JP6056162B2 - パワーモジュールの製造方法 - Google Patents
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Description
また、前記SiO 2 前駆体溶液として、ポリシラザン溶液に代えて、シリコンアルコキシド100質量部に対して、シリコンアルコキシドの加水分解重合反応触媒を0.001〜10質量部、水を10〜200質量部、溶剤を10〜1000質量部の範囲に設定したシリコンアルコキシド溶液が用いられる方法としてもよい。
この製造方法に用いられるSiO2前駆体としては、ポリシラザン、シリコンアルキシド等が挙げられる。これらSiO2前駆体は封止工程で封止材に覆われるまでの間に乾燥されSiO2保護膜となる。
SiO2前駆体は、少なくとも電子部品と接続配線との接続部を覆うように塗布するが、その接続部から接続配線及び電子部品の周囲全体を被覆するように塗布するとより効果的である。
水分を含む雰囲気としては大気で十分であり、SiO2前駆体は、水分が取り込まれると、加水分解反応によりSiO2の酸化膜に転化する。この酸化膜、つまりSiO2保護膜は液体を塗布して乾燥させたものであるので、薄膜に形成することができ、脱落も生じにくく、封止工程までの間に保管、搬送等が生じる場合でもSiO2保護膜により接続部を保護した状態を確実に維持することができる。
図1は、本発明に係るパワーモジュール100の実施形態を示している。このパワーモジュール100は、パワーモジュール用基板10と、パワーモジュール用基板10の表面に搭載された半導体チップ等の電子部品20と、この電子部品20とは反対面でパワーモジュール用基板10に接合されたヒートシンク30、このヒートシンク30に固定されパワーモジュール用基板及び電子部品を囲むハウジング40と、このハウジング40内に充填されヒートシンク30上のパワーモジュール用基板10及び電子部品20を埋没状態に覆う封止材50とから構成される。
そして、パワーモジュール用基板10に搭載された電子部品20とハウジング40の回路導体41,42との間がボンディングワイヤ等の接続配線22によって接続されている。図示例では、回路層12a,12bは複数に分離して形成されており、これら回路層のうちの一つの回路層12aに電子部品20が搭載され、この回路層12aから分離した回路層12bと電子部品20上の接点との間が接続配線22により接続され、各回路層12a,12bがそれぞれハウジング40の回路導体41,42に接続配線22により個別に接続されている。そして、これら接続配線22と電子部品20との接続部23を含む電子部品20上の接続配線22、電子部品20、はんだ接合層21及び回路層12a,12bのめっき層14の露出表面を覆うようにSiO2保護膜51が形成されている。このSiO2保護膜51は、後述するように、SiO2前駆体を含有するSiO2前駆体溶液を塗布して乾燥させたものである。
そして、ハウジング40内には、パワーモジュール用基板10及び電子部品20を埋没状態とするように、シリコンゲルや樹脂等からなる封止材50が充填固化されている。
このSiO2前駆体溶液は、SiO2前駆体としてポリシラザン又はシリコンアルコキシドを用いたものであり、これらのSiO2前駆体を溶媒に溶解して溶液としたものである。
ポリシラザン溶液は、溶媒としてキシレン、ミネラルターペン、高沸点芳香族溶媒が用いられ、ポリシラザン濃度としては0.05〜50質量%、好ましくは0.5〜20質量%である。ポリシラザンの濃度が0.05質量%未満ではアミン交換速度が遅く、また逆に50質量%超過では分子間重合が著しくなり、好ましくない。
最後に、ハウジング40内にシリコンゲルや樹脂等からなる封止材50を隙間なく充填して固化する(封止工程)。
このパワーモジュール基板の回路層にNi−Pめっきを施した後、Sn−Ag−Cu系はんだを用いてIGBT半導体チップをはんだ付けするとともに、アルミニウム合金からなる接続配線をボンディングした。
そして、この半導体チップとの接続部を含む接続配線、半導体チップ、はんだ接合層及び回路層のめっき層の露出表面を覆うようにSiO2前駆体を含有するSiO2前駆体溶液を塗布した。SiO2前駆体溶液は表1に示す二種類を用い、塗布は刷毛を用いて行った。比較のため、SiO2前駆体溶液を塗布しないものも用意した。
