JP5995307B2 - Recognition device, recognition method, program, and board manufacturing method - Google Patents
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本技術は、基板等の認識対象物の位置を認識する認識装置、認識方法及び基板の製造方法に関する。 The present technology relates to a recognition device that recognizes the position of a recognition object such as a substrate, a recognition method, and a substrate manufacturing method.
従来から、基板等の認識対象物の位置を認識するための方法として、認識対象物に設けられたアライメントマークを撮像部によって撮像することで認識対象物の位置を認識する方法が広く用いられている。 Conventionally, as a method for recognizing the position of a recognition target object such as a substrate, a method of recognizing the position of the recognition target object by imaging an alignment mark provided on the recognition target object with an imaging unit has been widely used. Yes.
下記特許文献1には、基板上の2箇所に設けられたアライメントマークを上方から撮像部によってそれぞれ撮像し、撮像部によって得られたデータに基づいて電子部品の実装位置を補正する実装装置に関する技術が記載されている。 Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-259542 discloses a mounting apparatus that images an alignment mark provided at two locations on a substrate with an imaging unit from above and corrects a mounting position of an electronic component based on data obtained by the imaging unit. Is described.
実装装置等の装置は、装置の内部的な要因による振動(例えば、装置の駆動による振動)や、外部的な要因による振動(例えば、他の装置の駆動による振動、人、物が装置の近くを通過することによる振動)によって、振動する場合がある。 A device such as a mounting device has vibrations due to internal factors of the device (for example, vibration due to driving of the device) or vibrations due to external factors (for example, vibration due to driving of other devices, people, objects are close to the device) May vibrate due to vibrations caused by passing through.
装置が振動してしまうと、撮像部がアライメントマークを撮像するときに、撮像部と、アライメントマークとの相対位置がずれてしまう。これにより、正確なアライメントマークの位置を取得することができず、結果として、基板等の認識対象物の正確な位置を認識することができないといった問題がある。 When the apparatus vibrates, the relative position between the imaging unit and the alignment mark is shifted when the imaging unit images the alignment mark. As a result, there is a problem in that an accurate alignment mark position cannot be obtained, and as a result, an accurate position of a recognition target such as a substrate cannot be recognized.
以上のような事情に鑑み、本技術の目的は、振動が発生した場合でも、認識対象物の正確な位置を認識することができる認識装置等の技術を提供することにある。 In view of the circumstances as described above, an object of the present technology is to provide a technology such as a recognition device that can recognize an accurate position of a recognition target object even when vibration occurs.
本技術に係る認識装置は、撮像部と、制御部とを具備する。
前記撮像部は、認識対象物に設けられたアライメントマークを撮像する。
前記制御部は、前記撮像部により前記アライメントマークを複数回撮像し、撮像された複数の画像内でのアライメントマーク位置を判定し、判定された前記アライメントマークの位置の平均値を算出し、算出された前記平均値に応じて前記認識対象物の位置を認識する。
The recognition apparatus according to the present technology includes an imaging unit and a control unit.
The imaging unit images an alignment mark provided on the recognition object.
The control unit images the alignment mark a plurality of times by the imaging unit, determines alignment mark positions in the plurality of captured images, calculates an average value of the determined alignment mark positions, and calculates The position of the recognition object is recognized according to the average value.
本技術に係る認識装置では、アライメントマークを複数回撮像することによって取得されるアライメントマーク位置の平均値が認識対象物の位置認識に用いられるため、振動が発生した場合でも、認識対象物の正確な位置を認識することができる。 In the recognition apparatus according to the present technology, the average value of the alignment mark positions acquired by imaging the alignment mark multiple times is used for position recognition of the recognition target object. Position can be recognized.
上記認識装置において、前記制御部は、前記複数の画像内でのアライメントマーク位置に基づいて、前記アライメントマーク位置のばらつきの度合いを判定し、前記ばらつきの度合い応じて、前記アライメントマークの撮像回数を可変に制御してもよい。 In the recognition apparatus, the control unit determines the degree of variation in the alignment mark position based on the alignment mark position in the plurality of images, and determines the number of times the alignment mark is imaged according to the degree of variation. It may be variably controlled.
振動(振幅)と、複数回撮像におけるアライメントマーク位置のばらつきの度合いとの間には、相関関係がある。つまり、振動(振幅)が大きい場合にはアライメントマーク位置のばらつきの度合いが大きくなり、振動(振幅)が小さい場合にはアライメントマーク位置のばらつきの度合いが小さくなる。この認識装置では、この関係を利用して、ばらつきの度合いに応じて(つまり、振動の大きさに応じて)、アライメントマークの撮像回数を可変に制御する処理を実行している。 There is a correlation between the vibration (amplitude) and the degree of variation of the alignment mark position in the multiple imaging. That is, when the vibration (amplitude) is large, the degree of variation in the alignment mark position is large, and when the vibration (amplitude) is small, the degree of variation in the alignment mark position is small. This recognition apparatus uses this relationship to execute a process of variably controlling the number of times the alignment mark is imaged in accordance with the degree of variation (that is, in accordance with the magnitude of vibration).
上記認識装置において、前記制御部は、前記ばらつきの度合いが大きいほど前記アライメントマークの撮像回数が多くなるように、前記アライメントマークの撮像回数を制御してもよい。 In the recognition apparatus, the control unit may control the number of times the alignment mark is imaged so that the greater the degree of variation, the greater the number of times the alignment mark is imaged.
この認識装置は、振動の大きさに応じて、適切にアライメントマークの撮像回数を変更することができる。 This recognition apparatus can appropriately change the number of times the alignment mark is imaged according to the magnitude of vibration.
上記認識装置は、記憶部をさらに具備していてもよい。この場合、前記制御部は、前記複数の画像が撮像されたときの時刻と、前記ばらつきの度合いとを関連付けて前記記憶部に記憶し、前記時刻及び前記ばらつきの度合いのデータに基づいて前記ばらつきの度合いが大きい時間帯を判定し、前記ばらつきの度合いが大きい時間帯ほど前記アライメントマークの撮像回数が多くなるように、前記アライメントマークの撮像回数を制御してもよい。 The recognition device may further include a storage unit. In this case, the control unit stores the time when the plurality of images are captured and the degree of variation in the storage unit in association with each other, and the variation based on the time and the variation degree data. It is also possible to determine a time zone in which the degree of the image is large, and to control the number of times the alignment mark is imaged so that the number of times the alignment mark is imaged increases in the time zone in which the degree of variation is large.
この認識装置では、1日のうちで振動が大きい時間帯でアライメントマークの撮像回数が多くされ、振動が小さい時間帯でアライメントマークの撮像回数が少なくされる。 In this recognition device, the number of imaging of the alignment mark is increased in a time zone in which vibration is large in one day, and the number of imaging of the alignment mark is decreased in a time zone in which vibration is small.
