JP6004150B1 - セラミックハニカム構造体及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
前記隔壁は、
(a)気孔率が50〜60%、
(b)水銀圧入法により測定された細孔分布において、
(i)累積細孔容積が全細孔容積の5%となる細孔径d5が22μm以上55μm未満、
10%となる細孔径d10が15〜35μm、
50%となる細孔径(メジアン細孔径)d50が10〜20μm、
85%となる細孔径d85が5〜9μm、
90%となる細孔径d90が3〜8μm、
98%となる細孔径d98が2.5μm以下、
(d10-d90)/d50が1.3〜1.8、
(d50-d90)/d50が0.45〜0.75、及び
(d10-d50)/d50が0.75〜1.1であり、
(ii)累積細孔容積が全細孔容積の20%となる細孔径d20の対数と80%となる細孔径d80の対数との差σ=log(d20)-log(d80)が0.39以下であることを特徴とする。
セラミック原料及び中空の樹脂粒子からなる造孔材を含む坏土を所定の成形体に押出成形し、前記成形体を乾燥及び焼成する工程を有し、
前記坏土が、前記セラミック原料100質量%に対して3〜9質量%の前記造孔材を含有し、
前記造孔材は、メジアン径D50が20〜53μm、粒子径と累積体積との関係を示す曲線において、全体積の5%に相当する累積体積での粒子径D5が12〜27μm、全体積の10%に相当する累積体積での粒子径D10が15〜30μm、全体積の90%に相当する累積体積での粒子径D90が50〜75μm、全体積の95%に相当する累積体積での粒子径D95が60〜90μm、及びD50/(D90-D10)が0.85〜1.30であり、
前記セラミック原料が、前記セラミック原料100質量%に対して15〜25質量%のシリカ、40〜43質量%のタルク及び15〜30質量%のアルミナを含有し、
前記シリカは、メジアン径D50が15〜30μm、D10が10〜20μm、D90が40〜60μm、5μm以下の粒子径を有する粒子の割合が1質量%以下、10μm以下の粒子径を有する粒子の割合が3質量%以下、100μm以上の粒子径を有する粒子の割合が3質量%以下、及び200μm以上の粒子径を有する粒子の割合が1質量%以下、粒度分布偏差SD[ただし、SD=log(D80)-log(D20)、D20は、粒子径と累積体積との関係を示す曲線において、全体積の20%に相当する累積体積での粒子径であり、D80は同じく全体積の80%に相当する累積体積での粒子径でありD20<D80である。]が0.4以下であり、
前記タルクは、メジアン径D50が5〜15μm、D10が10μm以下、及びD90が25μm以上であり、
前記アルミナは、メジアン径D50が3〜6μm、D90が20μm以下、及び25μm以上の粒子径を有する粒子の割合が0.4質量%以下であることを特徴とする。
本発明のセラミックハニカム構造体は、多孔質の隔壁で仕切られた多数の流路を有し、前記隔壁は、
(a)気孔率が50〜60%、(b)水銀圧入法により測定された細孔分布において、
(i)累積細孔容積が全細孔容積の5%となる細孔径d5が22μm以上55μm未満、10%となる細孔径d10が15〜35μm、50%となる細孔径(メジアン細孔径)d50が10〜20μm、85%となる細孔径d85が5〜9μm、90%となる細孔径d90が3〜8μm、98%となる細孔径d98が2.5μm以下、(d10-d90)/d50が1.3〜1.8、(d50-d90)/d50が0.45〜0.75、及び(d10-d50)/d50が0.75〜1.1であり、
(ii)累積細孔容積が全細孔容積の20%となる細孔径d20の対数と80%となる細孔径d80の対数との差σ=log(d20)-log(d80)が0.39以下である。
隔壁の気孔率は50〜60%である。前記気孔率が50%未満の場合、PMが捕集され蓄積した際の低い圧力損失を維持し難くなり、一方、前記気孔率が60%を超えると、ナノサイズのPM捕集率が低下する。前記気孔率は、好ましくは52〜60%、さらに好ましくは54〜59%である。なお隔壁の気孔率は後述の水銀圧入法で測定する。
