JP6034341B2 - 遠隔プラズマソースのためのプラズマブロック - Google Patents
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- 239000002131 composite material Substances 0.000 claims description 38
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 21
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 13
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 11
- 238000000034 method Methods 0.000 description 10
- 238000003780 insertion Methods 0.000 description 9
- 230000037431 insertion Effects 0.000 description 9
- 230000008569 process Effects 0.000 description 8
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 7
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 7
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 6
- 238000005304 joining Methods 0.000 description 5
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 4
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 4
- 238000003801 milling Methods 0.000 description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 2
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 2
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 2
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical group [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 230000006698 induction Effects 0.000 description 1
- 230000001939 inductive effect Effects 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- GVGCUCJTUSOZKP-UHFFFAOYSA-N nitrogen trifluoride Chemical compound FN(F)F GVGCUCJTUSOZKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
- 238000005019 vapor deposition process Methods 0.000 description 1
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- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
- H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
- H05H1/24—Generating plasma
- H05H1/26—Plasma torches
- H05H1/32—Plasma torches using an arc
- H05H1/34—Details, e.g. electrodes, nozzles
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32009—Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
- H01J37/32357—Generation remote from the workpiece, e.g. down-stream
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- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32431—Constructional details of the reactor
- H01J37/3244—Gas supply means
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32431—Constructional details of the reactor
- H01J37/32798—Further details of plasma apparatus not provided for in groups H01J37/3244 - H01J37/32788; special provisions for cleaning or maintenance of the apparatus
- H01J37/32853—Hygiene
- H01J37/32862—In situ cleaning of vessels and/or internal parts
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- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
- H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
- H05H1/24—Generating plasma
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Epidemiology (AREA)
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Description
本発明のさらに他の適切な実施形態によれば、前記球面表面または複合球面表面は、5軸加工される。
図1A及び図1Bは、本発明によるプラズマブロックを形成するサブブロック10の実施形態及び比較例を図示したものである。
図1Aの(a)及び(b)は、プラズマブロックを形成する1つのサブブロック10の実施形態についての斜視図及び正面図をそれぞれ図示したものである。
サブブロック10にプラズマの発生ユニットの固定のための多様な構造が形成され、本発明は、このような構造によって制限されるものではない。
以下、本発明による球面表面または複合球面表面R1、R2、R3、R4が形成される過程について説明される。
図2は、本発明によるプラズマブロックを形成するサブブロックに適用可能な連結構造の実施形態を図示したものである。
球面表面または複合球面表面R1、R2、R3、R4は、多様な方法で形成され、本発明は、提示された実施形態に制限されるものではない。
以下、このような球面構造または複合球面構造の加工のための加工ツールの実施形態について説明される。