上記認識装置において、前記制御部は、前記撮像部により一定の周期で前記アライメントマークを複数回撮像してもよい。 In the recognition apparatus, the control unit may image the alignment mark a plurality of times with a certain period by the imaging unit.
一定の周期でアライメントマークを撮像してもランダムサンプリングとなり、アライメントマークの平均値を正確な値として算出することができる。 Even if the alignment mark is imaged at a fixed period, random sampling is performed, and the average value of the alignment mark can be calculated as an accurate value.
上記認識装置において、前記制御部は、前記撮像部によりランダムな周期で前記アライメントマークを複数回撮像してもよい。 The said recognition apparatus WHEREIN: The said control part may image the said alignment mark in multiple times with a random period by the said imaging part.
このように、ランダムな周期でアライメントマークを撮像した場合、ランダムサンプリングのランダム性がさらに向上し、アライメントマークの平均値をさらに正確な値として算出することができる。 Thus, when the alignment mark is imaged at a random cycle, the randomness of random sampling is further improved, and the average value of the alignment mark can be calculated as a more accurate value.
上記認識装置において、前記制御部は、一定の周期にランダムなディレイを加えることで、ランダムな周期で前記アライメントマークを複数回撮像してもよい。 In the recognition apparatus, the control unit may capture the alignment mark multiple times with a random cycle by adding a random delay to the constant cycle.
本技術に係る認識方法は、認識対象物に設けられたアライメントマークを複数回撮像することを含む。
撮像された複数の画像内でのアライメントマーク位置が判定される。
判定された前記アライメントマーク位置の平均値が算出される。
算出された前記平均値に応じて前記認識対象物の位置が認識される。
The recognition method according to the present technology includes imaging the alignment mark provided on the recognition target object a plurality of times.
The alignment mark positions in the plurality of captured images are determined.
An average value of the determined alignment mark positions is calculated.
The position of the recognition object is recognized according to the calculated average value.
本技術に係るプログラムは、認識装置に、
認識対象物に設けられたアライメントマークを複数回撮像するステップと、
撮像された複数の画像内でのアライメントマーク位置を判定するステップと、
判定された前記アライメントマーク位置の平均値を算出するステップと、
算出された前記平均値に応じて前記認識対象物の位置を認識するステップと
を実行させる。
A program according to the present technology is stored in a recognition device.
Imaging the alignment mark provided on the recognition target object a plurality of times;
Determining alignment mark positions in a plurality of captured images;
Calculating an average value of the determined alignment mark positions;
Recognizing the position of the recognition object according to the calculated average value.
本技術に係る基板の製造方法は、基板に設けられたアライメントマークを複数回撮像することを含む。
撮像された複数の画像内でのアライメントマーク位置が判定される。
判定された前記アライメントマーク位置の平均値が算出される。
算出された前記平均値に応じて前記基板の位置が認識される。
認識した前記基板の位置に応じて、前記基板上に電子部品が実装される。
The manufacturing method of the board | substrate which concerns on this technique includes imaging the alignment mark provided in the board | substrate several times.
The alignment mark positions in the plurality of captured images are determined.
An average value of the determined alignment mark positions is calculated.
The position of the substrate is recognized according to the calculated average value.
An electronic component is mounted on the board according to the recognized position of the board.
以上のように、本技術によれば、振動が発生した場合でも、認識対象物の正確な位置を認識することができる認識装置等の技術を提供することができる。 As described above, according to the present technology, it is possible to provide a technology such as a recognition device that can recognize an accurate position of a recognition target object even when vibration occurs.
以下、本技術に係る実施形態を、図面を参照しながら説明する。 Hereinafter, embodiments according to the present technology will be described with reference to the drawings.
<第1実施形態>
[実装装置100の構成及び各部の構成]
図1は、本技術の第1実施形態に係る実装装置100を示す正面図である。図2は、図1に示す実装装置100の上面図である。図3は、実装装置100の構成を示すブロック図である。図4は、基板1の上面図である。
<First Embodiment>
[Configuration of
FIG. 1 is a front view showing a
図1及び図2を参照して、実装装置100は、フレーム構造体10と、フレーム構造体10に設けられ、基板1をX軸方向に搬送する搬送部15と、搬送部15を挟んで両側に設けられ、電子部品3を供給する供給部20とを備える。また、実装装置100は、供給部20から供給される電子部品3を吸着し、吸着した電子部品3を基板1上に実装する実装ヘッド30と、実装ヘッド30をX−Y方向に移動させるヘッド移動機構40とを備える。また、実装装置100は、基板1上に設けられたアライメントマーク2(図4参照)を上方から撮像する撮像部50を備える。
With reference to FIGS. 1 and 2, the mounting
図3を参照して、さらに、実装装置100は、制御部5、記憶部6、表示部7、入力部8、エアコンプレッサ33、ノズル駆動機構43等を備えている。
With reference to FIG. 3, the mounting
搬送部15は、X軸方向に沿って配設された一対のガイド16と、一対のガイド16よりも中央側に設けられた一対のコンベア17とを含む。搬送部15は、一対のコンベア17の駆動により、基板1を搬入して所定の位置に位置決めしたり、電子部品3の実装が終了した基板1を排出したりする。
The
供給部20は、X軸方向に沿って配列された複数のテープフィーダ21により構成される。このテープフィーダ21は、実装装置100に対して着脱可能とされる。テープフィーダ21は、それぞれ、キャリアテープと、キャリアテープが巻きつけられるリールと、キャリアテープをステップ送りで送り出す送り出し機構とを含む。キャリアテープは、例えば、抵抗、コンデンサ、コイル、ICチップ(IC:Integrated Circuit)等の同一タイプの電子部品3を内部に収納している。テープフィーダ21の端部の上面には供給窓22が形成されており、この供給窓22を介して電子部品3が供給される。
The
フレーム構造体10は、底部に設けられたベース11と、ベース11に固定された複数の支柱12とを有する。
The
