３）で定義の通り）
で表されるポリオキシアルキレンアルキルフェニルエーテル硫酸及びポリオキシアルキレンアルキルフェニルエーテル硫酸エステル塩等がある。その具体例としては、ポリオキシエチレンヘキシルフェニルエーテル硫酸、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル硫酸、ポリオキシエチレンデシルフェニルエーテル硫酸、ポリオキシエチレンドデシルフェニルエーテル硫酸、ポリオキシエチレンセチルフェニルエーテル硫酸、ポリオキシエチレンミリスチルフェニルエーテル硫酸及びそれらのリチウム塩、ナトリウム塩、カリウム塩等のアルカリ金属塩、マグネシウム塩、カルシウム塩等のアルカリ土類金属塩、トリエタノールアンモニウム塩、アンモニウム塩が挙げられる。
その他、（Ｃ）成分としては、ラウリン酸、ステアリン酸、オレイン酸、リノレン酸等の高級脂肪酸の塩（好ましくは、アルカリ金属塩又はアルカリ土類金属塩）が挙げられる。
本（Ｃ）成分の使用量は、（Ａ）成分１００質量部に対して、１〜１００質量部用いることが好ましい。より好ましくは、２〜２５質量部、特に好ましくは、３〜１０質量部である。（Ｃ）成分は、１種単独でも２種以上組み合わせて使用してもよい。
また、（Ｂ）成分と（Ｃ）成分の質量比は（Ｂ）：（Ｃ）＝１：９９〜６５：３５の範囲が好ましい。（Ｂ）／（Ｃ）が１．８６を超える範囲では、乳化重合における反応速度が著しく低下する。得られるエマルション組成物の安定性を高めることを考えると、好ましくは、（Ｂ）：（Ｃ）＝２０：８０〜５５：４５、特に好ましくは、（Ｂ）：（Ｃ）＝３０：７０〜４５：５５である。
また、（Ｂ）成分と（Ｃ）成分の質量比は（Ｂ）：（Ｃ）＝１：９９〜６５：３５の範囲が好ましい。（Ｂ）／（Ｃ）が１．８６を超える範囲では、乳化重合における反応速度が著しく低下する。得られるエマルション組成物の安定性を高めることを考えると、好ましくは、（Ｂ）：（Ｃ）＝２０：８０〜５５：４５、特に好ましくは、（Ｂ）：（Ｃ）＝３０：７０〜４５：５５である。
＜（Ｄ）水＞
水は、工程（Ｉ）において、（Ｄ−１）として、（Ａ）１００質量部当たり、１〜１０質量部加える。ここで１０質量部を超えて添加すると、エマルション粒子の平均粒子径が３００ｎｍ以下と微細であるエマルション組成物を得ることが困難であり、エマルションの安定性が低下する。一方、１質量部未満であると、Ｏ／Ｗ型のエマルションとなり難い。好ましくは、（Ａ）１００質量部当たり、２〜８質量部であり、特に好ましくは、４〜６質量部である。
水は、工程（ＩＩ）においては加えなくてもよいし、加えてもよいが、加える場合には、（Ｄ−２）として、（Ａ）１００質量部当たり、１０００００質量部以下の量で加える。
水は、工程（Ｉ）において、（Ｄ−１）として、（Ａ）１００質量部当たり、１〜１０質量部加える。ここで１０質量部を超えて添加すると、エマルション粒子の平均粒子径が３００ｎｍ以下と微細であるエマルション組成物を得ることが困難であり、エマルションの安定性が低下する。一方、１質量部未満であると、Ｏ／Ｗ型のエマルションとなり難い。好ましくは、（Ａ）１００質量部当たり、２〜８質量部であり、特に好ましくは、４〜６質量部である。
水は、工程（ＩＩ）においては加えなくてもよいし、加えてもよいが、加える場合には、（Ｄ−２）として、（Ａ）１００質量部当たり、１０００００質量部以下の量で加える。
＜（Ｅ）酸触媒＞
（Ｅ）成分の酸触媒は、乳化重合の工程（ＩＩ）で重合系に存在すれば、どの時点で添加してもよい。該酸触媒としては、塩酸、硫酸、陽イオン交換樹脂等が例示される。ただし、（Ｃ）成分に酸触媒としての作用がある場合には、用いなくてもよい。
（Ｅ）成分の酸触媒は、乳化重合の工程（ＩＩ）で重合系に存在すれば、どの時点で添加してもよい。該酸触媒としては、塩酸、硫酸、陽イオン交換樹脂等が例示される。ただし、（Ｃ）成分に酸触媒としての作用がある場合には、用いなくてもよい。
−工程（Ｉ）−
（Ａ），（Ｂ），（Ｃ）及び（Ｄ−１）成分を乳化して第１のエマルション組成物を得る。ここでの乳化は、ホモディスパー、ホモミキサー、コロイドミル、ラインミキサー、万能混合機、ウルトラミキサー、プラネタリーミキサー、コンビミックス等の乳化機を用いて行うことができる。
この工程で、用いる（Ｃ）成分に酸触媒作用がある場合や、（Ｅ）成分を添加した場合は、縮合も同時に進行するため、４０℃未満の温度で乳化を行う必要がある。もし、４０℃以上の温度で乳化を行うと、オクタメチルシクロテトラシロキサンの生成が多くなる恐れがある。そのため、好ましくは１５℃未満、特に好ましくは５℃未満の温度で乳化を行う。
（Ａ），（Ｂ），（Ｃ）及び（Ｄ−１）成分を乳化して第１のエマルション組成物を得る。ここでの乳化は、ホモディスパー、ホモミキサー、コロイドミル、ラインミキサー、万能混合機、ウルトラミキサー、プラネタリーミキサー、コンビミックス等の乳化機を用いて行うことができる。
この工程で、用いる（Ｃ）成分に酸触媒作用がある場合や、（Ｅ）成分を添加した場合は、縮合も同時に進行するため、４０℃未満の温度で乳化を行う必要がある。もし、４０℃以上の温度で乳化を行うと、オクタメチルシクロテトラシロキサンの生成が多くなる恐れがある。そのため、好ましくは１５℃未満、特に好ましくは５℃未満の温度で乳化を行う。
この工程（Ｉ）において、第１のエマルション組成物のエマルション粒子の平均粒子径が３００ｎｍ以下、好ましくは２００ｎｍ以下、特に好ましくは１５０ｎｍ以下になるまで、（Ａ），（Ｂ），（Ｃ）及び（Ｄ−１）成分をよく混合する。工程（Ｉ）で得られる第１のエマルション粒子の粒径が小さければ小さいほど、工程（ＩＩ）における重合速度が上昇するため、重合時間の短縮につながる。また、第１のエマルション組成物のエマルション粒子の平均粒子径が３００ｎｍ以下になる結果、次の工程で得られる最終的なエマルション粒子の平均粒子径も３００ｎｍ以下になる。好ましくは２００ｎｍ以下、特に好ましくは１５０ｎｍ以下である。
＜工程（ＩＩ）＞
この工程の初めに水（Ｄ−２）を、（Ａ）成分１００質量部に対して０〜１０００００質量部の範囲で加えた後に乳化重合に供する。即ち、乳化重合前の水の添加は任意であり、加えなくてもよいし、加える場合には１０００００質量部以下の範囲で添加する。好ましくは、０〜１０００質量部、特に好ましくは、０〜２００質量部である。
このように、第１のエマルション組成物に水（Ｄ−２）を添加した場合にはその後に、高圧ホモジナイザー等の乳化機により、更に乳化分散することもできる。
この工程の初めに水（Ｄ−２）を、（Ａ）成分１００質量部に対して０〜１０００００質量部の範囲で加えた後に乳化重合に供する。即ち、乳化重合前の水の添加は任意であり、加えなくてもよいし、加える場合には１０００００質量部以下の範囲で添加する。好ましくは、０〜１０００質量部、特に好ましくは、０〜２００質量部である。
