JP6027211B2 - ポリカーボネート系樹脂組成物及び成形体 - Google Patents
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Description
本発明は、ポリカーボネート系樹脂組成物及びそれを成形してなる成形体に関する。
ポリカーボネート樹脂は、透明性、高い衝撃特性、難燃性等の優れた特性を有していることから幅広い用途に用いられている。しかしながら、屋外など紫外線を浴びる用途で用いられる場合、紫外線により黄変する問題がある。紫外線吸収剤を配合することにより黄変を抑制する技術が様々と開発されている。
一方、近年、高度な低温衝撃特性、優れた難燃性及び透明性の要求に対して、好適なポリカーボネート樹脂材料として、ポリカーボネート−ポリジメチルシロキサン共重合体（ＰＣ−ＰＤＭＳ共重合体と称することもある。）が挙げられる。しかしながら、ＰＣ−ＰＤＭＳ共重合体のみでは市場の高度な要求に応える事は難しく、各種添加剤を配合し、高度な機能を付与することが必要となってきている。
このＰＣ−ＰＤＭＳ共重合体に各種添加剤を配合し、高度な機能を付与するに際して、白濁現象が生じ、ＰＣ−ＰＤＭＳ共重合体の有する優れた透明性や耐候性を損なうという問題が生じる問題点があった。
なお、ビスフェノールＡをモノマ成分としたホモポリカーボネート樹脂を光学式ディスク基板として用いる際に、ポリカーボネート樹脂中に残留するナトリウム量を１ｐｐｍ以下とすることにより、ビットエラー率の低い光学式情報記録媒体を得ることができることが、特許文献１及び特許文献２で知られている。しかしながら、ＰＣ−ＰＤＭＳ共重合体に各種の添加剤を添加した際の、樹脂組成物中に残留するナトリウムの影響については、知られていなかった。
本発明者は、鋭意、検討の結果、各種添加剤中のナトリウム含有量が多い場合、ＰＣ−ＰＤＭＳ共重合体に白濁現象が生じていることを見出して、本発明を完成させた。
このＰＣ−ＰＤＭＳ共重合体に各種添加剤を配合し、高度な機能を付与するに際して、白濁現象が生じ、ＰＣ−ＰＤＭＳ共重合体の有する優れた透明性や耐候性を損なうという問題が生じる問題点があった。
なお、ビスフェノールＡをモノマ成分としたホモポリカーボネート樹脂を光学式ディスク基板として用いる際に、ポリカーボネート樹脂中に残留するナトリウム量を１ｐｐｍ以下とすることにより、ビットエラー率の低い光学式情報記録媒体を得ることができることが、特許文献１及び特許文献２で知られている。しかしながら、ＰＣ−ＰＤＭＳ共重合体に各種の添加剤を添加した際の、樹脂組成物中に残留するナトリウムの影響については、知られていなかった。
本発明者は、鋭意、検討の結果、各種添加剤中のナトリウム含有量が多い場合、ＰＣ−ＰＤＭＳ共重合体に白濁現象が生じていることを見出して、本発明を完成させた。
本発明は、ポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体（ＰＣ−ＰＯＳ共重合体と称することもある。）を含むポリカーボネート系樹脂に添加剤を配合したポリカーボネート系樹脂組成物の白濁現象を低下させ、透明性に優れ、耐候性、耐衝撃性に優れたポリカーボネート系樹脂組成物及びそれを成形してなる成形体を提供することを目的とする。
本発明者は、鋭意研究を重ねた結果、ＰＣ−ＰＯＳ共重合体を含むポリカーボネート系樹脂に添加剤を配合したポリカーボネート系樹脂組成物中に含まれるナトリウムの含有量を特定量以下とすることにより、本発明を完成させるに至った。
すなわち、本発明は、下記［１］〜［１２］に関する。
すなわち、本発明は、下記［１］〜［１２］に関する。
［１］（Ａ）主鎖が一般式（Ｉ）で表される繰り返し単位及び一般式（II）で表される繰り返し単位（但し、ｎ＝１０〜５００）を含み、一般式（II）で表される繰り返し単位の含有量が１．０〜１０．０質量％であるポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体（Ａ−１）１０〜１００質量％、及び（Ａ−１）以外のポリカーボネート（Ａ−２）０〜９０質量％からなるポリカーボネート系樹脂に、（Ｂ）添加剤を配合してなるポリカーボネート系樹脂組成物であって、該ポリカーボネート系樹脂組成物に含まれるナトリウムが０．５ｐｐｍ以下である、ポリカーボネート系樹脂組成物。
〔式中、Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立に、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基又は炭素数１〜６のアルコキシ基を示す。Ｘは、単結合、炭素数１〜８のアルキレン基、炭素数２〜８のアルキリデン基、炭素数５〜１５のシクロアルキレン基、炭素数５〜１５のシクロアルキリデン基、フルオレンジイル基、炭素数７〜１５のアリールアルキル基、炭素数７〜１５のアリールアルキリデン基、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ２−、−Ｏ−又は−ＣＯ−を示す。ａ及びｂは、それぞれ独立に、０〜４の整数を示す。
Ｒ３及びＲ４は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基又は炭素数６〜１２のアリール基を示す。ｎは、平均繰り返し数である。〕
［２］前記（Ｂ）成分の配合量が、ポリカーボネート系樹脂１００質量部に対して、０．０１〜５質量部である、上記［１］に記載のポリカーボネート系樹脂組成物。
［３］前記（Ｂ）成分が、ナトリウムを含む、上記［１］又は［２］に記載のポリカーボネート系樹脂組成物。
［４］成形機のシリンダー温度を２８０℃、金型温度を８０℃、及び成形サイクルを３０秒で成形して厚みが２ｍｍの平板試験片を作製して、この平板試験片を用いて測定したＣＩＥ１９７６（Ｌ＊，ａ＊，ｂ＊）色空間におけるＬ＊値が５０以上である、上記［１］〜［３］のいずれかに記載のポリカーボネート系樹脂組成物。
［５］前記（Ｂ）成分が、紫外線吸収剤である、上記［１］〜［４］のいずれかに記載のポリカーボネート系樹脂組成物。
［６］前記紫外線吸収剤が、下記一般式（１）で表わされる化合物であって、かつ、ナトリウム含有量が４０ｐｐｍ以下である、上記［５］に記載のポリカーボネート系樹脂組成物。
［式中、Ｒ１は分子中に１個又は２個の芳香環を有する炭化水素化合物からｎ個の水素原子を除いた残基を示す。Ｒ２は水素、ハロゲン基、ニトロ基、炭素数１〜８のアルキル基、炭素数１〜８のアルコキシル基又は炭素数２〜８のアルケニルオキシ基を示す。ｎは２〜３の整数を示し、ｍは１〜４の整数を示す。］
［７］前記紫外線吸収剤が、ｐ−フェニレンビス（１，３−ベンゾオキサジン−４−オン）である、上記［５］又は［６］に記載のポリカーボネート系樹脂組成物。
［８］前記紫外線吸収剤の配合量が、ポリカーボネート系樹脂１００質量部に対して、０．０５〜０．５質量部である、上記［５］〜［７］のいずれかに記載のポリカーボネート系樹脂組成物。
［９］前記紫外線吸収剤の配合量が、ポリカーボネート系樹脂１００質量部に対して、０．２〜３質量部である、上記［５］〜［７］のいずれかに記載のポリカーボネート系樹脂組成物。
［１０］上記［１］〜［９］のいずれかに記載のポリカーボネート系樹脂組成物を成形してなる、成形体。
［１１］上記［８］に記載のポリカーボネート系樹脂組成物を射出成形してなる、射出成形体。
［１２］上記［９］に記載のポリカーボネート系樹脂組成物を押出成形してなる、シート状成形体。
〔式中、Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立に、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基又は炭素数１〜６のアルコキシ基を示す。Ｘは、単結合、炭素数１〜８のアルキレン基、炭素数２〜８のアルキリデン基、炭素数５〜１５のシクロアルキレン基、炭素数５〜１５のシクロアルキリデン基、フルオレンジイル基、炭素数７〜１５のアリールアルキル基、炭素数７〜１５のアリールアルキリデン基、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ２−、−Ｏ−又は−ＣＯ−を示す。ａ及びｂは、それぞれ独立に、０〜４の整数を示す。
Ｒ３及びＲ４は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基又は炭素数６〜１２のアリール基を示す。ｎは、平均繰り返し数である。〕
［２］前記（Ｂ）成分の配合量が、ポリカーボネート系樹脂１００質量部に対して、０．０１〜５質量部である、上記［１］に記載のポリカーボネート系樹脂組成物。
［３］前記（Ｂ）成分が、ナトリウムを含む、上記［１］又は［２］に記載のポリカーボネート系樹脂組成物。
［４］成形機のシリンダー温度を２８０℃、金型温度を８０℃、及び成形サイクルを３０秒で成形して厚みが２ｍｍの平板試験片を作製して、この平板試験片を用いて測定したＣＩＥ１９７６（Ｌ＊，ａ＊，ｂ＊）色空間におけるＬ＊値が５０以上である、上記［１］〜［３］のいずれかに記載のポリカーボネート系樹脂組成物。
［５］前記（Ｂ）成分が、紫外線吸収剤である、上記［１］〜［４］のいずれかに記載のポリカーボネート系樹脂組成物。
［６］前記紫外線吸収剤が、下記一般式（１）で表わされる化合物であって、かつ、ナトリウム含有量が４０ｐｐｍ以下である、上記［５］に記載のポリカーボネート系樹脂組成物。
［式中、Ｒ１は分子中に１個又は２個の芳香環を有する炭化水素化合物からｎ個の水素原子を除いた残基を示す。Ｒ２は水素、ハロゲン基、ニトロ基、炭素数１〜８のアルキル基、炭素数１〜８のアルコキシル基又は炭素数２〜８のアルケニルオキシ基を示す。ｎは２〜３の整数を示し、ｍは１〜４の整数を示す。］
［７］前記紫外線吸収剤が、ｐ−フェニレンビス（１，３−ベンゾオキサジン−４−オン）である、上記［５］又は［６］に記載のポリカーボネート系樹脂組成物。
［８］前記紫外線吸収剤の配合量が、ポリカーボネート系樹脂１００質量部に対して、０．０５〜０．５質量部である、上記［５］〜［７］のいずれかに記載のポリカーボネート系樹脂組成物。
［９］前記紫外線吸収剤の配合量が、ポリカーボネート系樹脂１００質量部に対して、０．２〜３質量部である、上記［５］〜［７］のいずれかに記載のポリカーボネート系樹脂組成物。
［１０］上記［１］〜［９］のいずれかに記載のポリカーボネート系樹脂組成物を成形してなる、成形体。
［１１］上記［８］に記載のポリカーボネート系樹脂組成物を射出成形してなる、射出成形体。
［１２］上記［９］に記載のポリカーボネート系樹脂組成物を押出成形してなる、シート状成形体。
本発明のポリカーボネート系樹脂組成物は、透明性、耐候性、及び耐衝撃性に優れた成形体を得ることができる。
本発明のポリカーボネート系樹脂組成物は、下記特定の（Ａ）成分からなるポリカーボネート系樹脂と、（Ｂ）添加剤とを含むポリカーボネート系樹脂組成物であって、該ポリカーボネート系樹脂組成物に含まれるナトリウムが０．５ｐｐｍ以下である、ポリカーボネート系樹脂組成物である。
以下、本発明のポリカーボネート系樹脂組成物が含有する成分について詳細に説明する。なお、本明細書において、好ましいとされている規定は任意に採用することができ、好ましいもの同士の組み合わせはより好ましいと言える。
以下、本発明のポリカーボネート系樹脂組成物が含有する成分について詳細に説明する。なお、本明細書において、好ましいとされている規定は任意に採用することができ、好ましいもの同士の組み合わせはより好ましいと言える。
［（Ａ）ポリカーボネート系樹脂］
＜ＰＣ−ＰＯＳ共重合体（Ａ−１）＞
（Ａ）成分のポリカーボネート系樹脂は、主鎖が一般式（Ｉ）で表される繰り返し単位及び一般式（II）で表される繰り返し単位（但し、ｎ＝１０〜５００）を含み、一般式（II）で表される繰り返し単位の含有量が１．０〜１０．０質量％であるＰＣ−ＰＯＳ共重合体（Ａ−１）１０〜１００質量％、及び（Ａ−１）以外のポリカーボネート（Ａ−２）０〜９０質量％からなる。以下、ＰＣ−ＰＯＳ共重合体（Ａ−１）について説明する。
