JP6023038B2 - フィルタ処理方法、フィルタ処理システム、及びコンピュータ読み取り可能な記録媒体 - Google Patents

フィルタ処理方法、フィルタ処理システム、及びコンピュータ読み取り可能な記録媒体 Download PDF

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Description

本発明は、フィルタ処理方法、フィルタ処理システム、及びコンピュータ読み取り可能な記録媒体に関する。
基板（例えば、半導体基板）の微細加工などを行うにあたり、基板の表面に基板処理のための各種液体を吐出することが一般に行われている。この液体中には、元来パーティクル（微細粒子）等の異物が含まれうる。また、液体が配管を流れる際に、配管から液体中にパーティクル等の異物が混入しうる。そのため、例えば特許文献１に記載の基板処理装置や特許文献２に記載のフィルタシステムでは、フィルタを処理液の経路の途中に配置し、当該フィルタによってパーティクル等の異物の除去を行っている。
特開平７−３２６５７０号公報 特開２０１２−２２３６６９号公報
近年、基板の欠陥検査機器やパーティクルの測定器の感度が向上していることに伴い、僅かな欠陥の発生や僅かなパーティクルの混入も検出可能となりつつある。そのため、欠陥の要因となる微小なパーティクルを除去する要請が、ますます高まっている。
本発明の目的は、パーティクルの発生を抑制することが可能なフィルタ処理方法、フィルタ処理システム、及びコンピュータ読み取り可能な記録媒体を提供することにある。
本発明の一つの観点に係るフィルタ処理方法は、有機溶剤を主溶媒とする薬液である有機系薬液を、フィルタを内部に有するフィルタ装置に供給する第１のステップと、第１のステップの後、フィルタ装置内に溜まった有機系薬液をフィルタ装置内から排出する第２のステップと、第２のステップの後で且つフィルタが乾燥する前に、水を主溶媒とする薬液である水系薬液をフィルタ装置に供給する第３のステップとを含む。
本発明の一つの観点に係るフィルタ処理方法では、第１のステップにおいて、有機溶剤を主溶媒とする薬液である有機系薬液を、フィルタを内部に有するフィルタ装置に供給している。そのため、有機系薬液がフィルタに接する結果、フィルタ内に含まれる有機物系のパーティクルを効果的に除去することができる。本発明の一つの観点に係るフィルタ処理方法では、第１のステップに続く第２のステップにおいて、フィルタ装置内に溜まった有機系薬液を、フィルタ装置内から排出している。そのため、有機系薬液により捕集された有機物系のパーティクルも系外へと排出される。また、フィルタ装置内に有機系薬液が残ったまま、続く第３のステップにおいて水系薬液をフィルタに通液させると、有機系薬液により捕集されたパーティクルが析出してしまう虞があるが、上記第２のステップが実行されることにより、有機物系のパーティクルの析出を極めて抑制できる。本発明の一つの観点に係るフィルタ処理方法では、第２のステップに続く第３のステップにおいて、フィルタが乾燥する前に、水を主溶媒とする薬液である水系薬液をフィルタ装置に供給している。そのため、フィルタが濡れた状態のまま水系薬液がフィルタに通液される。従って、水系薬液がフィルタに浸透しやすくなるので、無機物系のパーティクルを効果的に除去することができる。以上より、水系薬液のみをフィルタに通液させた場合と比較して、フィルタ内に含まれる大部分のパーティクルを極めて早期に除去することができる。その結果、立ち上がり時間を短縮することが可能となる。
ところで、水系薬液のみをフィルタに通液させてフィルタからパーティクルを除去しようとする場合を仮定する。フィルタには一般に有機物系のパーティクルが含まれているので、水系薬液では有機物系のパーティクルを十分に除去できず、有機物系のパーティクルが水系薬液内に突発的に混入してしまう場合があった。そのため、水系薬液のみをフィルタに通液させると、水系薬液内のパーティクルの量が突発的に増減することがあり、処理される基板に不意に欠陥が発生してしまうことがあった。しかしながら、本発明の一つの観点に係るフィルタ処理方法では、まず第１のステップにおいて有機系薬液をフィルタに通液し、その後の第３のステップにおいて水系薬液をフィルタに通液している。そのため、第１のステップにおいて有機物系のパーティクルがフィルタから十分に除去される。従って、有機物系のパーティクルが水系薬液内に突発的に混入し難くなっている。その結果、突発的に発生する有機物系のパーティクルに起因して基板に欠陥が発生することを大幅に抑制することが可能となる。
第２のステップでは、フィルタ装置内を加圧することにより、フィルタ装置内から有機系薬液を排出してもよい。この場合、フィルタ装置内からの有機系薬液の排出を促進できる。
フィルタ装置は、フィルタを挟んで濾過流路を構成する入口部及び出口部と、入口部との間でフィルタを通過しない迂回流路を構成する排出口部とを有し、第２のステップでは、入口部及び排出口部のうち一方から他方に向けて気体を流通させる第１のサブステップと、入口部及び出口部のうち一方から他方に向けて気体を流通させる第２のサブステップとにより、フィルタ装置内から有機系薬液を排出してもよい。この場合、フィルタ装置における濾過流路及び迂回流路の双方から有機系薬液が排出されるので、フィルタ装置内からの有機系薬液の排出をより促進できる。
第２のサブステップでは、出口部から入口部に向けて気体を流通させてもよい。この場合、フィルタ装置の出口部側におけるフィルタの孔径がフィルタ装置の入口部側におけるフィルタの孔径よりも小さいときに、フィルタの孔径が小さい側から大きい側へと有機系薬液が気体により押し出される。そのため、排出しようとする有機系薬液が円滑にフィルタ内を流通する。従って、フィルタ装置内からの有機系薬液の排出をいっそう促進できる。
第２のステップでは、フィルタ装置内を減圧することにより、フィルタ装置内から有機系薬液を排出してもよい。この場合、フィルタ装置内からの有機系薬液の排出を促進できる。
有機系薬液及び水系薬液の少なくとも一方は、フィルタ装置に供給される前に脱気処理されていてもよい。脱気処理された有機系薬液や水系薬液は、フィルタ内に存在する大小の気泡を効果的に捕集する機能を発揮する。そのため、脱気処理された有機系薬液や水系薬液をフィルタに通液させると、これらの液がフィルタ全体に満遍なく行き渡る。従って、これらの液がフィルタの略全体に接する結果、脱気処理された有機系薬液によれば、フィルタ内に含まれる有機物系のパーティクルを効果的に除去することができ、脱気処理された水系薬液によれば、フィルタ内に含まれる無機物系のパーティクルを効果的に除去することができる。
本発明の他の観点に係るフィルタ処理システムは、フィルタを内部に有すると共に、フィルタを挟んで濾過流路を構成する入口部及び出口部と、入口部との間でフィルタを通過しない迂回流路を構成する排出口部とを有するフィルタ装置と、有機溶剤を主溶媒とする薬液である有機系薬液を入口部に導入する第１の導入部と、水を主溶媒とする薬液である水系薬液を入口部に導入する第２の導入部と、フィルタ装置内を加圧する加圧部と、第１の導入部、第２の導入部及び加圧部の動作を制御する制御部とを備え、制御部は、第１の導入部を制御して、フィルタ装置に有機系薬液を導入させる、第１の制御と、第１の制御の後に、加圧部を制御してフィルタ装置内を加圧することにより、フィルタ装置内に溜まった有機系薬液をフィルタ装置内から排出させる、第２の制御と、第２の制御の後で且つフィルタが乾燥する前に、第２の導入部を制御して、水系薬液をフィルタ装置に供給する第３の制御とを行う。この場合、本発明の一つの観点に係るフィルタ処理方法と同様に、立ち上がり時間を短縮することが可能となると共に、突発的に発生する有機物系のパーティクルに起因して基板に欠陥が発生することを大幅に抑制することが可能となる。
制御部は、第２の制御において、入口部及び排出口部のうち一方から他方に向けて気体を流通させる第１の副制御と、入口部及び出口部のうち一方から他方に向けて気体を流通させる第２の副制御とを加圧部に行わせることにより、フィルタ装置内から有機系薬液を排出させてもよい。この場合、フィルタ装置における濾過流路及び迂回流路の双方から有機系薬液が排出されるので、フィルタ装置内からの有機系薬液の排出をより促進できる。
制御部は、第２の副制御において加圧部を制御して、出口部から入口部に向けて気体を流通させてもよい。この場合、フィルタ装置の出口部側におけるフィルタの孔径がフィルタ装置の入口部側におけるフィルタの孔径よりも小さいときに、フィルタの孔径が小さい側から大きい側へと有機系薬液が気体により押し出される。そのため、排出しようとする有機系薬液が円滑にフィルタ内を流通する。従って、フィルタ装置内からの有機系薬液の排出をいっそう促進できる。
本発明の他の観点に係るフィルタ処理システムは、フィルタを内部に有すると共に、フィルタを挟んで濾過流路を構成する入口部及び出口部と、入口部との間でフィルタを通過しない迂回流路を構成する排出口部とを有するフィルタ装置と、有機溶剤を主溶媒とする薬液である有機系薬液を入口部に導入する第１の導入部と、水を主溶媒とする薬液である水系薬液を入口部に導入する第２の導入部と、フィルタ装置内を減圧する減圧部と、第１の導入部、第２の導入部及び減圧部の動作を制御する制御部とを備え、制御部は、第１の導入部を制御して、フィルタ装置に有機系薬液を導入させる、第１の制御と、第１の制御の後に、減圧部を制御してフィルタ装置内を減圧することにより、フィルタ装置内に溜まった有機系薬液をフィルタ装置内から排出させる、第２の制御と、第２の制御の後で且つフィルタが乾燥する前に、第２の導入部を制御して、水系薬液をフィルタ装置に供給する第３の制御とを行う。この場合、本発明の一つの観点に係るフィルタ処理方法と同様に、立ち上がり時間を短縮することが可能となると共に、突発的に発生する有機物系のパーティクルに起因して基板に欠陥が発生することを大幅に抑制することが可能となる。
