JP5995307B2 - Recognition device, recognition method, program, and board manufacturing method - Google Patents

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本技術は、基板等の認識対象物の位置を認識する認識装置、認識方法及び基板の製造方法に関する。   The present technology relates to a recognition device that recognizes the position of a recognition object such as a substrate, a recognition method, and a substrate manufacturing method.

従来から、基板等の認識対象物の位置を認識するための方法として、認識対象物に設けられたアライメントマークを撮像部によって撮像することで認識対象物の位置を認識する方法が広く用いられている。   Conventionally, as a method for recognizing the position of a recognition target object such as a substrate, a method of recognizing the position of the recognition target object by imaging an alignment mark provided on the recognition target object with an imaging unit has been widely used. Yes.

下記特許文献1には、基板上の2箇所に設けられたアライメントマークを上方から撮像部によってそれぞれ撮像し、撮像部によって得られたデータに基づいて電子部品の実装位置を補正する実装装置に関する技術が記載されている。   Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-259542 discloses a mounting apparatus that images an alignment mark provided at two locations on a substrate with an imaging unit from above and corrects a mounting position of an electronic component based on data obtained by the imaging unit. Is described.

特開2002−076694号公報(段落[0002]〜[0006]図12、図13等)JP 2002-076694 A (paragraphs [0002] to [0006] FIG. 12, FIG. 13 etc.)

実装装置等の装置は、装置の内部的な要因による振動(例えば、装置の駆動による振動)や、外部的な要因による振動(例えば、他の装置の駆動による振動、人、物が装置の近くを通過することによる振動)によって、振動する場合がある。   A device such as a mounting device has vibrations due to internal factors of the device (for example, vibration due to driving of the device) or vibrations due to external factors (for example, vibration due to driving of other devices, people, objects are close to the device) May vibrate due to vibrations caused by passing through.

装置が振動してしまうと、撮像部がアライメントマークを撮像するときに、撮像部と、アライメントマークとの相対位置がずれてしまう。これにより、正確なアライメントマークの位置を取得することができず、結果として、基板等の認識対象物の正確な位置を認識することができないといった問題がある。   When the apparatus vibrates, the relative position between the imaging unit and the alignment mark is shifted when the imaging unit images the alignment mark. As a result, there is a problem in that an accurate alignment mark position cannot be obtained, and as a result, an accurate position of a recognition target such as a substrate cannot be recognized.

以上のような事情に鑑み、本技術の目的は、振動が発生した場合でも、認識対象物の正確な位置を認識することができる認識装置等の技術を提供することにある。   In view of the circumstances as described above, an object of the present technology is to provide a technology such as a recognition device that can recognize an accurate position of a recognition target object even when vibration occurs.

本技術に係る認識装置は、撮像部と、制御部とを具備する。
前記撮像部は、認識対象物に設けられたアライメントマークを撮像する。
前記制御部は、前記撮像部により前記アライメントマークを複数回撮像し、撮像された複数の画像内でのアライメントマーク位置を判定し、判定された前記アライメントマークの位置の平均値を算出し、算出された前記平均値に応じて前記認識対象物の位置を認識する。
The recognition apparatus according to the present technology includes an imaging unit and a control unit.
The imaging unit images an alignment mark provided on the recognition object.
The control unit images the alignment mark a plurality of times by the imaging unit, determines alignment mark positions in the plurality of captured images, calculates an average value of the determined alignment mark positions, and calculates The position of the recognition object is recognized according to the average value.

本技術に係る認識装置では、アライメントマークを複数回撮像することによって取得されるアライメントマーク位置の平均値が認識対象物の位置認識に用いられるため、振動が発生した場合でも、認識対象物の正確な位置を認識することができる。   In the recognition apparatus according to the present technology, the average value of the alignment mark positions acquired by imaging the alignment mark multiple times is used for position recognition of the recognition target object. Position can be recognized.

上記認識装置において、前記制御部は、前記複数の画像内でのアライメントマーク位置に基づいて、前記アライメントマーク位置のばらつきの度合いを判定し、前記ばらつきの度合い応じて、前記アライメントマークの撮像回数を可変に制御してもよい。   In the recognition apparatus, the control unit determines the degree of variation in the alignment mark position based on the alignment mark position in the plurality of images, and determines the number of times the alignment mark is imaged according to the degree of variation. It may be variably controlled.

振動(振幅)と、複数回撮像におけるアライメントマーク位置のばらつきの度合いとの間には、相関関係がある。つまり、振動(振幅)が大きい場合にはアライメントマーク位置のばらつきの度合いが大きくなり、振動(振幅)が小さい場合にはアライメントマーク位置のばらつきの度合いが小さくなる。この認識装置では、この関係を利用して、ばらつきの度合いに応じて(つまり、振動の大きさに応じて)、アライメントマークの撮像回数を可変に制御する処理を実行している。   There is a correlation between the vibration (amplitude) and the degree of variation of the alignment mark position in the multiple imaging. That is, when the vibration (amplitude) is large, the degree of variation in the alignment mark position is large, and when the vibration (amplitude) is small, the degree of variation in the alignment mark position is small. This recognition apparatus uses this relationship to execute a process of variably controlling the number of times the alignment mark is imaged in accordance with the degree of variation (that is, in accordance with the magnitude of vibration).