このように、第１のエマルション組成物に水（Ｄ−２）を添加した場合にはその後に、高圧ホモジナイザー等の乳化機により、更に乳化分散することもできる。
次に、該エマルション組成物を、乳化重合に供する。該重合工程は、４０℃未満の温度で、４８時間以内で行うことが好ましい。４０℃以上の温度で重合を行うとオクタメチルシクロテトラシロキサンの生成が多くなってしまう虞がある。そのため、好ましくは１５℃未満、特に好ましくは５℃以下の温度が良く、更に−１５℃〜５℃が好ましい。また、重合時間は４８時間を超えると、オクタメチルシクロテトラシロキサンの生成が多くなってしまう虞がある。そのため重合時間は好ましくは、１〜３０時間、特に好ましくは、５〜２４時間以内である。
その時の、乳化重合により生成したオルガノポリシロキサンの絶対粘度は、３０万〜2000万ｍＰａ・ｓとなり、エマルション中のオクタメチルシクロテトラシロキサンの含有量は、１０００質量ｐｐｍ以下となる。
乳化重合は（Ｅ）酸触媒の存在下で行うことにより重合を促し、重合時間を短縮することができる。（Ｃ）のアニオン性界面活性剤が酸触媒の作用を有する場合には、重合系に（Ｃ）のほかに別途（Ｅ）酸触媒を添加するには及ばないが、添加してもよい。
乳化重合は（Ｅ）酸触媒の存在下で行うことにより重合を促し、重合時間を短縮することができる。（Ｃ）のアニオン性界面活性剤が酸触媒の作用を有する場合には、重合系に（Ｃ）のほかに別途（Ｅ）酸触媒を添加するには及ばないが、添加してもよい。
本発明のエマルション組成物の製造方法によれば、重合時間、１５時間以内に、通常５〜１５時間の範囲で、生成するオルガノポリシロキサンの絶対粘度（２５℃）が３０万ｍＰａ・ｓ以上に達する。好ましくは１５時間以内に５０万ｍＰａ・ｓ以上、更に好ましくは１００万ｍＰａ・ｓ、特に好ましくは、５００万ｍＰａ・ｓ以上である。
＜その他の処理＞
重合が終了したら、通常、得られたエマルション組成物を塩基性物質で中和する。塩基性物質としては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸水素ナトリウム、トリエタノールアミン、トリエチルアミン等のアミン化合物等が挙げられる。
この時に水を添加しシリコーン濃度を調整することができ、エマルション組成物の保存性を高めるために防腐剤、防黴剤等を添加することもできる。
重合が終了したら、通常、得られたエマルション組成物を塩基性物質で中和する。塩基性物質としては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸水素ナトリウム、トリエタノールアミン、トリエチルアミン等のアミン化合物等が挙げられる。
この時に水を添加しシリコーン濃度を調整することができ、エマルション組成物の保存性を高めるために防腐剤、防黴剤等を添加することもできる。
乳化を行う工程（Ｉ）や乳化重合する工程（ＩＩ）、あるいは中和を行った後のエマルション組成物に、Ｒ1 3ＳｉＯ（Ｒ1 2ＳｉＯ）nＳｉＲ1 3のようなオルガノポリシロキサンを添加することで末端が不活性トリオルガノシロキシ基で封鎖されたオルガノポリシロキサンを得ることができ、また、Ｒ1 3Ｓｉ（ＯＲ4）1、Ｒ1 2Ｓｉ（ＯＲ4）2、Ｒ1 1Ｓｉ（ＯＲ4）3のようなアルコキシシランを添加することで得られるオルガノポリシロキサン鎖に分岐単位の導入、各種官能基の導入も可能である。なお、ここで、Ｒ1は前記の通り、水素原子又は置換もしくは非置換の炭素原子数１〜２０、好ましくは１〜６、の炭化水素基であり、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、フェニル基である。Ｒ4は、同一又は異種の炭素原子数１〜２０のアルキル基あるいは水素原子である。ｎは０〜１００である。
本発明において、D4（オクタメチルシクロテトラシロキサン）のD3（ヘキサメチルシクロトリシロキサン）〜D10(エイコサメチルシクロデカシロキサン)までの合計量に占める割合が60質量％以上であると、化粧料の感触、安定性、毛髪化粧料では、感触、安定性に加え泡立ち性も向上する。これは、D4よりもD5（デカメチルシクロペンタシロキサン）〜D10までのほうが、化粧料の感触や安定性、毛髪化粧料では、感触、安定性に加え、泡立ち性にも負の影響を与えるためであり、好ましくはD4のD3〜D10までの合計量に占める割合は70質量％以上である。同様な理由によりD5〜D10の各々のD3〜D10までの合計量に占める割合はそれぞれ30質量％以下であり、好ましくは20質量％以下である。
また、D4の含有量が1000質量ppmよりも多いと環境への負荷が高くなり、(a)中に含まれるD4以外の環状低分子シロキサンの量が多いと、化粧料の感触、安定性が著しく低下する。また、毛髪化粧料では、感触、安定性に加え、あわ立ち性も低下する。
該環状低分子シロキサンの量は、D3では100質量ppm, D5では300質量ppm, D6では200質量ppm, D7〜D10では、それぞれ100質量ppmを超える量である。そのため、好ましくは、D3では50質量ppm以下, D5では200質量ppm以下, D6では150質量ppm以下, D7〜D10では、それぞれ50質量ppm以下であり、特に好ましくは、D3では30質量ppm以下, D5では150質量ppm以下, D6では100質量ppm以下, D7〜D10では、それぞれ20質量ppm以下である。
また、各々のD3〜D10までの量は上記に示したとおりであるが、その合計量は、1000ppm以下であることが好ましい。1000ppmを超えると、化粧料の感触、安定性が低下するためである。
該環状低分子シロキサンの量は、D3では100質量ppm, D5では300質量ppm, D6では200質量ppm, D7〜D10では、それぞれ100質量ppmを超える量である。そのため、好ましくは、D3では50質量ppm以下, D5では200質量ppm以下, D6では150質量ppm以下, D7〜D10では、それぞれ50質量ppm以下であり、特に好ましくは、D3では30質量ppm以下, D5では150質量ppm以下, D6では100質量ppm以下, D7〜D10では、それぞれ20質量ppm以下である。
また、各々のD3〜D10までの量は上記に示したとおりであるが、その合計量は、1000ppm以下であることが好ましい。1000ppmを超えると、化粧料の感触、安定性が低下するためである。
化粧料成分
＜(b)界面活性剤＞
本発明の化粧料に配合し得る界面活性剤は、ノニオン性界面活性剤、アニオン性界面活性剤、カチオン性界面活性剤、両性界面活性剤が挙げられる。