本発明の他の観点に係るコンピュータ読み取り可能な記録媒体は、フィルタを内部に有すると共に、フィルタを挟んで濾過流路を構成する入口部及び出口部と、入口部との間でフィルタを通過しない迂回流路を構成する排出口部とを有するフィルタ装置と、有機溶剤を主溶媒とする薬液である有機系薬液を入口部に導入する第１の導入部と、水を主溶媒とする薬液である水系薬液を入口部に導入する第２の導入部と、フィルタ装置内を加圧する加圧部と、第１の導入部、第２の導入部及び加圧部の動作を制御する制御部とを備えるフィルタ処理システムの制御部を制御するプログラムを記録した、コンピュータ読み取り可能な記録媒体であって、プログラムは、制御部に、第１の導入部を制御して、フィルタ装置に有機系薬液を導入させる、第１のステップと、第１のステップの後に、加圧部を制御してフィルタ装置内を加圧することにより、フィルタ装置内に溜まった有機系薬液をフィルタ装置内から排出させる、第２のステップと、第２のステップの後で且つフィルタが乾燥する前に、第２の導入部を制御して、水系薬液をフィルタ装置に供給する第３のステップとを実行させる。
本発明の他の観点に係るコンピュータ読み取り可能な記録媒体は、フィルタを内部に有すると共に、フィルタを挟んで濾過流路を構成する入口部及び出口部と、入口部との間でフィルタを通過しない迂回流路を構成する排出口部とを有するフィルタ装置と、有機溶剤を主溶媒とする薬液である有機系薬液を入口部に導入する第１の導入部と、水を主溶媒とする薬液である水系薬液を入口部に導入する第２の導入部と、フィルタ装置内を減圧する減圧部と、第１の導入部、第２の導入部及び減圧部の動作を制御する制御部とを備えるフィルタ処理システムの制御部を制御するプログラムを記録した、コンピュータ読み取り可能な記録媒体であって、プログラムは、制御部に、第１の導入部を制御して、フィルタ装置に有機系薬液を導入させる、第１のステップと、第１のステップの後に、減圧部を制御してフィルタ装置内を減圧することにより、フィルタ装置内に溜まった有機系薬液をフィルタ装置内から排出させる、第２のステップと、第２のステップの後で且つフィルタが乾燥する前に、第２の導入部を制御して、水系薬液をフィルタ装置に供給する第３のステップとを実行させる。
これら本発明の他の観点に係るコンピュータ読み取り可能な記録媒体では、本発明の一つの観点に係るフィルタ処理方法と同様に、立ち上がり時間を短縮することが可能となると共に、突発的に発生する有機物系のパーティクルに起因して基板に欠陥が発生することを大幅に抑制することが可能となる。なお、本明細書において、コンピュータ読み取り可能な記録媒体には、一時的でない有形の媒体（non-transitory computer recording medium）（例えば、各種の主記憶装置又は補助記憶装置）や、伝播信号（transitory computer recording medium）（例えば、ネットワークを介して提供可能なデータ信号）が含まれる。
本発明によれば、パーティクルの発生を抑制することが可能なフィルタ処理方法、フィルタ処理システム、及びコンピュータ読み取り可能な記録媒体を提供できる。
図１は、塗布・現像システムを示す斜視図である。 図２は、図１のＩＩ−ＩＩ線断面図である。 図３は、図２のＩＩＩ−ＩＩＩ線断面図である。 図４は、基板処理装置を示す断面図である。 図５は、本実施形態に係るフィルタ処理システム（液供給システム）を示す図である。 図６は、ベローズポンプを示す断面図である。 図７は、フィルタユニットを示す断面図である。 図８は、脱気モジュールを示す図であり、（ａ）はその断面を示し、（ｂ）は気液分離管の一部を拡大した様子を示す。 図９は、液供給システムの動作を説明するための図である。 図１０は、本実施形態に係るフィルタ処理システムの動作を説明するための図である。 図１１は、本実施形態に係るフィルタ処理システムの動作を説明するための図である。 図１２は、本実施形態に係るフィルタ処理システムの動作を説明するための図である。 図１３は、本実施形態に係るフィルタ処理システムの動作を説明するための図である。 図１４は、本実施形態に係るフィルタ処理システムの動作を説明するための図である。 図１５は、本実施形態に係るフィルタ処理システムの動作を説明するための図である。 図１６（ａ）は、第１変形例に係るフィルタ処理システムを示し、図１６（ｂ）は、第１変形例に係る供給システムを示す。 図１７（ａ）は、第２変形例に係るフィルタ処理システムを示し、図１７（ｂ）は、第２変形例に係る供給システムを示す。 図１８は、第３変形例に係るフィルタ処理供給システムを示す。 図１９は、第３変形例に係るフィルタ処理システムの動作を説明するための図である。 図２０は、第３変形例に係るフィルタ処理システムの動作を説明するための図である。 図２１は、第３変形例に係るフィルタ処理システムの動作を説明するための図である。 図２２は、第３変形例に係るフィルタ処理システムの動作を説明するための図である。 図２３は、第３変形例に係るフィルタ処理システムの動作を説明するための図である。 図２４は、第３変形例に係るフィルタ処理システムの動作を説明するための図である。 図２５は、第３変形例に係るフィルタ処理システムの動作を説明するための図である。 図２６（ａ）は、第４変形例に係るフィルタ処理システムを示し、図２６（ｂ）は、第４変形例に係る供給システムを示す。 図２７は、純水のフィルタへの通液量とパーティクルの数との関係を示す図である。 図２８は、突発パーティクルの発生率を説明するための図である。 図２９は、突発的に基板表面に出現するパーティクル（突発パーティクル）の様子を説明するための図である。
本発明の実施形態について図面を参照して説明するが、以下の本実施形態は、本発明を説明するための例示であり、本発明を以下の内容に限定する趣旨ではない。説明において、同一要素又は同一機能を有する要素には同一符号を用いることとし、重複する説明は省略する。
（塗布・現像装置の構成）
まず、図１〜図３に示される塗布・現像装置１の構成の概要について説明する。塗布・現像装置１は、露光装置Ｅ１による露光処理の前に、ウエハ（基板）Ｗの表面にレジスト材料を塗布してレジスト膜を形成する処理を行う。塗布・現像装置１は、露光装置Ｅ１による露光処理の後に、ウエハＷの表面に形成されたレジスト膜の現像処理を行う。本実施形態において、ウエハＷは円板状を呈するが、円形の一部が切り欠かれていたり、多角形などの円形以外の形状を呈するウエハを用いてもよい。
塗布・現像装置１は、図１及び図２に示されるように、キャリアブロックＳ１と、処理ブロックＳ２と、インターフェースブロックＳ３と、塗布・現像装置１の制御手段として機能する制御装置ＣＵとを備える。本実施形態において、キャリアブロックＳ１、処理ブロックＳ２、インターフェースブロックＳ３及び露光装置Ｅ１は、この順に直列に並んでいる。
キャリアブロックＳ１は、図１及び図３に示されるように、キャリアステーション１２と、搬入・搬出部１３とを有する。キャリアステーション１２は、複数のキャリア１１を支持する。キャリア１１は、複数枚のウエハＷを密封状態で収容する。キャリア１１は、ウエハＷを出し入れするための開閉扉（図示せず）を一側面１１ａ側に有する。キャリア１１は、側面１１ａが搬入・搬出部１３側に面するように、キャリアステーション１２上に着脱自在に設置される。
搬入・搬出部１３は、図１〜図３に示されるように、キャリアステーション１２上の複数のキャリア１１にそれぞれ対応する開閉扉１３ａを有する。側面１１ａの開閉扉と搬入・搬出部１３の開閉扉１３ａとが同時に開放されると、キャリア１１内と搬入・搬出部１３内とが連通する。搬入・搬出部１３は、図２及び図３に示されるように、受け渡しアームＡ１を内蔵している。受け渡しアームＡ１は、キャリア１１からウエハＷを取り出して処理ブロックＳ２に渡す。受け渡しアームＡ１は、処理ブロックＳ２からウエハＷを受け取ってキャリア１１内に戻す。
処理ブロックＳ２は、図１〜図３に示されるように、キャリアブロックＳ１に隣接すると共に、キャリアブロックＳ１と接続されている。処理ブロックＳ２は、図１及び図２に示されるように、下層反射防止膜形成（ＢＣＴ）ブロック１４と、レジスト膜形成（ＣＯＴ）ブロック１５と、上層反射防止膜形成（ＴＣＴ）ブロック１６と、現像処理（ＤＥＶ）ブロック１７とを有する。ＤＥＶブロック１７、ＢＣＴブロック１４、ＣＯＴブロック１５及びＴＣＴブロック１６は、底面側からこの順に並んで配置されている。
ＢＣＴブロック１４は、図２に示されるように、塗布ユニット（図示せず）と、加熱・冷却ユニット（図示せず）と、これらのユニットにウエハＷを搬送する搬送アームＡ２とを内蔵している。塗布ユニットは、反射防止膜形成用の処理液をウエハＷの表面に塗布する。加熱・冷却ユニットは、例えば熱板によりウエハＷを加熱し、その後例えば冷却板によりウエハＷを冷却する。こうして、ウエハＷの表面上に下層反射防止膜が形成される。
ＣＯＴブロック１５は、図２に示されるように、塗布ユニット（図示せず）と、加熱・冷却ユニット（図示せず）と、これらのユニットにウエハＷを搬送する搬送アームＡ３とを内蔵している。塗布ユニットは、レジスト膜形成用の処理液（レジスト材料）を下層反射防止膜の上に塗布する。加熱・冷却ユニットは、例えば熱板によりウエハＷを加熱し、その後例えば冷却板によりウエハＷを冷却する。こうして、ウエハＷの下層反射防止膜上にレジスト膜が形成される。レジスト材料は、ポジ型でもよいし、ネガ型でもよい。
ＴＣＴブロック１６は、図２に示されるように、塗布ユニット（図示せず）と、加熱・冷却ユニット（図示せず）と、これらのユニットにウエハＷを搬送する搬送アームＡ４とを内蔵している。塗布ユニットは、反射防止膜形成用の処理液をレジスト膜の上に塗布する。加熱・冷却ユニットは、例えば熱板によりウエハＷを加熱し、その後例えば冷却板によりウエハＷを冷却する。こうして、ウエハＷのレジスト膜上に上層反射防止膜が形成される。
ＤＥＶブロック１７は、図２及び図３に示されるように、複数の現像処理ユニット（基板処理装置）Ｕ１と、複数の加熱・冷却ユニット（熱処理部）Ｕ２と、これらのユニットにウエハＷを搬送する搬送アームＡ５と、これらのユニットを経ずに処理ブロックＳ２の前後間でウエハＷを搬送する搬送アームＡ６とを内蔵している。
現像処理ユニットＵ１は、後述するように、露光されたレジスト膜の現像処理を行う。加熱・冷却ユニットＵ２は、例えば熱板によるウエハＷの加熱を通じて、ウエハＷ上のレジスト膜を加熱する。加熱・冷却ユニットＵ２は、加熱後のウエハＷを例えば冷却板により冷却する。加熱・冷却ユニットＵ２は、ポストエクスポージャベーク（ＰＥＢ）、ポストベーク（ＰＢ）等の加熱処理を行う。ＰＥＢは、現像処理前にレジスト膜を加熱する処理である。ＰＢは、現像処理後にレジスト膜を加熱する処理である。