ヘッド移動機構40は、複数の支柱12の上部にX軸方向に沿って架け渡された2本のXビーム41と、2本のXビーム41の間に、Y軸に沿って架け渡されたYビーム42とを含む。なお、図2では、図面を見やすく表示するため、上部側のXビーム41と、Yビーム42とを一点差線で表示している。
The
Yビーム42は、2本のXビーム41の下側において、Xビーム41に対してX軸方向に移動可能に取り付けられている。Xビーム41は、Yビーム42をX軸方向に沿って移動させるためのX軸駆動機構を内部に有しており、このX軸駆動機構の駆動により、Yビーム42は、Xビーム41の下側において、X軸方向に沿って移動される。
The
Yビーム42の下側には、実装ヘッド30を保持するキャリッジ35が取り付けられている。キャリッジ35は、Yビーム42に対してY軸方向に移動可能に取り付けられている。Yビーム42は、キャリッジ35をY軸方向に沿って移動させるためのY軸駆動機構を内部に有しており、このY軸駆動機構の駆動により、キャリッジ35は、Yビーム42の下側において、Y軸方向に沿って移動される。
A
X軸駆動機構及びY軸駆動機構の駆動により、キャリッジ35の下側に設けられた実装ヘッド30が、X―Y方向に沿って移動される。X軸駆動機構及びY軸駆動機構としては、例えば、ボールネジ駆動機構、ベルト駆動機構、リニアモータ駆動機構等が挙げられる。
The mounting
実装ヘッド30は、キャリッジ35に対して回転可能に取り付けられたターレット32と、ターレット32の周方向に沿って等間隔でターレット32に取り付けられた複数の吸着ノズル31とを有する。
The mounting
実装ヘッド30の数は、本実施形態では、1つとされているが、実装ヘッド30の数は、2以上であってもよい。また、吸着ノズル31の数は、本実施形態では、12個(図2参照)とされているが、吸着ノズル31の数は、特に限定されない。例えば、吸着ノズル31の数は、1つであっても構わない。
In the present embodiment, the number of mounting heads 30 is one, but the number of mounting
ターレット32は、斜め方向の軸を回転の中心軸として回転可能とされている。ターレット32は、ターレット回転機構の駆動により、前記軸を中心軸として回転される。
The
吸着ノズル31は、吸着ノズル31の軸線がターレット32の回転軸に対してそれぞれ傾斜するように、ターレット32に取り付けられている。
The
吸着ノズル31は、ターレット32に対して上記軸線方向に沿って移動可能に支持されている。また、吸着ノズル31は、ターレット32に対して回転可能に支持されている。吸着ノズル31は、ノズル駆動機構43により、所定のタイミングで、軸線方向(上下方向)に沿って移動される。また、吸着ノズル31は、ノズル駆動機構43により所定のタイミングで軸線回りに回転される。
The
複数の吸着ノズル31のうち、最も低い位置に位置する吸着ノズル31(図1〜図2中、最も右側に位置する吸着ノズル31)は、その軸線が垂直方向を向いている。以降では、このように軸線が垂直方向を向く吸着ノズル31の位置を操作位置と呼ぶ。操作位置に位置する吸着ノズル31は、ターレット32の回転により順次切り換えられる。
Among the plurality of
吸着ノズル31は、エアコンプレッサ33(図3参照)に接続されている。吸着ノズル31は、このエアコンプレッサ33の負圧及び正圧の切り換えに応じて、電子部品3を吸着したり、脱離したりすることができる。
The
キャリッジ35には、基板1上に設けられたアライメントマーク2を上方から撮像する撮像部50が設けられている。撮像部50は、CCDセンサ(CCD:Charge Coupled Device)、あるいはCMOSセンサ(CMOS:Complementary Metal Oxide Semiconductor)等の撮像素子と、撮像素子の結像面に光を結像させる結像レンズとを含む。撮像部50は、キャリッジ35及び実装ヘッド30がX−Y軸方向に沿って移動されるときに、キャリッジ35及び実装ヘッド30と一体的に移動する。
The
図4を参照して、アライメントマーク2は、基板1上において2つの角部(対角)の近傍に設けられている。図4に示す例では、アライメントマーク2の数は、2つとされているが、アライメントマーク2の数は、1つ、あるいは、3つ以上とされていてもよい。アライメントマーク2は、電子部品3の実装の邪魔にならない位置であれば、典型的にはどこに配置されていても構わない。基板1上に設けられた各アライメントマーク2は、それぞれ、撮像部50によって複数回撮像される。
Referring to FIG. 4,
実装装置100は、アライメントマーク2撮像用の撮像部50以外に、電子部品3を保持した状態の吸着ノズル31を撮像する撮像部を有している。この撮像部は、例えば、電子部品3を保持した状態の吸着ノズル31を側方側及び/又は下側から撮像する。撮像部により撮影された画像は、制御部5により画像処理され、吸着ノズル31に対する電子部品3の吸着位置などが判定される。
The mounting
制御部5は、例えば、CPU(Central Processing Unit)により構成される。制御部5は、実装装置100の各部と電気的に接続されており、記憶部6に記憶された各種のプログラムに基づき、実装装置100の各部を統括的に制御する。この制御部5の処理については、後に詳述する。
The
記憶部6は、制御部5の制御に必要な各種のプログラムが記憶された不揮発性のメモリと、制御部5の作業領域として用いられる揮発性メモリとを有する。上記各種のプログラムは、光ディスク、半導体メモリ等の可搬性の記録媒体から読み取られてもよい。
The
表示部7は、液晶ディスプレイや、EL(Electro-Luminescence)ディスプレイ等により構成され、各種のデータを画面上に表示する。入力部8は、例えば、キーボード、タッチパネル等により構成され、オペレータの指示を入力する。
The
[動作説明]
次に、本実施形態に係る実装装置100の動作について説明する。図5は、実装装置100の処理を示すフローチャートである。
[Description of operation]
Next, the operation of the mounting
まず、実装装置100の制御部5は、コンベア17により基板1を搬入して基板1を所定の位置に位置決めする。次に、制御部5は、ヘッド移動機構40により実装ヘッド30をX−Y方向に移動させ、基板1上に設けられた2つのアライメントマーク2うち、一方のアライメントマーク2の上方に撮像部50を移動させる(ステップ101)。そして、制御部5は、撮像部50によりアライメントマーク2を撮像する撮像動作へと移行する。
First, the
ここで、例えば、アライメントマーク2が撮像部50により撮像されるとき、実装装置100の内部的な要因による振動や、外部的な要因による振動の影響によって、撮像部50とアライメントマーク2との相対位置がずれる場合がある。
Here, for example, when the
図6には、撮像部50及びアライメントマーク2の相対的な位置関係が示されている。図6の左側には、振動が生じていない場合の撮像部50及びアライメントマーク2の相対的な位置関係が示されている。図6の右側には、振動が生じた場合の撮像部50及びアライメントマーク2の相対的な位置関係が示されている。
FIG. 6 shows the relative positional relationship between the
実装装置100の振動の原因としては様々な原因が考えられる。例えば、振動の原因としては、実装ヘッド30が2つ設けられる場合において、一方の実装ヘッド30側の撮像部50でアライメントマーク2を撮像しているときに、他方の実装ヘッド30が駆動されることによる振動が考えられる(内部的要因)。また、この実装装置100と共に基板1の実装ラインを形成するクリーム半田印刷装置、印刷検査装置、基板検査装置、リフロー処理装置等の他の装置の駆動による振動が考えられる(外部的要因)。また、実装装置100の近くを人や物が通過したり、実装装置100が配置されている工場の近くで建設工事などが行なわれていたりすることによる振動が考えられる(外部的要因)。
Various causes can be considered as causes of the vibration of the mounting
図7は、基板1及び撮像部50の振動波形の一例を示す図である。図7には、基板1が53Hzの周波数及び±0.01mmの振幅で振動し、撮像部50が73Hzの周波数及び±0.02mmの振幅で振動する場合の一例が示されている。
FIG. 7 is a diagram illustrating an example of vibration waveforms of the
図8は、基板1及び撮像部50が図7に示すような波形で振動する場合の、基板1及び撮像部50の相対的な位置関係についての波形を示す図である。基板1及び撮像部50の相対的な位置関係の波形は、基板1の振動波形と、撮像部50の振動波形の合成波形となる。
FIG. 8 is a diagram illustrating a waveform regarding the relative positional relationship between the
図6(右側)、図7及び図8に示すように、振動の影響によって撮像部50及びアライメントマーク2の相対的な位置関係がずれてしまうと、アライメントマーク2の位置を正確に認識することができない。そこで、本実施形態に係る実装装置100では、このような振動の影響を排除する処理を実行する。
As shown in FIG. 6 (right side), FIG. 7 and FIG. 8, when the relative positional relationship between the
再び図5を参照して、アライメントマーク2の上方に撮像部50が移動されると、次に、制御部5は、アライメントマーク2の撮像回数を記憶部6から取得する(ステップ102)。撮像回数は、予め記憶部6に記憶されている。アライメントマーク2の撮像回数は、多ければ多いほど基板1の位置認識の正確性が増すが、一方で、撮像回数が多ければ多いほど基板1の位置認識の時間が延びる。