上記認識装置において、前記制御部は、前記ばらつきの度合いが大きいほど前記アライメントマークの撮像回数が多くなるように、前記アライメントマークの撮像回数を制御してもよい。   In the recognition apparatus, the control unit may control the number of times the alignment mark is imaged so that the greater the degree of variation, the greater the number of times the alignment mark is imaged.

この認識装置は、振動の大きさに応じて、適切にアライメントマークの撮像回数を変更することができる。   This recognition apparatus can appropriately change the number of times the alignment mark is imaged according to the magnitude of vibration.

上記認識装置は、記憶部をさらに具備していてもよい。この場合、前記制御部は、前記複数の画像が撮像されたときの時刻と、前記ばらつきの度合いとを関連付けて前記記憶部に記憶し、前記時刻及び前記ばらつきの度合いのデータに基づいて前記ばらつきの度合いが大きい時間帯を判定し、前記ばらつきの度合いが大きい時間帯ほど前記アライメントマークの撮像回数が多くなるように、前記アライメントマークの撮像回数を制御してもよい。   The recognition device may further include a storage unit. In this case, the control unit stores the time when the plurality of images are captured and the degree of variation in the storage unit in association with each other, and the variation based on the time and the variation degree data. It is also possible to determine a time zone in which the degree of the image is large, and to control the number of times the alignment mark is imaged so that the number of times the alignment mark is imaged increases in the time zone in which the degree of variation is large.

この認識装置では、1日のうちで振動が大きい時間帯でアライメントマークの撮像回数が多くされ、振動が小さい時間帯でアライメントマークの撮像回数が少なくされる。   In this recognition device, the number of imaging of the alignment mark is increased in a time zone in which vibration is large in one day, and the number of imaging of the alignment mark is decreased in a time zone in which vibration is small.

上記認識装置において、前記制御部は、前記撮像部により一定の周期で前記アライメントマークを複数回撮像してもよい。   In the recognition apparatus, the control unit may image the alignment mark a plurality of times with a certain period by the imaging unit.

一定の周期でアライメントマークを撮像してもランダムサンプリングとなり、アライメントマークの平均値を正確な値として算出することができる。   Even if the alignment mark is imaged at a fixed period, random sampling is performed, and the average value of the alignment mark can be calculated as an accurate value.

上記認識装置において、前記制御部は、前記撮像部によりランダムな周期で前記アライメントマークを複数回撮像してもよい。   The said recognition apparatus WHEREIN: The said control part may image the said alignment mark in multiple times with a random period by the said imaging part.

このように、ランダムな周期でアライメントマークを撮像した場合、ランダムサンプリングのランダム性がさらに向上し、アライメントマークの平均値をさらに正確な値として算出することができる。   Thus, when the alignment mark is imaged at a random cycle, the randomness of random sampling is further improved, and the average value of the alignment mark can be calculated as a more accurate value.

上記認識装置において、前記制御部は、一定の周期にランダムなディレイを加えることで、ランダムな周期で前記アライメントマークを複数回撮像してもよい。   In the recognition apparatus, the control unit may capture the alignment mark multiple times with a random cycle by adding a random delay to the constant cycle.

本技術に係る認識方法は、認識対象物に設けられたアライメントマークを複数回撮像することを含む。
撮像された複数の画像内でのアライメントマーク位置が判定される。
判定された前記アライメントマーク位置の平均値が算出される。
算出された前記平均値に応じて前記認識対象物の位置が認識される。
The recognition method according to the present technology includes imaging the alignment mark provided on the recognition target object a plurality of times.
The alignment mark positions in the plurality of captured images are determined.
An average value of the determined alignment mark positions is calculated.
The position of the recognition object is recognized according to the calculated average value.

本技術に係るプログラムは、認識装置に、
認識対象物に設けられたアライメントマークを複数回撮像するステップと、
撮像された複数の画像内でのアライメントマーク位置を判定するステップと、
判定された前記アライメントマーク位置の平均値を算出するステップと、
算出された前記平均値に応じて前記認識対象物の位置を認識するステップと
を実行させる。
A program according to the present technology is stored in a recognition device.
Imaging the alignment mark provided on the recognition target object a plurality of times;
Determining alignment mark positions in a plurality of captured images;
Calculating an average value of the determined alignment mark positions;
Recognizing the position of the recognition object according to the calculated average value.

本技術に係る基板の製造方法は、基板に設けられたアライメントマークを複数回撮像することを含む。
撮像された複数の画像内でのアライメントマーク位置が判定される。
判定された前記アライメントマーク位置の平均値が算出される。
算出された前記平均値に応じて前記基板の位置が認識される。
認識した前記基板の位置に応じて、前記基板上に電子部品が実装される。
The manufacturing method of the board | substrate which concerns on this technique includes imaging the alignment mark provided in the board | substrate several times.
The alignment mark positions in the plurality of captured images are determined.
An average value of the determined alignment mark positions is calculated.
The position of the substrate is recognized according to the calculated average value.
An electronic component is mounted on the board according to the recognized position of the board.

以上のように、本技術によれば、振動が発生した場合でも、認識対象物の正確な位置を認識することができる認識装置等の技術を提供することができる。   As described above, according to the present technology, it is possible to provide a technology such as a recognition device that can recognize an accurate position of a recognition target object even when vibration occurs.