図１〜図３に示されるように、処理ブロックＳ２のうちキャリアブロックＳ１側には、棚ユニットＵ１０が設けられている。棚ユニットＵ１０は、複数のセルＣ３０〜Ｃ３８を有する。セルＣ３０〜Ｃ３８は、ＤＥＶブロック１７とＴＣＴブロック１６との間において上下方向に並んで配置されている。棚ユニットＵ１０の近傍には、昇降アームＡ７が設けられている。昇降アームＡ７は、セルＣ３０〜Ｃ３８の間でウエハＷを搬送する。
処理ブロックＳ２のうちインターフェースブロックＳ３側には、棚ユニットＵ１１が設けられている。棚ユニットＵ１１は、複数のセルＣ４０〜Ｃ４２を有する。セルＣ４０〜Ｃ４２は、ＤＥＶブロック１７に隣接して、上下方向に並んで配置されている。
インターフェースブロックＳ３は、図１〜図３に示されるように、処理ブロックＳ２及び露光装置Ｅ１の間に位置すると共に、処理ブロックＳ２及び露光装置Ｅ１のそれぞれに接続されている。インターフェースブロックＳ３は、図２及び図３に示されるように、受け渡しアームＡ８を内蔵している。受け渡しアームＡ８は、処理ブロックＳ２の棚ユニットＵ１１から露光装置Ｅ１にウエハＷを渡す。受け渡しアームＡ８は、露光装置Ｅ１からウエハＷを受け取り、棚ユニットＵ１１にウエハＷを戻す。
制御装置ＣＵは、制御用のコンピュータであり、図１に示されるように、記憶部ＣＵ１と、制御部ＣＵ２とを有する。記憶部ＣＵ１は、塗布・現像装置１の各部や露光装置Ｅ１の各部を動作させるためのプログラムを記憶している。記憶部ＣＵ１は、例えば半導体メモリ、光記録ディスク、磁気記録ディスク、光磁気記録ディスクである。当該プログラムは、記憶部ＣＵ１とは別体の外部記憶装置や、伝播信号などの無形の媒体にも含まれ得る。これらの他の媒体から記憶部ＣＵ１に当該プログラムをインストールして、記憶部ＣＵ１に当該プログラムを記憶させてもよい。制御部ＣＵ２は、記憶部ＣＵ１から読み出したプログラムに基づいて、塗布・現像装置１の各部や露光装置Ｅ１の各部の動作を制御する。なお、制御装置ＣＵは、処理条件の設定画面を表示する表示部（図示せず）や、処理条件を作業者が入力可能な入力部（図示せず）をさらに有し、入力部を通じて入力された条件に従って塗布・現像装置１の各部や露光装置Ｅ１の各部を動作させてもよい。
（塗布・現像装置の動作）
次に、塗布・現像装置１の動作の概要について説明する。まず、キャリア１１がキャリアステーション１２に設置される。このとき、キャリア１１の一側面１１ａは、搬入・搬出部１３の開閉扉１３ａに向けられる。続いて、キャリア１１の開閉扉と、搬入・搬出部１３の開閉扉１３ａとが共に開放され、受け渡しアームＡ１により、キャリア１１内のウエハＷが取り出され、処理ブロックＳ２の棚ユニットＵ１０のうちいずれかのセルに順次搬送される。
ウエハＷが受け渡しアームＡ１により棚ユニットＵ１０のいずれかのセルに搬送された後、ウエハＷは、昇降アームＡ７により、ＢＣＴブロック１４に対応するセルＣ３３に順次搬送される。セルＣ３３に搬送されたウエハＷは、搬送アームＡ２によってＢＣＴブロック１４内の各ユニットに搬送される。搬送アームＡ２によってウエハＷがＢＣＴブロック１４内を搬送される過程で、ウエハＷの表面上に下層反射防止膜が形成される。
下層反射防止膜が形成されたウエハＷは、搬送アームＡ２によってセルＣ３３の上のセルＣ３４に搬送される。セルＣ３４に搬送されたウエハＷは、昇降アームＡ７によって、ＣＯＴブロック１５に対応するセルＣ３５に搬送される。セルＣ３５に搬送されたウエハＷは、搬送アームＡ３によりＣＯＴブロック１５内の各ユニットに搬送される。搬送アームＡ３によってウエハＷがＣＯＴブロック１５内を搬送される過程で、下層反射防止膜上にレジスト膜が形成される。
レジスト膜が形成されたウエハＷは、搬送アームＡ３によってセルＣ３５の上のセルＣ３６に搬送される。セルＣ３６に搬送されたウエハＷは、昇降アームＡ７によって、ＴＣＴブロック１６に対応するセルＣ３７に搬送される。セルＣ３７に搬送されたウエハＷは、搬送アームＡ４によってＴＣＴブロック１６内の各ユニットに搬送される。搬送アームＡ４によってウエハＷがＴＣＴブロック１６内を搬送される過程で、レジスト膜上に上層反射防止膜が形成される。
上層反射防止膜が形成されたウエハＷは、搬送アームＡ４によってセルＣ３７の上のセルＣ３８に搬送される。セルＣ３８に搬送されたウエハＷは、昇降アームＡ７によってセルＣ３２に搬送された後、搬送アームＡ６によって棚ユニットＵ１１のセルＣ４２に搬送される。セルＣ４２に搬送されたウエハＷは、インターフェースブロックＳ３の受け渡しアームＡ８により露光装置Ｅ１に渡され、露光装置Ｅ１においてレジスト膜の露光処理が行われる。露光処理が行われたウエハＷは、受け渡しアームＡ８によりセルＣ４２の下のセルＣ４０，Ｃ４１に搬送される。
セルＣ４０，Ｃ４１に搬送されたウエハＷは、搬送アームＡ５により、ＤＥＶブロック１７内の各ユニットに搬送され、現像処理が行われる。これにより、ウエハＷの表面上にレジストパターン（凹凸パターン）が形成される。レジストパターンが形成されたウエハＷは、搬送アームＡ５によって棚ユニットＵ１０のうちＤＥＶブロック１７に対応したセルＣ３０，Ｃ３１に搬送される。セルＣ３０，Ｃ３１に搬送されたウエハＷは、昇降アームＡ７によって、受け渡しアームＡ１がアクセス可能なセルに搬送され、受け渡しアームＡ１によって、キャリア１１内に戻される。
なお、上述した塗布・現像装置１の構成及び動作は一例にすぎない。塗布・現像装置１は、塗布ユニットや現像処理ユニット等の液処理ユニットと、加熱・冷却ユニット等の前処理・後処理ユニットと、搬送装置とを備えていればよい。すなわち、これら各ユニットの個数、種類、レイアウト等は適宜変更可能である。
（現像処理ユニットの構成）
次に、現像処理ユニット（基板処理装置）Ｕ１について、さらに詳しく説明する。現像処理ユニットＵ１は、図４に示されるように、回転保持部２０と、昇降装置２２と、液供給部２４とを備える。
回転保持部２０は、電動モータ等の動力源を内蔵した本体部２０ａと、本体部２０ａから鉛直上方に延びる回転軸２０ｂと、回転軸２０ｂの先端部に設けられたチャック２０ｃとを有する。本体部２０ａは、動力源により回転軸２０ｂ及びチャック２０ｃを回転させる。チャック２０ｃは、ウエハＷの中心部を支持し、例えば吸着によりウエハＷを略水平に保持する。すなわち、回転保持部２０は、ウエハＷの姿勢が略水平の状態で、ウエハＷの表面に対して垂直な中心軸（鉛直軸）周りでウエハＷを回転させる。本実施形態では、図４に示されるように、回転保持部２０は、上方から見て逆時計回りにウエハＷを回転させる。
昇降装置２２は、回転保持部２０に取り付けられており、回転保持部２０を昇降させる。具体的には、昇降装置２２は、搬送アームＡ５とチャック２０ｃとの間でウエハＷの受け渡しを行うための上昇位置（受け渡し位置）と、現像処理を行うための下降位置（現像位置）との間で、回転保持部２０（チャック２０ｃ）を昇降させる。
回転保持部２０の周囲には、カップ３０が設けられている。ウエハＷが回転すると、ウエハＷの表面に供給された処理液が周囲に振り切られて落下するが、カップ３０は、当該落下した処理液を受け止める収容器として機能する。カップ３０は、回転保持部２０を囲む円環形状の底板３１と、底板３１の外縁から鉛直上方に突出した円筒状の外壁３２と、底板３１の内縁から鉛直上方に突出した円筒状の内壁３３とを有する。
外壁３２の全部分は、チャック２０ｃに保持されたウエハＷよりも外側に位置する。外壁３２の上端３２ａは、下降位置にある回転保持部２０に保持されたウエハＷよりも上方に位置する。外壁３２の上端３２ａ側の部分は、上方に向かうにつれて内側に傾いた傾斜壁部３２ｂとなっている。内壁３３の全部分は、チャック２０ｃに保持されたウエハＷの外縁よりも内側に位置する。内壁３３の上端３３ａは、下降位置にある回転保持部２０に保持されたウエハＷよりも下方に位置する。
内壁３３と外壁３２との間には、底板３１の上面から鉛直上方に突出した仕切壁３４が設けられている。すなわち、仕切壁３４は、内壁３３を囲んでいる。底板３１のうち、外壁３２と仕切壁３４との間の部分には、液体排出孔３１ａが形成されている。液体排出孔３１ａには、排液管３５が接続されている。底板３１のうち、仕切壁３４と内壁３３との間の部分には、気体排出孔３１ｂが形成されている。気体排出孔３１ｂには、排気管３６が接続されている。
内壁３３の上には、仕切壁３４よりも外側に張り出す傘状部３７が設けられている。ウエハＷ上から外側に振り切られて落下した処理液は、外壁３２と仕切壁３４との間に導かれ、液体排出孔３１ａから排出される。仕切壁３４と内壁３３との間には、処理液から発生したガス等が進入し、当該ガスが気体排出孔３１ｂから排出される。
内壁３３に囲まれる空間の上部は、仕切板３８により閉塞されている。回転保持部２０の本体部２０ａは仕切板３８の下方に位置する。チャック２０ｃは仕切板３８の上方に位置する。回転軸２０ｂは仕切板３８の中心部に形成された貫通孔内に挿通されている。
液供給部２４は、図４及び図５に示されるように、各種液の供給システム２４ａ（詳しくは後述する）と、処理液ヘッド２４ｃと、移動体２４ｄとを有する。処理液ヘッド２４ｃは、供給管２４ｂを介して供給システム２４ａに接続される。処理液ヘッド２４ｃは、制御装置ＣＵからの制御信号を受けて供給システム２４ａから供給された各種液を、ノズルＮからウエハＷの表面Ｗａに吐出する。ノズルＮは、ウエハＷの表面Ｗａに向けて下方に開口している。詳しくは後述するが、ノズルＮの上流側にはフィルタ装置Ｆが設けられているので、ノズルＮから吐出される液は、フィルタ装置Ｆによってパーティクルが除去されて比較的清浄である。そのため、ノズルＮからは、ウエハＷの表面Ｗａを処理するために当該表面Ｗａに向けて吐出される。なお、供給システム２４ａがノズルＮに供給する各種液としては、例えば、有機系薬液や水系薬液が挙げられる。有機系薬液は、有機溶剤を主溶媒とする薬液であり、例えばシンナー液が挙げられる。水系薬液は、水を主溶媒とする薬液であり、例えば純水、現像液、リンス液、及び界面活性剤を含有するリンス液が挙げられる。
移動体２４ｄは、アーム２４ｅを介して処理液ヘッド２４ｃに接続されている。移動体２４ｄは、制御装置ＣＵからの制御信号を受けて、外壁３２の外側において水平に延びるガイドレール４０上を移動することで、処理液ヘッド２４ｃを水平方向に移動させる。これにより、処理液ヘッド２４ｃは、下降位置にあるウエハＷの上方で且つウエハＷの中心軸に直交する直線上を、ウエハＷの径方向に沿って移動する。
（供給システムの構成）