Referring to FIG. 5 again, when the
撮像部50によりアライメントマーク2を撮像する場合、1回の撮像に掛かる時間は、典型的には、50ms程度である。従って、撮像回数が1回増やされる度に50msの時間が加算されることになる。基板1の位置認識の正確性と、時間効率との両方を考慮すると、典型的には、撮像回数は、3回〜10回程度とされる。なお、撮像回数は、ここで挙げた範囲に限られるわけではなく、撮像回数は適宜変更することができる。また、この撮像回数は、オペレータが入力部8を介して値を入力することによって変更可能であってもよい。
When the
撮像回数を取得すると、次に、制御部5は、撮像部50を制御して、アライメントマーク2を撮像する(ステップ103)。そして、制御部5は、アライメントマーク2を撮像した画像を撮像部50から取得し、画像内におけるアライメントマーク位置を判定する(ステップ104)。
When the number of times of imaging has been acquired, the
次に、撮像部50は、現在のアライメントマーク2の撮像回数と、ステップ102で取得した撮像回数(3〜10回程度)とを比較し、現在のアライメントマーク2の撮像回数が、ステップ102で取得した撮像回数に到達しているかを判定する(ステップ105)。
Next, the
撮像回数に達していない場合(ステップ105のNO)、制御部5は、再びステップ103へ戻って、アライメントマーク2を撮像する。そして、制御部5は、再び、画像内におけるアライメントマーク位置を判定し(ステップ104)、現在の撮像回数が、ステップ102で取得した撮像回数に到達したかどうかを判定する(ステップ105)。
If the number of imaging has not been reached (NO in step 105), the
このような処理により、撮像回数に到達するまでの間、一定の周期(50ms程度)でアライメントマーク2の撮像が繰り返される。基板1及び撮像部50の相対位置の波形は、実際には、不規則な波形であるため、規則的な周期でアライメントマーク2を撮像しても、適切にランダムサンプリングを行なうことができる。
By such processing, imaging of the
撮像回数に到達した場合(ステップ105のYES)、制御部5は、取得された複数(3個〜10個程度)のアライメントマーク位置に基づいて、アライメントマーク位置の平均値を算出する。
When the number of times of imaging has been reached (YES in step 105), the
図9は、基板1及び撮像部50の相対位置が図8に示す波形で変化する場合において、50msの周期でアライメントマーク2を5回撮像したときのアライメントマーク位置と、このアライメントマーク位置の平均値との関係を示す図である。
FIG. 9 shows the alignment mark position when the
図9の最上段には、最初にアライメントマーク2を撮像するタイミングを0秒として、50msの周期でアライメントマーク2を5回撮像したときのアライメントマーク位置と、アライメントマーク位置の平均値とが示されている。この場合のアライメンマーク位置の平均値は、約−0.0033mmとなる。
9 shows the alignment mark position and the average value of the alignment mark positions when the
図9の2段目以降には、アライメントマーク2の撮像開始タイミングを7msずつづらして、50msの周期でアライメントマーク2を5回撮像したときのアライメントマーク位置と、アライメントマーク位置の平均値とが示されている。アライメントマーク2の撮像開始タイミングが7、14、21、28msである場合、アライメントマーク位置の平均値は約0.0020、−0.0013、0.0015、−0.0025mmであることが分かる。
From the second stage onward in FIG. 9, the alignment mark position when the imaging start timing of the
これらのアライメントマーク位置の平均値の絶対値を取って、平均化すると、約0.0021mmとなる。すなわち、どのようなタイミングでアライメントマーク2の撮像を開始しても、アライメントマーク2を5回程度撮像すれば、振動が生じていないときのアライメントマーク位置(この例では、0)に対するずれ量は、約0.0021mm程度の値となる。
When the absolute value of the average value of these alignment mark positions is taken and averaged, it is about 0.0021 mm. That is, no matter what timing the imaging of the
このように、アライメントマーク位置の平均値を用いることで、1回だけアライメントマーク2を撮像する場合に比べて、振動が生じていない状態でのアライメントマーク位置に近い値を得ることができる。なお、アライメントマーク2の撮像回数及びアライメントマーク位置のサンプル数を増やせば増やすほど、振動が生じていない状態でのアライメントマーク位置に近づく確率が高くなることになる。
In this way, by using the average value of the alignment mark positions, it is possible to obtain a value close to the alignment mark position in a state where no vibration is generated as compared with the case where the
図9には、アライメントマーク2を撮像する各タイミングにおけるアライメントマーク位置の最大値及び最小値と、最大値及び最小値の差も示されている。また、図9には、これらの値の平均値も示されている。
FIG. 9 also shows the maximum and minimum values of the alignment mark position and the difference between the maximum and minimum values at each timing when the
再び図5を参照して、アライメントマーク位置の平均値を算出すると、次に、制御部5は、基板1上のアライメントマーク2を全て撮像したかを判定する(ステップ107)。全てのアライメントマーク2の撮像を終えていない場合(ステップ107のNO)、制御部5は、ステップ101へ戻り、次に撮像される予定のアライメントマーク2の上方の位置へ撮像部50を移動させる。その後、制御部5は、先ほどと同様に、ステップ102〜ステップ107の処理を実行する。アライメントマーク2を撮像する順番にとくに制限はない。
Referring to FIG. 5 again, when the average value of the alignment mark positions is calculated, the
このような処理により、基板1上に設けられた全てのアライメントマーク2についてのアライメントマーク位置の平均値が算出される。本実施形態では、アライメントマーク2の数が2つとされているため、取得されるアライメントマーク位置の平均値の数は、2つとされる。
By such processing, the average value of the alignment mark positions for all the alignment marks 2 provided on the
全てのアライメントマーク2の撮像を終えた場合(ステップ107のYES)、制御部5は、取得されたアライメントマーク位置の平均値に基づいて、基板1の位置を認識する(ステップ108)。このとき、例えば、制御部5は、取得された2つの平均値のうち一方の平均値に基づいて、電子部品3の実装位置データのXY方向のずれ量を補正したり、2つの平均値の角度に基づいてθ方向の角度を補正したりする。また、制御部5は、2つの平均値の距離に基づいて実装位置データの倍率を補正したりする。
When all the alignment marks 2 have been imaged (YES in step 107), the
本実施形態に係る実装装置100では、アライメントマーク2を複数回撮像することによって取得されるアライメントマーク位置の平均値が基板1の位置認識に用いられるため、振動が発生した場合でも、基板1の正確な位置を認識することができる。
In the mounting
基板1の位置を認識すると、次に、制御部5は、実装ヘッド30を供給部20上に移動させ、複数の吸着ノズル31に電子部品3を吸着させる。その後、制御部5は、基板1上に実装ヘッド30を移動させ、吸着ノズル31に吸着された電子部品3を基板1上に実装する。本実施形態では、振動が生じた場合でも、基板1の位置を正確に認識することができるので、振動が生じた場合でも、基板1上の正確な位置に電子部品3を実装することができる。
If the position of the board |
<第2実施形態>
次に、本技術の第2実施形態について説明する。第2実施形態以降の説明では、上述の第1実施形態と同様の構成及び機能を有する部材については、同一符号を付し、説明を省略又は簡略化する。
Second Embodiment
Next, a second embodiment of the present technology will be described. In the description after the second embodiment, members having the same configurations and functions as those of the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and the description thereof is omitted or simplified.