本技術の第1実施形態に係る実装装置を示す正面図である。It is a front view showing a mounting device concerning a 1st embodiment of this art. 図1に示す実装装置の上面図である。It is a top view of the mounting apparatus shown in FIG. 実装装置の構成を示すブロック図である。It is a block diagram which shows the structure of a mounting apparatus. 基板の上面図である。It is a top view of a substrate. 実装装置の処理を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the process of a mounting apparatus. 撮像部及びアライメントマークの相対的な位置関係を示す図である。It is a figure which shows the relative positional relationship of an imaging part and an alignment mark. 基板及び撮像部の振動波形の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the vibration waveform of a board | substrate and an imaging part. 基板及び撮像部が図7に示すような波形で振動する場合の、基板及び撮像部の相対的な位置関係についての波形を示す図である。It is a figure which shows the waveform about the relative positional relationship of a board | substrate and an imaging part when a board | substrate and an imaging part vibrate with a waveform as shown in FIG. 基板及び撮像部の相対位置が図8に示す波形で変化する場合において、50msの周期でアライメントマークを5回撮像したときのアライメントマーク位置と、このアライメントマーク位置の平均値との関係を示す図である。8 is a diagram showing the relationship between the alignment mark position when the alignment mark is imaged five times at a period of 50 ms and the average value of the alignment mark position when the relative position of the substrate and the imaging unit changes in the waveform shown in FIG. It is. 第2実施形態に係る実装装置の処理を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the process of the mounting apparatus which concerns on 2nd Embodiment. 第3実施形態に係る実装装置の処理を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the process of the mounting apparatus which concerns on 3rd Embodiment. 第4実施形態に係る実装装置の処理を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the process of the mounting apparatus which concerns on 4th Embodiment.

以下、本技術に係る実施形態を、図面を参照しながら説明する。   Hereinafter, embodiments according to the present technology will be described with reference to the drawings.

<第1実施形態>
[実装装置100の構成及び各部の構成]
図1は、本技術の第1実施形態に係る実装装置100を示す正面図である。図2は、図1に示す実装装置100の上面図である。図3は、実装装置100の構成を示すブロック図である。図4は、基板1の上面図である。
<First Embodiment>
[Configuration of Mounting Device 100 and Configuration of Each Part]
FIG. 1 is a front view showing a mounting apparatus 100 according to the first embodiment of the present technology. FIG. 2 is a top view of the mounting apparatus 100 shown in FIG. FIG. 3 is a block diagram illustrating a configuration of the mounting apparatus 100. FIG. 4 is a top view of the substrate 1.

図1及び図2を参照して、実装装置100は、フレーム構造体10と、フレーム構造体10に設けられ、基板1をX軸方向に搬送する搬送部15と、搬送部15を挟んで両側に設けられ、電子部品3を供給する供給部20とを備える。また、実装装置100は、供給部20から供給される電子部品3を吸着し、吸着した電子部品3を基板1上に実装する実装ヘッド30と、実装ヘッド30をX−Y方向に移動させるヘッド移動機構40とを備える。また、実装装置100は、基板1上に設けられたアライメントマーク2(図4参照)を上方から撮像する撮像部50を備える。   With reference to FIGS. 1 and 2, the mounting apparatus 100 includes a frame structure 10, a transport unit 15 that is provided on the frame structure 10 and transports the substrate 1 in the X-axis direction, and both sides of the transport unit 15. And a supply unit 20 that supplies the electronic component 3. The mounting apparatus 100 sucks the electronic component 3 supplied from the supply unit 20, mounts the sucked electronic component 3 on the substrate 1, and a head that moves the mounting head 30 in the XY direction. A moving mechanism 40. The mounting apparatus 100 includes an imaging unit 50 that images the alignment mark 2 (see FIG. 4) provided on the substrate 1 from above.

図3を参照して、さらに、実装装置100は、制御部5、記憶部6、表示部7、入力部8、エアコンプレッサ33、ノズル駆動機構43等を備えている。   With reference to FIG. 3, the mounting apparatus 100 further includes a control unit 5, a storage unit 6, a display unit 7, an input unit 8, an air compressor 33, a nozzle drive mechanism 43, and the like.

搬送部15は、X軸方向に沿って配設された一対のガイド16と、一対のガイド16よりも中央側に設けられた一対のコンベア17とを含む。搬送部15は、一対のコンベア17の駆動により、基板1を搬入して所定の位置に位置決めしたり、電子部品3の実装が終了した基板1を排出したりする。   The transport unit 15 includes a pair of guides 16 disposed along the X-axis direction and a pair of conveyors 17 provided closer to the center than the pair of guides 16. The transport unit 15 drives the pair of conveyors 17 to carry the substrate 1 and position it at a predetermined position, or to discharge the substrate 1 on which the electronic component 3 has been mounted.

