JP6020359B2 - 半導体基板の評価方法 - Google Patents
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Description
この界面準位密度の測定にはいくつかの方法が知られており、特許文献1には、インラインでの評価を念頭においたPL(Photoluminescence)を用いて、界面準位密度を測定する方法なども提案されている。本方法は素子を作製する必要がないことが特徴であるが、一方でルミネッセンス法を使用することから必ずしも一般的、汎用的ではない。
このC−V法には、半導体基板に酸化膜を形成し、この酸化膜の上にAlやポリシリコンなどの金属電極を形成し、この電極に電圧を印加して測定する手法以外に、金属電極の代わりに水銀のような液体金属を使用する方法や、直接MOS構造の酸化膜に電極を接触させることなく空気を介して測定する方法、さらには電圧印加の変わりにコロナチャージのような電荷を酸化膜に載せることで界面準位密度を測定する方法がある。
しかしながら、この方法では、MOSFET構造の素子を作製することが必要であることや、基板電流を測定することから、適用されるデバイス構造に制限があり必ずしも万能ではない。
また、測定に際しては、ゲート電圧を変化させるためパルスジェネレータを必要とし、測定系の組み立てには経験が必要である。
この方法は、これはSOIの支持基板を電極、BOX層をゲート酸化膜にみたてて、BOX層とSOI層との界面に流れるサブスレッショルド電流から界面準位密度を求める方法である。
また、サブスレッショルド電流の流れやすさ、すなわち電圧に対する電流値の増加量から算出するため、絶縁膜のリークの影響を受けづらいという特徴がある。
このように、絶縁膜をマスクとして、第二導電型の不純物を半導体基板内に導入して、第一の拡散層及び第二の拡散層、すなわち、ソース・ドレインを形成することで、評価構造作製工程をより簡略化することができる。
このように、タングステンプローブを第一の拡散層及び第二の拡散層、すなわち、ソース・ドレインに接触させて、ソース・ドレイン間に流れる電流値を測定することで、より簡便に界面準位密度を測定することができる。
このように、半導体基板をシリコン基板とし、絶縁膜を酸化シリコン膜とすることで、シリコン基板を用いたデバイスに関する界面準位密度の測定が可能になる。
このように、絶縁膜をシリコン基板である半導体基板を熱酸化することにより形成することで、実デバイスにより近い界面準位密度の測定が可能になる。
前述のように、Pseudo−MOSFET法をMOSFETに適用した方法では、ゲート酸化膜上に金属電極を必要とし、さらにサブスレッショルド電流から界面準位密度を求めるためソース・ドレインを必要とするため、測定構造を作りこむためには、最低でも2回のフォトリソグラフィー工程(ゲート金属電極形成用、ソース・ドレイン形成用)及び電極加工工程が必要となり、測定構造を準備するのに、かなりの時間と工数が要求されるという問題点があり、改善の余地があった。
その結果、ゲート電極を形成せずに、絶縁膜のみを形成し、この絶縁膜上にコロナチャージにより電荷を載せることで、ゲート電極に電圧を印加した場合と同じ効果、すなわち絶縁膜直下にチャネルを形成することができ、ゲート電極の形成が不要となることを見出し、本発明をなすに至った。
図1は、本発明の半導体基板の評価方法を示すフローである。
図2は、本発明の半導体基板の評価に用いる測定素子の断面図を示す図である。
まず、第一導電型の半導体基板1上に、絶縁膜4を形成する(図1のステップS11を参照)。
具体的には、例えば、ボロンをドープしたP型シリコン基板1上に、900℃の乾燥酸素雰囲気で熱酸化を行い、10nmの酸化シリコンからなる絶縁膜4を基板表面の全面に形成する。
この絶縁膜4は、ゲート酸化膜と、後述する拡散工程での拡散マスクの両方を兼ねる。
具体的には、例えば、フォトリソグラフィー工程及び絶縁膜のエッチング工程により、ゲート酸化膜となる領域の絶縁膜4のみを残し、ソース・ドレインとなる領域の絶縁膜の窓開けを行う。