上述の第1実施形態では、アライメントマーク2が撮像部50により一定の周期(50ms程度)で撮像される場合について説明した。一方、第2実施形態では、アライメントマーク2が撮像部50によりランダムな周期で撮像される点で上述の第1実施形態と異なっている。従って、その点を中心に説明する。
In the first embodiment described above, the case where the
図10は、第2実施形態に係る実装装置100の処理を示すフローチャートである。図10に示すフローチャートは、ステップ209及びステップ210が加えられている点を除いて、図5に示すフローチャートと同じである。
FIG. 10 is a flowchart showing processing of the mounting
実装装置100の制御部5は、アライメントマーク2の撮像回数を記憶部6から取得し(ステップ202)、撮像部50によりアライメントマーク2を撮像する(ステップ203)。次に、制御部5は、画像内におけるアライメントマーク位置を判定し(ステップ204)、現在の撮像回数がステップ202で取得した撮像回数に到達したか否かを判定する(ステップ205)
The
到達していない場合(ステップ205のNO)、制御部5は、撮像間隔にディレイを加えるかどうかを判定する(ステップ209)。ディレイが加えられるタイミングは、定期的なタイミングであってもよいし、ランダムなタイミングであってもよい。例えば、全部で6回の撮像が行なわれる場合、2回目、4回目、6回目の撮像の前にディレイが加えられてもよいし(定期的なタイミング)、3回目、4回目の撮像の前にディレイが加えられてもよい(ランダムなタイミング)。
If not reached (NO in step 205), the
ディレイが加えられるタイミングは、入力部8を介してオペレータによって予め設定されていてもよい。あるいは、ディレイが加えられるタイミングがランダムなタイミングである場合には、制御部5が自動でランダムにそのタイミングを選択するように設計することもできる。
The timing at which the delay is added may be preset by the operator via the
ディレイが加えられると判定された場合(ステップ209のYES)、制御部5は、撮像間隔のディレイを実行する(ステップ210)。1回の撮像に掛かる時間が50msとした場合、ディレイの時間は、典型的には、5ms〜20ms程度とされる。ディレイの時間は、規定の時間であってもよいし、ランダムな時間であってもよい。
When it is determined that a delay is added (YES in step 209), the
ディレイを実行すると、制御部5は、再び203へ戻って撮像部50によりアライメントマーク2を撮像する。ディレイが加えられるタイミングではない場合(ステップ209のNO)、制御部5は、ディレイを加える処理を実行せずに、ステップ203へ戻る。
When the delay is executed, the
このような処理により、アライメントマーク2の撮像周期がランダムになり、ランダムサンプリングのランダム性がさらに向上し、アライメントマーク2の平均値をさらに正確な値として算出することができる。
<第3実施形態>
By such processing, the imaging cycle of the
<Third Embodiment>
次に、本技術の第3実施形態について説明する。図11は、第3実施形態に係る実装装置100の処理を示すフローチャートである。第3実施形態では、アライメントマーク位置の平均値を算出するために集められた複数のアライメントマーク位置のデータを振動検出に応用している。
Next, a third embodiment of the present technology will be described. FIG. 11 is a flowchart showing processing of the mounting
まず、実装装置100の制御部5は、アライメントマーク位置の平均値を算出するために集められた複数のアライメントマーク位置を記憶部6から取得する(ステップ301)。例えば、図9の最上段に示す例において、−0.009921、−0.009335、0.020895、−0.015229、−0.002993mmの5つのアライメントマーク位置が取得される。
First, the
ステップ301の処理は、アライメントマーク位置の平均値を算出するための複数のアライメントマーク位置が集められた後(図5のステップ105のYESの後、図10のステップ205のYESの後)に実行される。
The process of step 301 is executed after a plurality of alignment mark positions for calculating the average value of the alignment mark positions are collected (after YES in step 105 in FIG. 5 and after YES in step 205 in FIG. 10). Is done.