(i)d2、d5、d10、d50、d85、d90及びd98
水銀圧入法により測定された隔壁の細孔分布曲線において、累積細孔容積が全細孔容積の5%となる細孔径d5が22μm以上55μm未満、10%となる細孔径d10が15〜35μm未満、50%となる細孔径(メジアン細孔径)d50が10〜20μm、85%となる細孔径d85が5〜9μm、90%となる細孔径d90が3〜8μm、98%となる細孔径d98が2.5μm以下であり、(d10-d90)/d50は1.3〜1.8、(d50-d90)/d50が0.45〜0.75及び(d10-d50)/d50が0.75〜1.1である。さらに累積細孔容積が全細孔容積の2%となる細孔径d2が75〜250μmであるのが好ましい。ここで、水銀圧入法により測定された隔壁の細孔分布曲線とは、例えば図3に示すように、細孔径に対して累積細孔容積をプロットした曲線(累積細孔容積曲線)であり、細孔径の大きい側から小さい側に向かって積算して表したものである。なお、d2>d5>d10>d50>d85>d90>d98である。
水銀圧入法により測定された隔壁の細孔分布曲線において、累積細孔容積が全細孔容積の20%となる細孔径d20の対数と80%となる細孔径d80の対数との差σ=log(d20)-log(d80)は0.39以下である。σが0.39超の場合、使用開始時の初期圧力損失を低く維持することが難しくなる。σは好ましくは0.3以下であり、さらに好ましくは0.25以下である。
水銀圧入法により測定された隔壁の細孔分布曲線において、100μm超の細孔容積は0.03 cm3/g以下であるのが好ましい。100μm超の細孔容積が0.03 cm3/g超の場合、ナノサイズのPM捕集率が低下する。100μm超の細孔容積は好ましくは0.025 cm3/g以下、さらに好ましくは0.02 cm3/g以下である。なお前述した気孔率が50〜60%及び累積細孔容積が全細孔容積の5%となる細孔径d5が22μm以上55μm未満という条件を満たす場合、100μm超の細孔容積が0.03 cm3/g以下という条件も必然的に満たされる。また20μm以上の細孔容積は0.12 cm3/g以下であるのが好ましい。20μm以上の細孔容積が0.12 cm3/g超の場合、ナノサイズのPMを有効に捕集することが難しくなる。20μm以上の細孔容積は好ましくは0.10 cm3/g以下、さらに好ましくは0.08 cm3/g以下である。
水銀圧入法による累積細孔容積の測定は、Micromeritics社製のオートポアIII 9410を使用して測定することができる。この測定は、セラミックハニカム構造体から切り出した試験片(10 mm×10 mm×10 mm)を測定セル内に収納し、セル内を減圧した後、水銀を導入して加圧したときに、試験片内に存在する細孔中に押し込まれた水銀の体積を求めることによって行う。この時加圧力が大きくなればなるほど、より微細な細孔にまで水銀が浸入するので、加圧力と細孔中に押し込まれた水銀の体積との関係から、細孔径と累積細孔容積(最大の細孔径から特定の細孔径までの細孔容積を累積した値)の関係を求めることができる。水銀の浸入は細孔径の大きいものから小さいものへと順次行われ、前記圧力を細孔径に換算し、細孔径の大きい側から小さい側に向かって積算した累積細孔容積(水銀の体積に相当)を細孔径に対してプロットし、例えば、図3に示すように、細孔径と累積細孔容積との関係を示すグラフを得る。本願において、水銀を導入する圧力は0.5 psi(0.35×10-3 kg/mm2)とし、水銀の加圧力が1800 psi(1.26 kg/mm2、細孔径約0.1μmに相当)での累積細孔容積を全細孔容積とする。
セラミックハニカム構造体は、20〜800℃間の流路方向(A軸)での熱膨張係数が13×10-7/℃以下であるのが好ましい。このような熱膨張係数を有するセラミックハニカム構造体は、高い耐熱衝撃性を有するので、ディーゼル機関の排出ガス中に含まれる微粒子を除去するためのセラミックハニカムフィルタとして、十分に実用に耐えることができる。前記熱膨張係数は、好ましくは3×10-7〜11×10-7である。