＜ＰＣ−ＰＯＳ共重合体（Ａ−１）＞
（Ａ）成分のポリカーボネート系樹脂は、主鎖が一般式（Ｉ）で表される繰り返し単位及び一般式（II）で表される繰り返し単位（但し、ｎ＝１０〜５００）を含み、一般式（II）で表される繰り返し単位の含有量が１．０〜１０．０質量％であるＰＣ−ＰＯＳ共重合体（Ａ−１）１０〜１００質量％、及び（Ａ−１）以外のポリカーボネート（Ａ−２）０〜９０質量％からなる。以下、ＰＣ−ＰＯＳ共重合体（Ａ−１）について説明する。
〔式中、Ｒ１〜Ｒ４、Ｘ、ａ、ｂ及びｎは、前記と同じである。〕
一般式（Ｉ）中、Ｒ１及びＲ２がそれぞれ独立して示すハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。
Ｒ１及びＲ２がそれぞれ独立して示すアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、各種ブチル基（「各種」とは、直鎖状及びあらゆる分岐鎖状のものを含むことを示し、以下、同様である。）、各種ペンチル基、各種ヘキシル基が挙げられる。Ｒ１及びＲ２がそれぞれ独立して示すアルコキシ基としては、アルキル基部位が前記アルキル基である場合が挙げられる。
Ｒ１及びＲ２としては、いずれも、好ましくは炭素数１〜６のアルキル基又は炭素数１〜６のアルコキシ基である。
Ｘが表すアルキレン基としては、例えば、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、ヘキサメチレン基等が挙げられ、炭素数１〜５のアルキレン基が好ましい。Ｘが表すアルキリデン基としては、エチリデン基、イソプロピリデン基等が挙げられる。Ｘが表すシクロアルキレン基としては、シクロペンタンジイル基やシクロヘキサンジイル基、シクロオクタンジイル基等が挙げられ、炭素数５〜１０のシクロアルキレン基が好ましい。Ｘが表すシクロアルキリデン基としては、例えば、シクロヘキシリデン基、３，５，５−トリメチルシクロヘキシリデン基、２−アダマンチリデン基等が挙げられ、炭素数５〜１０のシクロアルキリデン基が好ましく、炭素数５〜８のシクロアルキリデン基がより好ましい。Ｘが表すアリールアルキル基とは、アリール部位とアルキル部位が結合した二価の連結基のことであり、アリール部位としては、フェニル基、ナフチル基、ビフェニル基、アントリル基などの環形成炭素数６〜１４のアリール基が挙げられる。Ｘが表すアリールアルキリデン基のアリール部位としては、フェニル基、ナフチル基、ビフェニル基、アントリル基などの環形成炭素数６〜１４のアリール基が挙げられる。
ａ及びｂは、それぞれ独立に０〜４の整数を示し、好ましくは０〜２、より好ましくは０又は１である。
Ｒ１及びＲ２がそれぞれ独立して示すアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、各種ブチル基（「各種」とは、直鎖状及びあらゆる分岐鎖状のものを含むことを示し、以下、同様である。）、各種ペンチル基、各種ヘキシル基が挙げられる。Ｒ１及びＲ２がそれぞれ独立して示すアルコキシ基としては、アルキル基部位が前記アルキル基である場合が挙げられる。
Ｒ１及びＲ２としては、いずれも、好ましくは炭素数１〜６のアルキル基又は炭素数１〜６のアルコキシ基である。
Ｘが表すアルキレン基としては、例えば、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、ヘキサメチレン基等が挙げられ、炭素数１〜５のアルキレン基が好ましい。Ｘが表すアルキリデン基としては、エチリデン基、イソプロピリデン基等が挙げられる。Ｘが表すシクロアルキレン基としては、シクロペンタンジイル基やシクロヘキサンジイル基、シクロオクタンジイル基等が挙げられ、炭素数５〜１０のシクロアルキレン基が好ましい。Ｘが表すシクロアルキリデン基としては、例えば、シクロヘキシリデン基、３，５，５−トリメチルシクロヘキシリデン基、２−アダマンチリデン基等が挙げられ、炭素数５〜１０のシクロアルキリデン基が好ましく、炭素数５〜８のシクロアルキリデン基がより好ましい。Ｘが表すアリールアルキル基とは、アリール部位とアルキル部位が結合した二価の連結基のことであり、アリール部位としては、フェニル基、ナフチル基、ビフェニル基、アントリル基などの環形成炭素数６〜１４のアリール基が挙げられる。Ｘが表すアリールアルキリデン基のアリール部位としては、フェニル基、ナフチル基、ビフェニル基、アントリル基などの環形成炭素数６〜１４のアリール基が挙げられる。
ａ及びｂは、それぞれ独立に０〜４の整数を示し、好ましくは０〜２、より好ましくは０又は１である。
一般式（II）中、Ｒ３及びＲ４がそれぞれ独立して示すハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。Ｒ３及びＲ４がそれぞれ独立して示すアルキル基、アルコキシ基としては、Ｒ１及びＲ２の場合と同じものが挙げられる。Ｒ３及びＲ４がそれぞれ独立して示すアリール基としては、フェニル基、ナフチル基等が挙げられる。
なお、Ｒ３及びＲ４としては、いずれも、好ましくは、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基又は炭素数６〜１２のアリール基であり、いずれもメチル基であることがより好ましい。
なお、Ｒ３及びＲ４としては、いずれも、好ましくは、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基又は炭素数６〜１２のアリール基であり、いずれもメチル基であることがより好ましい。
本発明で用いられるＰＣ−ＰＯＳ共重合体は、上記一般式（II）で表される繰り返し単位の含有量が１．０〜１０．０質量％を要し、好ましくは２．２〜８．２質量％、更に好ましくは３.２〜６．７質量％である。前記ブロック部分の含有量が１．０質量％未満であると、ノッチ感度に対する効果が小さく、耐落下衝撃強度向上（特に低温耐衝撃性）の効果が不十分であり、１０質量％を超えると耐熱性の低下が大きくなる。
上記一般式（II）の構造単位を有するポリオルガノシロキサンブロック部分の鎖長は１０〜５００を要し、好ましくは、２２〜１２７であり、更に好ましくは、３２〜９７である。１０未満であるとノッチ感度に対する効果が小さく耐落下衝撃強度向上（特に低温耐衝撃性）の効果が十分ではなく、５００を超えるとＰＣ−ＰＯＳ共重合体の透明性に悪影響を与え、得られる本発明のポリカーボネート系樹脂組成物の透明性が低下する恐れがある。
一般式（II）で表される繰返し単位を含む構造としては、好ましくは、下記一般式（II’）で表されるものである。
上記式（II’）中、Ｒ３〜Ｒ６は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基又は炭素数６〜１２のアリール基を示す。Ｙは単結合、脂肪族又は芳香族を含む有機残基を示す。ｎは、平均繰り返し数である。
Ｒ３〜Ｒ６としては、いずれも、好ましくは、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基又は炭素数６〜１２のアリール基である。Ｙとしては、好ましくはアルキル基を有するフェノール系化合物の残基であり、アリルフェノール由来の有機残基やオイゲノール由来の有機残基がより好ましい。
また、一般式（II）で表される繰返し単位を含む構造としては、下記式（II’’）であることも好ましい。
Ｒ３〜Ｒ６としては、いずれも、好ましくは、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基又は炭素数６〜１２のアリール基である。Ｙとしては、好ましくはアルキル基を有するフェノール系化合物の残基であり、アリルフェノール由来の有機残基やオイゲノール由来の有機残基がより好ましい。
また、一般式（II）で表される繰返し単位を含む構造としては、下記式（II’’）であることも好ましい。
上記式（II''）中、Ｒ３〜Ｒ６、Ｙ及びｎは、前記一般式（II'）中のものと同様であり、好ましいものも同じである。
ｍは、０又は１を示す。
Ｚは、後出する一般式（２）中のＺと同じく、ハロゲン、−Ｒ７ＯＨ、−Ｒ７ＣＯＯＨ、−Ｒ７ＮＨ２、−ＣＯＯＨ又は−ＳＨを示し、該Ｒ７は直鎖、分岐鎖もしくは環状アルキレン基、アリール置換アルキレン基、環上にアルコキシ基を有してもよいアリール置換アルキレン基、アリーレン基を示す。
また、βは、ジイソシアネート化合物由来の２価の基を示す。該ジイソシアネート化合物由来の２価の基の具体例については後述する。
ｍは、０又は１を示す。
Ｚは、後出する一般式（２）中のＺと同じく、ハロゲン、−Ｒ７ＯＨ、−Ｒ７ＣＯＯＨ、−Ｒ７ＮＨ２、−ＣＯＯＨ又は−ＳＨを示し、該Ｒ７は直鎖、分岐鎖もしくは環状アルキレン基、アリール置換アルキレン基、環上にアルコキシ基を有してもよいアリール置換アルキレン基、アリーレン基を示す。
また、βは、ジイソシアネート化合物由来の２価の基を示す。該ジイソシアネート化合物由来の２価の基の具体例については後述する。
ＰＣ−ＰＯＳ共重合体（Ａ−１）の粘度平均分子量（Ｍｖ）は、好ましくは１４，０００〜２８，０００であり、より好ましくは１５，５００〜２５，５００であり、さらに好ましくは１６，０００〜２３，５００、特に好ましくは１６，２００〜２２，５００である。ＰＣ−ＰＯＳ共重合体（Ａ−１）の粘度平均分子量がこの範囲であれば、成形体の耐衝撃性が十分となり、ＰＣ−ＰＯＳ共重合体の粘度が大きくなり過ぎずに製造時の生産性が安定的になり、薄肉の成形も容易となる。
なお、粘度平均分子量（Ｍｖ）は、２０℃における塩化メチレン溶液の極限粘度〔η〕を測定し、Ｓｃｈｎｅｌｌの式（〔η〕＝１．２３×１０−５×Ｍｖ０．８３）より算出した値である。
なお、粘度平均分子量（Ｍｖ）は、２０℃における塩化メチレン溶液の極限粘度〔η〕を測定し、Ｓｃｈｎｅｌｌの式（〔η〕＝１．２３×１０−５×Ｍｖ０．８３）より算出した値である。
ＰＣ−ＰＯＳ共重合体（Ａ−１）の製造方法に特に制限はなく、公知のＰＣ−ＰＯＳ共重合体の製造方法、例えば、特開２０１０−２４１９４３号公報等に記載の方法を参照して容易に製造することができる。
具体的には、予め製造された芳香族ポリカーボネートオリゴマーと、末端に反応性基を有するポリオルガノシロキサンとを、非水溶性有機溶媒（塩化メチレン等）に溶解させ、二価フェノール系化合物（ビスフェノールＡ等）のアルカリ性化合物水溶液（水酸化ナトリウム水溶液等）を加え、重合触媒として第三級アミン（トリエチルアミン等）や第四級アンモニウム塩（トリメチルベンジルアンモニウムクロライド等）を用い、末端停止剤（ｐ−ｔ−ブチルフェノール等の１価フェノール）の存在下、界面重縮合反応させることにより製造できる。なお、前記ポリオルガノシロキサンの使用量を調整することなどにより、一般式（II）で表される構造を含む繰り返し単位の含有量を前記範囲内に調整することができる。
上記界面重縮合反応後、適宜静置して水相と非水溶性有機溶媒相とに分離し［分離工程］、非水溶性有機溶媒相を洗浄（好ましくは塩基性水溶液、酸性水溶液、水の順に洗浄）し［洗浄工程］、得られた有機相を濃縮［濃縮工程］、粉砕［粉砕工程］及び乾燥する［乾燥工程］ことによって、ＰＣ−ＰＯＳ共重合体（Ａ−１）を得ることができる。
具体的には、予め製造された芳香族ポリカーボネートオリゴマーと、末端に反応性基を有するポリオルガノシロキサンとを、非水溶性有機溶媒（塩化メチレン等）に溶解させ、二価フェノール系化合物（ビスフェノールＡ等）のアルカリ性化合物水溶液（水酸化ナトリウム水溶液等）を加え、重合触媒として第三級アミン（トリエチルアミン等）や第四級アンモニウム塩（トリメチルベンジルアンモニウムクロライド等）を用い、末端停止剤（ｐ−ｔ−ブチルフェノール等の１価フェノール）の存在下、界面重縮合反応させることにより製造できる。なお、前記ポリオルガノシロキサンの使用量を調整することなどにより、一般式（II）で表される構造を含む繰り返し単位の含有量を前記範囲内に調整することができる。