複数のアライメントマーク位置を取得すると、次に、制御部5は、この複数のアライメントマーク位置に基づいて、アライメントマーク位置のばらつきの度合いを判定する(ステップ302)。ばらつきの度合いは、例えば、アライメントマーク位置の標準偏差を求めることで判定することができる。
When the plurality of alignment mark positions are acquired, the
ここで、基板1及び撮像部50の相対的な振動(振幅)と、複数回撮像におけるアライメントマーク位置のばらつきの度合いとの間には、相関関係がある。つまり、振動(振幅)が大きい場合にはアライメントマーク位置のばらつきの度合いが大きくなり、振動(振幅)が小さい場合にはアライメントマーク位置のばらつきの度合いが小さくなる。第3実施形態に係る実装装置100では、この関係を利用している。
Here, there is a correlation between the relative vibration (amplitude) of the
アライメントマーク位置のばらつきの度合いを判定すると、次に、制御部5は、ばらつきの度合いに応じて、アライメントマーク2の撮像回数(図5のステップ102、図10のステップ202参照)を可変に制御する。この場合、制御部5は、ばらつきの度合いが大きいほどアライメントマーク2の撮像回数が多くなるように、アライメントマーク2の撮像回数を制御する。逆に言えば、制御部5は、ばらつきの度合いが小さいほどアライメントマーク2の撮像回数が少なくなるように、アライメントマーク2の撮像回数を制御する。アライメントマーク2の撮像回数は、最小で3回、最大で10回程度とされる。
When the degree of variation in the alignment mark position is determined, the
アライメントマーク2の撮像回数が変更されると、次の基板1のアライメントマーク2が撮像されるとき、その変更された撮像回数でアライメントマーク2が撮像される。
When the number of imaging of the
アライメントマーク2の撮像回数が同じであると仮定した場合、振動が大きくなるほど、アライメントマーク位置の平均値が、振動が生じていないときのアライメントマーク位置に対して不正確な値を取り易い。一方、この実装装置100では、アライメントマーク位置のばらつきの度合いが大きいほど(つまり、振動が大きいほど)、アライメントマーク2の撮像回数が多くなるため、振動が大きい状況下でも、アライメントマーク位置の平均値を正確な値として算出することができる。
Assuming that the number of times the
また、アライメントマーク2の平均値が正確な値として算出されやすい振動が小さい状況下では、アライメントマーク2の撮像回数が少なくされる。これにより、実装装置100による基板1の位置認識速度を向上させることができ、結果として、基板1の生産効率を向上させることができる。このように、この実装装置100は、振動の大きさに応じて、適切にアライメントマーク2の撮像回数を変更することができる。
In addition, the number of times that the
<第4実施形態>
次に、本技術の第4実施形態について説明する。図12は、第4実施形態に係る実装装置100の処理を示すフローチャートである。
<Fourth embodiment>
Next, a fourth embodiment of the present technology will be described. FIG. 12 is a flowchart showing processing of the mounting
まず、実装装置100の制御部5は、アライメントマーク位置の平均値を算出するために集められた複数のアライメントマーク位置を記憶部6から取得する(ステップ401)。例えば、図9の最上段に示す例において、−0.00921、−0.009335、0.020895、−0.015229、−0.002993mmの5つのアライメントマーク位置が取得される。
First, the
次に、制御部5は、この複数のアライメントマーク位置に基づいて、アライメントマーク位置のばらつきの度合いを判定する(ステップ402)。次に、制御部5は、複数のアライメントマーク2の画像が撮像されたときの時刻と、アライメントマーク位置のばらつきの度合いとを関連づけて記憶部6に記憶する(ステップ403)。
Next, the
次に、制御部5は、この処理が開始されてから1日が経過したかどうかを判定する(ステップ404)。1日が経過していない場合(ステップ404のNO)、制御部5は、ステップ401へ戻って、複数のアライメントマーク位置を記憶部6から取得する。このような処理により、時刻と、ばらつきの度合い(振動)と関係性を示す1日分のデータが記憶部6に記憶される。一般的には、昼間の方が夜よりも振動が大きいと考えられ、このような時刻及び振動の関係性を示すデータが記憶部6に記憶されることになる。
Next, the
1日が経過した場合(ステップ404のYES)、制御部5は、時刻と、ばらつきの度合い(振動)との1日分のデータに基づいて、ばらつきの度合い(振動)が大きい時間帯を判定する(ステップ405)。そして、制御部5は、ばらつきの度合い(振動)の大きい時間帯ほど、アライメントマーク2の撮像回数が多くなるように、撮像回数(図5ステップ102、図10ステップ202参照)を可変に制御する(ステップ406)。
When one day has elapsed (YES in step 404), the
これにより、1日のうちで振動が大きい時間帯でアライメントマーク2の撮像回数が多くされ、振動が小さい時間帯でアライメントマーク2の撮像回数が少なくされる。これにより、振動の大きさに応じて、適切にアライメントマーク2の撮像回数を変更することができる。
Thereby, the imaging | photography frequency of the
ここでの説明では、時刻及びばらつきの度合い(振動)の1日分のデータに基づいて、時間帯に応じた撮像回数が設定されるとして説明した。一方、時刻及びばらつきの度合い(振動)のデータは、1週間や1ヶ月単位で収集されてもよい。 In the description here, the number of times of imaging corresponding to the time zone is set based on the data for one day of the time and the degree of variation (vibration). On the other hand, data of time and degree of variation (vibration) may be collected in units of one week or one month.
制御部5は、時刻と、ばらつきの度合い(振動)との関係性を示す1日分(あるいはそれ以上)のデータを表示部7の画面上に表示させてもよい。オペレータは、このデータを視認することで、どの時間帯に振動が生じているのかを認識することができる。また、実装装置100が時間帯に関係なく定常的に振動している場合に、オペレータは、画面上に表示されるデータを見ることでこの定常的な振動を認識することができる。この場合、オペレータは、実装装置100に防振対策が必要であると認識することができ、オペレータは、このような認識のもと、実装装置100に防振対策を施すことができる。
<各種変形例>
The
<Various modifications>
以上の説明では、本技術に係る認識装置の一例として実装装置100を例に挙げて説明した。しかし、認識装置は、実装装置100に限られない。例えば、認識装置は、クリーム半田印刷装置、印刷検査装置、基板検査装置などの他の装置であってもよい。典型的には、アライメントマーク2が用いられる位置認識が実行される装置であれば、認識装置は、どのような装置であっても構わない。
In the above description, the mounting
以上の説明では、認識対象物の一例として基板1を例に挙げて説明したが、認識対象物は、基板1に限られない。典型的には、認識対象物は、アライメントマーク2を備えている物体であれば、どのような物体でも構わない。例えば、実装装置100において、供給部20の供給位置を認識するために、供給部20(認識対象物)にアライメントマーク2が設けられる場合がある。また、クリーム半田印刷装置のスクリーンの位置を認識するために、スクリーン(認識対象物)にアライメントマーク2が設けられる場合もある。
In the above description, the
本技術は、以下の構成をとることもできる。
(1) 認識対象物に設けられたアライメントマークを撮像する撮像部と、
前記撮像部により前記アライメントマークを複数回撮像し、撮像された複数の画像内でのアライメントマーク位置を判定し、判定された前記アライメントマーク位置の平均値を算出し、算出された前記平均値に応じて前記認識対象物の位置を認識する制御部と
を具備する認識装置。
(2) 上記(1)に記載の認識装置であって、
前記制御部は、前記複数の画像内でのアライメントマーク位置に基づいて、前記アライメントマーク位置のばらつきの度合いを判定し、前記ばらつきの度合い応じて、前記アライメントマークの撮像回数を可変に制御する
認識装置。
(3) 上記(2)に記載の認識装置であって、
前記制御部は、前記ばらつきの度合いが大きいほど前記アライメントマークの撮像回数が多くなるように、前記アライメントマークの撮像回数を制御する
認識装置。
(4) 上記(3)に記載の認識装置であって、
記憶部をさらに具備し、
前記制御部は、前記複数の画像が撮像されたときの時刻と、前記ばらつきの度合いとを関連付けて前記記憶部に記憶し、前記時刻及び前記ばらつきの度合いのデータに基づいて前記ばらつきの度合いが大きい時間帯を判定し、前記ばらつきの度合いが大きい時間帯ほど前記アライメントマークの撮像回数が多くなるように、前記アライメントマークの撮像回数を制御する
認識装置。
(5) 上記(1)〜(4)のうちいずれか1つに記載の認識装置であって、
前記制御部は、前記撮像部により一定の周期で前記アライメントマークを複数回撮像する
認識装置。
(6) 上記(1)〜(4)のうちいずれか1つに記載の認識装置であって、
前記制御部は、前記撮像部によりランダムな周期で前記アライメントマークを複数回撮像する
認識装置。
(7) 上記(6)に記載の認識装置であって、
前記制御部は、一定の周期にランダムなディレイを加えることで、ランダムな周期で前記アライメントマークを複数回撮像する
認識装置。
(8) 認識対象物に設けられたアライメントマークを複数回撮像し、
撮像された複数の画像内でのアライメントマーク位置を判定し、
判定された前記アライメントマーク位置の平均値を算出し、
算出された前記平均値に応じて前記認識対象物の位置を認識する
認識方法。
(9) 認識装置に、
認識対象物に設けられたアライメントマークを複数回撮像するステップと、
撮像された複数の画像内でのアライメントマーク位置を判定するステップと、
判定された前記アライメントマーク位置の平均値を算出するステップと、
算出された前記平均値に応じて前記認識対象物の位置を認識するステップと
を実行させるプログラム。
(10) 基板に設けられたアライメントマークを複数回撮像し、
撮像された複数の画像内でのアライメントマーク位置を判定し、
判定された前記アライメントマーク位置の平均値を算出し、
算出された前記平均値に応じて前記基板の位置を認識し、
認識した前記基板の位置に応じて、前記基板上に電子部品を実装する
基板の製造方法。
This technique can also take the following composition.