セラミックハニカム構造体は、平均隔壁厚さが9〜15 mil(0.229〜0.381 mm)、平均セル密度が150〜300 cpsi(23.3〜46.5セル/cm2)であるのが好ましい。このような隔壁構造を有することで、使用開始時において圧力損失を低く維持でき、粒子数基準でのPM捕集率を改善することができるとともに、PMが捕集され蓄積した際の圧力損失特性が改良される。平均隔壁厚さが9 mil未満の場合、隔壁の強度が低下し、一方15 milを超える場合、低い圧力損失を維持することが難しくなる。平均セル密度が150c psi未満の場合、隔壁の強度が低下し、一方、300 cpsiを超える場合、低い圧力損失を維持することが難しくなる。セルの流路方向の断面形状は、四角形、六角形等の多角形、円、楕円等のいずれでもよく、流入側端面と流出側端面とで大きさが異なる非対称形状であっても良い。
隔壁の材質としては、セラミックハニカム構造体の用途がディーゼルエンジンから排出される排気ガスを浄化するためのフィルタであることから、耐熱性を有するセラミックス、すなわちアルミナ、ムライト、コーディエライト、炭化珪素、窒化珪素、ジルコニア、チタン酸アルミニウム、リチウムアルミニウムシリケート等を主結晶とするセラミックスであるのが好ましい。中でも耐熱衝撃性に優れる低熱膨張のコーディエライト又はチタン酸アルミニウムを主結晶とするものが好ましい。主結晶相がコーディエライトである場合、スピネル、ムライト、サフィリン等の他の結晶相を含有しても良く、さらにガラス成分を含有しても良い。主結晶相がチタン酸アルミニウムである場合、チタン酸アルミニウム結晶相中にMg、Si等の元素が固溶していても良く、ムライト等の他の結晶相を含有していても良く、また粒界相としてガラス成分を含有していても良い。
セラミックハニカムフィルタは、本発明のセラミックハニカム構造体の流路の排気ガス流入側又は排気ガス流出側を交互に目封止してなる。本発明のセラミックハニカム構造体を使用することで、使用開始時においては、低い圧力損失を維持できるとともに粒子数基準でのPM捕集率を改善することができ、さらにPMが捕集され蓄積した際の圧力損失特性が改良されたセラミックハニカムフィルタとすることができる。ここで、流路に形成される目封止は、必ずしも流路の排気ガス流入側又は排気ガス流出側の端面部に形成する必要はなく、流入側端面又は流出側端面から流路内部に入った位置に形成してもよい。
本発明のセラミックハニカム構造体を製造する方法は、セラミック原料及び中空の樹脂粒子からなる造孔材を含む坏土を所定の成形体に押出成形し、前記成型体を乾燥及び焼成する工程を有し、
前記坏土が、前記セラミック原料100質量%に対して3〜9質量%の前記造孔材を含有し、
前記造孔材は、メジアン径D50が20〜53μm、粒子径と累積体積との関係を示す曲線において、全体積の5%に相当する累積体積での粒子径D5が12〜27μm、全体積の10%に相当する累積体積での粒子径D10が15〜30μm、全体積の90%に相当する累積体積での粒子径D90が50〜75μm、全体積の95%に相当する累積体積での粒子径D95が60〜90μm、及びD50/(D90-D10)が0.85〜1.30であり、
前記セラミック原料が、前記セラミック原料100質量%に対して15〜25質量%のシリカ、40〜43質量%のタルク及び15〜30質量%のアルミナを含有し、
前記シリカは、メジアン径D50が15〜30μm、D10が10〜20μm、D90が40〜60μm、5μm以下の粒子径を有する粒子の割合が1質量%以下、10μm以下の粒子径を有する粒子の割合が3質量%以下、100μm以上の粒子径を有する粒子の割合が3質量%以下、及び200μm以上の粒子径を有する粒子の割合が1質量%以下、粒度分布偏差SD[ただし、SD=log(D80)-log(D20)、D20は、粒子径と累積体積との関係を示す曲線において、全体積の20%に相当する累積体積での粒子径であり、D80は同じく全体積の80%に相当する累積体積での粒子径でありD20<D80である。]が0.4以下であり、
前記タルクは、メジアン径D50が5〜15μm、D10が10μm以下、及びD90が25μm以上であり、