上記界面重縮合反応後、適宜静置して水相と非水溶性有機溶媒相とに分離し［分離工程］、非水溶性有機溶媒相を洗浄（好ましくは塩基性水溶液、酸性水溶液、水の順に洗浄）し［洗浄工程］、得られた有機相を濃縮［濃縮工程］、粉砕［粉砕工程］及び乾燥する［乾燥工程］ことによって、ＰＣ−ＰＯＳ共重合体（Ａ−１）を得ることができる。
また、ＰＣ−ＰＯＳ共重合体（Ａ−１）は、下記一般式（１）で表される二価フェノールと、下記一般式（２）で表されるポリオルガノシロキサンと、ホスゲン、炭酸エステル又はクロロホーメートとを共重合させることによっても製造できる。
ここで、一般式（１）中、Ｒ１及びＲ２、Ｘ、ａ及びｂは、上記一般式（Ｉ）と同じである。一般式（２）中、Ｒ３〜Ｒ６は、前記一般式（II’）中のものと同じであり、ｎは前記一般式（II）中のものと同じである。また、Ｙ’は、前記一般式（II’）中のＹと同じである。
ｍは０又は１を示し、Ｚはハロゲン、−Ｒ７ＯＨ、−Ｒ７ＣＯＯＨ、−Ｒ７ＮＨ２、−ＣＯＯＨ又は−ＳＨを示し、Ｒ７は直鎖、分岐鎖もしくは環状アルキレン基、アリール置換アルキレン基、環上にアルコキシ基を有してもよいアリール置換アルキレン基、アリーレン基を示す。
好ましくは、Ｙ’は、単結合、脂肪族又は芳香族を含み、ＳｉとＯ又はＳｉとＺに結合している有機残基を示す。Ｒ３〜Ｒ６としては、いずれも、好ましくは、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基又は炭素数６〜１２のアリール基である。ｎは上記と同じであり、ｍは０又は１を示す。
Ｚとしては、好ましくは−Ｒ７ＯＨ、−Ｒ７ＣＯＯＨ、−Ｒ７ＮＨ２、−ＣＯＯＨ又は−ＳＨである。該Ｒ７は、前記同様、直鎖、分岐鎖もしくは環状アルキレン基、アリール置換アルキレン基、環上にアルコキシ基を有してもよいアリール置換アルキレン基、アリーレン基を示す。
ＰＣ−ＰＯＳ共重合体（Ａ−１）の原料である一般式（１）で表される二価フェノールとしては、特に限定されないが、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン〔通称：ビスフェノールＡ〕が好適である。二価フェノールとしてビスフェノールＡを用いた場合、一般式（Ｉ）において、Ｘがイソプロピリデン基であり、且つａ＝ｂ＝０のＰＣ−ＰＯＳとなる。
ビスフェノールＡ以外の二価フェノールとしては、例えば、ビス（４−ヒドロキシフェニル）メタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）オクタン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）フェニルメタン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）ジフェニルメタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロパン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）ナフチルメタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシ−ｔ−ブチルフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３−ブロモフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３−クロロフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジクロロフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジブロモフェニル）プロパン等のビス（ヒドロキシアリール）アルカン類；１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロペンタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３，５，５−トリメチルシクロヘキサン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ノルボルナン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロドデカン等のビス（ヒドロキシアリール）シクロアルカン類；４，４’−ジヒドロキシジフェニルエーテル、４，４’−ジヒドロキシ−３，３’−ジメチルフェニルエーテル等のジヒドロキシアリールエーテル類；４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルフィド、４，４’−ジヒドロキシ−３，３’−ジメチルジフェニルスルフィド等のジヒドロキシジアリールスルフィド類；４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルホキシド、４，４’−ジヒドロキシ−３，３’−ジメチルジフェニルスルホキシド等のジヒドロキシジアリールスルホキシド類；４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルホン、４，４’−ジヒドロキシ−３，３’−ジメチルジフェニルスルホン等のジヒドロキシジアリールスルホン類；４，４’−ジヒドロキシジフェニル等のジヒドロキシジフェニル類；９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）フルオレン等のジヒドロキシジアリールフルオレン類；１，３−ビス（４−ヒドロキシフェニル）アダマンタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）アダマンタン、１，３−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−５，７−ジメチルアダマンタン等のジヒドロキシジアリールアダマンタン類；４，４’−［１，３−フェニレンビス（１−メチルエチリデン）］ビスフェノール、１０，１０−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−９−アントロン、１，５−ビス（４−ヒドロキシフェニルチオ）−２，３−ジオキサペンタン等が挙げられる。
これらの二価フェノールは、１種を単独で使用してもよいし、２種以上を混合して用いてもよい。
ビスフェノールＡ以外の二価フェノールとしては、例えば、ビス（４−ヒドロキシフェニル）メタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）オクタン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）フェニルメタン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）ジフェニルメタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロパン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）ナフチルメタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシ−ｔ−ブチルフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３−ブロモフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３−クロロフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジクロロフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジブロモフェニル）プロパン等のビス（ヒドロキシアリール）アルカン類；１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロペンタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３，５，５−トリメチルシクロヘキサン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ノルボルナン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロドデカン等のビス（ヒドロキシアリール）シクロアルカン類；４，４’−ジヒドロキシジフェニルエーテル、４，４’−ジヒドロキシ−３，３’−ジメチルフェニルエーテル等のジヒドロキシアリールエーテル類；４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルフィド、４，４’−ジヒドロキシ−３，３’−ジメチルジフェニルスルフィド等のジヒドロキシジアリールスルフィド類；４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルホキシド、４，４’−ジヒドロキシ−３，３’−ジメチルジフェニルスルホキシド等のジヒドロキシジアリールスルホキシド類；４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルホン、４，４’−ジヒドロキシ−３，３’−ジメチルジフェニルスルホン等のジヒドロキシジアリールスルホン類；４，４’−ジヒドロキシジフェニル等のジヒドロキシジフェニル類；９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）フルオレン等のジヒドロキシジアリールフルオレン類；１，３−ビス（４−ヒドロキシフェニル）アダマンタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）アダマンタン、１，３−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−５，７−ジメチルアダマンタン等のジヒドロキシジアリールアダマンタン類；４，４’−［１，３−フェニレンビス（１−メチルエチリデン）］ビスフェノール、１０，１０−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−９−アントロン、１，５−ビス（４−ヒドロキシフェニルチオ）−２，３−ジオキサペンタン等が挙げられる。
これらの二価フェノールは、１種を単独で使用してもよいし、２種以上を混合して用いてもよい。
一般式（２）で表されるポリオルガノシロキサンは、オレフィン性の不飽和炭素−炭素結合を有するフェノール類（好ましくはビニルフェノール、アリルフェノール、オイゲノール、イソプロペニルフェノール等）を、所定の重合度（ｎ；繰り返し数）を有するポリオルガノシロキサン鎖の末端に、ハイドロシラネーション反応させることにより容易に製造することができる。上記フェノール類は、アリルフェノール又はオイゲノールであることがより好ましい。
一般式（２）で表されるポリオルガノシロキサンとしては、Ｒ３〜Ｒ６がいずれもメチル基であるものが好ましい。
一般式（２）で表されるポリオルガノシロキサンとしては、例えば、以下の一般式（２−１）〜（２−９）の化合物が挙げられる。
一般式（２）で表されるポリオルガノシロキサンとしては、例えば、以下の一般式（２−１）〜（２−９）の化合物が挙げられる。
上記一般式（２−１）〜（２−９）中、Ｒ３〜Ｒ６、及びｎは、前記定義の通りであり、好ましいものも同じである。また、Ｒ８はアルキル基、アルケニル基、アリール基又はアラルキル基を示し、ｃは正の整数を示し、通常１〜６の整数である。
また、Ｒ８としては、好ましくは、アルキル基、アルケニル基、アリール基又はアラルキル基である。