供給部20は、X軸方向に沿って配列された複数のテープフィーダ21により構成される。このテープフィーダ21は、実装装置100に対して着脱可能とされる。テープフィーダ21は、それぞれ、キャリアテープと、キャリアテープが巻きつけられるリールと、キャリアテープをステップ送りで送り出す送り出し機構とを含む。キャリアテープは、例えば、抵抗、コンデンサ、コイル、ICチップ(IC:Integrated Circuit)等の同一タイプの電子部品3を内部に収納している。テープフィーダ21の端部の上面には供給窓22が形成されており、この供給窓22を介して電子部品3が供給される。   The supply unit 20 includes a plurality of tape feeders 21 arranged along the X-axis direction. The tape feeder 21 can be attached to and detached from the mounting apparatus 100. Each of the tape feeders 21 includes a carrier tape, a reel around which the carrier tape is wound, and a feeding mechanism that feeds the carrier tape by step feeding. The carrier tape contains electronic components 3 of the same type, such as resistors, capacitors, coils, and IC chips (ICs), for example. A supply window 22 is formed on the upper surface of the end of the tape feeder 21, and the electronic component 3 is supplied through the supply window 22.

フレーム構造体10は、底部に設けられたベース11と、ベース11に固定された複数の支柱12とを有する。   The frame structure 10 includes a base 11 provided at the bottom and a plurality of support columns 12 fixed to the base 11.

ヘッド移動機構40は、複数の支柱12の上部にX軸方向に沿って架け渡された2本のXビーム41と、2本のXビーム41の間に、Y軸に沿って架け渡されたYビーム42とを含む。なお、図2では、図面を見やすく表示するため、上部側のXビーム41と、Yビーム42とを一点差線で表示している。   The head moving mechanism 40 is spanned along the Y axis between the two X beams 41 spanned along the X axis direction on the upper portions of the plurality of support columns 12 and the two X beams 41. Y beam 42. In FIG. 2, the X beam 41 on the upper side and the Y beam 42 are indicated by a one-point difference line in order to display the drawing in an easy-to-see manner.

Yビーム42は、2本のXビーム41の下側において、Xビーム41に対してX軸方向に移動可能に取り付けられている。Xビーム41は、Yビーム42をX軸方向に沿って移動させるためのX軸駆動機構を内部に有しており、このX軸駆動機構の駆動により、Yビーム42は、Xビーム41の下側において、X軸方向に沿って移動される。   The Y beam 42 is attached below the two X beams 41 so as to be movable in the X axis direction with respect to the X beam 41. The X beam 41 has an X axis drive mechanism for moving the Y beam 42 along the X axis direction, and the Y beam 42 is moved under the X beam 41 by driving the X axis drive mechanism. On the side, it is moved along the X-axis direction.

Yビーム42の下側には、実装ヘッド30を保持するキャリッジ35が取り付けられている。キャリッジ35は、Yビーム42に対してY軸方向に移動可能に取り付けられている。Yビーム42は、キャリッジ35をY軸方向に沿って移動させるためのY軸駆動機構を内部に有しており、このY軸駆動機構の駆動により、キャリッジ35は、Yビーム42の下側において、Y軸方向に沿って移動される。   A carriage 35 that holds the mounting head 30 is attached to the lower side of the Y beam 42. The carriage 35 is attached to the Y beam 42 so as to be movable in the Y axis direction. The Y beam 42 has a Y axis drive mechanism for moving the carriage 35 along the Y axis direction, and the carriage 35 is moved below the Y beam 42 by driving the Y axis drive mechanism. , And moved along the Y-axis direction.

X軸駆動機構及びY軸駆動機構の駆動により、キャリッジ35の下側に設けられた実装ヘッド30が、X―Y方向に沿って移動される。X軸駆動機構及びY軸駆動機構としては、例えば、ボールネジ駆動機構、ベルト駆動機構、リニアモータ駆動機構等が挙げられる。   The mounting head 30 provided on the lower side of the carriage 35 is moved along the XY direction by driving the X-axis drive mechanism and the Y-axis drive mechanism. Examples of the X-axis drive mechanism and the Y-axis drive mechanism include a ball screw drive mechanism, a belt drive mechanism, and a linear motor drive mechanism.

実装ヘッド30は、キャリッジ35に対して回転可能に取り付けられたターレット32と、ターレット32の周方向に沿って等間隔でターレット32に取り付けられた複数の吸着ノズル31とを有する。   The mounting head 30 includes a turret 32 that is rotatably attached to the carriage 35, and a plurality of suction nozzles 31 that are attached to the turret 32 at equal intervals along the circumferential direction of the turret 32.

実装ヘッド30の数は、本実施形態では、1つとされているが、実装ヘッド30の数は、2以上であってもよい。また、吸着ノズル31の数は、本実施形態では、12個(図2参照)とされているが、吸着ノズル31の数は、特に限定されない。例えば、吸着ノズル31の数は、1つであっても構わない。   In the present embodiment, the number of mounting heads 30 is one, but the number of mounting heads 30 may be two or more. Further, in the present embodiment, the number of suction nozzles 31 is 12 (see FIG. 2), but the number of suction nozzles 31 is not particularly limited. For example, the number of suction nozzles 31 may be one.

ターレット32は、斜め方向の軸を回転の中心軸として回転可能とされている。ターレット32は、ターレット回転機構の駆動により、前記軸を中心軸として回転される。   The turret 32 is rotatable with an oblique axis as a central axis of rotation. The turret 32 is rotated about the axis as a central axis by driving the turret rotation mechanism.

吸着ノズル31は、吸着ノズル31の軸線がターレット32の回転軸に対してそれぞれ傾斜するように、ターレット32に取り付けられている。   The suction nozzle 31 is attached to the turret 32 so that the axis of the suction nozzle 31 is inclined with respect to the rotation axis of the turret 32.

