JP6033712B2 - 塗布膜形成方法および塗布装置 - Google Patents
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Description
塗布装置1は、塗布部2、塗布ステージ3、アライメント部4、および制御部5を備えており、塗布部2が塗布ステージ3上の基板Wの上方を移動しながら塗布部2内のノズルから塗布液の液滴を吐出することにより、基板Wへの塗布動作が行われる。また、塗布部2が基板Wへ液滴を吐出する前に、アライメント部4が基板Wのアライメントマークを撮像し、その結果にもとづいて制御部5が塗布ステージ3の位置および角度を調節して基板Wの位置ずれを補正する。
d0≦d1≦1.25d0 ……(1)
次に、本発明の他の実施形態について図6を用いて説明する。
2 塗布部
3 塗布ステージ
4 アライメント部
5 制御部
10 塗布ヘッド
11 ノズル
12 塗布ヘッド移動装置
13 吐出ユニット
14 駆動隔壁
15 サブタンク
16 メインタンク
17 真空源
18 真空調圧弁
21 走査方向移動装置
22 シフト方向移動装置
23 枢動装置
24 画像認識カメラ
25 走査方向移動装置
26 シフト方向移動装置
31 第1の塗布膜
32 第2の塗布膜
33 頂上部
91 塗布膜
W 基板
Claims (3)
- 基板へ塗布液を塗布し、所定の膜厚の塗布膜を形成する第1の塗布工程と、
前記第1の塗布工程によって基板上に形成された第1の塗布膜の外縁部にコーヒーステ
イン現象により盛り上がりが生じるまで当該第1の塗布膜への塗布液の塗布を待機する待
機工程と、
当該第1の塗布膜の上方から、塗布液を重ねて塗布する第2の塗布工程と、
を有し、
前記第2の塗布工程において塗布液を吐出する領域は、前記第1の塗布膜が有する領域
の内側であり、かつ前記第1の塗布膜の外縁部と前記第2の塗布工程において塗布液を吐出する領域の外縁部との距離d1は、前記第1の塗布膜の盛り上がりが生じている部分の幅をd0としたときにd0≦d1≦1.25d0の関係が成り立つことを特徴とする、塗布膜形成方法。 - 前記第2の塗布工程は、前記第1の塗布膜の表面が半硬化状態であって、前記第2の塗
布工程で吐出した塗布液が前記第1の塗布膜と一体化可能である間に行うことを特徴とす
る、請求項1に記載の塗布膜形成方法。 - 基板へ塗布液を吐出する塗布ヘッドと、
前記塗布ヘッドからの塗布液の吐出条件を制御する制御部と、
を備え、基板に塗布液を塗布する塗布装置であって、
前記塗布ヘッドが基板へ塗布液を塗布し、所定の膜厚の塗布膜を形成する第1の塗布モ
ードと、
前記第1の塗布モードによって基板上に形成された第1の塗布膜の外縁部にコーヒース
テイン現象により盛り上がりが生じるまで当該第1の塗布膜への塗布液の塗布を待機する
待機モードと、
前記塗布ヘッドが当該第1の塗布膜の上方から塗布液を重ねて塗布する第2の塗布モー
ドと、
を有し、
前記第2の塗布モードにおいて塗布液を吐出する領域は、前記第1の塗布膜が有する領
域の内側であり、かつ前記第1の塗布膜の外縁部と前記第2の塗布工程において塗布液を吐出する領域の外縁部との距離d1は、前記第1の塗布膜の盛り上がりが生じている部分の幅をd0としたときにd0≦d1≦1.25d0の関係が成り立つように前記制御部が前記塗布ヘッドを制御することを特徴とする、塗布装置。
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JP2014171956A JP2014171956A (ja) | 2014-09-22 |
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