これらの中でも、重合の容易さの観点においては、一般式（２−１）で表されるフェノール変性ポリオルガノシロキサンが好ましい。また、入手の容易さの観点においては、一般式（２−２）で表される化合物中の一種であるα，ω−ビス［３−（ｏ−ヒドロキシフェニル）プロピル］ポリジメチルシロキサン、一般式（２−３）で表される化合物中の一種であるα，ω−ビス［３−（４−ヒドロキシ−３−メトキシフェニル）プロピル］ポリジメチルシロキサンが好ましい。
また、Ｒ８としては、好ましくは、アルキル基、アルケニル基、アリール基又はアラルキル基である。
これらの中でも、重合の容易さの観点においては、一般式（２−１）で表されるフェノール変性ポリオルガノシロキサンが好ましい。また、入手の容易さの観点においては、一般式（２−２）で表される化合物中の一種であるα，ω−ビス［３−（ｏ−ヒドロキシフェニル）プロピル］ポリジメチルシロキサン、一般式（２−３）で表される化合物中の一種であるα，ω−ビス［３−（４−ヒドロキシ−３−メトキシフェニル）プロピル］ポリジメチルシロキサンが好ましい。
上記フェノール変性ポリオルガノシロキサンは、公知の方法により製造することができる。製造法としては、例えば、以下に示す方法が挙げられる。
まず、シクロトリシロキサンとジシロキサンとを酸性触媒存在下で反応させ、α，ω−ジハイドロジェンオルガノポリシロキサンを合成する。このとき、シクロトリシロキサンとジシロキサンとの仕込み比を変えることで所望の平均繰り返し単位を持つα，ω−ジハイドロジェンオルガノポリシロキサンを合成することができる。次いで、ヒドロシリル化反応用触媒の存在下に、このα，ω−ジハイドロジェンオルガノポリシロキサンにアリルフェノールやオイゲノール等の不飽和脂肪族炭化水素基を有するフェノール化合物を付加反応させることで、所望の平均繰り返し単位を有するフェノール変性ポリオルガノシロキサンを製造することができる。
また、この段階では、低分子量の環状ポリオルガノシロキサンや過剰量の上記フェノール化合物が不純物として残存するために、減圧下で加熱し、これらの低分子化合物を留去することが好ましい。
まず、シクロトリシロキサンとジシロキサンとを酸性触媒存在下で反応させ、α，ω−ジハイドロジェンオルガノポリシロキサンを合成する。このとき、シクロトリシロキサンとジシロキサンとの仕込み比を変えることで所望の平均繰り返し単位を持つα，ω−ジハイドロジェンオルガノポリシロキサンを合成することができる。次いで、ヒドロシリル化反応用触媒の存在下に、このα，ω−ジハイドロジェンオルガノポリシロキサンにアリルフェノールやオイゲノール等の不飽和脂肪族炭化水素基を有するフェノール化合物を付加反応させることで、所望の平均繰り返し単位を有するフェノール変性ポリオルガノシロキサンを製造することができる。
また、この段階では、低分子量の環状ポリオルガノシロキサンや過剰量の上記フェノール化合物が不純物として残存するために、減圧下で加熱し、これらの低分子化合物を留去することが好ましい。
さらに、ＰＣ−ＰＯＳ共重合体（Ａ−１）は、一般式（１）で表される二価フェノールと、下記一般式（３）で表されるポリオルガノシロキサンと、ホスゲン、炭酸エステル又はクロロホーメートとを共重合させることによって製造されたものでもよい。一般式（３）は一般式（２）とジイソシアネート化合物の反応生成物である。
一般式（３）式中、Ｒ３〜Ｒ６、ｎ、ｍ、Ｙ’、Ｚは、前記定義の通りであり、好ましいものも同じである。
また、βは、ジイソシアネート化合物由来の２価の基を示し、例えば、以下の一般式（３−１）〜（３−４）で表される２価の基が挙げられる。
一般式（３）式中、Ｒ３〜Ｒ６、ｎ、ｍ、Ｙ’、Ｚは、前記定義の通りであり、好ましいものも同じである。
また、βは、ジイソシアネート化合物由来の２価の基を示し、例えば、以下の一般式（３−１）〜（３−４）で表される２価の基が挙げられる。
＜（Ａ−１）以外のポリカーボネート（Ａ−２）＞
前述のとおり、（Ａ）成分としては、本発明の効果を損なわない程度に、（Ａ−１）成分以外のポリカーボネート樹脂（Ａ−２）が含まれていてもよい。該（Ａ−２）成分としては、芳香族二価フェノール系化合物が用いられて得られる芳香族ポリカーボネート樹脂であってもよいし、脂肪族二価フェノール系化合物が用いられて得られる脂肪族ポリカーボネート樹脂であってもよいし、脂肪族二価水酸基含有化合物が用いられて得られる脂肪族ポリカーボネート樹脂であってもよいし、芳香族二価フェノール系化合物と脂肪族二価フェノール系化合物とを併用して得られる芳香族−脂肪族ポリカーボネート樹脂であってもよい。当該（Ａ−２）成分は、樹脂混合物（Ａ）中に含まれる、一般式（II）で表される構造を含む繰り返し単位の含有量を調整するために用いることができる。
これらの中でも、（Ａ−２）成分としては、芳香族ポリカーボネート樹脂が好ましい。
該（Ａ−２）成分のポリカーボネート樹脂の粘度平均分子量は、物性面の観点から、好ましくは１０，０００〜４０，０００、より好ましくは１３，２００〜２６，７００、更に好ましくは１５，５００〜２３,２００である。
前述のとおり、（Ａ）成分としては、本発明の効果を損なわない程度に、（Ａ−１）成分以外のポリカーボネート樹脂（Ａ−２）が含まれていてもよい。該（Ａ−２）成分としては、芳香族二価フェノール系化合物が用いられて得られる芳香族ポリカーボネート樹脂であってもよいし、脂肪族二価フェノール系化合物が用いられて得られる脂肪族ポリカーボネート樹脂であってもよいし、脂肪族二価水酸基含有化合物が用いられて得られる脂肪族ポリカーボネート樹脂であってもよいし、芳香族二価フェノール系化合物と脂肪族二価フェノール系化合物とを併用して得られる芳香族−脂肪族ポリカーボネート樹脂であってもよい。当該（Ａ−２）成分は、樹脂混合物（Ａ）中に含まれる、一般式（II）で表される構造を含む繰り返し単位の含有量を調整するために用いることができる。
これらの中でも、（Ａ−２）成分としては、芳香族ポリカーボネート樹脂が好ましい。
該（Ａ−２）成分のポリカーボネート樹脂の粘度平均分子量は、物性面の観点から、好ましくは１０，０００〜４０，０００、より好ましくは１３，２００〜２６，７００、更に好ましくは１５，５００〜２３,２００である。
上記芳香族ポリカーボネート樹脂は、前記一般式（II）で表される構造を含む繰り返し単位を有していないものであり、かつ主鎖が下記一般式（III）で表される繰り返し単位からなるものであることが好ましい。このような芳香族ポリカーボネート樹脂としては、特に制限はなく種々の公知の芳香族ポリカーボネート樹脂を使用できる。
［式中、Ｒ９及びＲ１０は、それぞれ独立に、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基又は炭素数１〜６のアルコキシ基を示す。Ｘ’は単結合、炭素数１〜８のアルキレン基、炭素数２〜８のアルキリデン基、炭素数５〜１５のシクロアルキレン基、炭素数５〜１５のシクロアルキリデン基、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ２−、−Ｏ−又は−ＣＯ−を示す。ｃ及びｄは、それぞれ独立に０〜４の整数を示す。］
Ｒ９及びＲ１０の具体例としては、前記Ｒ１及びＲ２と同じものが挙げられ、好ましいものも同じである。Ｒ9及びＲ10としては、より好ましくは、炭素数１〜６のアルキル基又は炭素数１〜６のアルコキシ基である。Ｘ’の具体例としては、前記Ｘと同じものが挙げられ、好ましいものも同じである。ｃ及びｄは、それぞれ独立に、好ましくは０〜２、より好ましくは０又は１である。
［式中、Ｒ９及びＲ１０は、それぞれ独立に、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基又は炭素数１〜６のアルコキシ基を示す。Ｘ’は単結合、炭素数１〜８のアルキレン基、炭素数２〜８のアルキリデン基、炭素数５〜１５のシクロアルキレン基、炭素数５〜１５のシクロアルキリデン基、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ２−、−Ｏ−又は−ＣＯ−を示す。ｃ及びｄは、それぞれ独立に０〜４の整数を示す。］
Ｒ９及びＲ１０の具体例としては、前記Ｒ１及びＲ２と同じものが挙げられ、好ましいものも同じである。Ｒ9及びＲ10としては、より好ましくは、炭素数１〜６のアルキル基又は炭素数１〜６のアルコキシ基である。Ｘ’の具体例としては、前記Ｘと同じものが挙げられ、好ましいものも同じである。ｃ及びｄは、それぞれ独立に、好ましくは０〜２、より好ましくは０又は１である。
上記芳香族ポリカーボネート樹脂は、具体的には、反応に不活性な有機溶媒、アルカリ水溶液の存在下、芳香族二価フェノール系化合物及びホスゲンと反応させた後、第三級アミンもしくは第四級アンモニウム塩等の重合触媒を添加して重合させる界面重合法や、芳香族二価フェノール系化合物をピリジン又はピリジンと不活性溶媒の混合溶液に溶解し、ホスゲンを導入し直接製造するピリジン法等従来の芳香族ポリカーボネートの製造法により得られるものを使用できる。
上記の反応に際し、必要に応じて、分子量調節剤（末端停止剤）、分岐化剤等が使用される。
なお、上記芳香族二価フェノール系化合物としては、下記一般式（III'）で表されるものが挙げられる。
［式中、Ｒ9、Ｒ10及びＸ’は前記定義の通りであり、好ましいものも同じである。］
該芳香族二価フェノール系化合物の具体例としては、例えば、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン〔ビスフェノールＡ〕、ビス（４−ヒドロキシフェニル）メタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）プロパン等のビス（ヒドロキシフェニル）アルカン系、４，４'−ジヒドロキシジフェニル、ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロアルカン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）オキシド、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルフィド、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルホン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルホキシド、ビス（４−ヒドロキシフェニル）ケトン等が挙げられる。
これらの中でも、ビス（ヒドロキシフェニル）アルカン系２価フェノールが好ましく、ビスフェノールＡがより好ましい。
上記の反応に際し、必要に応じて、分子量調節剤（末端停止剤）、分岐化剤等が使用される。
なお、上記芳香族二価フェノール系化合物としては、下記一般式（III'）で表されるものが挙げられる。
［式中、Ｒ9、Ｒ10及びＸ’は前記定義の通りであり、好ましいものも同じである。］
該芳香族二価フェノール系化合物の具体例としては、例えば、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン〔ビスフェノールＡ〕、ビス（４−ヒドロキシフェニル）メタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）プロパン等のビス（ヒドロキシフェニル）アルカン系、４，４'−ジヒドロキシジフェニル、ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロアルカン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）オキシド、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルフィド、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルホン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルホキシド、ビス（４−ヒドロキシフェニル）ケトン等が挙げられる。
これらの中でも、ビス（ヒドロキシフェニル）アルカン系２価フェノールが好ましく、ビスフェノールＡがより好ましい。