これらの試料に対して、冷却器中の冷却水温度、流量を一定とし、半導体チップへの通電(ON)で140℃、非通電(OFF)で60℃となる1サイクルを10秒で繰り返すように調整し、これを15万回繰り返すパワーサイクル試験を施し、パワーサイクル試験の前後で半導体チップ表面と冷却器内表面(ヒートシンク底面)との間の熱抵抗を半導体チップ表面温度よりそれぞれ測定し、パワーサイクル試験実施による熱抵抗の上昇率を求めた。
その結果を表1に示す。
例えば、接続配線はボンディングワイヤとして説明したが、テープボンド、バスバー、リードフレーム等であってもよい。その材質もアルミニウム以外に銅、金等も適用できる。
また、セラミックス基板と回路層との接合はろう付け以外にもはんだ付けも可能であり、また、TLP接合法(Transient Liquid Phase Bonding)と称される過渡液相接合法によって接合してもよい。この過渡液相接合法においては、金属板の表面に蒸着させた銅層を、金属板とセラミックス基板及びヒートシンクとの界面に介在させて行う。加熱により、金属板のアルミニウム中に銅が拡散し、金属板の銅層近傍の銅濃度が上昇して融点が低下し、アルミニウムと銅との共晶域にて接合界面に金属液相が形成される。この金属液相が形成された状態で温度を一定に保持しておくと、金属液相がセラミックス基板又はヒートシンクと反応するとともに、銅がさらにアルミニウム中に拡散することに伴い、金属液相中の銅濃度が徐々に低下して融点が上昇し、温度を一定に保持した状態で凝固が進行する。これにより、金属板とセラミックス基板及びヒートシンクとの強固な接合が得られる。
また、回路層としてアルミニウム又はアルミニウム合金以外にも、銅又は銅合金を用いることも可能であり、その場合、セラミックス基板と銅製の回路層とを、活性金属ろう材を用いて接合する方法を採用することもできる。例えば、活性金属であるTiを含む活性金属ろう材(Ag‐27.4質量%Cu‐2.0質量%Ti)を用い、銅製の回路層とセラミックス基板との積層体を加圧した状態で真空中で加熱し、活性金属であるTiをセラミックス基板に優先的に拡散させて、Ag‐Cu合金を介して回路層とセラミックス基板とを接合できる。
11 セラミックス基板
12a、12b 回路層
13 放熱層
14 めっき層
20 電子部品
21 はんだ接合層
22 接続配線
23 接続部
30 ヒートシンク
30a 流路
40 ハウジング
40a フランジ部
41 回路導体
50 封止材
51 SiO2保護膜
51a 塗布層
100 パワーモジュール
Claims (3)
- セラミックス基板上に接合した回路層に電子部品を搭載するとともに、該電子部品に接続配線を接続する実装工程と、前記接続配線と電子部品との接続部を含み前記電子部品を封止材により覆う封止工程とを有するパワーモジュールの製造方法であって、前記実装工程と前記封止工程との間に、少なくとも前記接続配線と前記電子部品との接続部を含む前記電子部品上の前記接続配線に、乾燥によりSiO2を生成することが可能なSiO2前駆体を溶剤中に含有したSiO2前駆体溶液を塗布し、その塗布膜を乾燥させてSiO2保護膜を形成する保護膜形成工程を備えており、
前記SiO 2 前駆体溶液として、ポリシラザンを溶媒に0.05〜50質量%濃度で溶解したポリシラザン溶液が用いられることを特徴とするパワーモジュールの製造方法。 - セラミックス基板上に接合した回路層に電子部品を搭載するとともに、該電子部品に接続配線を接続する実装工程と、前記接続配線と電子部品との接続部を含み前記電子部品を封止材により覆う封止工程とを有するパワーモジュールの製造方法であって、前記実装工程と前記封止工程との間に、少なくとも前記接続配線と前記電子部品との接続部を含む前記電子部品上の前記接続配線に、乾燥によりSiO 2 を生成することが可能なSiO 2 前駆体を溶剤中に含有したSiO 2 前駆体溶液を塗布し、その塗布膜を乾燥させてSiO 2 保護膜を形成する保護膜形成工程を備えており、
前記SiO 2 前駆体溶液として、シリコンアルコキシド100質量部に対して、シリコンアルコキシドの加水分解重合反応触媒を0.001〜10質量部、水を10〜200質量部、溶剤を10〜1000質量部の範囲に設定したシリコンアルコキシド溶液が用いられるたことを特徴とするパワーモジュールの製造方法。 - 前記保護膜形成工程は、前記塗布膜を水分を含む雰囲気中で乾燥することを特徴とする請求項1又は2記載のパワーモジュールの製造方法。
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