JP6046183B2 - ダイナミック光ヘッド層とこれを用いたリソグラフィ方法及び装置 - Google Patents
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Description
また、本発明の目的は、スキャニング方式の大面積ナノパターニングを行うことができるダイナミック光ヘッド層とこれを用いたリソグラフィ方法及び装置を提供することにある。
また、本発明の目的は、屈曲面などの様々な形状の基板に容易に結合することができるダイナミック光ヘッド層とこれを用いたリソグラフィ方法及び装置を提供することにある。
前記酸化物系の物質は、SiO2、ZnS−SiO2、GeO2、BeO2、ZrO2、BaTiO3、SrTiO3、又はTaOであり得る。
前記窒化物系の物質は、SiN4、BN、又はAlNであり得る。
前記炭化物系の物質は、SiCであり得る。
前記第1の誘電層及び前記第2の誘電層は、ZnS−SiO2であり得る。
前記第1の誘電層の上部には、前記第1の誘電層、前記ダイナミックナノアパーチャ層、及び前記第2の誘電層の積層構造を支持するための基板層が配設され得る。
前記基板層は、蒸着面が曲面である場合に柔らかな弾性を有する素材で形成され、蒸着面が平面である場合に硬いガラス素材で形成され得る。
前記基板層140は、フィルム類としてポリカーボネート(PC)、シクロオレフィンポリマー(COP)、ポリイミド(PI)、ポリエチレンテレフタレート(PET)、オリエンテッドポリプロピレン(OPP)、ポリエチレン(PE)、ポリプロピレン(PP)、ポリメチルメタクリレート(PMMA)、及びアクリルのうちのいずれか一種が用いられるか、或はガラス類としてソーダ石灰ガラス、ホウケイ酸ガラス、溶融石英ガラス、及び石英のうちのいずれか一種が用いられ得る。
前記第2の誘電層の下面には、フォトレジスト220との分離を容易にするための疎水性コーティング層が更に配設され得る。
前記疎水性コーティング層は、ポリジメチルシロキサン(PDMS)の自己組織化小重合体により形成され得る。
前記自己組織化単分子膜は、シラン又はチオール系の自己組織化単分子膜であり得る。
前記第1の誘電層110の厚さは、30〜500nmであり、前記ダイナミックナノアパーチャ層120の厚さは、5〜30nmであり、前記第2の誘電層130の厚さは、5〜60nmであり得る。
前記フィルム類は、厚さが5〜300μmであり得る。
ーチャ層は、光学的異方性を有する物質であり、前記第1の誘電層及び前記第2の誘電層は、酸化物系の物質、窒化物系の物質、又は炭化物系の物質であり、前記第2の誘電層の下面には、フォトレジストとの分離を容易にするためのポリジメチルシロキサン(PDMS)の自己組織化小重合体である疎水性コーティング層が更に配設され、前記パターン形成ステップにおいて、レーザービームが照射されると、前記ダイナミック光ヘッド層のダイナミックナノアパーチャ層に動的光ナノ開口が形成されてレーザービームが透過しながらパターンが形成されることを特徴とする。
また、本発明によれば、柔らかなダイナミック光ヘッド層をリソグラフィ装置に適用することにより、うねりがあるなど様々な形状を有する基板に対してナノスケールのパターンが製作可能になる。即ち、既存の近接場を用いるパターニング方式の間隙制御問題を解消することにより、高精度を有する任意のナノパターンを大面積に製作可能にする。
また、既存のマスクレス露光装置に柔らかなダイナミック光ヘッド層を着脱して工程を行うことができることから、システムの変更若しくは新たなシステムの製作なしに本発明を適用することができる。なお、パターン形成と同時にアニーリングを行うことにより、ダイナミック光ヘッド層が再使用できるため、産業上の適用が容易になる。
更に、本発明によれば、ダイナミックナノアパーチャ層として光学的異方性を有する物質、好ましくはSb65Se35を用いて、光学的ナノ開口形成温度を下げて低いエネルギー光源を用いてマイクロレンズアレイを用いた大面積パターニングを行うことができ、速い応答速度により光及び熱拡散現象が減少して超微細パターンの形成を行うことができる。即ち、Sb65Se35は、538℃の低い値を有するため、このような効果が発生する。
また、mm/s単位のスキャニング方式のパターニングが行え、X、Yステージを用いたスキャニング方式の大面積ナノパターニングが行えることから、ディスプレイ、半導体の生産に適用することができる。
更に、ダイナミック光ヘッド層の基板層を柔らかな弾性素材で形成してうねりがあるなどの様々な形状の基板に容易に蒸着することができる。
110 第1の誘電層
120 ダイナミックナノアパーチャ層
130 第2の誘電層
140 基板層
150 疎水性コーティング層
200 パターニング部
210 基板
220 フォトレジスト
300 マイクロレンズアレイ
310 マイクロレンズ
400 ステージ
Claims (12)
- 基板にパターンを形成するための光学リソグラフィ装置において前記基板に着脱可能なダイナミック光ヘッド層であって、