上記芳香族ポリカーボネート樹脂は１種を単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
また、脂肪族ポリカーボネート樹脂は、前記芳香族二価フェノール系化合物の代わりに脂肪族二価水酸基含有化合物、又は脂肪族二価フェノール系化合物を用いることによって製造できる。
なお、芳香族−脂肪族ポリカーボネート樹脂は、前述の通り、芳香族二価フェノール系化合物と脂肪族二価フェノール系化合物を併用することによって製造できる。
また、脂肪族ポリカーボネート樹脂は、前記芳香族二価フェノール系化合物の代わりに脂肪族二価水酸基含有化合物、又は脂肪族二価フェノール系化合物を用いることによって製造できる。
なお、芳香族−脂肪族ポリカーボネート樹脂は、前述の通り、芳香族二価フェノール系化合物と脂肪族二価フェノール系化合物を併用することによって製造できる。
＜（Ａ−１）成分と（Ａ−２）成分との割合＞
（Ａ）成分のポリカーボネート系樹脂は、ＰＣ−ＰＯＳ共重合体（Ａ−１）１０〜１００質量％、及び（Ａ−１）以外のポリカーボネート（Ａ−２）０〜９０質量％からなる割合であることを要す。（Ａ−１）成分が１０質量％未満であると、耐衝撃性、特に低温下での耐衝撃性が低下し好ましくない。（Ａ−１）成分と（Ａ−２）成分との合計量１００質量％に対する、（Ａ−１）成分中の一般式（II）で表される繰り返し単位の含有量が、１．０〜１０．０質量％となるような割合で、（Ａ−１）成分と（Ａ−２）成分との割合を任意に調整することができる。好ましくは、（Ａ−１）成分３０〜１００質量％と（Ａ−２）成分０〜７０質量％の範囲で配合して用いることが望ましい。
（Ａ）成分のポリカーボネート系樹脂は、ＰＣ−ＰＯＳ共重合体（Ａ−１）１０〜１００質量％、及び（Ａ−１）以外のポリカーボネート（Ａ−２）０〜９０質量％からなる割合であることを要す。（Ａ−１）成分が１０質量％未満であると、耐衝撃性、特に低温下での耐衝撃性が低下し好ましくない。（Ａ−１）成分と（Ａ−２）成分との合計量１００質量％に対する、（Ａ−１）成分中の一般式（II）で表される繰り返し単位の含有量が、１．０〜１０．０質量％となるような割合で、（Ａ−１）成分と（Ａ−２）成分との割合を任意に調整することができる。好ましくは、（Ａ−１）成分３０〜１００質量％と（Ａ−２）成分０〜７０質量％の範囲で配合して用いることが望ましい。
［（Ｂ）添加剤］
本発明のポリカーボネート系樹脂組成物は、（Ａ）成分のポリカーボネート系樹脂に（Ｂ）成分の添加剤が配合される。（Ｂ）成分の添加剤としては、ポリカーボネート系樹脂に配合される添加剤であれば、ポリカーボネート系樹脂が有する透明性を損なうものではない限り、特に限定されず、紫外線吸収剤、酸化防止剤、難燃剤、難燃助剤、光安定剤、可塑剤、帯電防止剤、アンチブロッキング剤、抗菌剤、相溶化剤、着色剤（染料、顔料）離型剤及び滑剤などが挙げられる。
（Ｂ）添加剤は、（Ａ）成分のポリカーボネート系樹脂１００質量部に対して、０．０１〜５．０質量部、好ましくは、０．０３〜３．０質量部配合することが望ましい。
（Ｂ）成分の紫外線吸収剤及び酸化防止剤について以下に説明する。
本発明のポリカーボネート系樹脂組成物は、（Ａ）成分のポリカーボネート系樹脂に（Ｂ）成分の添加剤が配合される。（Ｂ）成分の添加剤としては、ポリカーボネート系樹脂に配合される添加剤であれば、ポリカーボネート系樹脂が有する透明性を損なうものではない限り、特に限定されず、紫外線吸収剤、酸化防止剤、難燃剤、難燃助剤、光安定剤、可塑剤、帯電防止剤、アンチブロッキング剤、抗菌剤、相溶化剤、着色剤（染料、顔料）離型剤及び滑剤などが挙げられる。
（Ｂ）添加剤は、（Ａ）成分のポリカーボネート系樹脂１００質量部に対して、０．０１〜５．０質量部、好ましくは、０．０３〜３．０質量部配合することが望ましい。
（Ｂ）成分の紫外線吸収剤及び酸化防止剤について以下に説明する。
＜紫外線吸収剤＞
紫外線吸収剤としては、ベンゾオキサジノン系、ベンゾトリアゾール系、サリチレート系、マロン酸エステル系、オキサリルアラニド系、トリアジン系、ベンゾフェノン系、シアノアクリレート系等の各種化合物が挙げられる。これらは、１種を単独でも又は２種以上を組み合わせて用いることができる。
ベンゾオキサジノン系化合物としては、下記一般式（１）で表わされる化合物を挙げることができる。
［式中、Ｒ１は分子中に１個又は２個の芳香環を有する炭化水素化合物からｎ個の水素原子を除いた残基を示す。Ｒ２は水素、ハロゲン基、ニトロ基、炭素数１〜８のアルキル基、炭素数１〜８のアルコキシル基又は炭素数２〜８のアルケニルオキシ基を示す。ｎは２〜３の整数を示し、ｍは１〜４の整数を示す。］
紫外線吸収剤としては、ベンゾオキサジノン系、ベンゾトリアゾール系、サリチレート系、マロン酸エステル系、オキサリルアラニド系、トリアジン系、ベンゾフェノン系、シアノアクリレート系等の各種化合物が挙げられる。これらは、１種を単独でも又は２種以上を組み合わせて用いることができる。
ベンゾオキサジノン系化合物としては、下記一般式（１）で表わされる化合物を挙げることができる。
［式中、Ｒ１は分子中に１個又は２個の芳香環を有する炭化水素化合物からｎ個の水素原子を除いた残基を示す。Ｒ２は水素、ハロゲン基、ニトロ基、炭素数１〜８のアルキル基、炭素数１〜８のアルコキシル基又は炭素数２〜８のアルケニルオキシ基を示す。ｎは２〜３の整数を示し、ｍは１〜４の整数を示す。］
一般式（１）中、Ｒ１は分子中に１個又は２個の芳香環を有する炭化水素化合物からｎ個の水素原子を除いた残基には、フェニレン基、ビフェニレン基、ナフチレン基等のアリーレン基を挙げることできる。Ｒ２が炭素数１〜８のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等のアルキル基を挙げることでき、Ｒ２が炭素数１〜８のアルコキシル基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基を挙げることでき、Ｒ２が炭素数２〜８のアルケニルオキシ基としては、アリルオキシ基、２−プロペニルオキシ基、２−ブテニルオキシ基、２−メチル−３−プロペニルオキシ基等を挙げることができる。
上記一般式（１）で表わされる化合物の中でも、ｐ−フェニレンビス（１，３−ベンゾオキサジン−４−オン）であることが特に好ましい。ｐ−フェニレンビス（１，３−ベンゾオキサジン−４−オン）は、下記式で表わされる化合物である。
ベンゾトリアゾール系化合物としては、２−（２'−ヒドロキシ−５'−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２'−ヒドロキシ−５'−ｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２'−ヒドロキシ−５'−ｔ−オクチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２'−ヒドロキシ−３'，５'−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２'−ヒドロキシ−３'，５'−ジ−アミルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２'−ヒドロキシ−３'−ドデシル−５'−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２'−ヒドロキシ−３'，５'−ジクミルフェニル）ベンゾトリアゾール、２，２'−メチレンビス〔４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール〕等が挙げられる。
サリチレート系化合物としては、フェニルサリチレート、ｐ−ｔ−ブチルフェニルサリチレート、ｐ−オクチルフェニルサリチレート等が挙げられる。マロン酸エステル系化合物としては、ベンジリデンビスジエチルマロネート、４−メトキシフェニル−メチレン−ジメチルエステル等が挙げられる。オキサリルアラニド系化合物としては、炭素数１〜１２の炭化水素基を有するオキサリルアラニド化合物等が挙げられる
これらの紫外線吸収剤は、（Ａ）成分のポリカーボネート系樹脂１００質量部に対して、０．１〜３．０質量部、好ましくは、０．１〜２．０質量部配合することが望ましい。特に、射出成形体を成形する場合は、０．１〜０．５質量部とすることが好ましく、シート状成形体を成形する場合は、０．２〜３質量部とすることが好ましい。
これらの紫外線吸収剤は、（Ａ）成分のポリカーボネート系樹脂１００質量部に対して、０．１〜３．０質量部、好ましくは、０．１〜２．０質量部配合することが望ましい。特に、射出成形体を成形する場合は、０．１〜０．５質量部とすることが好ましく、シート状成形体を成形する場合は、０．２〜３質量部とすることが好ましい。
＜酸化防止剤＞
酸化防止剤としては、フェノール系、リン系、イオウ系酸化防止剤を挙げることができる。以下の酸化防止剤は単独で用いられても良く、２種以上を混合して用いられても良い。特にフェノール系酸化防止剤とリン系の酸化防止剤は併用して用いられる事により、酸化防止剤の効果が持続する事が知られている。
フェノール系酸化防止剤としては、特に制限はないが、ヒンダードフェノール系が好適に用いられる。代表的な例としては、オクタデシル−３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、トリエチレングリコール−ビス［３−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、１，６−ヘキサンジオール−ビス［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、ペンタエリスリチル−テトラキス［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、Ｎ，Ｎ'−ヘキサメチレン
ビス［（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ）−ヒドロシンナマミド］、２，２−チオ−ジエチレンビス［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、２，４−ビス（ｎ−オクチルチオ）−６−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルアニリノ）−１，３，５−トリアジン、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、トリス−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−イソシアヌレイト及びビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホン酸エチル）カルシウムなどが挙げられる。
これらの酸化防止剤は、（Ａ）成分のポリカーボネート系樹脂１００質量部に対して、０．００３〜０．５質量部、好ましくは、０．０１〜０．２質量部配合することが望ましい。
酸化防止剤としては、フェノール系、リン系、イオウ系酸化防止剤を挙げることができる。以下の酸化防止剤は単独で用いられても良く、２種以上を混合して用いられても良い。特にフェノール系酸化防止剤とリン系の酸化防止剤は併用して用いられる事により、酸化防止剤の効果が持続する事が知られている。
フェノール系酸化防止剤としては、特に制限はないが、ヒンダードフェノール系が好適に用いられる。代表的な例としては、オクタデシル−３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、トリエチレングリコール−ビス［３−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、１，６−ヘキサンジオール−ビス［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、ペンタエリスリチル−テトラキス［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、Ｎ，Ｎ'−ヘキサメチレン