ノニオン性界面活性剤としては、レシチン誘導体、プロピレングリコール脂肪酸エステル、グリセリン脂肪酸エステル、ポリグリセリン脂肪酸エステル、ポリオキシアルキレングリセリン脂肪酸エステル、ソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシアルキレンソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシアルキレンソルビット脂肪酸エステル、ポリオキシアルキレンラノリン誘導体、ポリオキシアルキレンラノリンアルコール誘導体、ポリオキシアルキレンミツロウ誘導体、ポリオキシアルキレン硬化ヒマシ油、ポリオキシアルキレンステロール、ポリオキシアルキレン水素添加ステロール、ポリオキシアルキレンアルキルエーテル、ポリオキシアルキレンアルキルフェノールエーテル、ポリオキシアルキレングリコール脂肪酸エステル、アルキルアルカノールアミド、アルキルポリグルコシド等が挙げられる。ここで、ポリオキシアルキレンはポリオキシエチレン又はポリオキシプロピレンを表し、分子中のオキシエチレンユニットとオキシプロピレンユニットはランダムでもブロックでもよい。また、アルキル基は一般に6〜30個の炭素原子を含有し、直鎖でも、分岐でもよく、更に不飽和であっても良い。
＜(b)界面活性剤＞
本発明の化粧料に配合し得る界面活性剤は、ノニオン性界面活性剤、アニオン性界面活性剤、カチオン性界面活性剤、両性界面活性剤が挙げられる。
ノニオン性界面活性剤としては、レシチン誘導体、プロピレングリコール脂肪酸エステル、グリセリン脂肪酸エステル、ポリグリセリン脂肪酸エステル、ポリオキシアルキレングリセリン脂肪酸エステル、ソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシアルキレンソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシアルキレンソルビット脂肪酸エステル、ポリオキシアルキレンラノリン誘導体、ポリオキシアルキレンラノリンアルコール誘導体、ポリオキシアルキレンミツロウ誘導体、ポリオキシアルキレン硬化ヒマシ油、ポリオキシアルキレンステロール、ポリオキシアルキレン水素添加ステロール、ポリオキシアルキレンアルキルエーテル、ポリオキシアルキレンアルキルフェノールエーテル、ポリオキシアルキレングリコール脂肪酸エステル、アルキルアルカノールアミド、アルキルポリグルコシド等が挙げられる。ここで、ポリオキシアルキレンはポリオキシエチレン又はポリオキシプロピレンを表し、分子中のオキシエチレンユニットとオキシプロピレンユニットはランダムでもブロックでもよい。また、アルキル基は一般に6〜30個の炭素原子を含有し、直鎖でも、分岐でもよく、更に不飽和であっても良い。
アニオン性界面活性剤としては、Ｎ―アシルアミノ酸及びその塩、アルキルエーテルカルボン酸及びその塩、ポリオキシアルキレンアルキルエーテル酢酸及びその塩、脂肪酸石鹸、アルキルりん酸及びその塩、ポリオキシアルキレンアルキルエーテルりん酸及びその塩、Ｎ―アシルタウリン及びその塩、アルキル硫酸及びその塩、ポリオキシアルキレンアルキルエーテル硫酸及びその塩、アルキルベンゼンスルホン酸及びその塩、ポリオキシアルキレンアルキルベンゼンスルホン酸及びその塩、αオレフィンスルホン酸及びその塩、アルキルスルホコハク酸及びその塩、ポリオキシアルキレンアルキルスルホコハク酸及びここで、塩としては、アルカリ金属やアルカリ土類金属やアミン塩が挙げられ、ポリオキシアルキレンはポリオキシエチレン又はポリオキシプロピレンを表し、分子中のオキシエチレンユニットとオキシプロピレンユニットはランダムでもブロックでもよい。また、アルキル基は一般に6〜30個の炭素原子を含有し、直鎖でも、分岐でもよく、更に不飽和であっても良い。
カチオン性界面活性剤としては、例えばアルキルトリメチルアンモニウムハライドやジアルキルジメチルアンモニウムハライド等の第４級アンモニウムハライド、アルコキシプロピルトリメチルアンモニウムハライド、ベンザルコニウムハライド、アルキルリン酸化ベザルコニウム等が挙げられる。また、アルキル基は一般に6〜30個の炭素原子を含有し、直鎖でも、分岐でもよく、更に不飽和であっても良い。
両性界面活性剤としては、例えばアルキルジメチルアミノ酢酸ベタイン等のアミノ酢酸ベタイン、アルキルジメチルアミンオキサイド等のアミンオキサイド、アルキルカルボキシメチルヒドロキシエチルイミダゾリニウムベタイン、アルキル脂肪酸アミドプロピルベタイン、アルキルアミドプロピルベタイン、アルキルグリシネート、アルキルカルボキシグリシネート、アルキルアンホプロピオネート、アルキルアミドプロピルヒドロキシスルテイン、アシルタウレート、アシルグルタメート等が挙げられる。また、アルキル基は一般に6〜30個の炭素原子を含有し、直鎖でも、分岐でもよく、更に不飽和であっても良い。
(b)の化粧料への配合量は、0.1質量％以上が好ましく、１種単独でも２種以上組み合わせて使用してもよい。
＜(c)カチオン性ポリマー＞
カチオン性ポリマーはホモポリマーか又は２種又はそれ以上のモノマーから形成されてもよい。その分子量は、一般的に5000〜10000000の間が好ましい。また、カチオン性ポリマーは、第4級アンモニウム基、陽イオン化したアミノ基又はこれらの混合物のようなカチオン性窒素含有基を有する。
カチオン性ポリマーはホモポリマーか又は２種又はそれ以上のモノマーから形成されてもよい。その分子量は、一般的に5000〜10000000の間が好ましい。また、カチオン性ポリマーは、第4級アンモニウム基、陽イオン化したアミノ基又はこれらの混合物のようなカチオン性窒素含有基を有する。
陽イオン電荷密度は、少なくとも0.1meq/g、好ましくは0.8meq/g以上である。陽イオン電荷密度は、4meq/gを越えず、好ましくは3meq/g未満、より好ましくは2meq/g未満である。該電荷密度はゲルダール法を用いて測定され、所望の使用pHにて上記の制限内にあるべきであり、pHは一般に約３〜９、好ましくは４〜８である。
カチオン性窒素含有グループは、一般的にカチオン性ポリマーの全モノマーユニットのフラクション上に置換基として存在する。従って、カチオン性ポリマーがホモポリマーでない時は、それはスペーサーの非カチオン性モノマーユニットを含有することが出来る。かかるポリマーは「ＣＴＦＡ Cosmetic Ingredient Dictionary，第３編」に記載されている。
適当なカチオン性ポリマーには、例えば、カチオン性アミン若しくは第4級アンモニウム官能性を有するビニルモノマーと、水溶性スペーサーモノマー、例えば（メタ）アクリルアミド、アルキル及びジアルキル（メタ）アクリルアミド、アルキル（メタ）アクリレート、ビニルカプロラクトン並びにビニルピロリドンとのコポリマーが含まれる。それら、アルキル及びジアルキル置換モノマーは、好ましくは、Ｃ１−Ｃ７アルキル基、より好ましくはＣ１−Ｃ３アルキル基を有する。他の適当なスペーサーモノマーには、ビニルエステル、ビニルアルコール、マレイン酸無水物、プロピレングリコール及びエチレングリコールが含まれる。