(1) an imaging unit that images an alignment mark provided on the recognition object;
The imaging unit images the alignment mark a plurality of times, determines alignment mark positions in the plurality of captured images, calculates an average value of the determined alignment mark positions, and calculates the calculated average value. And a control unit for recognizing the position of the recognition target object.
(2) The recognition device according to (1) above,
The control unit determines a degree of variation in the alignment mark position based on alignment mark positions in the plurality of images, and variably controls the number of times the alignment mark is imaged according to the degree of variation. apparatus.
(3) The recognition device according to (2) above,
The control unit controls the number of imaging of the alignment mark so that the number of imaging of the alignment mark increases as the degree of variation increases.
(4) The recognition device according to (3) above,
A storage unit;
The control unit associates and stores the time when the plurality of images are captured and the degree of variation in the storage unit, and the degree of variation is based on the time and the degree of variation data. A recognition apparatus that determines a large time zone and controls the number of imaging of the alignment mark so that the number of imaging times of the alignment mark increases in a time zone with a larger degree of variation.
(5) The recognition device according to any one of (1) to (4) above,
The said control part is a recognition apparatus which images the said alignment mark in multiple times with a fixed period by the said imaging part.
(6) The recognition device according to any one of (1) to (4) above,
The said control part is a recognition apparatus which images the said alignment mark in multiple times with a random period by the said imaging part.
(7) The recognition device according to (6) above,
The control unit is configured to add a random delay to a certain period to image the alignment mark a plurality of times at a random period.
(8) Image the alignment mark provided on the recognition object multiple times,
Determine the alignment mark position in the captured multiple images,
Calculate the average value of the determined alignment mark positions,
A recognition method for recognizing the position of the recognition object according to the calculated average value.
(9) In the recognition device,
Imaging the alignment mark provided on the recognition target object a plurality of times;
Determining alignment mark positions in a plurality of captured images;
Calculating an average value of the determined alignment mark positions;
Recognizing the position of the recognition object according to the calculated average value.
(10) Image the alignment mark provided on the substrate multiple times,
Determine the alignment mark position in the captured multiple images,
Calculate the average value of the determined alignment mark positions,
Recognizing the position of the substrate according to the calculated average value,
A method for manufacturing a substrate, wherein electronic components are mounted on the substrate in accordance with the recognized position of the substrate.
1…基板
2…アライメントマーク
3…電子部品
5…制御部
6…記憶部
15…搬送部
20…供給部
30…実装ヘッド
50…撮像部
100…実装装置
DESCRIPTION OF
Claims (10)
前記撮像部により前記アライメントマークを複数回撮像し、撮像された複数の画像内でのアライメントマーク位置を判定し、判定された前記アライメントマーク位置の平均値を算出し、算出された前記平均値に応じて前記認識対象物の位置を認識する制御部とを具備し、
前記制御部は、判定された前記複数の画像内でのアライメントマーク位置に基づいて、認識装置に発生する振動に起因する、前記アライメントマーク位置のばらつきの度合いを判定し、前記ばらつきの度合い応じて、前記アライメントマークの撮像回数を可変に制御する
認識装置。 An imaging unit for imaging the alignment mark provided on the recognition object;
The imaging unit images the alignment mark a plurality of times, determines alignment mark positions in the plurality of captured images, calculates an average value of the determined alignment mark positions, and calculates the calculated average value. accordance with the position of the recognition object; and a recognizing control unit,
The control unit determines a degree of variation in the alignment mark position caused by vibration generated in the recognition device based on the determined alignment mark positions in the plurality of images, and according to the degree of variation. A recognition device that variably controls the number of times the alignment mark is imaged .
前記制御部は、前記ばらつきの度合いが大きいほど前記アライメントマークの撮像回数が多くなるように、前記アライメントマークの撮像回数を制御する
認識装置。 The recognition device according to claim 1 ,
The control unit controls the number of imaging of the alignment mark so that the number of imaging of the alignment mark increases as the degree of variation increases.
記憶部をさらに具備し、
前記制御部は、前記複数の画像が撮像されたときの時刻と、前記ばらつきの度合いとを関連付けて前記記憶部に記憶し、前記時刻及び前記ばらつきの度合いのデータに基づいて前記ばらつきの度合いが大きい時間帯を判定し、前記ばらつきの度合いが大きい時間帯ほど前記アライメントマークの撮像回数が多くなるように、前記アライメントマークの撮像回数を制御する
認識装置。 The recognition device according to claim 2 ,
A storage unit;
The control unit associates and stores the time when the plurality of images are captured and the degree of variation in the storage unit, and the degree of variation is based on the time and the degree of variation data. A recognition apparatus that determines a large time zone and controls the number of imaging of the alignment mark so that the number of imaging times of the alignment mark increases in a time zone with a larger degree of variation.