吸着ノズル31は、ターレット32に対して上記軸線方向に沿って移動可能に支持されている。また、吸着ノズル31は、ターレット32に対して回転可能に支持されている。吸着ノズル31は、ノズル駆動機構43により、所定のタイミングで、軸線方向(上下方向)に沿って移動される。また、吸着ノズル31は、ノズル駆動機構43により所定のタイミングで軸線回りに回転される。   The suction nozzle 31 is supported so as to be movable along the axial direction with respect to the turret 32. The suction nozzle 31 is supported so as to be rotatable with respect to the turret 32. The suction nozzle 31 is moved along the axial direction (vertical direction) at a predetermined timing by the nozzle drive mechanism 43. Further, the suction nozzle 31 is rotated around the axis line at a predetermined timing by the nozzle drive mechanism 43.

複数の吸着ノズル31のうち、最も低い位置に位置する吸着ノズル31(図1〜図2中、最も右側に位置する吸着ノズル31)は、その軸線が垂直方向を向いている。以降では、このように軸線が垂直方向を向く吸着ノズル31の位置を操作位置と呼ぶ。操作位置に位置する吸着ノズル31は、ターレット32の回転により順次切り換えられる。   Among the plurality of suction nozzles 31, the suction nozzle 31 located at the lowest position (the suction nozzle 31 located on the rightmost side in FIGS. 1 to 2) has its axis line oriented in the vertical direction. Hereinafter, the position of the suction nozzle 31 whose axis is oriented in the vertical direction is referred to as an operation position. The suction nozzle 31 located at the operation position is sequentially switched by the rotation of the turret 32.

吸着ノズル31は、エアコンプレッサ33(図3参照)に接続されている。吸着ノズル31は、このエアコンプレッサ33の負圧及び正圧の切り換えに応じて、電子部品3を吸着したり、脱離したりすることができる。   The suction nozzle 31 is connected to an air compressor 33 (see FIG. 3). The adsorption nozzle 31 can adsorb or desorb the electronic component 3 according to the switching of the negative pressure and the positive pressure of the air compressor 33.

キャリッジ35には、基板1上に設けられたアライメントマーク2を上方から撮像する撮像部50が設けられている。撮像部50は、CCDセンサ(CCD:Charge Coupled Device)、あるいはCMOSセンサ(CMOS:Complementary Metal Oxide Semiconductor)等の撮像素子と、撮像素子の結像面に光を結像させる結像レンズとを含む。撮像部50は、キャリッジ35及び実装ヘッド30がX−Y軸方向に沿って移動されるときに、キャリッジ35及び実装ヘッド30と一体的に移動する。   The carriage 35 is provided with an imaging unit 50 that images the alignment mark 2 provided on the substrate 1 from above. The imaging unit 50 includes an imaging element such as a CCD sensor (CCD: Charge Coupled Device) or a CMOS sensor (CMOS: Complementary Metal Oxide Semiconductor), and an imaging lens that focuses light on an imaging surface of the imaging element. . The imaging unit 50 moves integrally with the carriage 35 and the mounting head 30 when the carriage 35 and the mounting head 30 are moved along the XY axis direction.

図4を参照して、アライメントマーク2は、基板1上において2つの角部(対角)の近傍に設けられている。図4に示す例では、アライメントマーク2の数は、2つとされているが、アライメントマーク2の数は、1つ、あるいは、3つ以上とされていてもよい。アライメントマーク2は、電子部品3の実装の邪魔にならない位置であれば、典型的にはどこに配置されていても構わない。基板1上に設けられた各アライメントマーク2は、それぞれ、撮像部50によって複数回撮像される。   Referring to FIG. 4, alignment mark 2 is provided in the vicinity of two corners (diagonals) on substrate 1. In the example shown in FIG. 4, the number of alignment marks 2 is two, but the number of alignment marks 2 may be one, or three or more. The alignment mark 2 may be disposed anywhere as long as it does not interfere with the mounting of the electronic component 3. Each alignment mark 2 provided on the substrate 1 is imaged a plurality of times by the imaging unit 50.

実装装置100は、アライメントマーク2撮像用の撮像部50以外に、電子部品3を保持した状態の吸着ノズル31を撮像する撮像部を有している。この撮像部は、例えば、電子部品3を保持した状態の吸着ノズル31を側方側及び/又は下側から撮像する。撮像部により撮影された画像は、制御部5により画像処理され、吸着ノズル31に対する電子部品3の吸着位置などが判定される。   The mounting apparatus 100 includes an imaging unit that images the suction nozzle 31 in a state where the electronic component 3 is held, in addition to the imaging unit 50 for imaging the alignment mark 2. For example, the imaging unit images the suction nozzle 31 in a state where the electronic component 3 is held from the side and / or the lower side. The image captured by the imaging unit is subjected to image processing by the control unit 5, and the suction position of the electronic component 3 with respect to the suction nozzle 31 is determined.