カチオン性アミンは、第１級、第２級又は第３級アミンが存在し、これは、組成物の特定の種及びｐＨに依存している。一般に、第２級及び第３級アミン、特に第３級アミンが好ましい。
アミン置換ビニルモノマーとアミン類は、アミン形態で重合することができ、第４級化反応によってアンモニウムに転化することができる。
適当なカチオン性アミノ及び第４級アンモニウムモノマーには、例えば、ジアルキルアミノアルキルアクリレート、ジアルキルアミノアルキルメタクリレート、モノアルキルアミノアルキルアクリレート、モノアルキルアミノアルキルメタクリレートで置換されたビニル化合物、トリアルキルメタクリロキシアルキルアンモニウム塩、トリアルキルアクリロキシアルキルアンモニウム塩、ジアリル第４級アンモニウム塩、並びにピリジニウム、イミダゾリウムおよび第４級ピロリジンのような環状カチオン性窒素含有環を有するビニル第４級アンモニウムモノマーが含まれ、例えばアルキルビニルイミダゾリニウム、及び第４級化ピロリジン、例えばアルキルビニルイミダゾリウム、アルキルビニルピリジニウム、アルキルビニルピロリジン塩が含まれる。これらのモノマーのアルキル部分は、好ましくはＣ１−Ｃ３アルキル、より好ましくはＣ１−Ｃ２アルキルのような低級アルキルである。
適当なカチオン性アミノ及び第４級アンモニウムモノマーには、例えば、ジアルキルアミノアルキルアクリレート、ジアルキルアミノアルキルメタクリレート、モノアルキルアミノアルキルアクリレート、モノアルキルアミノアルキルメタクリレートで置換されたビニル化合物、トリアルキルメタクリロキシアルキルアンモニウム塩、トリアルキルアクリロキシアルキルアンモニウム塩、ジアリル第４級アンモニウム塩、並びにピリジニウム、イミダゾリウムおよび第４級ピロリジンのような環状カチオン性窒素含有環を有するビニル第４級アンモニウムモノマーが含まれ、例えばアルキルビニルイミダゾリニウム、及び第４級化ピロリジン、例えばアルキルビニルイミダゾリウム、アルキルビニルピリジニウム、アルキルビニルピロリジン塩が含まれる。これらのモノマーのアルキル部分は、好ましくはＣ１−Ｃ３アルキル、より好ましくはＣ１−Ｃ２アルキルのような低級アルキルである。
ここで使用する適切なアミン置換ビニルモノマーとしては、ジアルキルアミノアルキルアクリレート、ジアルキルアミノアルキルメタアクリレート、ジアルキルアミノアルキルアクリルアミド、及びジアルキルアミノアルキルメタアクリルアミドで挙げられ、アルキル基は好ましくはＣ１−Ｃ７炭化水素、更に好ましくはＣ１−Ｃ３アルキルである。
ここでのカチオン性ポリマーは、アミン−及び／又は第４級アンモニウム−置換されたモノマー及び／又は相溶性のあるスペーサーモノマーから誘導されるモノマーユニットの混合物を含むことができる。
適切なカチオン性ポリマーとしては、例えば、次のようなものが挙げられる。
１−ビニル−２−ピロリジン及び１−ビニル−３−メチルイミダゾリウム塩(例えばクロリド塩)のコポリマー(Cosmetic,Toiletry
and Fragrance Association，“CTFA”ではPolyquaternium-16と呼ばれている)、これは例えばBASF Wyandotte Corp.(Parsippany,NJ,USA)からLUVIQUATの商品名で市販されている(例えばLUVIQUAT FC 370)。
１−ビニル−２−ピロリジンとジメチルアミノエチルメタクリレートのコポリマー(CTFAではPolyquaternium-11と呼ばれている)、これは例えばISP Corporation(Wayne,NJ.USA)からGAFQUATの商品名で市販されている(例えばGAFQAT 755N)。
カチオン性ジアリル第4級アンモニウム含有ポリマー、これには例えば、ジメチルジアリルアンモニウムクロリドホモポリマー並びにアクリルアミドとジメチルジアリルアンモニウムクロリドのコポリマーとが含まれ、CTFAではそれぞれPolyquaternium６及びPolyquaternium７と呼ばれている。
１−ビニル−２−ピロリジン及び１−ビニル−３−メチルイミダゾリウム塩(例えばクロリド塩)のコポリマー(Cosmetic,Toiletry
and Fragrance Association，“CTFA”ではPolyquaternium-16と呼ばれている)、これは例えばBASF Wyandotte Corp.(Parsippany,NJ,USA)からLUVIQUATの商品名で市販されている(例えばLUVIQUAT FC 370)。
１−ビニル−２−ピロリジンとジメチルアミノエチルメタクリレートのコポリマー(CTFAではPolyquaternium-11と呼ばれている)、これは例えばISP Corporation(Wayne,NJ.USA)からGAFQUATの商品名で市販されている(例えばGAFQAT 755N)。
カチオン性ジアリル第4級アンモニウム含有ポリマー、これには例えば、ジメチルジアリルアンモニウムクロリドホモポリマー並びにアクリルアミドとジメチルジアリルアンモニウムクロリドのコポリマーとが含まれ、CTFAではそれぞれPolyquaternium６及びPolyquaternium７と呼ばれている。
３から５の炭素原子を有する不飽和カルボン酸のホモ及びコポリマーのアミノアルキルエステルの鉱酸塩であって、米国特許第4,009,256号に記述されているもの。
使用できるその他のカチオン性ポリマーには、多糖ポリマー、例えばカチオン性セルロース誘導体及びカチオン性デンプン誘導体が含まれる。ここでの使用に適するカチオン性多糖ポリマー物質には、下記の式のものが含まれる：
使用できるその他のカチオン性ポリマーには、多糖ポリマー、例えばカチオン性セルロース誘導体及びカチオン性デンプン誘導体が含まれる。ここでの使用に適するカチオン性多糖ポリマー物質には、下記の式のものが含まれる：
（式中、Ａはアンヒドログルコース残基、例えばデンプン又はセルロースのアンヒドログルコース残基であり、Ｒはアルキレンオキシアルキレン、ポリオキシアルキレン若しくはヒドロキシアルキレン基又はこれらの組み合わせであり、Ｒ2、Ｒ3及びＲ4は、独立にアルキル、アリール、アルキルアリール、アリールアルキル、アルコキシアルキル又はアルコキシアリール基であり、各基は、18までの炭素原子を有し、各カチオン性部分の炭素原子の総数（即ち、Ｒ2、Ｒ3及びＲ4の炭素原子の合計）は、好ましくは20以下であり、Ｘ-は、Cl-, Br-のようなハライド、アセテート、ホスフェート、ニトレート、アルキルスルフェート等のアニオン性対イオンである。）