次に、供給システム（気泡除去装置又は脱気装置）２４ａについて詳しく説明する。図５に示されるように、供給システム２４ａは、ポンプ装置Ｐと、フィルタ装置Ｆと、脱気モジュールＤＧと、配管Ｄ１〜Ｄ１８と、バルブＶ１〜Ｖ１９と、レギュレータＲ１〜Ｒ５と、エジェクタＥと、流量計ＦＭ１，ＦＭ２と、圧力計Ｍ１〜Ｍ５とを備える。
ポンプ装置Ｐは、有機系薬液を一時的に貯留して、その有機系薬液を処理液ヘッド２４ｃに供給しノズルＮから吐出させるためのものである。ポンプ装置Ｐは、図６に示されるように、有底筒状を呈する筐体５１と、筐体５１の開放端側に配置された蓋体５２と、筐体５１内に配置されたベローズポンプ５３と、マグネット５４と、センサ５５ａ〜５５ｄとを有する。筐体５１は、円筒状の側壁５１ａと、側壁５１ａの底部を閉塞する底壁５１ｂとを有する。底壁５１ｂには、接続口５１ｃが底壁５１ｂを貫通するように形成されている。接続口５１ｃは、Ｎ２ガスを導入及び排出するために、配管Ｄ２，Ｄ３を介してＮ２ガス源に接続されている。
蓋体５２は、筐体５１の開口側を閉塞し、筐体５１と共にベローズポンプ５３を収容する空間を構成する。蓋体５２には、脱気ノズル５２ａと、排出口５２ｂと、排液口５２ｃとがそれぞれ蓋体５２を貫通するように形成されている。
脱気ノズル５２ａは、処理液をベローズポンプ５３内に導入するために、配管Ｄ１を介して有機系薬液源に接続されている。本実施形態では、脱気ノズル５２ａが蓋体５２に形成されているが、脱気ノズル５２ａは有機系薬液源とポンプ装置Ｐ（後述の処理液室Ｃ１）との間に配置されていてもよい。脱気ノズル５２ａにおいて、ベローズポンプ５３側（出口側）の流路面積は、処理液源側（入口側）の流路面積よりも小さくなるように構成されている。脱気ノズル５２ａの入口側から出口側へと流れる液にエネルギー保存の法則が適用できると考えると、脱気ノズル５２ａを一定流量の液が入口側から出口側に向けて流れる場合、連続の方程式に基づき、流路面積が小さな出口側を流れる液の流速は、流路面積が大きな入口側を流れる液の流速よりも大きくなる。すると、ベルヌーイの定理に基づき、脱気ノズル５２ａの出口側を流れる液の圧力が低下する。その結果、液内に溶存した気体が液内から脱気される。これにより、ベローズポンプ５３内には、脱気ノズル５２ａにより脱気処理された有機系薬液である脱気処理済液と、脱気処理により当該有機系薬液から分離された気体とが導入される。なお、以下では、脱気処理済液を単に「有機系薬液」と称することもある。
排出口５２ｂは、処理液をベローズポンプ５３外に排出してノズルＮから吐出するために、配管Ｄ９，Ｄ１３，Ｄ１４を介してノズルＮに接続されている。排液口５２ｃは、脱気処理により処理液から分離された気体と共に一部の脱気処理済液をベローズポンプ５３外に排出するために、配管Ｄ８を介して系外（システム外）に接続されている。
ベローズポンプ５３は、ピストン板５３ａと、ベローズ（蛇腹部材）５３ｂとを有する。ピストン板５３ａは、側壁５１ａの内壁面に対応する形状を呈し、筐体５１内において側壁５１ａの延びる方向に沿って往復移動可能である。ベローズ５３ｂは、筐体５１内において側壁５１ａの延びる方向に沿って伸縮可能である。ベローズ５３ｂの一端側は、蓋体５２のうち底壁５１ｂに向かう側の面に取り付けられている。ベローズ５３ｂの他端側は、ピストン板５３ａのうち蓋体５２に向かう側の面に取り付けられている。従って、ベローズポンプ５３の容積は、ピストン板５３ａの位置に応じて変化する。すなわち、ベローズポンプ５３は、容積が可変のポンプである。
蓋体５２、ベローズ５３ｂ及びピストン板５３ａで囲まれた空間は、処理液を貯留可能な処理液室Ｃ１を構成している。すなわち、処理液室Ｃ１の大きさは、ベローズポンプ５３の容積を意味する。筐体５１とピストン板５３ａで囲まれた空間は、Ｎ２ガスが導入及び排出されるガス室Ｃ２を構成している。
マグネット５４は、ピストン板５３ａの外周部に取り付けられている。センサ５５ａ〜５５ｄは、マグネット５４の磁界を検出することにより、ピストン板５３ａの位置を検出する。センサ５５ａ〜５５ｄは、側壁５１ａを介してマグネット５４と対向するように、側壁５１ａの外表面に配置されている。センサ５５ａ〜５５ｄは、蓋体５２側から底壁５１ｂ側に向かうにつれてこの順で並ぶように配置されている。
センサ５５ａは、最も蓋体５２寄りに位置しており、ベローズポンプ５３内（処理液室Ｃ１）が空（Empty）になったことを検知する。センサ５５ｂは、センサ５５ａよりも底壁５１ｂ寄りで且つセンサ５５ｃよりも蓋体５２寄りに位置しており、ベローズポンプ５３内（処理液室Ｃ１）がほぼ空（Pre Empty）になったことを検知する。センサ５５ｃは、センサ５５ｂよりも底壁５１ｂ寄りで且つセンサ５５ｄよりも蓋体５２寄りに位置しており、ベローズポンプ５３内（処理液室Ｃ１）に処理液がほぼ充填（Pre Full）されたことを検知する。センサ５５ｄは、最も底壁５１ｂ寄りに位置しており、ベローズポンプ５３内（処理液室Ｃ１）に処理液が充填（Full）されたことを検知する。
フィルタ装置Ｆは、処理液に含まれるパーティクルなどの異物を除去するためのものである。フィルタ装置Ｆは、図７に示されるように、筒状を呈する筐体６１と、フィルタ６２とを有している。筐体６１は、円筒状の側壁６１ａと、側壁６１ａの底部を閉塞する底壁６１ｂと、側壁６１ａの頂部に配置された天壁６１ｃと、側壁６１ａ、底壁６１ｂ及び天壁６１ｃで形成される空間内に配置されたフィルタ支持部６１ｄとを有する。
フィルタ６２は、フィルタ容器６３と、フィルタ本体６４とを有する。フィルタ６２は、フィルタ支持部６１ｄに取り付けられている。そのため、フィルタ６２は、筐体６１内において保持される。
フィルタ容器６３は、円筒形状を呈する外側側壁６３ａと、円筒形状を呈する内側側壁６３ｂと、外側側壁６３ａ及び内側側壁６３ｂの一端側に配置された天壁６３ｃと、外側側壁６３ａ及び内側側壁６３ｂの他端側に配置された底壁６３ｄとで構成されている。
内側側壁６３ｂは、外側側壁６３ａと略同軸となるように、外側側壁６３ａの内側に配置されている。外側側壁６３ａ及び内側側壁６３ｂには、多数の貫通孔が形成されており、フィルタ容器６３の内外において処理液が通過可能とされている。フィルタ６２がフィルタ支持部６１ｄに取り付けられた状態において、外側側壁６３ａの貫通孔の少なくとも一部は、フィルタ支持部６１ｄによって閉塞されず、側壁６１ａとフィルタ支持部６１ｄとの間に形成される流路と流体的に接続される。
天壁６３ｃの中央部には貫通孔６３ｅが形成されている。すなわち、天壁６３ｃは円環状を呈している。天壁６３ｃは、外側側壁６３ａと内側側壁６３ｂとの間において、外側側壁６３ａ及び内側側壁６３ｂの一端側を閉塞している。底壁６３ｄは、外側側壁６３ａ及び内側側壁６３ｂの他端側全体を閉塞している。
フィルタ本体６４は、円筒形状を呈している。フィルタ本体６４は、外側側壁６３ａ、内側側壁６３ｂ、天壁６３ｃ及び底壁６３ｄで囲まれる空間内に配置されている。フィルタ本体６４の材質は、例えば、ナイロンやポリエチレンが挙げられる。フィルタ本体６４は、例えば０．０５μｍ程度のパーティクルを除去可能な性能を有していてもよい。なお、新品のフィルタ本体６４内には多数のパーティクルが含まれているため、新品のフィルタ６２に交換した場合には、フィルタ６２に処理液を予め流し、パーティクルをフィルタ本体６４内から除去しておくことが好ましい。
筐体６１の天壁６１ｃには、ポンプ装置Ｐからの有機系薬液が導入される導入口６５ａと、フィルタ６２を通過した処理液が排出される排出口６５ｂと、フィルタ６２を通過しない有機系薬液が系外（システム外）に排出される排液口６５ｃとが形成されている。排出口６５ｂは、天壁６３ｃの貫通孔６３ｅと連通している。
導入口６５ａから導入された有機系薬液は、排出口６５ｂ又は排液口６５ｃからフィルタ装置Ｆ外へと排出される。有機系薬液が導入口６５ａから排出口６５ｂへと流れる場合、有機系薬液は、側壁６１ａ及び底壁６１ｂとフィルタ支持部６１ｄとの間に形成される流路（濾過流路）を流れた後に、外側側壁６３ａの貫通孔、フィルタ本体６４、内側側壁６３ｂの貫通孔、及び内側側壁６３ｂの内部の順に流れ、天壁６３ｃの貫通孔６３ｅ及び排出口６５ｂを介してフィルタ装置Ｆ外へと排出される。一方、有機系薬液が導入口６５ａから排液口６５ｃへと流れる場合、有機系薬液は、側壁６１ａ及び底壁６１ｂとフィルタ支持部６１ｄとの間に形成される流路（迂回流路）を流れた後に、一部がフィルタ６２内にも流れるものの、他の部分は引き続き当該流路を流れ、排液口６５ｃを介してフィルタ装置Ｆ外へと排出される。
脱気モジュールＤＧは、液に含まれる気泡を当該液から排出して脱気処理がなされた液を生成するための機器である。脱気モジュールＤＧは、図８（ａ）に示されるように、気液分離管７１と、外側管７２と、排気管７３と、排気ポンプ７４とを備える。
気液分離管７１は、供給システム２４ａを構成する配管上（本実施形態では配管Ｄ５上）に設けられている。すなわち、気液分離管７１の上流端及び下流端はそれぞれ、配管Ｄ５に接続されている。気液分離管７１は、管状を呈する中空糸膜である。当該中空糸膜は、気液分離機能を有する材料（例えば、ポリ−４−メチルペンテン−１）で形成されうる。ここでいう気液分離機能とは、液体は通過せずに気体のみが通過しうる機能である。
外側管７２は、気液分離管７１の外周を覆うと共に、気液分離管７１の延在方向に沿って延びている。外側管７２の側壁には貫通孔７２ａが形成されており、貫通孔７２ａに排気管７３が接続されている。外側管７２の内面と気液分離管７１とで囲まれた空間Ｃ３は、密閉されている。排気管７３上には、排気ポンプ７４が設けられている。排気ポンプ７４は、排気管７３を通じて、空間Ｃ３内を減圧する。
このような構成を有する脱気モジュールＤＧによれば、図８（ｂ）に示されるように、液が気液分離管７１を流れる際に、液に含まれる気泡のみが気液分離管７１の壁面を通過して空間Ｃ３内に移動し、空間Ｃ３から排気管７３を通じて系外（システム外）に排出される。そのため、液が気液分離管７１を通過すると、当初の液に含まれていた気泡の多くが除去される。
図５に戻って、配管Ｄ１の上流端は、有機系薬液源に接続されている。配管Ｄ１の下流端は、ポンプ装置Ｐ１の脱気ノズル５２ａに接続されている。配管Ｄ１上には、上流側から順に、バルブＶ１、レギュレータＲ１、圧力計Ｍ１及びバルブＶ２が設けられている。バルブＶ１，Ｖ２は、空気を利用して弁を開閉（オン／オフ）させるエアオペレートバルブである。レギュレータＲ１は、自身を流れる液に付与する圧力の大きさを調整し、それにより液の流量を制御する圧力制御弁である。レギュレータＲ１において設定される圧力の大きさは、例えば１００ｋＰａである。なお、本明細書では圧力をゲージ圧で示している。