ビス［（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ）−ヒドロシンナマミド］、２，２−チオ−ジエチレンビス［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、２，４−ビス（ｎ−オクチルチオ）−６−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルアニリノ）−１，３，５−トリアジン、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、トリス−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−イソシアヌレイト及びビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホン酸エチル）カルシウムなどが挙げられる。
これらの酸化防止剤は、（Ａ）成分のポリカーボネート系樹脂１００質量部に対して、０．００３〜０．５質量部、好ましくは、０．０１〜０．２質量部配合することが望ましい。
リン系酸化防止剤としては、特に制限はない。代表的な例としては、トリス（ノニルフェニル）ホスファイト、２−エチルヘキシジフェニルホスファイトの他、トリメチルホスファイト、トリエチルホスファイト、トリブチルホスファイト、トリオクチルホスファイト、トリノニルホスファイト、トリデシルホスファイト、トリオクタデシルホスファイト、ジステアリルペンタエリスチルジホスファイト、トリス（２−クロロエチル）ホスファイト、トリス（２，３−ジクロロプロピル）ホスファイト等のトリアルキルホスファイト、トリシクロヘキシルホスファイト等のトリシクロアルキルホスファイト、トリフェニルホスファイト、トリクレジルホスファイト、トリス（エチルフェニル）ホスファイト、トリス（ブチルフェニル）ホスファイト、トリス（ヒドロキシフェニル）ホスファイト、トリス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスファイト等のトリアリールホスファイト、トリメチルホスフェイト、トリエチルホスフェイト、トリブチルホスフェイト、トリオクチルホスフェイト、トリデシルホスフェイト、トリオクタデシルホスフェイト、ジステアリルペンタエリスリチルジホスフェイト、トリス（２−クロロエチル）ホスフェイト、トリス（２，３−ジクロロプロピル）ホフェイト等のトリアルキルホスフェイト、トリシクロヘキシ−１−ホスフェイト等のトリシクロアルキルホスフェイト、トリフェニルホスフェイト、トリクレジルホスフェイト、トリス（ノニルフェニル）ホスフェイト、２−エチルフェニルジフェニルホスフェイト等のトリアリールホスフェイトなどが挙げられる。この中では、トリアリールホスファイト及びトリアリールホスフェイトが好適に用いられる。
＜その他の添加剤＞
その他の添加剤として、ヒンダードアミン系光安定剤、脂肪族カルボン酸エステル系、パラフィン系、シリコンオイル、ポリエチレンワックスなどの可塑剤、各種の帯電防止剤、難燃剤、アンチブロッキング剤、抗菌剤、相溶化剤、着色剤（染料、顔料）、離型剤及び滑剤などが挙げられる。
その他の添加剤として、ヒンダードアミン系光安定剤、脂肪族カルボン酸エステル系、パラフィン系、シリコンオイル、ポリエチレンワックスなどの可塑剤、各種の帯電防止剤、難燃剤、アンチブロッキング剤、抗菌剤、相溶化剤、着色剤（染料、顔料）、離型剤及び滑剤などが挙げられる。
［ポリカーボネート系樹脂組成物に含まれるナトリウム量］
本発明のポリカーボネート系樹脂組成物は、ナトリウムの含有量が０．５ｐｐｍ以下であることを要す。ナトリウムの含有量が０．５ｐｐｍを超えると、得られるポリカーボネート系樹脂組成物及びその成形体に白濁が生じて透明性が損なわれ、かつ、耐候性も低下する。ナトリウムの含有量の含有量は、好ましくは、０．４ｐｐｍ以下、より好ましくは０．１ｐｐｍ以下とすることが望ましい。ポリカーボネート系樹脂組成物中のナトリウムの含有量を０．５ｐｐｍ以下とするには、ナトリウムの含有量の低い（Ａ）成分のポリカーボネート系樹脂及びナトリウムの含有量の低い（Ｂ）成分の添加剤を用いる必要がある。ナトリウムの含有量の低い（Ａ）成分のポリカーボネート系樹脂は、界面法による製造工程において、純水等での洗浄による不純物除去等により、０．1ｐｐｍ以下とすることができる。一方、（Ｂ）成分の添加剤については、ナトリウムの含有量が高いものがあり、本発明においては、できるだけナトリウムの含有量の低い添加剤を用いる必要がある。（Ｂ）成分中のナトリウムの含有量は、その配合量によっても相違するが、好ましくは、それぞれ、４０ｐｐｍ以下の添加剤を用いることが好ましい。
本発明のポリカーボネート系樹脂組成物には、更に、マグネシウムの含有量が２０ｐｐｍ以下、アルミニウムの含有量が２０ｐｐｍ以下、鉄の含有量が２０ｐｐｍ以下とすることが好ましい。
本発明のポリカーボネート系樹脂組成物は、ナトリウムの含有量が０．５ｐｐｍ以下であることを要す。ナトリウムの含有量が０．５ｐｐｍを超えると、得られるポリカーボネート系樹脂組成物及びその成形体に白濁が生じて透明性が損なわれ、かつ、耐候性も低下する。ナトリウムの含有量の含有量は、好ましくは、０．４ｐｐｍ以下、より好ましくは０．１ｐｐｍ以下とすることが望ましい。ポリカーボネート系樹脂組成物中のナトリウムの含有量を０．５ｐｐｍ以下とするには、ナトリウムの含有量の低い（Ａ）成分のポリカーボネート系樹脂及びナトリウムの含有量の低い（Ｂ）成分の添加剤を用いる必要がある。ナトリウムの含有量の低い（Ａ）成分のポリカーボネート系樹脂は、界面法による製造工程において、純水等での洗浄による不純物除去等により、０．1ｐｐｍ以下とすることができる。一方、（Ｂ）成分の添加剤については、ナトリウムの含有量が高いものがあり、本発明においては、できるだけナトリウムの含有量の低い添加剤を用いる必要がある。（Ｂ）成分中のナトリウムの含有量は、その配合量によっても相違するが、好ましくは、それぞれ、４０ｐｐｍ以下の添加剤を用いることが好ましい。
本発明のポリカーボネート系樹脂組成物には、更に、マグネシウムの含有量が２０ｐｐｍ以下、アルミニウムの含有量が２０ｐｐｍ以下、鉄の含有量が２０ｐｐｍ以下とすることが好ましい。
特に、（Ｂ）成分の添加剤として紫外線吸収剤を用いる場合、ナトリウムの含有量が高い市販品もあり、そのような場合は、極力、その配合量を少なくして、ポリカーボネート系樹脂組成物のナトリウムの含有量を０．５ｐｐｍ以下とする必要がある。
ナトリウムの含有量が４０ｐｐｍ以下の紫外線吸収剤としては、サイテク・テクノロジー社製のｐ−フェニレンビス（１，３−ベンゾオキサジン−４−オン）があり、この紫外線吸収剤は、その製造工程中で水酸化ナトリウムを使用しておらず、ナトリウムの含有量が低く、本発明の（Ｂ）成分の添加剤として紫外線吸収剤を用いる場合、好ましい紫外線吸収剤である。
ナトリウムの含有量が４０ｐｐｍ以下の紫外線吸収剤としては、サイテク・テクノロジー社製のｐ−フェニレンビス（１，３−ベンゾオキサジン−４−オン）があり、この紫外線吸収剤は、その製造工程中で水酸化ナトリウムを使用しておらず、ナトリウムの含有量が低く、本発明の（Ｂ）成分の添加剤として紫外線吸収剤を用いる場合、好ましい紫外線吸収剤である。
本発明の（Ｂ）成分として、前記紫外線吸収剤と共に、前記酸化防止剤を前記好ましい配合量にて併用することにより、組成物の熱安定性を向上させることができる。
［混練・成形］
本発明のポリカーボネート系樹脂組成物は、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分、さらには、必要に応じてその他の成分を所定量混練することにより得られる。混練方法としては、特に制限されず、例えば、リボンブレンダー、ヘンシェルミキサー、バンバリーミキサー、ドラムタンブラー、単軸スクリュー押出機、二軸スクリュー押出機、コニーダ、多軸スクリュー押出機等を用いる方法が挙げられる。また、混練に際の加熱温度は、通常、好ましくは２４０〜３３０℃、より好ましくは２５０〜３２０℃である。
上記の方法で製造したポリカーボネート樹脂組成物は実施例中で説明するＣＩＥ１９７６規格に準ずるＬ＊ａ＊ｂ＊の測定において、Ｌ＊ 値が好ましくは５０以上であり、より好ましくは６５以上、更に好ましくは８０以上、最も好ましくは９０以上である。なお、上限は特にないが、製造容易性の観点からは９９以下、９７以下、９６以下を例示することができる。
成形方法としては、従来公知の各種成形方法を用いることができ、例えば、射出成形法、射出圧縮成形法、押出成形法、ブロー成形法、プレス成形法、真空成形法及び発泡成形法等が挙げられる。
なお、ポリカーボネート系樹脂以外の含有成分は、あらかじめ、ポリカーボネート系樹脂と溶融混練しておき、即ち、マスターバッチとして添加することもできる。
また、ポリカーボネート系樹脂組成物は、ペレット化してから射出成形することにより、射出成形体とすることが好ましい。射出成形には、一般的な射出成形法もしくは一般的な射出圧縮成形法を、又はガスアシスト成形法等の特殊成形法を用いることができ、このようにして成形体を製造することができる。
さらに、ポリカーボネート系樹脂組成物は、ペレット化してから押出成形し、シート状成形体とすることも好ましい。押出成形してシート状成形体を得るには、Ｔダイ押出機等の公知の押出成形機を用いてシート状成形体を製造することができる。
本発明のポリカーボネート系樹脂組成物は、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分、さらには、必要に応じてその他の成分を所定量混練することにより得られる。混練方法としては、特に制限されず、例えば、リボンブレンダー、ヘンシェルミキサー、バンバリーミキサー、ドラムタンブラー、単軸スクリュー押出機、二軸スクリュー押出機、コニーダ、多軸スクリュー押出機等を用いる方法が挙げられる。また、混練に際の加熱温度は、通常、好ましくは２４０〜３３０℃、より好ましくは２５０〜３２０℃である。
上記の方法で製造したポリカーボネート樹脂組成物は実施例中で説明するＣＩＥ１９７６規格に準ずるＬ＊ａ＊ｂ＊の測定において、Ｌ＊ 値が好ましくは５０以上であり、より好ましくは６５以上、更に好ましくは８０以上、最も好ましくは９０以上である。なお、上限は特にないが、製造容易性の観点からは９９以下、９７以下、９６以下を例示することができる。
成形方法としては、従来公知の各種成形方法を用いることができ、例えば、射出成形法、射出圧縮成形法、押出成形法、ブロー成形法、プレス成形法、真空成形法及び発泡成形法等が挙げられる。
なお、ポリカーボネート系樹脂以外の含有成分は、あらかじめ、ポリカーボネート系樹脂と溶融混練しておき、即ち、マスターバッチとして添加することもできる。
また、ポリカーボネート系樹脂組成物は、ペレット化してから射出成形することにより、射出成形体とすることが好ましい。射出成形には、一般的な射出成形法もしくは一般的な射出圧縮成形法を、又はガスアシスト成形法等の特殊成形法を用いることができ、このようにして成形体を製造することができる。
さらに、ポリカーボネート系樹脂組成物は、ペレット化してから押出成形し、シート状成形体とすることも好ましい。押出成形してシート状成形体を得るには、Ｔダイ押出機等の公知の押出成形機を用いてシート状成形体を製造することができる。
本発明の成形体を外観部材として使用する場合には、ヒートサイクル成形法、高温金型、断熱金型等の外観を向上させる成形技術を用いることもできる。
また、部品に難燃化が求められる場合は、難燃性を有する樹脂材料との積層成形、二色成形等の成形技術を用いることもできる。
大型薄肉の射出成形体を得るためには、射出圧縮成形や高圧又は超高圧の射出成形を用いることができ、部分的な薄肉部を有する成形体の成形には、部分圧縮成形等を用いることもできる。