なお、絶縁膜のエッチング工程において、酸化シリコン膜は、フッ酸を用いたウエットエッチングにより、除去することができる。
具体的には、例えば、700℃で30分間、POCl3をp型シリコン基板1の表面にデポした後に、1000℃で30分間、窒素雰囲気下でアニールして、n型不純物であるリンをp型シリコン基板1内に拡散させ、高濃度拡散層6(ソース拡散層(第一拡散層)6’及びドレイン拡散層(第二拡散層2)6”)を形成する。
具体的には、例えば、ゲート酸化膜4の直下のp型シリコン基板1を空乏化/反転するように、プラスの電荷をコロナチャージ5によりゲート酸化膜4上に載せる。
なお、コロナチャージ5によりゲート酸化膜4上に載せる電荷のプラス/マイナスは、半導体基板の導電型に依存し、半導体基板がn型の場合にはマイナスの電荷になり、半導体基板がp型の場合にはプラスの電荷になる。
具体的には、例えば、コロナチャージによりゲート酸化膜4上に載せた電荷量を変化させながら、アジレントテクノロジー社製半導体パラメータアナライザB1500のグランド端子びSMU端子を、タングステンプローブを用いて、ソース拡散層6’及びドレイン拡散層6”にそれぞれ接続し、流れる電流値をモニタリングする。
具体的には、例えば、ゲート酸化膜4に載せるコロナチャージ5の量が増えるに従って、ゲート酸化膜4直下にチャネルが形成され、サブスレッショルド電流が増加していく。この増加量の傾きから、界面準位密度を計算することができる。
例えば、界面準位密度Ditは、以下に示す式(1)から求めることが出来る。
半導体基板として、ボロンをドープしたp型で抵抗率10Ωcmの直径200mmのシリコンウェーハを用いて、図1のステップS11〜ステップS13の工程により、図2に示すような測定素子を作製した。
なお、ゲート酸化膜4の面積は4mm2とした。
ゲート酸化膜4上にコロナチャージを行いながら、ソース電極2とドレイン電極3との間を流れる電流値をモニターした。測定結果を図3に示す。
図3に示されるI−Qカーブのサブスレッショルド領域の傾きから、式(1)により界面準位密度Ditを計算すると、Dit=8.9×1011cm−2eV−1であった。
このときのI−Qカーブを図4に示す。図4においては、図3と比べて、I−Qカーブのサブスレッショルド領域の傾きが大きくなっており、界面準位密度が低減したことを示している。
すなわち、水素雰囲気でのアニールによりシリコンとシリコン酸化膜との界面のダングリングボンドが終端されることで、界面準位密度が低下したことになる。
なお、このときの界面準位密度Ditの算出値は、Dit=2.3×1010cm−2eV−1であった。
このように、上記の評価方法によりシンター処理による界面準位密度の変化を捉えており、妥当な評価が行われていることがわかる。
実施例1と同様にして測定素子を作製した。ただし、比較例1では、図5に示すように、ゲート酸化膜4上にCVDによりリンをドープしたポリシリコンを形成し、これをパターン形成して、ゲート金属電極7とし、MOSキャパシタを作製した。
なお、このポリシリコンの厚さはおよそ300nm、リンドープ量はシート抵抗にして25Ω/sq.程度となるようにした。
また、ゲート金属電極7のパターン形成は、フォトリソグラフィー工程及びエッチング工程により行った。エッチング工程においては、フッ硝酸を用いたウエットエッチングによりポリシリコンを除去した。
さらに、ゲート金属電極7のパターン形成後に、ゲート金属電極7の周辺にリンをイオン注入した。その後、1000℃の窒素雰囲気下で10分間アニールし、高濃度拡散層6(ソース拡散層6’及びドレイン拡散層6”)を形成し、MOSFETを完成させた。
なお、ゲート酸化膜4(すなわち、ゲート金属電極7)の面積は、実施例1と同様に4mm2とした。
図6に示されるI−Vカーブのサブスレッショルド領域の傾きから界面準位密度Ditを計算すると、Dit=8.6×1011cm−2eV−1であった。
このときのI−Vカーブを図7に示す。図7においては、図6と比べて、I−Vカーブのサブスレッショルド領域の傾きが大きくなっており、界面準位密度が低減したことを示している。