制御部5は、例えば、CPU(Central Processing Unit)により構成される。制御部5は、実装装置100の各部と電気的に接続されており、記憶部6に記憶された各種のプログラムに基づき、実装装置100の各部を統括的に制御する。この制御部5の処理については、後に詳述する。   The control part 5 is comprised by CPU (Central Processing Unit), for example. The control unit 5 is electrically connected to each part of the mounting apparatus 100, and comprehensively controls each part of the mounting apparatus 100 based on various programs stored in the storage unit 6. The processing of the control unit 5 will be described in detail later.

記憶部6は、制御部5の制御に必要な各種のプログラムが記憶された不揮発性のメモリと、制御部5の作業領域として用いられる揮発性メモリとを有する。上記各種のプログラムは、光ディスク、半導体メモリ等の可搬性の記録媒体から読み取られてもよい。   The storage unit 6 includes a nonvolatile memory in which various programs necessary for the control of the control unit 5 are stored, and a volatile memory used as a work area for the control unit 5. The various programs may be read from a portable recording medium such as an optical disk or a semiconductor memory.

表示部7は、液晶ディスプレイや、EL(Electro-Luminescence)ディスプレイ等により構成され、各種のデータを画面上に表示する。入力部8は、例えば、キーボード、タッチパネル等により構成され、オペレータの指示を入力する。   The display unit 7 includes a liquid crystal display, an EL (Electro-Luminescence) display, and the like, and displays various data on the screen. The input unit 8 is configured with, for example, a keyboard, a touch panel, and the like, and inputs an operator instruction.

[動作説明]
次に、本実施形態に係る実装装置100の動作について説明する。図5は、実装装置100の処理を示すフローチャートである。
[Description of operation]
Next, the operation of the mounting apparatus 100 according to the present embodiment will be described. FIG. 5 is a flowchart showing processing of the mounting apparatus 100.

まず、実装装置100の制御部5は、コンベア17により基板1を搬入して基板1を所定の位置に位置決めする。次に、制御部5は、ヘッド移動機構40により実装ヘッド30をX−Y方向に移動させ、基板1上に設けられた2つのアライメントマーク2うち、一方のアライメントマーク2の上方に撮像部50を移動させる(ステップ101)。そして、制御部5は、撮像部50によりアライメントマーク2を撮像する撮像動作へと移行する。   First, the control unit 5 of the mounting apparatus 100 loads the board 1 by the conveyor 17 and positions the board 1 at a predetermined position. Next, the control unit 5 moves the mounting head 30 in the XY direction by using the head moving mechanism 40, and the imaging unit 50 is located above one of the two alignment marks 2 provided on the substrate 1. Is moved (step 101). And the control part 5 transfers to the imaging operation which images the alignment mark 2 by the imaging part 50. FIG.

ここで、例えば、アライメントマーク2が撮像部50により撮像されるとき、実装装置100の内部的な要因による振動や、外部的な要因による振動の影響によって、撮像部50とアライメントマーク2との相対位置がずれる場合がある。   Here, for example, when the alignment mark 2 is imaged by the imaging unit 50, the relative relationship between the imaging unit 50 and the alignment mark 2 due to the influence of vibration caused by an internal factor of the mounting apparatus 100 or the vibration caused by an external factor. The position may shift.

図6には、撮像部50及びアライメントマーク2の相対的な位置関係が示されている。図6の左側には、振動が生じていない場合の撮像部50及びアライメントマーク2の相対的な位置関係が示されている。図6の右側には、振動が生じた場合の撮像部50及びアライメントマーク2の相対的な位置関係が示されている。   FIG. 6 shows the relative positional relationship between the imaging unit 50 and the alignment mark 2. The left side of FIG. 6 shows a relative positional relationship between the imaging unit 50 and the alignment mark 2 when no vibration is generated. The right side of FIG. 6 shows the relative positional relationship between the imaging unit 50 and the alignment mark 2 when vibration occurs.

実装装置100の振動の原因としては様々な原因が考えられる。例えば、振動の原因としては、実装ヘッド30が2つ設けられる場合において、一方の実装ヘッド30側の撮像部50でアライメントマーク2を撮像しているときに、他方の実装ヘッド30が駆動されることによる振動が考えられる(内部的要因)。また、この実装装置100と共に基板1の実装ラインを形成するクリーム半田印刷装置、印刷検査装置、基板検査装置、リフロー処理装置等の他の装置の駆動による振動が考えられる(外部的要因)。また、実装装置100の近くを人や物が通過したり、実装装置100が配置されている工場の近くで建設工事などが行なわれていたりすることによる振動が考えられる(外部的要因)。   Various causes can be considered as causes of the vibration of the mounting apparatus 100. For example, as a cause of vibration, when two mounting heads 30 are provided, the other mounting head 30 is driven when the imaging unit 50 on one mounting head 30 side images the alignment mark 2. Vibration (internal factor). Further, vibration due to driving of other devices such as a cream solder printing device, a print inspection device, a substrate inspection device, and a reflow processing device that form a mounting line for the substrate 1 together with the mounting device 100 can be considered (external factor). In addition, vibrations caused by people or objects passing near the mounting apparatus 100 or construction work being performed near the factory where the mounting apparatus 100 is disposed can be considered (external factor).