また、部品に難燃化が求められる場合は、難燃性を有する樹脂材料との積層成形、二色成形等の成形技術を用いることもできる。
大型薄肉の射出成形体を得るためには、射出圧縮成形や高圧又は超高圧の射出成形を用いることができ、部分的な薄肉部を有する成形体の成形には、部分圧縮成形等を用いることもできる。
本発明の成形体は、例えば、複写機、ファックス、テレビ、ラジオ、テープレコーダー、ビデオデッキ、パソコン、プリンター、電話機、情報端末機、冷蔵庫、電子レンジ等の、ＯＡ機器、家庭電化製品、電気・電子機器のハウジングや各種部品等に用いられる。
本発明を実施例によりさらに詳しく説明するが、本発明はこれらにより何ら限定されるものではない。
各例で得られた樹脂組成物の性能試験は、次のとおりに行った。
（１）ナトリウム含有量
プラズマ発光分光法（ＩＣＰ法）にて定量した残留量と組成物への配合量からの計算により求めた。
（２）粘度数
中谷機械株式会社製の単軸押出機「ＮＶＣ−５０」にて、シリンダー温度２８０℃で造粒したペレットを用い、ＩＳＯ １６２８に準拠し粘度数を測定した。
（３）Ｌ＊ａ＊ｂ＊値
樹脂組成物を東芝機械（株）製の射出成形機「ＥＣ−４０」にて、シリンダー温度２８０℃、金型温度８０℃、成形サイクル３０秒で２ｍｍ厚の成形品を作成し、ＣＩＥ１９７６(Ｌ＊ａ＊ｂ＊) の測色方法に基づきＣ２光源を用いて透過法により測定した。Ｌ＊は、明るさを示す指標であり、ａ＊，ｂ＊は色質指数である。ａ＊がプラスになると赤味を帯びる。ａ＊がマイナスになると緑味を帯びる。ｂ＊がプラスになると黄味を帯びる。ｂ＊がマイナスになると青味を帯びる。
（４）耐候性試験：Ｌ＊値の変化
ブラックパネル温度６３℃、湿度５０％、降雨サイクル１２／６０分（６０分のうち降雨時間が１２分）、照射強度（３００〜４００ｎｍ）７８．５Ｗ／ｍ2に設定したサンシャインウェザーメーター（ＳＵＧＡ ＳＵＮＳＨＩＮＥ ＳＵＰＥＲ ＬＯＮＧ−ＬＩＦＥ ＷＥＡＴＨＥＲ）にテストピース（サイズ：４０ｍｍ×３０ｍｍ×２ｍｍ）を放置して２０４０時間後に取り出し、上記（３）と同様の方法でＬ＊値の測定を行った。上記（３）のＬ＊値との差をΔＬ＊とした。耐候性試験前と耐候性試験後のテストピースの明るさを示す指標の差を示すものである。
（５）アイゾット衝撃値（ＩＺＯＤ）：耐衝撃性
厚み１／８インチの試験片を用いて、ＡＳＴＭ Ｄ２５６に準じ、２３℃にてノッチ付アイゾッド衝撃試験を行った。
（６）光線透過率：全光線透過率、拡散光線透過率、平行光線透過率
光線透過率として、射出成形で得た厚み２ｍｍの平板を用い、ＩＳＯ１４７８２に準拠した透過率測定器(ＮＤＨ−３００Ａ、日本電色工業（株）製）を使用し、全光線透過率、拡散光線透過率及び平行光線透過率を測定した。なお、平行光線透過率は入射光と同軸のまま透過した光線透過率であり、平行光線透過率と拡散光線透過率との和が全光線透過率である。
各例で得られた樹脂組成物の性能試験は、次のとおりに行った。
（１）ナトリウム含有量
プラズマ発光分光法（ＩＣＰ法）にて定量した残留量と組成物への配合量からの計算により求めた。
（２）粘度数
中谷機械株式会社製の単軸押出機「ＮＶＣ−５０」にて、シリンダー温度２８０℃で造粒したペレットを用い、ＩＳＯ １６２８に準拠し粘度数を測定した。
（３）Ｌ＊ａ＊ｂ＊値
樹脂組成物を東芝機械（株）製の射出成形機「ＥＣ−４０」にて、シリンダー温度２８０℃、金型温度８０℃、成形サイクル３０秒で２ｍｍ厚の成形品を作成し、ＣＩＥ１９７６(Ｌ＊ａ＊ｂ＊) の測色方法に基づきＣ２光源を用いて透過法により測定した。Ｌ＊は、明るさを示す指標であり、ａ＊，ｂ＊は色質指数である。ａ＊がプラスになると赤味を帯びる。ａ＊がマイナスになると緑味を帯びる。ｂ＊がプラスになると黄味を帯びる。ｂ＊がマイナスになると青味を帯びる。
（４）耐候性試験：Ｌ＊値の変化
ブラックパネル温度６３℃、湿度５０％、降雨サイクル１２／６０分（６０分のうち降雨時間が１２分）、照射強度（３００〜４００ｎｍ）７８．５Ｗ／ｍ2に設定したサンシャインウェザーメーター（ＳＵＧＡ ＳＵＮＳＨＩＮＥ ＳＵＰＥＲ ＬＯＮＧ−ＬＩＦＥ ＷＥＡＴＨＥＲ）にテストピース（サイズ：４０ｍｍ×３０ｍｍ×２ｍｍ）を放置して２０４０時間後に取り出し、上記（３）と同様の方法でＬ＊値の測定を行った。上記（３）のＬ＊値との差をΔＬ＊とした。耐候性試験前と耐候性試験後のテストピースの明るさを示す指標の差を示すものである。
（５）アイゾット衝撃値（ＩＺＯＤ）：耐衝撃性
厚み１／８インチの試験片を用いて、ＡＳＴＭ Ｄ２５６に準じ、２３℃にてノッチ付アイゾッド衝撃試験を行った。
（６）光線透過率：全光線透過率、拡散光線透過率、平行光線透過率
光線透過率として、射出成形で得た厚み２ｍｍの平板を用い、ＩＳＯ１４７８２に準拠した透過率測定器(ＮＤＨ−３００Ａ、日本電色工業（株）製）を使用し、全光線透過率、拡散光線透過率及び平行光線透過率を測定した。なお、平行光線透過率は入射光と同軸のまま透過した光線透過率であり、平行光線透過率と拡散光線透過率との和が全光線透過率である。
製造例１
［ポリカーボネートオリゴマー製造の製造］
５．６質量％水酸化ナトリウム水溶液に後から溶解するビスフェノールＡ（ＢＰＡ）に対して２０００ｐｐｍの亜二チオン酸ナトリウムを加え、これにＢＰＡ濃度が１３．５質量％になるようにＢＰＡを溶解し、ＢＰＡの水酸化ナトリウム水溶液を調製した。
このＢＰＡの水酸化ナトリウム水溶液４０リットル/ｈｒ、塩化メチレン１５リットル/ｈｒの流量で、ホスゲンを４．０ｋｇ/ｈｒの流量で内径６ｍｍ、管長３０ｍの管型反応器に連続的に通した。
管型反応器はジャケット部分を有しており、ジャケットに冷却水を通して反応液の温度を４０℃以下に保った。
管型反応器を出た反応液は後退翼を備えた内容積４０リットルのバッフル付き槽型反応器へ連続的に導入され、ここにさらにＢＰＡの水酸化ナトリウム水溶液２．８リットル／ｈｒ、２５質量％水酸化ナトリウム水溶液０．０７リットル／ｈｒ、水１７リットル／ｈｒ、1質量％トリエチルアミン水溶液を０．６４リットル／ｈｒ添加して反応を行なった。槽型反応器から溢れ出る反応液を連続的に抜き出し、静置することで水相を分離除去し、塩化メチレン相を採取した。
このようにして得られたポリカーボネートオリゴマーは、濃度３２９ｇ／Ｌ、クロロホーメート基濃度０．７４ｍｏｌ／Ｌであった。
［ポリカーボネートオリゴマー製造の製造］
５．６質量％水酸化ナトリウム水溶液に後から溶解するビスフェノールＡ（ＢＰＡ）に対して２０００ｐｐｍの亜二チオン酸ナトリウムを加え、これにＢＰＡ濃度が１３．５質量％になるようにＢＰＡを溶解し、ＢＰＡの水酸化ナトリウム水溶液を調製した。
このＢＰＡの水酸化ナトリウム水溶液４０リットル/ｈｒ、塩化メチレン１５リットル/ｈｒの流量で、ホスゲンを４．０ｋｇ/ｈｒの流量で内径６ｍｍ、管長３０ｍの管型反応器に連続的に通した。
管型反応器はジャケット部分を有しており、ジャケットに冷却水を通して反応液の温度を４０℃以下に保った。
管型反応器を出た反応液は後退翼を備えた内容積４０リットルのバッフル付き槽型反応器へ連続的に導入され、ここにさらにＢＰＡの水酸化ナトリウム水溶液２．８リットル／ｈｒ、２５質量％水酸化ナトリウム水溶液０．０７リットル／ｈｒ、水１７リットル／ｈｒ、1質量％トリエチルアミン水溶液を０．６４リットル／ｈｒ添加して反応を行なった。槽型反応器から溢れ出る反応液を連続的に抜き出し、静置することで水相を分離除去し、塩化メチレン相を採取した。
このようにして得られたポリカーボネートオリゴマーは、濃度３２９ｇ／Ｌ、クロロホーメート基濃度０．７４ｍｏｌ／Ｌであった。
製造例２
［ポリカーボネート−ポリジメチルシロキサン共重合体−１（ＰＣ−ＰＤＭＳ共重合体−１）の製造］
邪魔板、パドル型攪拌翼及び冷却用ジャケットを備えた５０Ｌ槽型反応器に上記で製造したポリカーボネートオリゴマー溶液１５Ｌ、塩化メチレン９．０Ｌ、ジメチルシロキサン単位の繰返し数が４０であるアリルフェノール末端変性ポリジメチルシロキサン（ＰＤＭＳ）３８４ｇ及びトリエチルアミン８．８ｍＬを仕込み、攪拌下でここに６．４質量％水酸化ナトリウム水溶液１３８９ｇを加え、１０分間ポリカーボネートオリゴマーとアリルフェノール末端変性ＰＤＭＳの反応を行った。
この重合液に、ｐ−ｔ−ブチルフェノール（ＰＴＢＰ）の塩化メチレン溶液（ＰＴＢＰ１３２ｇを塩化メチレン２．０Ｌに溶解したもの）、ＢＰＡの水酸化ナトリウム水溶液（ＮａＯＨ５７７ｇと亜二チオン酸ナトリウム２．０ｇを水８．４Ｌに溶解した水溶液にＢＰＡ１０１２ｇを溶解させたもの）を添加し５０分間重合反応を行った。
希釈のため塩化メチレン１０Ｌを加え１０分間攪拌した後、ポリカーボネート−ポリジメチルシロキサン共重合体を含む有機相と過剰のＢＰＡ及びＮａＯＨを含む水相に分離し、有機相を単離した。
こうして得られたポリカーボネート−ポリジメチルシロキサン共重合体の塩化メチレン溶液を、その溶液に対して順次、１５容積％の０．０３ｍｏｌ／ＬＮａＯＨ水溶液、０．２モル／Ｌ塩酸で洗浄し、次いで洗浄後の水相中の電気伝導度が０．０１μＳ／ｍ以下になるまで純水で洗浄を繰り返した。
洗浄により得られたポリカーボネート−ポリジメチルシロキサン共重合体の塩化メチレン溶液を濃縮・粉砕し、得られたフレークを減圧下１２０℃で乾燥した。
得られたポリカーボネート−ポリジメチルシロキサン共重合体の核磁気共鳴（ＮＭＲ）により求めたＰＤＭＳブロック部分含有量は６．０質量％、ＩＳＯ１６２８−４（１９９９）に準拠して測定した粘度数は４９．５、粘度平均分子量Ｍｖ＝１８５００であった。
［ポリカーボネート−ポリジメチルシロキサン共重合体−１（ＰＣ−ＰＤＭＳ共重合体−１）の製造］
邪魔板、パドル型攪拌翼及び冷却用ジャケットを備えた５０Ｌ槽型反応器に上記で製造したポリカーボネートオリゴマー溶液１５Ｌ、塩化メチレン９．０Ｌ、ジメチルシロキサン単位の繰返し数が４０であるアリルフェノール末端変性ポリジメチルシロキサン（ＰＤＭＳ）３８４ｇ及びトリエチルアミン８．８ｍＬを仕込み、攪拌下でここに６．４質量％水酸化ナトリウム水溶液１３８９ｇを加え、１０分間ポリカーボネートオリゴマーとアリルフェノール末端変性ＰＤＭＳの反応を行った。
この重合液に、ｐ−ｔ−ブチルフェノール（ＰＴＢＰ）の塩化メチレン溶液（ＰＴＢＰ１３２ｇを塩化メチレン２．０Ｌに溶解したもの）、ＢＰＡの水酸化ナトリウム水溶液（ＮａＯＨ５７７ｇと亜二チオン酸ナトリウム２．０ｇを水８．４Ｌに溶解した水溶液にＢＰＡ１０１２ｇを溶解させたもの）を添加し５０分間重合反応を行った。
希釈のため塩化メチレン１０Ｌを加え１０分間攪拌した後、ポリカーボネート−ポリジメチルシロキサン共重合体を含む有機相と過剰のＢＰＡ及びＮａＯＨを含む水相に分離し、有機相を単離した。
こうして得られたポリカーボネート−ポリジメチルシロキサン共重合体の塩化メチレン溶液を、その溶液に対して順次、１５容積％の０．０３ｍｏｌ／ＬＮａＯＨ水溶液、０．２モル／Ｌ塩酸で洗浄し、次いで洗浄後の水相中の電気伝導度が０．０１μＳ／ｍ以下になるまで純水で洗浄を繰り返した。
洗浄により得られたポリカーボネート−ポリジメチルシロキサン共重合体の塩化メチレン溶液を濃縮・粉砕し、得られたフレークを減圧下１２０℃で乾燥した。
得られたポリカーボネート−ポリジメチルシロキサン共重合体の核磁気共鳴（ＮＭＲ）により求めたＰＤＭＳブロック部分含有量は６．０質量％、ＩＳＯ１６２８−４（１９９９）に準拠して測定した粘度数は４９．５、粘度平均分子量Ｍｖ＝１８５００であった。
製造例３
［ポリカーボネート−ポリジメチルシロキサン共重合体−２（ＰＣ−ＰＤＭＳ共重合体−２）の製造］
邪魔板、パドル型攪拌翼及び冷却用ジャケットを備えた５０Ｌ槽型反応器に上記で製造したポリカーボネートオリゴマー溶液１５Ｌ、塩化メチレン９．０Ｌ、ジメチルシロキサン単位の繰返し数が９０であるアリルフェノール末端変性ポリジメチルシロキサン（ＰＤＭＳ）３８４ｇ及びトリエチルアミン８．８ｍＬを仕込み、攪拌下でここに６．４質量％水酸化ナトリウム水溶液１３８９ｇを加え、１０分間ポリカーボネートオリゴマーとアリルフェノール末端変性ＰＤＭＳの反応を行った。