配管Ｄ２の上流端は、Ｎ２ガス源に接続されている。配管Ｄ２の下流端は、ポンプ装置Ｐの接続口５１ｃに接続されている。配管Ｄ２上には、上流側から順に、レギュレータＲ２、圧力計Ｍ２、バルブＶ３及びバルブＶ４が設けられている。レギュレータＲ２は、レギュレータＲ１と同様の圧力制御弁である。レギュレータＲ２において設定される圧力の大きさは、例えば２００ｋＰａである。バルブＶ３は、逆止弁であり、配管Ｄ２の上流側から下流側へ向かう流体を流すが、逆方向に向かおうとする流体を流さないように動作する。バルブＶ４は、バルブＶ１と同様のエアオペレートバルブである。
配管Ｄ３は、配管Ｄ２から分岐して再び配管Ｄ２に合流している。配管Ｄ３の上流端は、レギュレータＲ２よりも上流側で配管Ｄ２に接続されている。配管Ｄ３の下流端は、バルブＶ４よりも下流側で配管Ｄ２に接続されている。配管Ｄ３上には、上流側から順に、レギュレータＲ３及びバルブＶ５が設けられている。レギュレータＲ３は、Ｎ２ガスの圧力の大きさを任意に調整し、それによりＮ２ガスの流量を制御する電空レギュレータである。電空レギュレータは、電気信号を空気圧力信号に変換する方式の圧力制御弁である。電空レギュレータは、Ｎ２ガスに付与する圧力の大きさを予め複数設定しておくことにより、ポンプ装置Ｐの圧力を変化させて、有機系薬液を異なる大きさの流量でポンプ装置Ｐから流すことができる。レギュレータＲ３において設定される圧力の大きさは、例えば２５ｋＰａ及び５０ｋＰａの２つである。レギュレータＲ３は、制御装置ＣＵから受けた制御信号に応じて、圧力の大きさを第１の値（例えば２５ｋＰａ）と第２の値（例えば５０ｋＰａ）との間で切り替えることができる。
配管Ｄ４は、空気源とエジェクタＥとの間に配置されている。エジェクタＥは、ノズルと、ディフューザと、ノズル及びディフューザを接続する接続部とで構成されている。配管Ｄ４の上流端は、空気源に接続されている。配管Ｄ４の下流端は、エジェクタＥのノズルに接続されている。配管Ｄ４上には、上流側から順に、レギュレータＲ４、圧力計Ｍ３及びバルブＶ６が設けられている。レギュレータＲ４は、レギュレータＲ１と同様の圧力制御弁である。レギュレータＲ４は、ポンプ装置Ｐのガス室Ｃ２内の圧力が例えば−３５ｋＰａ程度となるように調整される。バルブＶ６は、バルブＶ１と同様のエアオペレートバルブである。
配管Ｄ５は、配管Ｄ４から分岐している。配管Ｄ５の上流端は、レギュレータＲ４の上流側で配管Ｄ４に接続されている。配管Ｄ５の下流端は、バルブＶ６とエジェクタＥとの間で配管Ｄ４に接続されている。配管Ｄ５上には、上流側から順に、レギュレータＲ５、圧力計Ｍ４及びバルブＶ７が設けられている。レギュレータＲ５は、レギュレータＲ１と同様の圧力制御弁である。レギュレータＲ５は、ポンプ装置Ｐのガス室Ｃ２内の圧力が例えば−８０ｋＰａ程度となるように調整される。バルブＶ７は、バルブＶ１と同様のエアオペレートバルブである。
配管Ｄ６の上流端は、エジェクタＥのディフューザに接続されている。配管Ｄ６を流れた気体は、配管Ｄ６の下流端から系外（システム外）に排出される。
配管Ｄ７の一端は、エジェクタＥの接続部に接続されている。配管Ｄ７の他端は、配管Ｄ２，Ｄ３の合流点とポンプ装置Ｐの接続口５１ｃとの間において配管Ｄ２に接続されている。配管Ｄ７上には、バルブＶ８が設けられている。バルブＶ８は、バルブＶ１と同様のエアオペレートバルブである。空気源、配管Ｄ４〜Ｄ７、レギュレータＲ４，Ｒ５、バルブＶ６〜Ｖ８は、処理液源から脱気ノズル５２ａを介してポンプ装置Ｐ内に有機系薬液を供給させて、脱気処理済液をポンプ装置Ｐ内に貯留させるように構成された供給排出部の一部として機能する。
配管Ｄ８の上流端は、ポンプ装置Ｐの排液口５２ｃに接続されている。配管Ｄ８を流れた排液は、配管Ｄ８の下流端から系外（システム外）に排出される。配管Ｄ８上には、バルブＶ９が設けられている。バルブＶ９は、バルブＶ１と同様のエアオペレートバルブである。
配管Ｄ９の上流端は、ポンプ装置Ｐの排出口５２ｂに接続されている。配管Ｄ９の下流端は、配管Ｄ１３の上流端に接続されている。配管Ｄ９上には、バルブＶ１０が設けられている。バルブＶ１０は、バルブＶ１と同様のエアオペレートバルブである。
配管Ｄ１０の上流端は、水系薬液源に接続されている。配管Ｄ１０の下流端は、配管Ｄ１３の上流端に接続されている。配管Ｄ１０上には、上流側から順に、バルブＶ１１、レギュレータＲ６、圧力計Ｍ５及び脱気モジュールＤＧが設けられている。バルブＶ１１は、バルブＶ１と同様のエアオペレートバルブである。レギュレータＲ６は、レギュレータＲ１と同様の圧力制御弁である。
配管Ｄ１１の上流端は、Ｎ２ガス源に接続されている。配管Ｄ１１の下流端は、脱気モジュールＤＧの下流側において配管Ｄ１０に接続されている。配管Ｄ１１上には、バルブＶ１２が設けられている。バルブＶ１２は、バルブＶ１と同様のエアオペレートバルブである。
配管Ｄ１２の上流端は、配管Ｄ１３の上流端に接続されている。配管Ｄ１２を流れた排液は、配管Ｄ１２の下流端から系外（システム外）に排出される。
配管Ｄ１３の下流端は、フィルタ装置Ｆの導入口６５ａに接続されている。配管Ｄ１４の上流端は、フィルタ装置Ｆの排出口６５ｂに接続されている。配管Ｄ１４上には、上流側から順に、流量計ＦＭ１、バルブＶ１４及びノズルＮが設けられている。流量計ＦＭ１は、超音波を利用して配管Ｄ１４を流れる処理液の流速を計測し、当該流速に基づいて流量を算出する、超音波流量計である。超音波流量計を用いると、配管内に計測器を設置せずに流量を検出することができるので、圧力損失の発生を抑制できる。バルブＶ１４は、流量調節機能を有するエアオペレートバルブである。
配管Ｄ１５の上流端は、流量計ＦＭ１とバルブＶ１４との間において配管Ｄ１４から分岐している。配管Ｄ１５上には、バルブＶ１５が設けられている。バルブＶ１５は、バルブＶ１４と同様のエアオペレートバルブである。配管Ｄ１５を流れた排液は、配管Ｄ１５の下流端から系外（システム外）に排出される。
配管Ｄ１６の上流端は、Ｎ２ガス源に接続されている。配管Ｄ１６の下流端は、フィルタ装置Ｆと流量計ＦＭ１との間において配管Ｄ１４に接続されている。配管Ｄ１６上には、バルブＶ１６が設けられている。バルブＶ１６は、バルブＶ１と同様のエアオペレートバルブである。
配管Ｄ１７の上流端は、フィルタ装置Ｆの排液口６５ｃに接続されている。配管Ｄ１７上には、バルブＶ１７が設けられている。バルブＶ１７は、手動で開閉を行うマニュアルバルブである。配管Ｄ１７を流れた液体は、配管Ｄ１７の下流端から系外（システム外）に排出される。なお、新品のフィルタ本体６４は乾燥しており多量の空気を含んでいるので、フィルタ６２を新品に交換した際にマニュアルバルブを開放して、フィルタ本体６４に含まれる空気を排出するようにしてもよい。
配管Ｄ１８は、配管Ｄ１７から分岐して再び配管Ｄ１７に合流している。配管Ｄ１８上には、上流側から順に、バルブＶ１８、流量計ＦＭ２及びバルブＶ１９が設けられている。バルブＶ１８は、バルブＶ１と同様のエアオペレートバルブである。流量計ＦＭ２は、テーパ管内に浮かぶフロートの位置により流量を読み取る面積式（フロート式）流量計である。バルブＶ１９は、バルブＶ３と同様の逆止弁である。
バルブＶ１，Ｖ２，Ｖ４〜Ｖ１６，Ｖ１８は、制御装置ＣＵから受けた制御信号に応じて、弁を開閉する。レギュレータＲ１〜Ｒ５は、制御装置ＣＵから受けた制御信号に応じて、自身を流れる処理液に付与する圧力の大きさを調整する。レギュレータＲ１，Ｒ２，Ｒ４，Ｒ５において、自身を流れる処理液、Ｎ２ガス又は空気に付与する圧力の大きさを人手で調整してもよい。レギュレータＲ３において、自身を流れるＮ２ガスに付与する圧力の大きさを、所定のプログラムに従って動的に調整してもよい。
（供給システムの動作）
続いて、図９〜図１５を参照しながら、供給システム２４ａの動作について説明する。まず、図９に基づいて、第１のステップについて説明する。全てのバルブが閉じられた初期状態から、制御装置ＣＵはバルブＶ１，Ｖ２，Ｖ６に指示してこれらの弁を開放させる。これにより、空気源からの空気が配管Ｄ４、エジェクタＥ及び配管Ｄ６の順に流れ（図９の矢印Ａｒ１参照）、エジェクタＥの接続部において負圧が発生する。そのため、エジェクタＥの接続部に接続された配管Ｄ７を介して、ポンプ装置Ｐのガス室Ｃ２内が減圧され（図９の矢印Ａｒ２参照）、ピストン板５３ａが筐体５１の底壁５１ｂ側に引き寄せされる。従って、ベローズポンプ５３の容積が拡大され、脱気ノズル５２ａを介して有機系薬液源から有機系薬液がベローズポンプ５３内に導入される（図９の矢印Ａｒ３参照）。このとき、有機系薬液は脱気ノズル５２ａを通過する際に脱気されるので、ベローズポンプ５３内には、脱気処理済液（すなわち、有機系薬液に混在する気体が有機系薬液内からより多く脱気された高脱気液）と、脱気処理により有機系薬液から分離された気体とが導入される。
次に、図９に基づいて、第２のステップについて説明する。制御装置ＣＵは、バルブＶ１，Ｖ２，Ｖ６に指示してこれらの弁を閉塞させると共に、バルブＶ９に指示してこれらの弁を開放させる。これにより、脱気処理により有機系薬液から分離された気体と共に一部の脱気処理済液が、ベローズポンプ５３から配管Ｄ８を通じて系外（システム外）へと排出される（図９の矢印Ａｒ４参照）。
次に、図１０に基づいて、第３のステップについて説明する。制御装置ＣＵは、バルブＶ９に指示してこの弁を閉塞させ、バルブＶ５，Ｖ１０，Ｖ１８に指示してこれらの弁を開放させる。これにより、Ｎ２ガス源からのＮ２ガスが配管Ｄ３を流れ（図１０の矢印Ａｒ５参照）、ポンプ装置Ｐのガス室Ｃ２内が加圧され、ピストン板５３ａが蓋体５２側に押し出される。従って、ポンプ装置Ｐの排出口５２ｂから排出された脱気処理済液は、配管Ｄ９，Ｄ１３、フィルタ装置Ｆの迂回流路、配管Ｄ１８，Ｄ１７の順に流れて、系外（システム外）に排出される（図１０の矢印Ａｒ６参照）。
次に、図１１に基づいて、第４のステップについて説明する。制御装置ＣＵは、バルブＶ１８に指示してこの弁を閉塞させ、バルブＶ１５に指示してこの弁を開放させる。従って、ポンプ装置Ｐの排出口５２ｂから排出された脱気処理済液は、配管Ｄ９，Ｄ１３、フィルタ装置Ｆの濾過流路、配管Ｄ１３〜Ｄ１５の順に流れて、系外（システム外）に排出される（図１１の矢印Ａｒ７参照）。