前記ダイナミック光ヘッド層は、上部に第1の誘電層、下部に第2の誘電層、及び前記第1の誘電層と前記第2の誘電層との間にダイナミックナノアパーチャ層が配設され、
前記ダイナミックナノアパーチャ層は、光学的異方性を有する物質であり、
前記第1の誘電層及び前記第2の誘電層は、酸化物系の物質、窒化物系の物質、又は炭化物系の物質であり、前記第2の誘電層の下面には、フォトレジストとの分離を容易にするためのポリジメチルシロキサン(PDMS)の自己組織化小重合体である疎水性コーティング層が更に配設されることを特徴とするダイナミック光ヘッド層。 - 前記光学的異方性を有する物質は、Sb65Se35であることを特徴とする請求項1に記載のダイナミック光ヘッド層。
- 前記酸化物系の物質は、SiO2、ZnS−SiO2、GeO2、BeO2、ZrO2、BaTiO3、SrTiO3、又はTaOであることを特徴とする請求項1に記載のダイナミック光ヘッド層。
- 前記窒化物系の物質は、SiN4、BN、又はAlNであることを特徴とする請求項1に記載のダイナミック光ヘッド層。
- 前記炭化物系の物質は、SiCであることを特徴とする請求項1に記載のダイナミック光ヘッド層。
- 前記第1の誘電層の上部には、前記第1の誘電層、前記ダイナミックナノアパーチャ層、及び前記第2の誘電層の積層構造を支持するための基板層が配設されることを特徴とする請求項1に記載のダイナミック光ヘッド層。
- 前記基板層は、蒸着面が曲面である場合に柔らかな弾性を有する素材で形成され、蒸着面が平面である場合に硬いガラス素材で形成されることを特徴とする請求項6に記載のダイナミック光ヘッド層。
- 前記基板層は、フィルム類としてポリカーボネート(PC)、シクロオレフィンポリマー(COP)、ポリイミド(PI)、ポリエチレンテレフタレート(PET)、オリエンテッドポリプロピレン(OPP)、ポリエチレン(PE)、ポリプロピレン(PP)、ポリメチルメタクリレート(PMMA)、及びアクリルのうちのいずれか一種が用いられるか、或はガラス類としてソーダ石灰ガラス、ホウケイ酸ガラス、溶融石英ガラス、及び石英のうちのいずれか一種が用いられることを特徴とする請求項7に記載のダイナミック光ヘッド層。
- 基板にパターンを形成するために該基板をステージの上に載置する基板準備ステップと、
前記基板にフォトレジストをコーティングするフォトレジストコーティングステップと、
前記フォトレジストの上にダイナミック光ヘッド層を結合するダイナミック光ヘッド層結合ステップと、
レーザービームを照射し、前記ステージを移動させながら基板にパターンを形成するパターン形成ステップと、
前記ダイナミック光ヘッド層を分離するダイナミック光ヘッド層分離ステップと、を有し、
前記ダイナミック光ヘッド層は、上部に第1の誘電層、下部に第2の誘電層、及び前記第1の誘電層と前記第2の誘電層との間にダイナミックナノアパーチャ層が配設され、
前記ダイナミックナノアパーチャ層は、光学的異方性を有する物質であり、
前記第1の誘電層及び前記第2の誘電層は、酸化物系の物質、窒化物系の物質、又は炭化物系の物質であり、
前記第2の誘電層の下面には、フォトレジストとの分離を容易にするためのポリジメチルシロキサン(PDMS)の自己組織化小重合体である疎水性コーティング層が更に配設され、
前記パターン形成ステップにおいて、レーザービームが照射されると、前記ダイナミック光ヘッド層のダイナミックナノアパーチャ層に動的光ナノ開口が形成されてレーザービームが透過しながらパターンが形成されることを特徴とするダイナミック光ヘッド層を用いたリソグラフィ方法。 - 前記パターン形成ステップにおいて、変調されて入射するレーザービームを、マイクロレンズアレイを用いてフォーカシングしてパターンを形成するか、或はデジタル・マイクロミラー・デバイス(DMD)を用いてマスクレス方式でパターンを形成することを特徴とする請求項9に記載のダイナミック光ヘッド層を用いたリソグラフィ方法。
- 前記光学的異方性を有する物質は、Sb65Se35であることを特徴とする請求項9に記載のダイナミック光ヘッド層を用いたリソグラフィ方法。
- パターンが形成される基板を有するパターニング部と、
前記基板に着脱可能なダイナミック光ヘッド層と、
前記ダイナミック光ヘッド層及び前記パターニング部に入射するレーザーをフォーカシングするマイクロレンズアレイと、を備え、
前記ダイナミック光ヘッド層は、上部に第1の誘電層、下部に第2の誘電層、及び前記第1の誘電層と前記第2の誘電層との間にダイナミックナノアパーチャ層が配設され、
前記ダイナミックナノアパーチャ層は、光学的異方性を有する物質であり、
前記第1の誘電層及び前記第2の誘電層は、酸化物系の物質、窒化物系の物質、又は炭化物系の物質であり、
前記第2の誘電層の下面には、フォトレジストとの分離を容易にするためのポリジメチルシロキサン(PDMS)の自己組織化小重合体である疎水性コーティング層が更に配設されることを特徴とするダイナミック光ヘッド層を用いたリソグラフィ装置。
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