JP6018429B2 - 光ファイバの解析装置および光ファイバの解析方法 - Google Patents
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Description
図1は、本発明の実施の形態1に係る光ファイバの解析装置51の構成を示した図である。図1を参照して、解析装置51は、パルス光源2と、偏波コントローラ3と、光サーキュレータ4と、偏波解析器5と、信号処理部6と、出力部7とを備える。
なお、ストークスパラメータの算出方法については、公知の方法を適用可能であるので詳細な説明はここでは繰り返さない。
本発明の実施の形態2に係る光ファイバの解析装置の構成は、図1に示した解析装置51の構成と同様である。実施の形態2は、複屈折の増加位置を検出するための処理の点において実施の形態1と異なっている。
実施の形態1,2では、偏光度の最大値と最小値との差のピーク、あるいは偏光度のピークを検出することにより、複屈折の増加位置が検出される。しかしながら、複屈折の増加した部分が短い場合には、偏光度の最大値と最小値との差が顕著に出現しにくくなる。また、複屈折の増加の程度が小さい場合には、ノイズの影響を無視できない。実施の形態3によれば、このような場合にも複屈折の増加位置を検出可能である。なお、本発明の実施の形態3に係る光ファイバの解析装置の構成は、図1に示した解析装置51の構成と同様であるので、以後の説明は繰り返さない。
Claims (6)
- ピーク波長が同じであり、偏波状態が互いに異なる複数の偏光パルスを発生させる偏光パルス発生部と、
前記複数の偏光パルスの各々が光ファイバを伝播することによって生じる後方散乱光を受けて、偏光度を算出する偏光度算出部と、
前記複数の偏光パルスの各々を前記光ファイバに導くとともに、前記後方散乱光を前記偏光度算出部に導く結合器と、
前記偏光度算出部によって算出された前記偏光度を用いて、前記偏波状態ごとに、前記偏光度の、前記光ファイバの長手方向の分布を算出し、前記分布に基づいて、前記光ファイバにおける複屈折の増加位置を検出する処理部とを備え、
前記処理部は、前記偏波状態ごとの前記分布から、前記偏光度の最大値と前記偏光度の最小値との差の、前記光ファイバの長手方向の分布を算出して、前記差のピークの位置を、前記複屈折の増加位置として検出する、光ファイバの解析装置。 - ピーク波長が同じであり、偏波状態が互いに異なる複数の偏光パルスを発生させる偏光パルス発生部と、
前記複数の偏光パルスの各々が光ファイバを伝播することによって生じる後方散乱光を受けて、偏光度を算出する偏光度算出部と、
前記複数の偏光パルスの各々を前記光ファイバに導くとともに、前記後方散乱光を前記偏光度算出部に導く結合器と、
前記偏光度算出部によって算出された前記偏光度を用いて、前記偏波状態ごとに、前記偏光度の、前記光ファイバの長手方向の分布を算出し、前記分布に基づいて、前記光ファイバにおける複屈折の増加位置を検出する処理部とを備え、
前記処理部は、偏波状態として取り得るすべての状態での前記分布のうちの少なくとも1つに対する前記分布に前記偏光度のピークが存在する場合に、前記ピークが検出される前記光ファイバの位置を、前記複屈折の増加位置として検出する、光ファイバの解析装置。 - ピーク波長が同じであり、偏波状態が互いに異なる複数の偏光パルスを発生させる偏光パルス発生部と、
前記複数の偏光パルスの各々が光ファイバを伝播することによって生じる後方散乱光を受けて、偏光度を算出する偏光度算出部と、
前記複数の偏光パルスの各々を前記光ファイバに導くとともに、前記後方散乱光を前記偏光度算出部に導く結合器と、
前記偏光度算出部によって算出された前記偏光度を用いて、前記偏波状態ごとに、前記偏光度の、前記光ファイバの長手方向の分布を算出し、前記分布に基づいて、前記光ファイバにおける複屈折の増加位置を検出する処理部とを備え、
前記処理部は、前記偏波状態ごとの前記偏光度の分布を一定時間ごとに平均することにより、前記光ファイバの前記長手方向の距離に対する前記偏光度の平均値の関係を示す曲線を得て、当該曲線の変曲点または低下部分を、前記複屈折の増加位置として検出する、光ファイバの解析装置。 - ピーク波長が同じであり、偏波状態が互いに異なる複数の偏光パルスを発生させるステップと、
前記複数の偏光パルスの各々が光ファイバを伝播することによって生じる後方散乱光を受光することによって偏光度を算出するステップと、
算出された偏光度を用いて、偏波状態ごとに、前記偏光度の、光ファイバの長手方向の分布を算出するステップと、
算出された分布に基づいて、前記光ファイバにおける複屈折の増加位置を検出するステップとを備え、
前記検出するステップにおいて、前記偏波状態ごとの前記分布から、前記偏光度の最大値と前記偏光度の最小値との差の、前記光ファイバの長手方向の分布を算出して、前記差のピークの位置を、前記複屈折の増加位置として検出する、光ファイバの解析方法。 - ピーク波長が同じであり、偏波状態が互いに異なる複数の偏光パルスを発生させるステップと、
前記複数の偏光パルスの各々が光ファイバを伝播することによって生じる後方散乱光を受光することによって偏光度を算出するステップと、
算出された偏光度を用いて、偏波状態ごとに、前記偏光度の、光ファイバの長手方向の分布を算出するステップと、
算出された分布に基づいて、前記光ファイバにおける複屈折の増加位置を検出するステップとを備え、
前記検出するステップにおいて、偏波状態として取り得るすべての状態での前記分布のうちの少なくとも1つに対する前記分布に前記偏光度のピークが存在する場合に、前記ピークが検出される前記光ファイバの位置を、前記複屈折の増加位置として検出する、光ファイバの解析方法。 - ピーク波長が同じであり、偏波状態が互いに異なる複数の偏光パルスを発生させるステップと、
前記複数の偏光パルスの各々が光ファイバを伝播することによって生じる後方散乱光を受光することによって偏光度を算出するステップと、
算出された偏光度を用いて、偏波状態ごとに、前記偏光度の、光ファイバの長手方向の分布を算出するステップと、
算出された分布に基づいて、前記光ファイバにおける複屈折の増加位置を検出するステップとを備え、
前記算出するステップは、前記偏波状態ごとの前記偏光度の分布を一定時間ごとに平均して、前記光ファイバの前記長手方向の距離に対する前記偏光度の平均値の関係を示す曲線を得るステップを含み、
前記検出するステップにおいて、前記曲線の変曲点または低下部分を、前記複屈折の増加位置として検出する、光ファイバの解析方法。
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