前記制御部は、前記撮像部により一定の周期で前記アライメントマークを複数回撮像する
認識装置。 The recognition device according to claim 1,
The said control part is a recognition apparatus which images the said alignment mark in multiple times with a fixed period by the said imaging part.
前記制御部は、前記撮像部によりランダムな周期で前記アライメントマークを複数回撮像する
認識装置。 The recognition device according to claim 1,
The said control part is a recognition apparatus which images the said alignment mark in multiple times with a random period by the said imaging part.
前記制御部は、一定の周期にランダムなディレイを加えることで、ランダムな周期で前記アライメントマークを複数回撮像する
認識装置。 The recognition device according to claim 5 ,
The control unit is configured to add a random delay to a certain period to image the alignment mark a plurality of times at a random period.
認識対象物に設けられたアライメントマークを撮像する撮像部と、
前記撮像部により前記アライメントマークを複数回撮像し、撮像された複数の画像内でのアライメントマーク位置を判定し、判定された前記アライメントマーク位置の平均値を算出し、算出された前記平均値に応じて前記認識対象物の位置を認識する制御部とを具備し、
前記制御部は、前記複数の画像内でのアライメントマーク位置に基づいて、前記アライメントマーク位置のばらつきの度合いを判定し、前記ばらつきの度合いが大きいほど前記アライメントマークの撮像回数が多くなるように、前記アライメントマークの撮像回数を制御するものであり、前記複数の画像が撮像されたときの時刻と、前記ばらつきの度合いとを関連付けて前記記憶部に記憶し、前記時刻及び前記ばらつきの度合いのデータに基づいて前記ばらつきの度合いが大きい時間帯を判定し、前記ばらつきの度合いが大きい時間帯ほど前記アライメントマークの撮像回数が多くなるように、前記アライメントマークの撮像回数を制御する
認識装置。 A storage unit;
An imaging unit for imaging the alignment mark provided on the recognition object;
The imaging unit images the alignment mark a plurality of times, determines alignment mark positions in the plurality of captured images, calculates an average value of the determined alignment mark positions, and calculates the calculated average value. accordance with the position of the recognition object; and a recognizing control unit,
The controller determines the degree of variation of the alignment mark position based on the alignment mark position in the plurality of images, and the greater the degree of variation, the greater the number of times the alignment mark is imaged. The number of times the alignment mark is imaged is controlled, the time when the plurality of images are captured and the degree of variation are stored in the storage unit in association with each other, and the time and the degree of variation data A recognition apparatus that determines a time period in which the degree of variation is large based on the control and controls the number of times the alignment mark is imaged so that the number of times the alignment mark is imaged increases in a time period in which the degree of variation is large .
撮像された複数の画像内でのアライメントマーク位置を判定し、
判定された前記アライメントマーク位置の平均値を算出し、
算出された前記平均値に応じて前記認識対象物の位置を認識する、認識装置による認識方法であって、
判定された前記複数の画像内でのアライメントマーク位置に基づいて、前記認識装置に発生する振動に起因する、前記アライメントマーク位置のばらつきの度合いを判定し、前記ばらつきの度合い応じて、前記アライメントマークの撮像回数を可変に制御する
認識方法。 Image the alignment mark provided on the recognition object multiple times,
Determine the alignment mark position in the captured multiple images,
Calculate the average value of the determined alignment mark positions,
A recognition method by a recognition device for recognizing the position of the recognition object according to the calculated average value ,
Based on the determined alignment mark positions in the plurality of images, the degree of variation of the alignment mark position due to vibration generated in the recognition device is determined, and the alignment mark is determined according to the degree of variation. Recognition method for variably controlling the number of times of imaging .
認識対象物に設けられたアライメントマークを複数回撮像するステップと、
撮像された複数の画像内でのアライメントマーク位置を判定するステップと、
判定された前記アライメントマーク位置の平均値を算出するステップと、
算出された前記平均値に応じて前記認識対象物の位置を認識するステップとを実行させるプログラムであって、
判定された前記複数の画像内でのアライメントマーク位置に基づいて、前記認識装置に発生する振動に起因する、前記アライメントマーク位置のばらつきの度合いを判定し、前記ばらつきの度合い応じて、前記アライメントマークの撮像回数を可変に制御するステップを、認識装置に実行させる
プログラム。 In the recognition device,
Imaging the alignment mark provided on the recognition target object a plurality of times;
Determining alignment mark positions in a plurality of captured images;
Calculating an average value of the determined alignment mark positions;
Recognizing the position of the recognition object according to the calculated average value ,
Based on the determined alignment mark positions in the plurality of images, the degree of variation of the alignment mark position due to vibration generated in the recognition device is determined, and the alignment mark is determined according to the degree of variation. A program for causing the recognition apparatus to execute a step of variably controlling the number of times of imaging .
撮像された複数の画像内でのアライメントマーク位置を判定し、
判定された前記アライメントマーク位置の平均値を算出し、
算出された前記平均値に応じて前記基板の位置を認識し、
認識した前記基板の位置に応じて、前記基板上に電子部品を実装する、実装装置による基板の製造方法であって、
判定された前記複数の画像内でのアライメントマーク位置に基づいて、前記実装装置に発生する振動に起因する、前記アライメントマーク位置のばらつきの度合いを判定し、前記ばらつきの度合い応じて、前記アライメントマークの撮像回数を可変に制御する
基板の製造方法。 Image the alignment mark provided on the substrate multiple times,
Determine the alignment mark position in the captured multiple images,
Calculate the average value of the determined alignment mark positions,
Recognizing the position of the substrate according to the calculated average value,
According to the recognized position of the substrate, an electronic component is mounted on the substrate, and a substrate manufacturing method using a mounting apparatus,
Based on the determined alignment mark positions in the plurality of images, a degree of variation in the alignment mark position caused by vibration generated in the mounting apparatus is determined, and the alignment mark is determined according to the degree of variation. Manufacturing method for variably controlling the number of times of imaging .
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JP6599286B2 (en) * | 2016-06-17 | 2019-10-30 | ヤマハ発動機株式会社 | Board work equipment |
WO2024018937A1 (en) * | 2022-07-21 | 2024-01-25 | ボンドテック株式会社 | Joining method and joining apparatus |
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JP4408515B2 (en) * | 2000-02-09 | 2010-02-03 | パナソニック株式会社 | Calibration method and calibration apparatus for electronic component mounting apparatus |
JP4715009B2 (en) * | 2001-03-26 | 2011-07-06 | ソニー株式会社 | How to recognize workpiece reference marks |
JP4128156B2 (en) * | 2004-06-03 | 2008-07-30 | 松下電器産業株式会社 | Component mounting method and apparatus |
JP4657834B2 (en) * | 2005-06-30 | 2011-03-23 | ヤマハ発動機株式会社 | Component mounting method and surface mounter |
JP2007155356A (en) * | 2005-11-30 | 2007-06-21 | Toshiba Corp | Range finder and distance measuring method |
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