すなわち、水素雰囲気でのアニールによりシリコンとシリコン酸化膜との界面のダングリングボンドが終端されることで、界面準位密度が低下し、このときの界面準位密度Ditの算出値は、Dit=4.3×1010cm−2eV−1であった。
この結果から分かるように、比較例1は、本発明の実施例1と比較して同様の界面準位密度の数値を示しており、本発明の評価方法が妥当であることを示している。
なお、比較例1では金属電極形成工程が必要であり、またゲート電圧印加に伴うドレイン電流の測定を行うため、測定器にもシステム化が必要である。
一方、本発明であれば、金属電極形成が不要であり、また、ソース・ドレイン間の電流をモニターするだけで測定が可能であり、電流測定装置を安価でかつ汎用性の高いものとすることができる。
半導体基板として、ボロンをドープしたp型で抵抗率10Ωcmの直径200mmのシリコンウェーハを用いた。
図8に示すように、この半導体基板1に900℃の乾燥酸素雰囲気でゲート酸化を行い、10nmのゲート酸化膜4を形成することで、測定構造を作製した。
非特許文献1に記載の方法を参考に、ゲート酸化膜4上にコロナチャージ5を載せ、ケルビンプローブにより表面電荷変化を測定することで、C−Qカーブを取得し、界面準位密度Ditを測定した。
しかしながら、酸化膜品質が良くなかったり、ウェーハ表面上に異物が存在したりするような場合、すなわち酸化膜にリークが存在する場合には表面状態の変化が大きくなり、測定値が不安定となり界面準位密度の算出が難しくなって、今回は界面準位密度の数値を得ることができなかった。
4…絶縁膜、ゲート酸化膜、 5…コロナチャージ、 6…高濃度拡散層、
6’…ソース拡散層(第一拡散層)、 6”…ドレイン拡散層(第二拡散層)、
7…ゲート金属電極。
Claims (6)
- 半導体と絶縁膜との界面の界面準位密度測定による半導体基板の評価方法であって、
第一導電型の半導体基板上に絶縁膜を形成する工程と、
前記絶縁膜の一部を除去する工程と、
前記絶縁膜によって覆われていない領域に、第二導電型の第一拡散層と、前記第一の拡散層と前記絶縁膜によって分離されている第二導電型の第二拡散層とを形成する工程と、
前記絶縁膜上にコロナチャージにより所定の電荷面密度を有する電荷を載せることで、前記絶縁膜直下に第二導電型のチャネルを形成する工程と、
前記チャネルを介して前記第一拡散層と前記第二拡散層との間に流れる電流値を測定する工程と、
前記電流値と前記電荷面密度との関係に基づいて、前記界面準位密度を算出する工程と
を有することを特徴とする半導体基板の評価方法。 - 前記第二導電型のチャネルを形成する工程において、前記絶縁膜上に載せる電荷の前記電荷面密度量を変化させ、
前記電流値を測定する工程において、I−Qカーブを求め、
前記界面準位密度を算出する工程において、前記I−Qカーブのサブスレッショルド領域の傾きから前記界面準位密度を算出することを特徴とする請求項1に記載の半導体基板の評価方法。 - 前記第一の拡散層及び前記第二の拡散層を形成する工程は、前記絶縁膜をマスクとして、第二導電型の不純物を前記半導体基板内に導入する段階を含むことを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の半導体基板の評価方法。
- 前記電流値を測定する工程は、タングステンプローブを前記第一の拡散層及び前記第二の拡散層に接触させる段階を含むことを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれか一項に記載の半導体基板の評価方法。
- 前記半導体基板がシリコンからなり、前記絶縁膜が酸化シリコンからなることを特徴とする請求項1乃至請求項4のいずれか一項に記載の半導体基板の評価方法。
- 前記絶縁膜が、前記半導体基板を熱酸化することにより形成される請求項5に記載の半導体基板の評価方法。
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