第３及び第４のステップにおいて、制御装置ＣＵはレギュレータＲ３に指示して、自身を流れるＮ２ガスに対して第１の値で圧力を付与させ、所定時間経過後に、第１の値よりも大きな第２の値で圧力を付与させてもよい。このような制御が行われると、フィルタ装置Ｆ内において、高脱気液が第１の流量（例えば６０ｍＬ／ｍｉｎ程度）で第１の時間（例えば２００秒程度）流れた後、高脱気液が第２の流量（例えば７５ｍＬ／ｍｉｎ程度）で第２の時間（例えば６４０秒程度）流れる。この場合、フィルタ本体６４に高脱気液が第１の流量で徐々に浸透した後に、第１の流量よりも大きな第２の流量で、フィルタ本体６４のほぼ全体に高脱気液が浸透する。そのため、微小気泡を含む大小の気泡をフィルタ本体６４外に排出することができる。
次に、図１２に基づいて、第５のステップについて説明する。制御装置ＣＵは、バルブＶ１５に指示してこの弁を閉塞させ、バルブＶ１２，Ｖ１８に指示してこれらの弁を開放させる。これにより、Ｎ２ガス源からのＮ２ガスは、配管Ｄ１１，Ｄ１３、フィルタ装置Ｆの迂回流路、配管Ｄ１８，Ｄ１７の順に流れて、フィルタ装置Ｆ内を加圧する。そのため、Ｎ２ガスは、フィルタ装置Ｆの迂回流路内に存在する高脱気液を系外（システム外）に排出させる（図１２の矢印Ａｒ８参照）。
次に、図１３に基づいて、第６のステップについて説明する。制御装置ＣＵは、バルブＶ１２，Ｖ１８に指示してこれらの弁を閉塞させ、バルブＶ１３，Ｖ１６に指示してこれらの弁を開放させる。これにより、Ｎ２ガス源からの加圧されたＮ２ガスは、配管Ｄ１６，Ｄ１４、フィルタ装置Ｆの濾過流路、配管Ｄ１３，Ｄ１２の順に流れて、フィルタ装置Ｆ内を加圧する。そのため、Ｎ２ガスは、フィルタ装置Ｆの濾過流路内に存在する高脱気液を系外（システム外）に排出させる（図１３の矢印Ａｒ９参照）。すなわち、本実施形態の第６のステップにおいてＮ２ガスが濾過流路を流れる向きは、第３及び第４のステップにおいて高脱気液が濾過流路を流れる向きと逆である。
次に、図１４に基づいて、第７のステップについて説明する。制御装置ＣＵは、バルブＶ１３，Ｖ１６に指示してこれらの弁を閉塞させ、バルブＶ１１，Ｖ１５に指示してこれらの弁を開放させる。これにより、水系薬液源からの水系薬液は、配管Ｄ１０、脱気モジュールＤＧ、配管Ｄ１３、フィルタ装置Ｆの濾過流路、配管Ｄ１４，Ｄ１５の順に流れる（図１４の矢印Ａｒ１０参照）。第７のステップは、フィルタ本体６４内に残存する高脱気液が、水系薬液によって置換され、フィルタ装置Ｆ内から高脱気液のほとんど又は全部が排出されるまで継続される。なお、第７のステップによる水系薬液のフィルタ本体６４への通液は、第６のステップの後であって、フィルタ本体６４が乾燥する前に行われる。
次に、図１５に基づいて、第８のステップについて説明する。制御装置ＣＵは、バルブＶ１５に指示してこの弁を閉塞させ、バルブＶ１４に指示してこの弁を開放させる。これにより、水系薬液源からの水系薬液は、配管Ｄ１０、脱気モジュールＤＧ、配管Ｄ１３、フィルタ装置Ｆの濾過流路、配管Ｄ１４、ノズルＮの順に流れ（図１５の矢印Ａｒ１１参照）、ノズルＮから水系薬液が吐出される。
以上のような本実施形態では、第３及び第４のステップにおいて、脱気処理された有機系薬液である脱気処理済液（高脱気液）を、フィルタ本体６４を内部に有するフィルタ装置Ｆに供給している。この脱気処理済液は、フィルタ本体６４内に存在する大小の気泡を効果的に捕集する機能を発揮する。そのため、脱気処理済液をフィルタ本体６４に通液させると、脱気処理済液がフィルタ本体６４全体に満遍なく行き渡る。従って、脱気処理済液がフィルタ本体６４の略全体に接する結果、フィルタ本体６４内に含まれる有機物系のパーティクルを効果的に除去することができる。
本実施形態では、第３及び第４のステップに続く第５及び第６のステップにおいて、フィルタ装置Ｆ内に溜まった脱気処理済液を、フィルタ装置Ｆ内から排出している。そのため、脱気処理済液により捕集された有機物系のパーティクルも系外へと排出される。また、フィルタ装置Ｆ内に脱気処理済液が残ったまま、続く第７及び第８のステップにおいて水系薬液をフィルタ本体６４に通液させると、脱気処理済液により捕集されたパーティクルが析出してしまう虞があるが、第５及び第６のステップが実行されることにより、有機物系のパーティクルの析出を極めて抑制できる。
本実施形態では、第５及び第６のステップに続く第７及び第８のステップにおいて、フィルタ本体６４が乾燥する前に、水系薬液をフィルタ装置Ｆに供給している。そのため、フィルタ本体６４が濡れた状態のまま水系薬液がフィルタ本体６４に通液される。従って、水系薬液がフィルタ本体６４に浸透しやすくなるので、無機物系のパーティクルを効果的に除去することができる。以上より、水系薬液のみをフィルタ本体６４に通液させた場合と比較して、フィルタ本体６４内に含まれる大部分のパーティクルを極めて早期に除去することができる。その結果、立ち上がり時間を短縮することが可能となる。
ところで、水系薬液のみをフィルタ本体６４に通液させてフィルタ本体６４からパーティクルを除去しようとする場合を仮定する。フィルタ本体６４には一般に有機物系のパーティクルが含まれているので、水系薬液では有機物系のパーティクルを十分に除去できず、有機物系のパーティクルが水系薬液内に突発的に混入してしまう場合があった。そのため、水系薬液のみをフィルタ本体６４に通液させると、水系薬液内のパーティクルの量が突発的に増減することがあり、処理される基板に不意に欠陥が発生してしまうことがあった。しかしながら、本実施形態では、まず第３及び第４のステップにおいて脱気処理済液をフィルタ本体６４に通液し、その後の第７及び第８のステップにおいて水系薬液をフィルタ本体６４に通液している。そのため、第３及び第４のステップにおいて有機物系のパーティクルがフィルタから十分に除去される。従って、有機物系のパーティクルが水系薬液内に突発的に混入し難くなっている。その結果、突発的に発生する有機物系のパーティクルに起因して基板に欠陥が発生することを大幅に抑制することが可能となる。
このように、本実施形態に係る供給システム２４ａは、フィルタ本体６４内から有機物系及び無機物系のパーティクルを除去するためのフィルタ処理システムとしても機能する。
本実施形態では、第５及び第６のステップでは、Ｎ２ガスでフィルタ装置Ｆ内を加圧し、フィルタ装置Ｆ内から脱気処理済液を排出させている。より詳しくは、第５のステップにおいて、フィルタ装置Ｆの迂回流路内に存在する高脱気液がＮ２ガスによって系外（システム外）に排出される。第６のステップにおいて、フィルタ装置Ｆの濾過流路内に存在する高脱気液がＮ２ガスによって系外（システム外）に排出される。これにより、フィルタ装置Ｆ内からの脱気処理済液の排出促進が図られる。
本実施形態では、第６のステップにおいて、脱気処理済液をフィルタ本体６４に浸透させる場合に脱気処理済液が濾過流路を流れる向きと、Ｎ２ガスをフィルタ本体６４に通過させる場合にＮ２ガスが濾過流路を流れる向きとが、逆になっている。このようにすると、フィルタ装置Ｆの排出口６５ｂ側におけるフィルタ本体６４の孔径がフィルタ装置Ｆの導入口６５ａ側におけるフィルタ本体６４の孔径よりも小さいときに、フィルタ本体６４の孔径が小さい側から大きい側へと高脱気液がＮ２ガスにより押し出される。そのため、排出しようとする脱気処理済液が円滑にフィルタ本体６４内を流通する。従って、フィルタ装置Ｆ内からの高脱気液の排出がより促進される。なお、フィルタ本体６４の孔径が全体的に均一である場合には、脱気処理済液をフィルタ本体６４に浸透させる場合に脱気処理済液が濾過流路を流れる向きと、Ｎ２ガスをフィルタ本体６４に通過させる場合にＮ２ガスが濾過流路を流れる向きとが同じであってもよい。
以上、本発明の実施形態について詳細に説明したが、本発明は上記した実施形態に限定されるものではない。以下に、上記の本実施形態の第１変形例〜第４変形例について説明する。
（第１変形例）
第１変形例では、上記の実施形態に係る供給システム２４ａ（図５参照）が備えるフィルタ処理機能を、フィルタ処理システム１００Ａとして独立させている。具体的には、図１６（ａ）に示されるように、第１変形例に係るフィルタ処理システム１００Ａは、ノズルＮ及びバルブＶ１４が存在していない点と、配管Ｄ１４の下流端が配管Ｄ１５の上流端に直接接続されている点とで、図５の供給システム２４ａと異なる。一方、図１６（ｂ）に示されるように、第１変形例に係る供給システム１００Ｂは、水系薬液をノズルＮに供給する機能のみを有する。すなわち、第１変形例に係る供給システム１００Ｂは、上流端が水系薬液源に接続されると共に下流端がノズルＮに接続された配管Ｄ１９上に、上流側から順に、バルブＶ１１、レギュレータＲ６、圧力計Ｍ５、脱気モジュールＤＧ、流量計ＦＭ１及びバルブＶ１４が設けられて構成されている。
第１変形例に係るフィルタ処理システム１００Ａ及び供給システム１００Ｂの動作について説明する。まず、フィルタ処理システム１００Ａにおいて上記の実施形態の第１〜第７のステップが行われ、フィルタ本体６４内から有機物系及び無機物系のパーティクルが除去される（パーティクルのパージ処理）。その後、パーティクルのパージ処理が行われたフィルタ装置Ｆを供給システム１００Ｂの配管Ｄ１９上に設置し、フィルタ装置Ｆを介して水系薬液をノズルＮから吐出させる。
（第２変形例）
第１変形例では高脱気液をポンプ装置Ｐ及びその周辺装置を用いて製造していたが、第２変形例では、脱気モジュールＤＧによって高脱気液を製造している点が、第１変形例と異なる。具体的には、第２変形例に係るフィルタ処理システム２００Ａにおいては、図１７（ａ）に示されるように、配管Ｄ１の下流端が配管Ｄ１３の上流端に直接接続されている。配管Ｄ１上には、上流側から順に、バルブＶ１、レギュレータＲ１、圧力計Ｍ１及び脱気モジュールＤＧが設けられている。一方、図１７（ｂ）に示されるように、供給システム２００Ｂの構成は第１変形例の供給システム１００Ｂと同じである。第２変形例に係るフィルタ処理システム２００Ａ及び供給システム２００Ｂの動作は、第１変形例に係るフィルタ処理システム１００Ａ及び供給システム１００Ｂの動作と同じである。
（第３変形例）
図１８に示されるように、第３変形例に係る供給システム２４ａでは、図５に示される供給システム２４ａが配管Ｄ１１，Ｄ１２及びバルブＶ１２，Ｖ１３を備えていない点が異なる。すなわち、第３変形例に係る供給システム２４ａでは、上記の実施形態において第５及び第６のステップに相当する、フィルタ装置Ｆ内からの脱気処理済液の排出を、ポンプ装置Ｐによって実行している点が異なる。