図3A及び図3Bは、本発明によるプラズマブロックを形成するサブブロックの経路を加工するための加工ツール30の実施形態を図示したものである。
加工ツール30によって内部境界部位が加工され、それにより、内部経路及び外部経路の加工が完了すれば、表面処理工程が進行しうる。
内部経路及び外部経路の加工が完了した2つのサブブロックが結合されてプラズマブロックを形成しうる。
図4は、本発明による遠隔プラズマソースブロック40の実施形態を図示したものである。
サブブロック40a、40bは、多様な構造で形成され、本発明は、提示された実施形態に制限されるものではない。
Claims (3)
- 本体(11)、本体(11)の両側面に形成された側面ベース(12a、12b)、流入コネクタ(13a、13b)及び入口(121)からなるサブブロック(10)を、流入コネクタ(13a、13b)を有する面で互いに2つ連結して形成される、本体の内部にプラズマ発生装置を備えるためのプラズマブロックにおいて、
前記入口(121)から前記本体(11)の内部に向けて形成される外部連結通路(14)と、本体の内部から前記流入コネクタ(13a、13b)に向けて形成される2つの内部連結通路(131a、131b)とを備え、
前記内部連結通路(131a、131b)は、通路の長手方向に沿って直線状に延びる直線延長部分と、前記外部連結通路と合う位置を基準に曲面を形成する曲線で延びる曲線延長部分とを有し、
前記曲線延長部分は、球面表面または複合球面表面を形成され、
前記外部連結通路(14)の端部と前記内部連結通路(131a)により形成される前記曲線延長部分の曲線の長さは、前記2つのサブブロックを連結する面に近い方に位置する曲線の長さ(R2)が、遠い方に位置する曲線の長さ(R1)よりも長く形成される
ことを特徴とするプラズマブロック。 - 前記外部連結通路(14)と他の内部連結通路(131b)により形成された曲線延長部分の曲線の長さ(R3、R4)は前記遠くに位置する曲線延長部分の曲線の長さ(R1)に比べて大きいことを特徴とする請求項1に記載のプラズマブロック。
- 前記球面表面または複合球面表面は、レンズ球面状に形成されることを特徴とする請求項1に記載のプラズマブロック。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR10-2013-0165925 | 2013-12-27 | ||
KR1020130165925A KR101406696B1 (ko) | 2013-12-27 | 2013-12-27 | 원격 플라즈마 소스를 위한 플라즈마 블록 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2015128047A JP2015128047A (ja) | 2015-07-09 |
JP6034341B2 true JP6034341B2 (ja) | 2016-11-30 |
Family
ID=51132676
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014169609A Active JP6034341B2 (ja) | 2013-12-27 | 2014-08-22 | 遠隔プラズマソースのためのプラズマブロック |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9478398B2 (ja) |
JP (1) | JP6034341B2 (ja) |
KR (1) | KR101406696B1 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR102024503B1 (ko) | 2015-03-13 | 2019-11-04 | 에이이에스 글로벌 홀딩스 피티이 리미티드 | 플라즈마 소스 디바이스 및 방법들 |
KR101692697B1 (ko) * | 2015-04-21 | 2017-01-04 | (주)뉴젠텍 | 정렬 키 구조의 원격 플라즈마 소스 블록 |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5054819A (en) * | 1990-02-16 | 1991-10-08 | Victaulic Company Of America | Plumbing elbows or bends |
US6872909B2 (en) * | 2003-04-16 | 2005-03-29 | Applied Science And Technology, Inc. | Toroidal low-field reactive gas and plasma source having a dielectric vacuum vessel |
US6830624B2 (en) * | 2003-05-02 | 2004-12-14 | Applied Materials, Inc. | Blocker plate by-pass for remote plasma clean |
EP1683163B1 (en) * | 2003-10-17 | 2012-02-22 | Fei Company | Charged particle extraction device and method |
EP1831425B1 (en) * | 2004-11-08 | 2011-07-13 | MKS Instruments, Inc. | Method of disposing metal bearing gases |
US7453059B2 (en) * | 2006-03-10 | 2008-11-18 | Varian Semiconductor Equipment Associates, Inc. | Technique for monitoring and controlling a plasma process |
KR100999131B1 (ko) | 2009-12-18 | 2010-12-07 | (주)뉴젠텍 | 원격 플라즈마 소스 블록 가공방법 |
KR101594310B1 (ko) * | 2010-11-22 | 2016-02-26 | (주)뉴젠텍 | 원격 플라즈마 소스 블록 |
US20130118589A1 (en) * | 2011-11-15 | 2013-05-16 | Mks Instruments, Inc. | Toroidal Plasma Channel with Varying Cross-Section Areas Along the Channel |
-
2013
- 2013-12-27 KR KR1020130165925A patent/KR101406696B1/ko active IP Right Grant
-
2014
- 2014-08-15 US US14/460,676 patent/US9478398B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2014-08-22 JP JP2014169609A patent/JP6034341B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20150187544A1 (en) | 2015-07-02 |
KR101406696B1 (ko) | 2014-06-11 |
JP2015128047A (ja) | 2015-07-09 |
US9478398B2 (en) | 2016-10-25 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
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