前記アルミナは、メジアン径D50が3〜6μm、D90が20μm以下、及び25μm以上の粒子径を有する粒子の割合が0.4質量%以下である。
本発明で使用する造孔材は、中空の樹脂粒子からなり、その添加量は、セラミック原料100質量%に対して3〜9質量%である。前記造孔材の添加量がこの範囲を外れると、前記細孔構造を有する隔壁が得られ難くなる。前記造孔材の添加量が3質量%未満である場合、気孔率50%以上の隔壁が得られ難くなるので、PMが捕集され蓄積した際の圧力損失特性が悪化する。造孔材の添加量が9質量%を超えると、隔壁の気孔率が60%を超える場合があり、ナノサイズのPM捕集率が低下する。前記造孔材の添加量は、好ましくは3.5〜8質量%であり、さらに好ましくは4〜7質量%である。
セラミック原料は、前記セラミック原料100質量%に対して15〜25質量%のシリカ、40〜43質量%のタルク及び15〜30質量%のアルミナを含有する。前記セラミック原料はコーディエライト化原料であるのが好ましい。コーディエライト化原料は、主結晶がコーディエライト(主成分の化学組成が42〜56質量%のSiO2、30〜45質量%のAl2O3及び12〜16質量%のMgO)となるように、シリカ源成分、アルミナ源成分及びマグネシア源成分を有する各原料粉末を配合したものである。コーディエライトを主結晶とするセラミックスに形成される細孔は、セラミック原料のシリカ及びタルクが焼成されて生じる細孔と、造孔材が燃焼されて生じる細孔によるものである。従って、前述の造孔材とともに、シリカ、タルク等のセラミック原料の粒径及び粒度分布を調節することにより、コーディエライト質セラミックスが焼成された際に生じる細孔を制御することができる。中でもシリカと造孔材は、形成される細孔の大部分を占めることから、細孔構造に対する寄与が大きい。
シリカは、他の原料に比べて高温まで安定に存在し、1300℃以上で溶融拡散し、細孔を形成することが知られている。このため、15〜25質量%のシリカを含有すると、所望の量の細孔が得られる。25質量%を超えてシリカを含有させると、主結晶をコーディエライトに維持するために、他のシリカ源成分であるカオリン及び/又はタルクを低減させなければならず、その結果、カオリンによって得られる低熱膨張化の効果(押出し成形時にカオリンが配向されることで得られる効果)が低減し耐熱衝撃性が低下する。一方、15質量%未満の場合、隔壁表面に開口した細孔の数が少なくなるので、PMが捕集され蓄積した際の低い圧力損失が得られなくなる場合がある。シリカの含有量は、好ましくは17〜23質量%である。
コーディエライト化原料に用いるシリカ原料としては、前記シリカ粉末に加えて、カオリン粉末を配合することができる。カオリン粉末は1〜15質量%含有するのが好ましい。カオリン粉末をが15質量%を超えて含有すると、セラミックハニカム構造体の細孔分布においてd98を5μm以下に調整することが困難になる場合があり、1質量%未満の場合は、セラミックハニカム構造体の熱膨張係数が大きくなる。カオリン粉末の含有量は、さらに好ましくは4〜8質量%である。
へき開指数 = I(002)/[I(200)+I(020)+I(002)]
により求めることができる。へき開係数が大きいほどカオリン粒子の配向が良好であると言える。
セラミック原料は、前記セラミック原料100質量%に対して40〜43質量%のタルクを含有する。前記タルクは、メジアン径D50が5〜15μm、粒子径と累積体積(特定の粒子径以下の粒子体積を累積した値)との関係を示す曲線において、全体積の10%に相当する累積体積での粒子径D10が10μm以下、及び同様に全体積の90%に相当する累積体積での粒子径D90が25μm以上である。タルクはMgOとSiO2を主成分とする化合物であり、焼成過程において周囲に存在するAl2O3成分と反応して溶融し、細孔を形成する。従って、Al2O3源原料と共に、粒子径の小さいタルクを配合することで、多数の小径細孔を隔壁中に分散させ、隔壁内の細孔の連通性を向上させることができる。タルクのメジアン径D50が5μm未満の場合、細孔の連通性が低くなり、PMが捕集され蓄積した際の圧力損失特性が低下する。一方、タルクのメジアン径D50が15μmを超える場合、粗大細孔が多くなり、ナノサイズのPM捕集率を低下させる。タルクのメジアン径D50は、好ましくは6〜14μmであり、さらに好ましくは8〜12μmである。