第３変形例に係る供給システム２４ａの動作について説明する。第１〜第４のステップについては、上記の本実施形態に係る供給システム２４ａの動作と同様である。すなわち、第１のステップでは、エジェクタＥを用いて、有機系薬液が有機系薬液源から脱気ノズル５２ａを介してベローズポンプ５３内に導入される（図１９の矢印Ａｒ１２〜Ａｒ１４参照）。次に、第１のステップに続く第２のステップでは、脱気処理により有機系薬液から分離された気体と共に一部の脱気処理済液が、ベローズポンプ５３から配管Ｄ８を通じて系外（システム外）に排出される（図１９の矢印Ａｒ１５参照）。
次に、第２のステップに続く第３のステップでは、脱気処理済液が、ポンプ装置Ｐの排出口５２ｂから、配管Ｄ９，Ｄ１３、フィルタ装置Ｆの迂回流路、配管Ｄ１８，Ｄ１７の順に流されて、系外（システム外）に排出される（図２０の矢印Ａｒ１６，Ａｒ１７参照）。次に、第３のステップに続く第４のステップでは、脱気処理済液が、ポンプ装置Ｐの排出口５２ｂから、配管Ｄ９，Ｄ１３、フィルタ装置Ｆの濾過流路、配管Ｄ１３〜Ｄ１５の順に流されて、系外（システム外）に排出される（図２１の矢印Ａｒ１８参照）。
次に、図２２に基づいて、第４のステップに続く第４のステップに続く第９のステップについて説明する。制御装置ＣＵは、バルブＶ５，Ｖ１４に指示してこれらの弁を閉塞させ、バルブＶ６，Ｖ８，Ｖ１６に指示してこれらの弁を開放させる。これにより、Ｎ２ガス源がポンプ装置Ｐのベローズポンプ５３と流体的に連通する。また、空気源からの空気が配管Ｄ４、エジェクタＥ及び配管Ｄ６の順に流れ（図２２の矢印Ａｒ１９参照）、エジェクタＥの接続部において負圧が発生する。そのため、エジェクタＥの接続部に接続された配管Ｄ７を介して、ポンプ装置Ｐのガス室Ｃ２内が減圧され（図２２の矢印Ａｒ２０参照）、ピストン板５３ａが筐体５１の底壁５１ｂ側に引き寄せされる。従って、ベローズポンプ５３の容積が拡大され、フィルタ装置Ｆ内が減圧される。その結果、フィルタ装置Ｆ及び排出口５２ｂを介して、Ｎ２ガス源からＮ２ガスがベローズポンプ５３内に導入される（図２２の矢印Ａｒ２１参照）。こうして、ポンプ装置ＰによってＮ２ガスが強力に吸引され、Ｎ２ガスがフィルタ装置Ｆ内を強制的に流れる。その結果、フィルタ装置Ｆの迂回流路内及び濾過流路内に存在する高脱気液がベローズポンプ５３内に集められる（図２２の矢印Ａｒ２１参照）。
次に、図２３に基づいて、第９のステップに続く第１０のステップについて説明する。制御装置ＣＵは、バルブＶ６，Ｖ８，Ｖ１６に指示してこれらの弁を閉塞させ、バルブＶ４，Ｖ９に指示してこれらの弁を開放させる。これにより、Ｎ２ガス源からのＮ２ガスが配管Ｄ２を流れ（図２３の矢印Ａｒ２２参照）、ポンプ装置Ｐのガス室Ｃ２内が加圧され、ピストン板５３ａが蓋体５２側に押し出される。従って、ベローズポンプ５３内に集められた高脱気液は、ポンプ装置Ｐの排液口５２ｃから排出され、配管Ｄを介して系外（システム外）に排出される（図２３の矢印Ａｒ２３参照）。
続くステップについては、上記の本実施形態に係る供給システム２４ａの第７及び第８のステップと同様である。すなわち、第１０のステップに続く第７のステップでは、水系薬液源からの水系薬液が、配管Ｄ１０、脱気モジュールＤＧ、配管Ｄ１３、フィルタ装置Ｆの濾過流路、配管Ｄ１４，Ｄ１５の順に流される（図２４の矢印Ａｒ２４参照）。次に、第７のステップに続く第８のステップでは、水系薬液源からの水系薬液が、配管Ｄ１０、脱気モジュールＤＧ、配管Ｄ１３、フィルタ装置Ｆの濾過流路、配管Ｄ１４、ノズルＮの順に流され（図２５の矢印Ａｒ２５参照）、ノズルＮから水系薬液が吐出される。
（第４変形例）
第４変形例では、第３変形例に係る供給システム２４ａが備えるフィルタ処理機能を、フィルタ処理システム３００Ａとして独立させている。具体的には、図２６（ａ）に示されるように、第４変形例に係るフィルタ処理システム３００Ａは、ノズルＮ及びバルブＶ１４が存在していない点と、配管Ｄ１４の下流端が配管Ｄ１５の上流端に直接接続されている点とで、第３変形例に係る供給システム２４ａと異なる。一方、図２６（ｂ）に示されるように、第４変形例に係る供給システム３００Ｂは、水系薬液をノズルＮに供給する機能のみを有しており、第１変形例に係る供給システム１００Ｂと同じ構成である。すなわち、第４変形例に係る供給システム３００Ｂは、上流端が水系薬液源に接続されると共に下流端がノズルＮに接続された配管Ｄ１９上に、上流側から順に、バルブＶ１１、レギュレータＲ６、圧力計Ｍ５、脱気モジュールＤＧ、流量計ＦＭ１及びバルブＶ１４が設けられて構成されている。
第４変形例に係るフィルタ処理システム３００Ａ及び供給システム３００Ｂの動作について説明する。まず、フィルタ処理システム３００Ａにおいて第３変形例の第１〜第４、第９、第１０、第７、第８のステップがこの順に行われ、フィルタ本体６４内から有機物系及び無機物系のパーティクルが除去される（パーティクルのパージ処理）。その後、パーティクルのパージ処理が行われたフィルタ装置Ｆを供給システム３００Ｂの配管Ｄ１９上に設置し、フィルタ装置Ｆを介して水系薬液をノズルＮから吐出させる。
以上の説明では、有機系薬液が脱気された脱気処理済液（高脱気液）をフィルタ装置Ｆ内に流通させた後、Ｎ２ガスでフィルタ装置Ｆ内の脱気処理済液を押し出したり、ポンプ装置Ｐでフィルタ装置Ｆ内の脱気処理済液を吸引したりして、脱気処理済液をフィルタ装置Ｆ内から排出していた。しかしながら、フィルタ装置Ｆ内から脱気処理済液を排出する方法はこれに限られない。例えば、作業者や作業装置がフィルタ装置Ｆの上下をひっくり返すことによって、フィルタ装置Ｆ内から脱気処理済液を排出してもよい。
上記の実施形態及び各変形例において、フィルタ装置Ｆに供給される前に、有機系薬液及び水系薬液の少なくとも一方が脱気処理されていてもよいし、双方とも脱気処理されていなくてもよい。すなわち、脱気処理されていない有機系薬液がフィルタ装置Ｆに供給されてもよいし、脱気処理されていない水系薬液がフィルタ装置Ｆに供給されてもよい。
続いて、本発明に係るフィルタ処理装置を用いた場合にフィルタ装置の立ち上がり時間を短縮できることを確認するため、実施例１及び比較例１，２の実験を行った。比較例１では、新品のフィルタ装置に対する前処理として、新品のフィルタ装置の濾過流路に、５Ｌの純水を１０００ｍＬ／ｍｉｎの流量で通液させた。比較例２では、新品のフィルタ装置に対する前処理として、新品のフィルタ装置の迂回流路に、脱気処理された純水を６０ｍＬ／ｍｉｎの流量で２００ｍＬ通液させ、さらに当該フィルタの濾過流路に、脱気処理された純水を７５ｍＬ／ｍｉｎの流量で４８００ｍＬ通液させた。これに対し、実施例１では、新品のフィルタ装置に対する前処理として、新品のフィルタ装置の迂回流路に、脱気処理されたシンナーを６０ｍＬ／ｍｉｎの流量で２００ｍＬ通液させ、さらに当該フィルタの濾過流路に、脱気処理されたシンナーを７５ｍＬ／ｍｉｎの流量で４８００ｍＬ通液させた。実施例１及び比較例１，２においていずれも、新品のフィルタ装置の前処理の後、フィルタ装置を介して純水をノズルから吐出させた。
図２７に、実施例１及び比較例１，２のそれぞれについて、フィルタ装置への純水通液量と、ノズルから吐出されたパーティクルの数との関係を、フィルタ装置を介して純水をノズルから吐出させてから測定した結果を示す。そして当該結果から、フィルタ装置の立ち上げに要する純水通液量を求めた。具体的には、まず、所定範囲の通液量ごとに群（グループ）を設定し、パーティクルの数の変動値（すなわち、平均値）を各群において算出した。次に、各群における当該変動値に基づいて一元配置の分散分析を行い、有意差の有無を判断した。その結果、有意差なしと判断された場合に、フィルタ装置の立ち上げが完了したと結論づけた。
比較例１では、純水通液量が７５Ｌ以降の場合に、隣り合う群間に有意差が生じなかった。そのため、フィルタ装置が立ち上がるまでに要する純水通液量は少なくとも７５Ｌであり、フィルタ装置の立ち上げに長時間を要することが確認された。比較例２では、純水通液量が５Ｌ以降の場合に、隣り合う群間に有意差が生じなかった。そのため、フィルタ装置が立ち上がるまでに要する純水通液量は少なくとも５Ｌであり、フィルタ装置の立ち上げが極めて短時間であることが確認された。比較例２においてこのような短時間のフィルタ装置の立ち上げが可能となったのは、脱気処理された純水を用いたこと、及び、フィルタ装置の前処理時に、脱気処理された純水をフィルタ装置の迂回流路及び濾過流路のそれぞれに低流量で通液したことによるものと考えられる。しかしながら、図２８に示されるように、比較例１，２においては共に、高い割合で突発パーティクルが発生した。
一方、実施例１では、純水通液量が２５Ｌ以降の場合に、隣り合う群間に有意差が生じなかった。そのため、フィルタ装置が立ち上がるまでに要する純水通液量は少なくとも２５Ｌであり、実施例１では、比較例２ほどではないものの、フィルタ装置の立ち上げが非常に短時間であることが確認された。実施例１においてこのような短時間のフィルタ装置の立ち上げが可能となったのは、比較例２と同様に、脱気処理されたシンナーを用いたこと、及び、フィルタ装置の前処理時に、脱気処理されたシンナーをフィルタ装置の迂回流路及び濾過流路のそれぞれに低流量で通液したことによるものと考えられる。さらに、実施例１では、純水通液量が６０Ｌを超えて多くなった場合、ノズルから吐出されるパーティクルの数が３０個を下回ることが確認された。特に、純水通液量が２００Ｌの場合、パーティクルの数が１０個程度となった。しかも、図２８に示されるように、実施例１では、突発パーティクルがほとんど発生しなかった。
ここで、１条件につき２枚の基板を作成している場合について、突発パーティクルの例を図２９に示す。図２９に示される例では、純水通液量が１０Ｌ、１５Ｌのときには突発パーティクルが発生しなかったが（図２９（ｂ），（ｃ）参照）、純水通液量が５Ｌ、２５Ｌ、５０Ｌのときに突発パーティクルが発生した（図２９（ａ），（ｄ），（ｅ）参照）。加えて、純水通液量が５Ｌ、２５Ｌ（図２９（ａ），（ｄ）参照）の場合には２枚目の基板に突発パーティクルが発生したのに対し、純水通液量が５０Ｌの場合には１枚目の基板に突発パーティクルが発生した（図２９（ｅ）参照）。これらの結果から、突発パーティクルが、純水通液量が初期の段階でのみ発生しているわけではないことと、必ずしも１枚目の基板に発生しているわけではないこととが確認された。従って、［ｉ］突発パーティクルは、ノズルの汚れ等に起因するものではないと推察される。また、［ｉｉ］突発パーティクルは、純水などの水系薬液をフィルタ装置に通液させたときに見られる現象であるが、シンナーなどの有機系薬液をフィルタ装置に通液させたときにはほとんど見られない現象であった。以上の［ｉ］，［ｉｉ］より、突発パーティクルの発生は、純水では除去しきれない有機物系のパーティクルが主要因であると推察される。