カチオン性セルロースは、トリメチルアンモニウム置換エポキシドとの反応によるヒドロキシエチルセルロースの塩として、Polymer JR（商標）及びLR（商標）シリーズでAmerchol Corp.(Edison,NJ,USA)から入手可能であり、これはCTFAでPolyquaternium10と呼ばれている。カチオン性セルロースの他のタイプには、ラウリルジメチルアンモニウム置換エポキシドとの反応によるヒドロキシエチルセルロースの重合性第４級アンモニウム塩が含まれ、これはCTFAでPolyquaternium24と呼ばれている。これらの物質は、Polymer LM-200の商品名でAmerchol Corp．(Edison,NJ,USA)から入手可能である。
ここで使用できる他のカチオン性ポリマーには、カチオン性グアーガム誘導体、例えばグアーヒドロキシプロピルトリモニウムクロリド（商標JaguarシリーズとしてCelanese Corp.から市販されている）が含まれる。他の物質には、第４級窒素含有セルロースエーテル（例えば、引用して本文の一部とされる米国特許第3,962,418号に記述されているもの）及びエーテル化セルロースとデンプンとのコポリマー（例えば、引用して本文の一部とされる米国特許第3,958,581号に記述されているもの）が含まれる。
カチオン性ポリマーは、水溶性であるが、シャンプー組成物に可溶である必要はない。しかし、好ましくは、カチオン性ポリマーはシャンプー組成物中で溶解性であるか、又はカチオン性ポリマーとアニオン性物質によって形成されるシャンプー組成物中の複合コアセルベート相で溶解性である。カチオン性ポリマーの複合コアセルベート相は、組成物に任意的に添加することができるアニオン性界面活性剤又はアニオン性ポリマー（例えば、ナトリウムポリスチレンスルフォネート）とで形成される。
コアセルベートの形成は、分子量、濃度、及び相互作用するイオン性物質、イオン強度（例えば塩の添加によるイオン強度の変形を含む）、カチオン種とアニオン種の電荷密度、ｐＨ、及び温度のような様々な条件に依存している。コアセルベート系とこれらのパラメーターの影響は、例えば、J.Caelles et
al,"混合系におけるアニオン性及びカチオン性化合物",Cosmetics ＆ Toiletries、Vol.106,April 1991，49-54頁、C.J.Van Oss,"コアセルベーション、複合コアセルベーションと凝集",J．Dispersion Science and Technology、Vol9(5,6),1988-89，561-573頁、及びD.J.Burgess,"複合コアセルベーション系の実用的分析",J.Colloid and Interface Science，Vol,140,No.1，November 1990，227-238頁に記載されている。
al,"混合系におけるアニオン性及びカチオン性化合物",Cosmetics ＆ Toiletries、Vol.106,April 1991，49-54頁、C.J.Van Oss,"コアセルベーション、複合コアセルベーションと凝集",J．Dispersion Science and Technology、Vol9(5,6),1988-89，561-573頁、及びD.J.Burgess,"複合コアセルベーション系の実用的分析",J.Colloid and Interface Science，Vol,140,No.1，November 1990，227-238頁に記載されている。
カチオン性ポリマーがコアセルベート相でシャンプーに存在すること、又はシャンプーの使用又はすすぎで毛髪に又は毛髪からコアセルベート相を形成することが特に有利である。複合コアセルベートが更に毛髪の上に付着しやすい。従って、一般的にカチオン性ポリマーがシャンプー中でコアセルベート相として存在する、又は希釈時にコアセルベート相を形成することが好ましい。シャンプー中に既にコアセルベートがない場合は、カチオン性ポリマーは、好ましくはシャンプー中で、約２０：１、更に好ましくは約１０：１、なお更に好ましくは約８：１の水：シャンプー組成物の比で水で希釈されて、複合コアセルベートの形で存在する。
複合コアセルベートの形成の分析技術はこの分野で知られている。例えば、任意の選択した希釈段階で、シャンプー組成物の顕微鏡分析が、コアセルベート相が形成されたかどうかを特定するために使用することが出来る。かかるコアセルベート相は、組成物中で付加的に乳化された相として特定されうる。染料の使用はコアセルベート相を組成物中に分散するその他の不溶性の相から区別する手助けとなる。
好ましくはカチオン性ポリマーは、ヒドロキシアルキルセルロースエーテルとカチオン性グアーガム誘導体を含むグループから選ばれる。特に好ましいカチオン性ポリマーは、Jaguar C13S、Jaguar C15、Jaguar C17、Jaguar C16及びJaguar C162である。他の好ましいセルロースエーテルは、Polymer
JR400、JR30M及びJR125である。
JR400、JR30M及びJR125である。
カチオン性ポリマーは、本発明化粧料中、０．０１質量％から５質量％配合することが好ましく、特に０．０５質量％から１質量％、更に０．０８質量％から０．５質量％配合することが好ましい。
＜その他の成分＞
本発明の化粧料を調製するのに使用される他の成分（化粧料調製成分）としては、下記のものが例示される。すなわち、該成分としては、（１）炭化水素類、たとえば、流動パラフィン、ワセリン、固形パラフィン、スクワランおよびオレフィンオリゴマーなど、（２）エステル類、たとえば、パルミチン酸イソプロピル、ステアリン酸ステアリル、ミリスチン酸オクチルドデシル、オレイン酸オクチルドデシル、酢酸ラノリン、および２−エチルヘキサン酸トリグリセリドなど、（３）高級アルコール、たとえば、ラウリルアルコール、セチルアルコール、ステアリルアルコール、ラノリンアルコール、およびミツロウなど、（４）パルミチン酸、ステアリン酸のような高級脂肪酸およびそれを中和するジエタノールアミンのようなアミン類など、（５）保湿剤、たとえば、エチレングリコール、プロピレングリコール、１，３−ブチレングリコール、グリセリン、およびソルビトールなど、（６）無機粉体、たとえば、酸化チタン、カーボンブラック、酸化鉄、セリサイト、タルク、カオリン、およびマイカなど、（７）有機高分子粉体、たとえば、ナイロン、ポリエチレン、およびポリ（メタ）アクリル酸エステルなど、（８）溶媒、たとえば、水およびエタノールなど、（９）前述の(b)界面活性剤として例示されたノニオン性界面活性剤、アニオン性界面活性剤、カチオン性界面活性剤、両性界面活性剤、（１０）防腐剤、抗菌剤、pH調整剤（１１）着色剤、ならびに（１２）香料、（１