形態係数 = Ix/(Ix+2Iy)
により求めることができる。形態係数が大きいほどタルク粒子の平板度が高い。
セラミック原料は、セラミック原料100質量%に対して15〜30質量%のアルミナを含有する。前記アルミナは、メジアン径D50が3〜6μmであり、粒子径と累積体積との関係を示す曲線において、全体積の90%に相当する累積体積での粒子径D90が20μm以下であり、25μm以上の粒子径を有する粒子の割合が0.4質量%以下である。このようなメジアン径及び粒径分布を有するアルミナを配合することで、多数の小径細孔を隔壁中に分散させることができるため、隔壁内の細孔の連通性を向上させることができ、本発明のセラミックハニカム構造体が有する細孔分布の形成に貢献する。アルミナのメジアン径D50は、好ましくは3.5〜6μmであり、さらに好ましくは4〜5.5μmであり、D90は好ましくは1〜20μmであり、さらに好ましくは5〜20μmであり、25μm以上の粒子径を有する粒子の割合は、好ましくは0.2質量%以下ある。アルミナ原料としては、アルミナに加えて水酸化アルミニウムを使用するのが好ましい。アルミナ及び水酸化アルミニウム中の不純物であるNa2O、K2O及びCaOの含有量の合計は、好ましくは0.5質量%以下、より好ましくは0.3質量%以下、最も好ましくは0.1質量%以下である。
セラミックハニカム構造体は、セラミック原料及び造孔材に、バインダー、必要に応じて分散剤、界面活性剤等の添加剤を加えて乾式で混合した後、水を加えて混練し、得られた可塑性の坏土を、公知のハニカム構造体成形用の金型から、公知の押出成形法、例えば、プランジャー式、スクリュー式等の押出成形法により押出してハニカム構造の成形体を形成し、この成形体を乾燥した後、必要に応じて端面及び外周等の加工を施し、焼成することによって製造する。
表1〜表5に示す粒子形状(粒径、粒度分布等)を有するシリカ粉末、タルク粉末及びアルミナ粉末、水酸化アルミニウム粉末及びカオリン粉末を、セラミックス原料の合計量が100質量部となるように表7に示す添加量で配合して、焼成後に化学組成がコーディエライトとなるコーディエライト化原料粉末を得た。
初期圧力損失は、圧力損失テストスタンドに固定したセラミックハニカムフィルタに、空気を流量10 Nm3/minで送り込み、流入側と流出側との差圧(圧力損失)で表した。圧力損失が、
1.0 kPaを越える場合を(×)、
0.8 kPaを超え1.0 kPa以下の場合を(△)、
0.6 kPaを超え0.8 kPa以下の場合を(○)、及び
0.6 kPa以下の場合を(◎)
として初期圧力損失を評価した。
PM捕集後圧力損失は、圧力損失テストスタンドに固定したセラミックハニカムフィルタに、空気流量10 Nm3/minで、平均粒径0.11μmの燃焼煤を1.3 g/hの速度で投入し、フィルタ体積1リットルあたりの煤付着量が2 gとなった時の流入側と流出側との差圧(圧力損失)で表した。圧力損失が、
1.5 kPaを越える場合を(×)、
1.3 kPaを超え1.5 kPa以下の場合を(△)、
1.0 kPaを超え1.3 kPa以下の場合を(○)、及び
1.0 kPa以下の場合を(◎)
として煤捕集圧力損失を評価した。
捕集開始初期の粒子数基準でのPM捕集率は、圧力損失テストスタンドに固定したセラミックハニカムフィルタに、空気流量10 Nm3/minで、平均粒径0.11μmの燃焼煤を1.3 g/hの速度で投入しながら、1分毎にハニカムフィルタに流入する燃焼煤の粒子数とハニカムフィルタから流出する燃焼煤の粒子数とをSMPS(Scanning Mobility Particle Sizer)(TIS社製モデル3936)を用いて計測し、投入開始40分後から41分後までの1分間にハニカムフィルタに流入する燃焼煤の粒子数Nin、及びハニカムフィルタから流出する燃焼煤の粒子数Noutから、式:(Nin-Nout)/Ninにより求めた。PM捕集率が、
98%以上の場合を(◎)、
96%以上98%未満の場合を(○)、