図7は、基板1及び撮像部50の振動波形の一例を示す図である。図7には、基板1が53Hzの周波数及び±0.01mmの振幅で振動し、撮像部50が73Hzの周波数及び±0.02mmの振幅で振動する場合の一例が示されている。   FIG. 7 is a diagram illustrating an example of vibration waveforms of the substrate 1 and the imaging unit 50. FIG. 7 shows an example in which the substrate 1 vibrates with a frequency of 53 Hz and an amplitude of ± 0.01 mm, and the imaging unit 50 vibrates with a frequency of 73 Hz and an amplitude of ± 0.02 mm.

図8は、基板1及び撮像部50が図7に示すような波形で振動する場合の、基板1及び撮像部50の相対的な位置関係についての波形を示す図である。基板1及び撮像部50の相対的な位置関係の波形は、基板1の振動波形と、撮像部50の振動波形の合成波形となる。   FIG. 8 is a diagram illustrating a waveform regarding the relative positional relationship between the substrate 1 and the imaging unit 50 when the substrate 1 and the imaging unit 50 vibrate with a waveform as illustrated in FIG. 7. The waveform of the relative positional relationship between the substrate 1 and the imaging unit 50 is a composite waveform of the vibration waveform of the substrate 1 and the vibration waveform of the imaging unit 50.

図6(右側)、図7及び図8に示すように、振動の影響によって撮像部50及びアライメントマーク2の相対的な位置関係がずれてしまうと、アライメントマーク2の位置を正確に認識することができない。そこで、本実施形態に係る実装装置100では、このような振動の影響を排除する処理を実行する。   As shown in FIG. 6 (right side), FIG. 7 and FIG. 8, when the relative positional relationship between the imaging unit 50 and the alignment mark 2 is shifted due to the influence of vibration, the position of the alignment mark 2 is accurately recognized. I can't. Therefore, in the mounting apparatus 100 according to the present embodiment, processing for eliminating such influence of vibration is executed.

再び図5を参照して、アライメントマーク2の上方に撮像部50が移動されると、次に、制御部5は、アライメントマーク2の撮像回数を記憶部6から取得する(ステップ102)。撮像回数は、予め記憶部6に記憶されている。アライメントマーク2の撮像回数は、多ければ多いほど基板1の位置認識の正確性が増すが、一方で、撮像回数が多ければ多いほど基板1の位置認識の時間が延びる。   Referring to FIG. 5 again, when the imaging unit 50 is moved above the alignment mark 2, the control unit 5 next acquires the number of imaging of the alignment mark 2 from the storage unit 6 (step 102). The number of times of imaging is stored in the storage unit 6 in advance. As the number of times of imaging the alignment mark 2 is increased, the accuracy of position recognition of the substrate 1 is increased. On the other hand, as the number of imaging is increased, the time of position recognition of the substrate 1 is extended.

撮像部50によりアライメントマーク2を撮像する場合、1回の撮像に掛かる時間は、典型的には、50ms程度である。従って、撮像回数が1回増やされる度に50msの時間が加算されることになる。基板1の位置認識の正確性と、時間効率との両方を考慮すると、典型的には、撮像回数は、3回〜10回程度とされる。なお、撮像回数は、ここで挙げた範囲に限られるわけではなく、撮像回数は適宜変更することができる。また、この撮像回数は、オペレータが入力部8を介して値を入力することによって変更可能であってもよい。   When the alignment mark 2 is imaged by the imaging unit 50, the time required for one imaging is typically about 50 ms. Therefore, a time of 50 ms is added every time the number of times of imaging is increased by one. Considering both the accuracy of position recognition of the substrate 1 and the time efficiency, the number of times of imaging is typically about 3 to 10 times. Note that the number of times of imaging is not limited to the range given here, and the number of times of imaging can be changed as appropriate. In addition, the number of times of imaging may be changeable by an operator inputting a value via the input unit 8.

撮像回数を取得すると、次に、制御部5は、撮像部50を制御して、アライメントマーク2を撮像する(ステップ103)。そして、制御部5は、アライメントマーク2を撮像した画像を撮像部50から取得し、画像内におけるアライメントマーク位置を判定する(ステップ104)。   When the number of times of imaging has been acquired, the control unit 5 next controls the imaging unit 50 to image the alignment mark 2 (step 103). And the control part 5 acquires the image which imaged the alignment mark 2 from the imaging part 50, and determines the alignment mark position in an image (step 104).

次に、撮像部50は、現在のアライメントマーク2の撮像回数と、ステップ102で取得した撮像回数(3〜10回程度)とを比較し、現在のアライメントマーク2の撮像回数が、ステップ102で取得した撮像回数に到達しているかを判定する(ステップ105)。   Next, the imaging unit 50 compares the current number of times of imaging the alignment mark 2 with the number of times of imaging acquired in step 102 (about 3 to 10 times). It is determined whether or not the acquired number of times of imaging has been reached (step 105).

撮像回数に達していない場合(ステップ105のNO)、制御部5は、再びステップ103へ戻って、アライメントマーク2を撮像する。そして、制御部5は、再び、画像内におけるアライメントマーク位置を判定し(ステップ104)、現在の撮像回数が、ステップ102で取得した撮像回数に到達したかどうかを判定する(ステップ105)。   If the number of imaging has not been reached (NO in step 105), the control unit 5 returns to step 103 again and images the alignment mark 2. Then, the control unit 5 again determines the alignment mark position in the image (step 104), and determines whether or not the current number of times of imaging has reached the number of times of imaging acquired in step 102 (step 105).