３）水溶性高分子、例えば、ペクチングアーガム、グァーガム、キサンタンガム、タマリンドガム、カラギーナン、カルボキシメチルセルロース、デンプン、可溶性デンプン、デキストリン、αデンプン、アルギン酸ナトリウム、アラビヤガム、ゼラチン、トラガントガム、ローカストビーンガム、カゼイン、リグニンスルホン酸塩、カルボキシメチルセルロースナトリウム塩、メチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、カルボキシメチル化デンプンナトリウム塩、ヒドロキシエチル化デンプン、デンプンリン酸エステルナトリウム塩、ポリビニルアルコール、ポリビニルメチルエーテル、ポリアクリルアミド、ポリアクリル酸ナトリウム塩、部分けん化酢酸ビニルとビニルエーテルの共重合体、アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸およびそのエステルまたは塩の重合体または共重合体、ヒドロキシプロピルセルロース（ＨＰＣ），ヒドロキシプロピルメチルセルロース、ポリビニルピロリドン、ビニルピロリドン−酢酸ビニル共重合体（１４）紫外線吸収剤などが例示されるが、これらに限定されるものではない。
本発明の化粧料を調製するのに使用される他の成分（化粧料調製成分）としては、下記のものが例示される。すなわち、該成分としては、（１）炭化水素類、たとえば、流動パラフィン、ワセリン、固形パラフィン、スクワランおよびオレフィンオリゴマーなど、（２）エステル類、たとえば、パルミチン酸イソプロピル、ステアリン酸ステアリル、ミリスチン酸オクチルドデシル、オレイン酸オクチルドデシル、酢酸ラノリン、および２−エチルヘキサン酸トリグリセリドなど、（３）高級アルコール、たとえば、ラウリルアルコール、セチルアルコール、ステアリルアルコール、ラノリンアルコール、およびミツロウなど、（４）パルミチン酸、ステアリン酸のような高級脂肪酸およびそれを中和するジエタノールアミンのようなアミン類など、（５）保湿剤、たとえば、エチレングリコール、プロピレングリコール、１，３−ブチレングリコール、グリセリン、およびソルビトールなど、（６）無機粉体、たとえば、酸化チタン、カーボンブラック、酸化鉄、セリサイト、タルク、カオリン、およびマイカなど、（７）有機高分子粉体、たとえば、ナイロン、ポリエチレン、およびポリ（メタ）アクリル酸エステルなど、（８）溶媒、たとえば、水およびエタノールなど、（９）前述の(b)界面活性剤として例示されたノニオン性界面活性剤、アニオン性界面活性剤、カチオン性界面活性剤、両性界面活性剤、（１０）防腐剤、抗菌剤、pH調整剤（１１）着色剤、ならびに（１２）香料、（１３）水溶性高分子、例えば、ペクチングアーガム、グァーガム、キサンタンガム、タマリンドガム、カラギーナン、カルボキシメチルセルロース、デンプン、可溶性デンプン、デキストリン、αデンプン、アルギン酸ナトリウム、アラビヤガム、ゼラチン、トラガントガム、ローカストビーンガム、カゼイン、リグニンスルホン酸塩、カルボキシメチルセルロースナトリウム塩、メチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、カルボキシメチル化デンプンナトリウム塩、ヒドロキシエチル化デンプン、デンプンリン酸エステルナトリウム塩、ポリビニルアルコール、ポリビニルメチルエーテル、ポリアクリルアミド、ポリアクリル酸ナトリウム塩、部分けん化酢酸ビニルとビニルエーテルの共重合体、アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸およびそのエステルまたは塩の重合体または共重合体、ヒドロキシプロピルセルロース（ＨＰＣ），ヒドロキシプロピルメチルセルロース、ポリビニルピロリドン、ビニルピロリドン−酢酸ビニル共重合体（１４）紫外線吸収剤などが例示されるが、これらに限定されるものではない。
＜使用用途＞
化粧料としては、髪油、染毛料、スキ油、セットローション、チック、ビン付油、ヘアクリーム、ヘアトニック、ヘアリキッド、ヘアスプレー、ポマード、シャンプー、ヘアリンス、ヘアコンディショナー、ヘアローション、枝毛防止剤のような毛髪化粧料、ハンドクリーム、ハンドローション、スキンクリーム、ファンデーション、アイシャドウ、アイライナー、マスカラ、洗顔料、制汗剤のような皮膚化粧料などが例示される。
化粧料としては、髪油、染毛料、スキ油、セットローション、チック、ビン付油、ヘアクリーム、ヘアトニック、ヘアリキッド、ヘアスプレー、ポマード、シャンプー、ヘアリンス、ヘアコンディショナー、ヘアローション、枝毛防止剤のような毛髪化粧料、ハンドクリーム、ハンドローション、スキンクリーム、ファンデーション、アイシャドウ、アイライナー、マスカラ、洗顔料、制汗剤のような皮膚化粧料などが例示される。
測定方法及び評価方法を以下に示す。
・エマルションの平均粒子径：
レーザ回折・散乱式粒度分布測定装置ＬＡ−９２０（株式会社堀場製作所製）により測定した、体積基準のメジアン径の値である。
レーザ回折・散乱式粒度分布測定装置ＬＡ−９２０（株式会社堀場製作所製）により測定した、体積基準のメジアン径の値である。
・原料の分子鎖末端にシラノール基を持つオルガノポリシロキサンの粘度：
２５℃において、オストワルド粘度計によって測定した、２５℃における動粘度である。
・オルガノポリシロキサンの粘度（抽出粘度）：
調製したエマルション組成物３００ｇにイソプロピルアルコ−ル３００ｇを攪拌しながら添加し、析出したジメチルシロキサンのみを分取し、１０５℃で３時間乾燥した後、２５℃において回転粘度計により測定した、２５℃における絶対粘度である。
２５℃において、オストワルド粘度計によって測定した、２５℃における動粘度である。
・オルガノポリシロキサンの粘度（抽出粘度）：
調製したエマルション組成物３００ｇにイソプロピルアルコ−ル３００ｇを攪拌しながら添加し、析出したジメチルシロキサンのみを分取し、１０５℃で３時間乾燥した後、２５℃において回転粘度計により測定した、２５℃における絶対粘度である。
・エマルション中のオクタメチルシクロテトラシロキサン含有量：
調製したエマルション組成物０．１ｇを、テトラデカンを内部標準として２０質量ppm含有するアセトン１０ｍｌによる抽出（３時間振とう）に供した後、一晩放置した後にアセトン層を採取してガスクロマトグラフィー分析に供し、各Dn(環状低分子シロキサン)を定量した。
調製したエマルション組成物０．１ｇを、テトラデカンを内部標準として２０質量ppm含有するアセトン１０ｍｌによる抽出（３時間振とう）に供した後、一晩放置した後にアセトン層を採取してガスクロマトグラフィー分析に供し、各Dn(環状低分子シロキサン)を定量した。
・安定性：