95%以上96%未満の場合を(△)、及び
95%未満の場合を(×)
としてPM捕集率を評価した。
Claims (7)
- 多孔質の隔壁で仕切られた多数の流路を有するセラミックハニカム構造体であって、
前記隔壁は、
(a)気孔率が50〜60%、
(b)水銀圧入法により測定された細孔分布において、
(i)累積細孔容積が全細孔容積の5%となる細孔径d5が22μm以上55μm未満、
10%となる細孔径d10が15〜35μm、
50%となる細孔径(メジアン細孔径)d50が10〜20μm、
85%となる細孔径d85が5〜9μm、
90%となる細孔径d90が3〜8μm、
98%となる細孔径d98が2.5μm以下、
(d10-d90)/d50が1.3〜1.8、
(d50-d90)/d50が0.45〜0.75、及び
(d10-d50)/d50が0.75〜1.1であり、
(ii)累積細孔容積が全細孔容積の20%となる細孔径d20の対数と80%となる細孔径d80の対数との差σ=log(d20)-log(d80)が0.39以下であることを特徴とするセラミックハニカム構造体。 - 請求項1に記載のセラミックハニカム構造体において、
累積細孔容積が全細孔容積の2%となる細孔径d2が75〜250μm、及び20μm以上の細孔容積が0.12 cm3/g以下であることを特徴とするセラミックハニカム構造体。 - 請求項1又は2に記載のセラミックハニカム構造体において、前記気孔率が52〜60%であることを特徴とするセラミックハニカム構造体。
- 請求項1〜3のいずれかに記載のセラミックハニカム構造体において、前記メジアン細孔径d50が10〜18μmであることを特徴とするセラミックハニカム構造体。
- 請求項1〜4のいずれかに記載のセラミックハニカム構造体において、前記σが0.3以下であることを特徴とするセラミックハニカム構造体。
- セラミック原料及び中空の樹脂粒子からなる造孔材を含む坏土を所定の成形体に押出成形し、前記成形体を乾燥及び焼成する工程を有するセラミックハニカム構造体の製造方法であって、
前記坏土が、前記セラミック原料100質量%に対して3〜9質量%の前記造孔材を含有し、
前記造孔材は、メジアン径D50が20〜53μm、粒子径と累積体積との関係を示す曲線において、全体積の5%に相当する累積体積での粒子径D5が12〜27μm、全体積の10%に相当する累積体積での粒子径D10が15〜30μm、全体積の90%に相当する累積体積での粒子径D90が50〜75μm、全体積の95%に相当する累積体積での粒子径D95が60〜90μm、及びD50/(D90-D10)が0.85〜1.30であり、
前記セラミック原料が、前記セラミック原料100質量%に対して15〜25質量%のシリカ、40〜43質量%のタルク及び15〜30質量%のアルミナを含有し、
前記シリカは、メジアン径D50が15〜30μm、D10が10〜20μm、D90が40〜60μm、5μm以下の粒子径を有する粒子の割合が1質量%以下、10μm以下の粒子径を有する粒子の割合が3質量%以下、100μm以上の粒子径を有する粒子の割合が3質量%以下、及び200μm以上の粒子径を有する粒子の割合が1質量%以下、粒度分布偏差SD[ただし、SD=log(D80)-log(D20)、D20は、粒子径と累積体積との関係を示す曲線において、全体積の20%に相当する累積体積での粒子径であり、D80は同じく全体積の80%に相当する累積体積での粒子径でありD20<D80である。]が0.4以下であり、
前記タルクは、メジアン径D50が5〜15μm、D10が10μm以下、及びD90が25μm以上であり、
前記アルミナは、メジアン径D50が3〜6μm、D90が20μm以下、及び25μm以上の粒子径を有する粒子の割合が0.4質量%以下であることを特徴とするセラミックハニカム構造体の製造方法。 - 請求項6に記載のセラミックハニカム構造体の製造方法において、前記坏土が、前記セラミック原料100質量%に対して3.5〜8質量%の前記造孔材を含有することを特徴とするセラミックハニカム構造体の製造方法。
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