１…塗布・現像装置、２４ａ…供給システム、５１…筐体、５２ａ…脱気ノズル、５３…ベローズポンプ、６２…フィルタ、６４…フィルタ本体、ＣＵ…制御装置、Ｄ１〜Ｄ１８…配管、Ｅ…エジェクタ、Ｆ…フィルタ装置、Ｐ…ポンプ装置、Ｒ１〜Ｒ５…レギュレータ、Ｕ１…現像処理ユニット、Ｖ１〜Ｖ１９…バルブ、Ｗ…ウエハ（基板）。

Claims (12)

  1. 有機溶剤を主溶媒とする薬液である有機系薬液が脱気処理された脱気処理済液を、フィルタを内部に有するフィルタ装置に供給する第１のステップと、
    前記第１のステップの後、前記フィルタ内が前記脱気処理済液で濡れた状態を維持しつつ、前記フィルタ装置内に溜まった前記脱気処理済液を前記フィルタ装置内から排出する第２のステップと、
    前記第２のステップの後で且つ前記フィルタ内が前記脱気処理済液で濡れたままで乾燥する前に、水を主溶媒とする薬液である水系薬液を前記フィルタ装置に供給する第３のステップとを含み、
    前記第１のステップでは、前記フィルタ装置に前記脱気処理済液を第１の流量で且つ第１の時間が経過するまで供給した後に、前記フィルタ装置に前記脱気処理済液を前記第１の流量よりも大きい第２の流量で且つ前記第１の時間よりも長い第２の時間が経過するまで供給する、フィルタ処理方法。
  2. 前記第２のステップでは、前記フィルタ装置内を加圧することにより、前記フィルタ装置内から前記脱気処理済液を排出する、請求項１に記載のフィルタ処理方法。
  3. 前記フィルタ装置は、前記フィルタを挟んで濾過流路を構成する入口部及び出口部と、前記入口部との間で前記フィルタを通過しない迂回流路を構成する排出口部とを有し、
    前記第２のステップでは、
    前記入口部及び前記排出口部のうち一方から他方に向けて気体を流通させる第１のサブステップと、
    前記入口部及び前記出口部のうち一方から他方に向けて気体を流通させる第２のサブステップと
    により、前記フィルタ装置内から前記脱気処理済液を排出する、請求項２に記載のフィルタ処理方法。
  4. 前記第２のサブステップでは、前記出口部から前記入口部に向けて気体を流通させる、請求項３に記載のフィルタ処理方法。
  5. 前記第２のステップでは、前記フィルタ装置内を減圧することにより、前記フィルタ装置内から前記脱気処理済液を排出する、請求項１に記載のフィルタ処理方法。
  6. 前記水系薬液は、前記フィルタ装置に供給される前に脱気処理されている、請求項１〜５のいずれか一項に記載のフィルタ処理方法。
  7. フィルタを内部に有すると共に、前記フィルタを挟んで濾過流路を構成する入口部及び出口部と、前記入口部との間で前記フィルタを通過しない迂回流路を構成する排出口部とを有するフィルタ装置と、
    有機溶剤を主溶媒とする薬液である有機系薬液が脱気処理された脱気処理済液を前記入口部に導入する第１の導入部と、
    水を主溶媒とする薬液である水系薬液を前記入口部に導入する第２の導入部と、
    前記フィルタ装置内を加圧する加圧部と、
    前記第１の導入部、前記第２の導入部及び前記加圧部の動作を制御する制御部とを備え、
    前記制御部は、
    前記第１の導入部を制御して、前記フィルタ装置に前記脱気処理済液を導入させる、第１の制御と、
    前記第１の制御の後に、前記加圧部を制御して前記フィルタ装置内を加圧することにより、前記フィルタ内が前記脱気処理済液で濡れた状態を維持しつつ、前記フィルタ装置内に溜まった前記脱気処理済液を前記フィルタ装置内から排出させる、第２の制御と、
    前記第２の制御の後で且つ前記フィルタ内が前記脱気処理済液で濡れたままで乾燥する前に、前記第２の導入部を制御して、前記水系薬液を前記フィルタ装置に供給する第３の制御とを行い、
    前記第１の制御では、前記制御部が前記第１の導入部を制御して、前記フィルタ装置に前記脱気処理済液を第１の流量で且つ第１の時間が経過するまで導入させた後に、前記フィルタ装置に前記脱気処理済液を前記第１の流量よりも大きい第２の流量で且つ前記第１の時間よりも長い第２の時間が経過するまで導入させる、フィルタ処理システム。
  8. 前記制御部は、前記第２の制御において、
    前記入口部及び前記排出口部のうち一方から他方に向けて気体を流通させる第１の副制御と、
    前記入口部及び前記出口部のうち一方から他方に向けて気体を流通させる第２の副制御とを前記加圧部に行わせることにより、前記フィルタ装置内から前記脱気処理済液を排出させる、請求項７に記載のフィルタ処理システム。
  9. 前記制御部は、前記第２の副制御において前記加圧部を制御して、前記出口部から前記入口部に向けて気体を流通させる、請求項８に記載のフィルタ処理システム。
  10. フィルタを内部に有すると共に、前記フィルタを挟んで濾過流路を構成する入口部及び出口部と、前記入口部との間で前記フィルタを通過しない迂回流路を構成する排出口部とを有するフィルタ装置と、
    有機溶剤を主溶媒とする薬液である有機系薬液が脱気処理された脱気処理済液を前記入口部に導入する第１の導入部と、
    水を主溶媒とする薬液である水系薬液を前記入口部に導入する第２の導入部と、
    前記フィルタ装置内を減圧する減圧部と、
    前記第１の導入部、前記第２の導入部及び前記減圧部の動作を制御する制御部とを備え、
    前記制御部は、
    前記第１の導入部を制御して、前記フィルタ装置に前記脱気処理済液を導入させる、第１の制御と、
    前記第１の制御の後に、前記減圧部を制御して前記フィルタ装置内を減圧することにより、前記フィルタ内が前記脱気処理済液で濡れた状態を維持しつつ、前記フィルタ装置内に溜まった前記脱気処理済液を前記フィルタ装置内から排出させる、第２の制御と、
    前記第２の制御の後で且つ前記フィルタ内が前記脱気処理済液で濡れたままで乾燥する前に、前記第２の導入部を制御して、前記水系薬液を前記フィルタ装置に供給する第３の制御とを行い、
    前記第１の制御では、前記制御部が前記第１の導入部を制御して、前記フィルタ装置に前記脱気処理済液を第１の流量で且つ第１の時間が経過するまで導入させた後に、前記フィルタ装置に前記脱気処理済液を前記第１の流量よりも大きい第２の流量で且つ前記第１の時間よりも長い第２の時間が経過するまで導入させる、フィルタ処理システム。
  11. フィルタを内部に有すると共に、前記フィルタを挟んで濾過流路を構成する入口部及び出口部と、前記入口部との間で前記フィルタを通過しない迂回流路を構成する排出口部とを有するフィルタ装置と、
    有機溶剤を主溶媒とする薬液である有機系薬液が脱気処理された脱気処理済液を前記入口部に導入する第１の導入部と、
    水を主溶媒とする薬液である水系薬液を前記入口部に導入する第２の導入部と、
    前記フィルタ装置内を加圧する加圧部と、
    前記第１の導入部、前記第２の導入部及び前記加圧部の動作を制御する制御部とを備えるフィルタ処理システムの前記制御部を制御するプログラムを記録した、コンピュータ読み取り可能な記録媒体であって、
    前記プログラムは、前記制御部に、
    前記第１の導入部を制御して、前記フィルタ装置に前記脱気処理済液を導入させる、第１のステップと、
    前記第１のステップの後に、前記加圧部を制御して前記フィルタ装置内を加圧することにより、前記フィルタ内が前記脱気処理済液で濡れた状態を維持しつつ、前記フィルタ装置内に溜まった前記脱気処理済液を前記フィルタ装置内から排出させる、第２のステップと、
    前記第２のステップの後で且つ前記フィルタ内が前記脱気処理済液で濡れたままで乾燥する前に、前記第２の導入部を制御して、前記水系薬液を前記フィルタ装置に供給する第３のステップとを実行させ、
    前記第１のステップでは、前記プログラムに基づいて前記制御部が前記第１の導入部を制御して、前記フィルタ装置に前記脱気処理済液を第１の流量で且つ第１の時間が経過するまで導入させた後に、前記フィルタ装置に前記脱気処理済液を前記第１の流量よりも大きい第２の流量で且つ前記第１の時間よりも長い第２の時間が経過するまで導入させる、コンピュータ読み取り可能な記録媒体。
  12. フィルタを内部に有すると共に、前記フィルタを挟んで濾過流路を構成する入口部及び出口部と、前記入口部との間で前記フィルタを通過しない迂回流路を構成する排出口部とを有するフィルタ装置と、
    有機溶剤を主溶媒とする薬液である有機系薬液が脱気処理された脱気処理済液を前記入口部に導入する第１の導入部と、
    水を主溶媒とする薬液である水系薬液を前記入口部に導入する第２の導入部と、
    前記フィルタ装置内を減圧する減圧部と、
    前記第１の導入部、前記第２の導入部及び前記減圧部の動作を制御する制御部とを備えるフィルタ処理システムの前記制御部を制御するプログラムを記録した、コンピュータ読み取り可能な記録媒体であって、
    前記プログラムは、前記制御部に、
    前記第１の導入部を制御して、前記フィルタ装置に前記脱気処理済液を導入させる、第１のステップと、
    前記第１のステップの後に、前記減圧部を制御して前記フィルタ装置内を減圧することにより、前記フィルタ内が前記脱気処理済液で濡れた状態を維持しつつ、前記フィルタ装置内に溜まった前記脱気処理済液を前記フィルタ装置内から排出させる、第２のステップと、
    前記第２のステップの後で且つ前記フィルタ内が前記脱気処理済液で濡れたままで乾燥する前に、前記第２の導入部を制御して、前記水系薬液を前記フィルタ装置に供給する第３のステップとを実行させ、
    前記第１のステップでは、前記プログラムに基づいて前記制御部が前記第１の導入部を制御して、前記フィルタ装置に前記脱気処理済液を第１の流量で且つ第１の時間が経過するまで導入させた後に、前記フィルタ装置に前記脱気処理済液を前記第１の流量よりも大きい第２の流量で且つ前記第１の時間よりも長い第２の時間が経過するまで導入させる、コンピュータ読み取り可能な記録媒体。
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