１００ｍｌガラス瓶に、調製したサンプルを入れ、５０℃で１ケ月放置した後に外観を観察した。エマルションが均一な一相を形成し分離が認められない場合に安定性良好と評価し、「○」で示し、オイル浮きがわずかに見られる場合を「△」で示し、二相への分離が認められた場合に安定性「不良」と評価し、「×」で示した。
１００ｍｌガラス瓶に、調製したサンプルを入れ、５０℃で１ケ月放置した後に外観を観察した。エマルションが均一な一相を形成し分離が認められない場合に安定性良好と評価し、「○」で示し、オイル浮きがわずかに見られる場合を「△」で示し、二相への分離が認められた場合に安定性「不良」と評価し、「×」で示した。
・使用感：
使用時の感触について、20人のパネラーにより、点数を付け、平均点で評価した
5：きわめて良好 4：良好 3：普通 2：悪い 1：きわめて悪い
使用時の感触について、20人のパネラーにより、点数を付け、平均点で評価した
5：きわめて良好 4：良好 3：普通 2：悪い 1：きわめて悪い
・ベースエマルション
＜エマルションＡ＞
粘度が5000ｍｍ2／ｓの分子鎖末端にシラノール基を持つオルガノポリシロキサン（オクタメチルシクロテトラシロキサン含有量５０質量ppm以下）100質量部に、ポリオキシエチレン（4モル）ラウリルエーテル0.75質量部とポリオキシエチレン（23モル）ラウリルエーテル2.25質量部とドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム4.0質量部と水4.2質量部をホモディスパーにより乳化させた。得られた第１のエマルションに、水81.2質量部を添加し、ホモミキサーにより希釈分散させた。得られたエマルションを0℃にし、濃塩酸1.2質量部を添加して乳化重合を行った。その後、得られたエマルションに10質量％炭酸ナトリウム水溶液6.4質量部を添加して中和することにより、目的のエマルション組成物を得た。エマルションの物性は、抽出粘度200万mPa・s, エマルション中のD4含有量500質量ppm,平均粒子径170nmであった。
＜エマルションＡ＞
粘度が5000ｍｍ2／ｓの分子鎖末端にシラノール基を持つオルガノポリシロキサン（オクタメチルシクロテトラシロキサン含有量５０質量ppm以下）100質量部に、ポリオキシエチレン（4モル）ラウリルエーテル0.75質量部とポリオキシエチレン（23モル）ラウリルエーテル2.25質量部とドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム4.0質量部と水4.2質量部をホモディスパーにより乳化させた。得られた第１のエマルションに、水81.2質量部を添加し、ホモミキサーにより希釈分散させた。得られたエマルションを0℃にし、濃塩酸1.2質量部を添加して乳化重合を行った。その後、得られたエマルションに10質量％炭酸ナトリウム水溶液6.4質量部を添加して中和することにより、目的のエマルション組成物を得た。エマルションの物性は、抽出粘度200万mPa・s, エマルション中のD4含有量500質量ppm,平均粒子径170nmであった。
＜エマルションＢ＞
環状シロキサン50質量部、ドデシルベンゼンスルホン酸2.84質量部、水45.66質量部を混合し、o/wのエマルションを調製し、高圧ホモジナイザーで処理を行う。その後、乳化重合を行い、10質量％炭酸ナトリウム水溶液5.21質量部により中和することにより、目的のエマルション組成物を得た。エマルションの物性は、抽出粘度200万mPa・s, エマルション中のD4含有量35000質量ppm, 平均粒子径200nmであった。
環状シロキサン50質量部、ドデシルベンゼンスルホン酸2.84質量部、水45.66質量部を混合し、o/wのエマルションを調製し、高圧ホモジナイザーで処理を行う。その後、乳化重合を行い、10質量％炭酸ナトリウム水溶液5.21質量部により中和することにより、目的のエマルション組成物を得た。エマルションの物性は、抽出粘度200万mPa・s, エマルション中のD4含有量35000質量ppm, 平均粒子径200nmであった。
＜エマルションＣ＞
エマルションAにD6を150質量ppm添加し、混合したものをエマルションＣとした。
エマルションAにD6を150質量ppm添加し、混合したものをエマルションＣとした。
＜エマルションＤ＞
エマルションAにD5を200質量ppm添加し、混合したものをエマルションＤとした。
エマルションAにD5を200質量ppm添加し、混合したものをエマルションＤとした。
＜エマルションＥ＞
エマルションAにD5を300質量ppm、D6を150質量ppm添加し、混合したものをエマルションＥとした。
エマルションAにD5を300質量ppm、D6を150質量ppm添加し、混合したものをエマルションＥとした。
下記表１に上記エマルションをまとめて記す。
化粧料
・シャンプー
ベースエマルション3質量部、ポリオキシエチレン（2モル）ラウリルエーテル硫酸ナトリウム16質量部、ココアミドプロピルベタイン2.1質量部、カチオン性グアーガム誘導体（Jaguar C13S） 0.1質量部、カーボポール980 0.4質量部、イオン交換水78.4質量部を混合してシャンプーを調製した。
・シャンプー
ベースエマルション3質量部、ポリオキシエチレン（2モル）ラウリルエーテル硫酸ナトリウム16質量部、ココアミドプロピルベタイン2.1質量部、カチオン性グアーガム誘導体（Jaguar C13S） 0.1質量部、カーボポール980 0.4質量部、イオン交換水78.4質量部を混合してシャンプーを調製した。
・ハンドローション
ベースエマルション11.0質量部、セチルアルコール 2.0質量部、ソルビタンモノミリステート 1.2質量部、ポリオキシエチレン(25モル)モノステアレート 1.3質量部、酢酸ラノリン 2.0質量部、ケイ酸アルミニウムマグネシウム 1.5質量部、香料 0.5質量部、イオン交換水 80.5質量部を混合して調製した。
ベースエマルション11.0質量部、セチルアルコール 2.0質量部、ソルビタンモノミリステート 1.2質量部、ポリオキシエチレン(25モル)モノステアレート 1.3質量部、酢酸ラノリン 2.0質量部、ケイ酸アルミニウムマグネシウム 1.5質量部、香料 0.5質量部、イオン交換水 80.5質量部を混合して調製した。
・リンス
ベースエマルション10質量部、ジステアリン酸エチレングリコール3質量部、セタノール2質量部、モノステアリン酸プロピレングリコール3質量部、モノステアリン酸グリセリン3.8質量部、ポリオキシエチレン(3)ステアレート3.8質量部、塩化アセチルトリメチルアンモニウム5質量部、ポリオキシエチレン(20)セチルエーテル2質量部、1,3-ブタンジオール5質量部、メチルパラベン0.2質量部、イオン交換水62.2質量部を混合して調製した。