この重合液に、ｐ−ｔ−ブチルフェノール（ＰＴＢＰ）の塩化メチレン溶液（ＰＴＢＰ１３２ｇを塩化メチレン２．０Ｌに溶解したもの）、ＢＰＡの水酸化ナトリウム水溶液（ＮａＯＨ５７７ｇと亜二チオン酸ナトリウム２．０ｇを水８．４Ｌに溶解した水溶液にＢＰＡ１０１２ｇを溶解させたもの）を添加し５０分間重合反応を行った。
希釈のため塩化メチレン１０Ｌを加え１０分間攪拌した後、ポリカーボネート−ポリジメチルシロキサン共重合体を含む有機相と過剰のＢＰＡ及びＮａＯＨを含む水相に分離し、有機相を単離した。
こうして得られたポリカーボネート−ポリジメチルシロキサン共重合体の塩化メチレン溶液を、その溶液に対して順次、１５容積％の０．０３ｍｏｌ／ＬＮａＯＨ水溶液、０．２モル／Ｌ塩酸で洗浄し、次いで洗浄後の水相中の電気伝導度が０．０１μＳ／ｍ以下になるまで純水で洗浄を繰り返した。
洗浄により得られたポリカーボネート−ポリジメチルシロキサン共重合体の塩化メチレン溶液を濃縮・粉砕し、得られたフレークを減圧下１２０℃で乾燥した。
得られたポリカーボネート−ポリジメチルシロキサン共重合体の核磁気共鳴（ＮＭＲ）により求めたＰＤＭＳブロック部分含有量は６．０質量％、ＩＳＯ１６２８−４（１９９９）に準拠して測定した粘度数は４９．５、粘度平均分子量Ｍｖ＝１８５００であった。
［ポリカーボネート−ポリジメチルシロキサン共重合体−２（ＰＣ−ＰＤＭＳ共重合体−２）の製造］
邪魔板、パドル型攪拌翼及び冷却用ジャケットを備えた５０Ｌ槽型反応器に上記で製造したポリカーボネートオリゴマー溶液１５Ｌ、塩化メチレン９．０Ｌ、ジメチルシロキサン単位の繰返し数が９０であるアリルフェノール末端変性ポリジメチルシロキサン（ＰＤＭＳ）３８４ｇ及びトリエチルアミン８．８ｍＬを仕込み、攪拌下でここに６．４質量％水酸化ナトリウム水溶液１３８９ｇを加え、１０分間ポリカーボネートオリゴマーとアリルフェノール末端変性ＰＤＭＳの反応を行った。
この重合液に、ｐ−ｔ−ブチルフェノール（ＰＴＢＰ）の塩化メチレン溶液（ＰＴＢＰ１３２ｇを塩化メチレン２．０Ｌに溶解したもの）、ＢＰＡの水酸化ナトリウム水溶液（ＮａＯＨ５７７ｇと亜二チオン酸ナトリウム２．０ｇを水８．４Ｌに溶解した水溶液にＢＰＡ１０１２ｇを溶解させたもの）を添加し５０分間重合反応を行った。
希釈のため塩化メチレン１０Ｌを加え１０分間攪拌した後、ポリカーボネート−ポリジメチルシロキサン共重合体を含む有機相と過剰のＢＰＡ及びＮａＯＨを含む水相に分離し、有機相を単離した。
こうして得られたポリカーボネート−ポリジメチルシロキサン共重合体の塩化メチレン溶液を、その溶液に対して順次、１５容積％の０．０３ｍｏｌ／ＬＮａＯＨ水溶液、０．２モル／Ｌ塩酸で洗浄し、次いで洗浄後の水相中の電気伝導度が０．０１μＳ／ｍ以下になるまで純水で洗浄を繰り返した。
洗浄により得られたポリカーボネート−ポリジメチルシロキサン共重合体の塩化メチレン溶液を濃縮・粉砕し、得られたフレークを減圧下１２０℃で乾燥した。
得られたポリカーボネート−ポリジメチルシロキサン共重合体の核磁気共鳴（ＮＭＲ）により求めたＰＤＭＳブロック部分含有量は６．０質量％、ＩＳＯ１６２８−４（１９９９）に準拠して測定した粘度数は４９．５、粘度平均分子量Ｍｖ＝１８５００であった。
実施例１〜１０及び比較例１〜６
表１に示す割合で各成分を混合〔（Ｂ）成分は、（Ａ）成分１００質量部に対する質量部で示す。また、（Ａ）成分である（Ａ−１）成分と（Ａ−２）成分は質量％を示す。〕し、さらに酸化防止剤としてトリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）フォスファイト（ＩＲＧＡＦＯＳ１６８、商品名、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）０．０２質量部とを均一に混合し、ベント付き単軸押出成形機（中谷機械株式会社製、機種名：ＮＶＣ５０を用いて樹脂温度２８０℃で造粒しペレットを得た。
得られたペレットを、射出成形機を用い、シリンダー温度２８０℃、金型温度８０℃の成形条件で射出成形して試験片を得た。
得られた試験片を用いて上記方法に従って、ナトリウム含有量、粘度数、Ｌ＊値、耐候性試験、アイゾット衝撃値及び光線透過率の評価を行った。その結果を表１及び表２に示す。
表１に示す割合で各成分を混合〔（Ｂ）成分は、（Ａ）成分１００質量部に対する質量部で示す。また、（Ａ）成分である（Ａ−１）成分と（Ａ−２）成分は質量％を示す。〕し、さらに酸化防止剤としてトリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）フォスファイト（ＩＲＧＡＦＯＳ１６８、商品名、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）０．０２質量部とを均一に混合し、ベント付き単軸押出成形機（中谷機械株式会社製、機種名：ＮＶＣ５０を用いて樹脂温度２８０℃で造粒しペレットを得た。
得られたペレットを、射出成形機を用い、シリンダー温度２８０℃、金型温度８０℃の成形条件で射出成形して試験片を得た。
得られた試験片を用いて上記方法に従って、ナトリウム含有量、粘度数、Ｌ＊値、耐候性試験、アイゾット衝撃値及び光線透過率の評価を行った。その結果を表１及び表２に示す。
［表１及び表２中の注釈の説明］
＊１：製造例２で得られたＰＣ−ＰＤＭＳ共重合体−１：ナトリウム含有は検出下限以下、（Ａ−１）成分
＊２：製造例３で得られたＰＣ−ＰＤＭＳ共重合体−２：ナトリウム含有は検出下限以下、（Ａ−１）成分
＊３：「タフロンＦＮ１７００Ａ：ナトリウム含有は検出下限以下」（商品名、出光興産株式会社製、ｐ−ｔ−ブチルフェノールを末端基に有するビスフェノールＡタイプの芳香族ポリカーボネート、粘度平均分子量１７，７００）、（Ａ−２）成分
＊４：ビスベンゾオキサジノン 竹本油脂（株）製「商品名、パイオニンＺＡ−１０１、ベンゾオキサジノン系紫外線吸収剤：ナトリウム含有は７６０ｐｐｍ」（Ｂ）成分
＊５：ビスベンゾオキサジノン サイテク・テクノロジー・コーポーレーション製「商品名、ＵＶ−３６３８Ｆ、ベンゾオキサジノン系紫外線吸収剤：ナトリウム含有は１７ｐｐｍ」（Ｂ）成分
＊６：トリス（２，４−ジ−t−ブチルフェニル）ホスファイト チバ・スペシャリティーケミカルズ社製、「商品名、イルガフォス１６８、リン系酸化防止剤：ナトリウム含有は検出下限以下」（Ｂ）成分
＊７：ペンタエリスリトールとステアリン酸とのフルエステル及びペンタエリスリトールとパルミチン酸とのフルエステルと混合物（混合比は、Ｃ１６：Ｃ１８＝１：１．１） 理研ビタミン（株）製「ＥＷ４４０Ａ、離型剤、ナトリウム含有量は２０ｐｐｍである。」
尚、本測定法におけるナトリウムの検出下限は１００ｐｐｂである。
＊１：製造例２で得られたＰＣ−ＰＤＭＳ共重合体−１：ナトリウム含有は検出下限以下、（Ａ−１）成分
＊２：製造例３で得られたＰＣ−ＰＤＭＳ共重合体−２：ナトリウム含有は検出下限以下、（Ａ−１）成分
＊３：「タフロンＦＮ１７００Ａ：ナトリウム含有は検出下限以下」（商品名、出光興産株式会社製、ｐ−ｔ−ブチルフェノールを末端基に有するビスフェノールＡタイプの芳香族ポリカーボネート、粘度平均分子量１７，７００）、（Ａ−２）成分
＊４：ビスベンゾオキサジノン 竹本油脂（株）製「商品名、パイオニンＺＡ−１０１、ベンゾオキサジノン系紫外線吸収剤：ナトリウム含有は７６０ｐｐｍ」（Ｂ）成分
＊５：ビスベンゾオキサジノン サイテク・テクノロジー・コーポーレーション製「商品名、ＵＶ−３６３８Ｆ、ベンゾオキサジノン系紫外線吸収剤：ナトリウム含有は１７ｐｐｍ」（Ｂ）成分
＊６：トリス（２，４−ジ−t−ブチルフェニル）ホスファイト チバ・スペシャリティーケミカルズ社製、「商品名、イルガフォス１６８、リン系酸化防止剤：ナトリウム含有は検出下限以下」（Ｂ）成分
＊７：ペンタエリスリトールとステアリン酸とのフルエステル及びペンタエリスリトールとパルミチン酸とのフルエステルと混合物（混合比は、Ｃ１６：Ｃ１８＝１：１．１） 理研ビタミン（株）製「ＥＷ４４０Ａ、離型剤、ナトリウム含有量は２０ｐｐｍである。」
尚、本測定法におけるナトリウムの検出下限は１００ｐｐｂである。
表１及び表２より、本発明のポリカーボネート系樹脂組成物は、ナトリウム含有量が０．５ｐｐｍ以下であるので、粘度数の低下が少なく、成形直後のＬ＊値の低下が低く、耐候性試験におけるＬ＊値の変化が少ないことがわかる。また、本発明のポリカーボネート系樹脂組成物は、耐衝撃性の低下も少なく、透明性に優れていることがわかる。一方、比較例１〜６より、（Ａ−１）成分を使用していない樹脂組成物の場合には、耐衝撃性が低下していることがわかる。また、（Ａ−１）成分を使用している場合であっても、組成物中のナトリウム含有量が０．５ｐｐｍを超えると、成形直後のＬ＊値の低下が大き過ぎて透明性を損なっていることがわかる。そのために、耐候性試験におけるＬ＊値の変化を求めることが困難である。または、耐衝撃性が低下する場合もあることがわかる。
本発明のポリカーボネート系樹脂組成物は、透明性、耐候性、耐衝撃性に優れるため、これらの特性を必要とする分野、例えば、電子・電気機器、情報・通信機器、家庭電化製品、ＯＡ機器や、自動車分野、建材分野等に好適に使用することができる。
Claims (11)
- （Ａ）主鎖が一般式（Ｉ）で表される繰り返し単位及び一般式（II）で表される繰り返し単位（但し、ｎ＝１０〜５００）を含み、一般式（II）で表される繰り返し単位の含有量が１．０〜１０．０質量％であるポリカーボネート−ポリオルガノシロキサン共重合体（Ａ−１）１０〜１００質量％、及び（Ａ−１）以外のポリカーボネート（Ａ−２）０〜９０質量％からなるポリカーボネート系樹脂に、（Ｂ）添加剤を配合してなるポリカーボネート系樹脂組成物であって、該（Ｂ）成分が、紫外線吸収剤を含み、該（Ｂ）成分の配合量が、ポリカーボネート系樹脂１００質量部に対して、０．０１〜５質量部であり、該ポリカーボネート系樹脂組成物に含まれるナトリウムが０．５ｐｐｍ以下である、ポリカーボネート系樹脂組成物。
Ｒ３及びＲ４は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基又は炭素数６〜１２のアリール基を示す。ｎは、平均繰り返し数である。〕 - 前記紫外線吸収剤の配合量が、ポリカーボネート系樹脂１００質量部に対して、０．０５〜３．０質量部である、請求項１に記載のポリカーボネート系樹脂組成物。
- 前記（Ｂ）成分が、ナトリウムを含む、請求項１又は２に記載のポリカーボネート系樹脂組成物。
- 成形機のシリンダー温度を２８０℃、金型温度を８０℃、及び成形サイクルを３０秒で成形して厚みが２ｍｍの平板試験片を作製して、この平板試験片を用いて測定したＣＩＥ１９７６（Ｌ＊，ａ＊，ｂ＊）色空間におけるＬ＊値が５０以上である、請求項１〜３のいずれかに記載のポリカーボネート系樹脂組成物。
- 前記紫外線吸収剤が、下記一般式（１）で表わされる化合物であって、かつ、ナトリウム含有量が４０ｐｐｍ以下である、請求項１〜４のいずれかに記載のポリカーボネート系樹脂組成物。
- 前記紫外線吸収剤が、ｐ−フェニレンビス（１，３−ベンゾオキサジン−４−オン）である、請求項１〜５のいずれかに記載のポリカーボネート系樹脂組成物。
- 前記紫外線吸収剤の配合量が、ポリカーボネート系樹脂１００質量部に対して、０．０５〜０．５質量部である、請求項１〜６のいずれかに記載のポリカーボネート系樹脂組成物。
- 前記紫外線吸収剤の配合量が、ポリカーボネート系樹脂１００質量部に対して、０．２〜３質量部である、請求項１〜６のいずれかに記載のポリカーボネート系樹脂組成物。
- 請求項１〜８のいずれかに記載のポリカーボネート系樹脂組成物を成形してなる、成形体。
- 請求項７に記載のポリカーボネート系樹脂組成物を射出成形してなる、射出成形体。
- 請求項８に記載のポリカーボネート系樹脂組成物を押出成形してなる、シート状成形体。
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