ベースエマルション10質量部、ジステアリン酸エチレングリコール3質量部、セタノール2質量部、モノステアリン酸プロピレングリコール3質量部、モノステアリン酸グリセリン3.8質量部、ポリオキシエチレン(3)ステアレート3.8質量部、塩化アセチルトリメチルアンモニウム5質量部、ポリオキシエチレン(20)セチルエーテル2質量部、1,3-ブタンジオール5質量部、メチルパラベン0.2質量部、イオン交換水62.2質量部を混合して調製した。
・ヘアセットローション
ベースエマルション5質量部、ヒドロキシエチルセルロース0.2質量部、エタノール10質量部、香料0.2質量部、イオン交換水84.6質量部を混合して調製した。
ベースエマルション5質量部、ヒドロキシエチルセルロース0.2質量部、エタノール10質量部、香料0.2質量部、イオン交換水84.6質量部を混合して調製した。
実施例１a
エマルションAを用いて、上記組成のシャンプーを調製した。得られたシャンプーは、保存安定性、使用感、いずれも良好であった。
エマルションAを用いて、上記組成のシャンプーを調製した。得られたシャンプーは、保存安定性、使用感、いずれも良好であった。
実施例１b
エマルションCを用いて、上記組成のシャンプーを調製した。得られたシャンプーは、保存安定性、使用感、いずれも良好であった。実施例1aよりは、使用感は若干劣った。
エマルションCを用いて、上記組成のシャンプーを調製した。得られたシャンプーは、保存安定性、使用感、いずれも良好であった。実施例1aよりは、使用感は若干劣った。
実施例1c
エマルションDを用いて、上記組成のシャンプーを調製した。得られたシャンプーは、保存安定性、使用感、いずれも良好であった。実施例1bよりは、使用感は若干劣った。
エマルションDを用いて、上記組成のシャンプーを調製した。得られたシャンプーは、保存安定性、使用感、いずれも良好であった。実施例1bよりは、使用感は若干劣った。
実施例1d
エマルションEを用いて、上記組成のシャンプーを調製した。得られたシャンプーは、保存安定性、使用感、いずれも良好であった。実施例1aよりは、使用感は若干劣った。
エマルションEを用いて、上記組成のシャンプーを調製した。得られたシャンプーは、保存安定性、使用感、いずれも良好であった。実施例1aよりは、使用感は若干劣った。
比較例１
エマルションBを用いて、上記組成のシャンプーを調製した。得られたシャンプーは、保存安定性、使用感、いずれも実施例1a,b,c,dよりも劣る結果となった。
エマルションBを用いて、上記組成のシャンプーを調製した。得られたシャンプーは、保存安定性、使用感、いずれも実施例1a,b,c,dよりも劣る結果となった。
実施例２
エマルションＡを用いて、上記組成のハンドローションを調製した。得られたハンドローションの保存安定性、使用感は良好であった。
エマルションＡを用いて、上記組成のハンドローションを調製した。得られたハンドローションの保存安定性、使用感は良好であった。
比較例２
エマルションBを用いて、上記組成のハンドローションを調製した。得られたハンドローションは、保存安定性、使用感、いずれも実施例2よりも劣る結果となった。
エマルションBを用いて、上記組成のハンドローションを調製した。得られたハンドローションは、保存安定性、使用感、いずれも実施例2よりも劣る結果となった。
実施例3
エマルションＡを用いて、上記組成のリンスを調製した。得られたリンスの保存安定性、使用感は良好であった。
エマルションＡを用いて、上記組成のリンスを調製した。得られたリンスの保存安定性、使用感は良好であった。
比較例3
エマルションBを用いて、上記組成のリンスを調製した。得られたリンスは、保存安定性、使用感、いずれも実施例3よりも劣る結果となった。
エマルションBを用いて、上記組成のリンスを調製した。得られたリンスは、保存安定性、使用感、いずれも実施例3よりも劣る結果となった。
実施例4
エマルションＡを用いて、上記組成のヘアセットローションを調製した。得られたヘアセットローションの保存安定性、使用感は良好であった。
エマルションＡを用いて、上記組成のヘアセットローションを調製した。得られたヘアセットローションの保存安定性、使用感は良好であった。
比較例4
エマルションBを用いて、ヘアセットローションを調製した。得られたヘアセットローションは、保存安定性、使用感、いずれも実施例3よりも劣る結果となった。
エマルションBを用いて、ヘアセットローションを調製した。得られたヘアセットローションは、保存安定性、使用感、いずれも実施例3よりも劣る結果となった。
上記、実施例、比較例の評価結果を表２に示す。
上記表から、Ｄ４が１０００質量ppm以下であるエマルションを含む本発明化粧料は、保存安定性、使用感に優れることが判る。
Claims (6)
- （Ｉ）（Ａ）下記一般式（１）で表され、オクタメチルシクロテトラシロキサンの含有量が１０００質量ｐｐｍ以下であるオルガノポリシロキサン １００質量部、
ＨＯ（Ｒ１ ２ＳｉＯ）ｎＨ （１）
（式中、Ｒ１は、独立に、水素原子又は置換もしくは非置換の炭素原子数１〜２０の炭化水素基であり、ｎは該オルガノポリシロキサンの２５℃における動粘度が３０００〜１０００００ｍｍ２／ｓとなる数。）
（Ｂ）ノニオン性界面活性剤 １〜１００質量部、
（Ｃ）アニオン性界面活性剤 １〜１００質量部、
（ただし、（Ｂ）成分：（Ｃ）成分の質量比＝２０：８０〜５５：４５の範囲である。）
及び
（Ｄ−１）水 １〜１０質量部
を含む混合物の乳化を行って第１のエマルション組成物を調製し、
（ＩＩ）該第１のエマルション組成物に、水を加えずに、又は、
（Ｄ−２）１０００００質量部以下の水
を加えた後、−15〜5℃で、（Ｅ）酸触媒の存在下（但し、（Ｃ）アニオン性界面活性剤が触媒作用を有する場合には、該酸触媒は不要である。）、乳化重合し、(a)オルガノポリシロキサンエマルションを得、これを０．１質量％以上含有せしめる、化粧料の製造方法。 - (a)のオルガノポリシロキサンエマルション中のD4のD3〜D10までの合計量に占める割合が60質量％以上であることを特徴とする請求項１記載の化粧料の製造方法。
- (a)のオルガノポリシロキサンエマルション中のD3〜D10までの合計量が1000質量ｐｐｍ以下であることを特徴とする請求項１又は２記載の化粧料の製造方法。
- (a)のオルガノポリシロキサンエマルションの平均粒子径が300nm以下であることを特徴とする、請求項１〜３の何れか１項記載の化粧料の製造方法。
- (a)に加えて、
(b)界面活性剤 及び
(c)カチオン性ポリマー
を含有せしめる請求項１〜４の何れか１項記載の化粧料の製造方法。 - 毛髪化粧料である請求項１〜５の何れか１項記載の化粧料の製造方法。
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