このような処理により、撮像回数に到達するまでの間、一定の周期(50ms程度)でアライメントマーク2の撮像が繰り返される。基板1及び撮像部50の相対位置の波形は、実際には、不規則な波形であるため、規則的な周期でアライメントマーク2を撮像しても、適切にランダムサンプリングを行なうことができる。   By such processing, imaging of the alignment mark 2 is repeated at a constant cycle (about 50 ms) until the number of imaging times is reached. Since the waveform of the relative position between the substrate 1 and the imaging unit 50 is actually an irregular waveform, random sampling can be appropriately performed even if the alignment mark 2 is imaged at a regular cycle.

撮像回数に到達した場合(ステップ105のYES)、制御部5は、取得された複数(3個〜10個程度)のアライメントマーク位置に基づいて、アライメントマーク位置の平均値を算出する。   When the number of times of imaging has been reached (YES in step 105), the control unit 5 calculates an average value of the alignment mark positions based on a plurality (about 3 to 10) of alignment mark positions acquired.

図9は、基板1及び撮像部50の相対位置が図8に示す波形で変化する場合において、50msの周期でアライメントマーク2を5回撮像したときのアライメントマーク位置と、このアライメントマーク位置の平均値との関係を示す図である。   FIG. 9 shows the alignment mark position when the alignment mark 2 is imaged five times at a period of 50 ms and the average of the alignment mark positions when the relative position of the substrate 1 and the imaging unit 50 changes in the waveform shown in FIG. It is a figure which shows the relationship with a value.

図9の最上段には、最初にアライメントマーク2を撮像するタイミングを0秒として、50msの周期でアライメントマーク2を5回撮像したときのアライメントマーク位置と、アライメントマーク位置の平均値とが示されている。この場合のアライメンマーク位置の平均値は、約−0.0033mmとなる。   9 shows the alignment mark position and the average value of the alignment mark positions when the alignment mark 2 is imaged five times at a period of 50 ms with the timing of first imaging the alignment mark 2 as 0 seconds. Has been. In this case, the average value of the alignment mark positions is about -0.0033 mm.

図9の2段目以降には、アライメントマーク2の撮像開始タイミングを7msずつづらして、50msの周期でアライメントマーク2を5回撮像したときのアライメントマーク位置と、アライメントマーク位置の平均値とが示されている。アライメントマーク2の撮像開始タイミングが7、14、21、28msである場合、アライメントマーク位置の平均値は約0.0020、−0.0013、0.0015、−0.0025mmであることが分かる。   From the second stage onward in FIG. 9, the alignment mark position when the imaging start timing of the alignment mark 2 is shifted by 7 ms and the alignment mark 2 is imaged five times at a period of 50 ms and the average value of the alignment mark positions are shown. It is shown. When the imaging start timing of the alignment mark 2 is 7, 14, 21, and 28 ms, it can be seen that the average value of the alignment mark position is about 0.0020, −0.0013, 0.0015, and −0.0025 mm.

これらのアライメントマーク位置の平均値の絶対値を取って、平均化すると、約0.0021mmとなる。すなわち、どのようなタイミングでアライメントマーク2の撮像を開始しても、アライメントマーク2を5回程度撮像すれば、振動が生じていないときのアライメントマーク位置(この例では、0)に対するずれ量は、約0.0021mm程度の値となる。   When the absolute value of the average value of these alignment mark positions is taken and averaged, it is about 0.0021 mm. That is, no matter what timing the imaging of the alignment mark 2 is started, if the alignment mark 2 is imaged about five times, the deviation amount with respect to the alignment mark position (0 in this example) when no vibration is generated is The value is about 0.0021 mm.

このように、アライメントマーク位置の平均値を用いることで、1回だけアライメントマーク2を撮像する場合に比べて、振動が生じていない状態でのアライメントマーク位置に近い値を得ることができる。なお、アライメントマーク2の撮像回数及びアライメントマーク位置のサンプル数を増やせば増やすほど、振動が生じていない状態でのアライメントマーク位置に近づく確率が高くなることになる。   In this way, by using the average value of the alignment mark positions, it is possible to obtain a value close to the alignment mark position in a state where no vibration is generated as compared with the case where the alignment mark 2 is imaged only once. As the number of imaging of the alignment mark 2 and the number of samples at the alignment mark position are increased, the probability of approaching the alignment mark position in a state where no vibration is generated increases.

図9には、アライメントマーク2を撮像する各タイミングにおけるアライメントマーク位置の最大値及び最小値と、最大値及び最小値の差も示されている。また、図9には、これらの値の平均値も示されている。   FIG. 9 also shows the maximum and minimum values of the alignment mark position and the difference between the maximum and minimum values at each timing when the alignment mark 2 is imaged. FIG. 9 also shows the average value of these values.

再び図5を参照して、アライメントマーク位置の平均値を算出すると、次に、制御部5は、基板1上のアライメントマーク2を全て撮像したかを判定する(ステップ107)。全てのアライメントマーク2の撮像を終えていない場合(ステップ107のNO)、制御部5は、ステップ101へ戻り、次に撮像される予定のアライメントマーク2の上方の位置へ撮像部50を移動させる。その後、制御部5は、先ほどと同様に、ステップ102〜ステップ107の処理を実行する。アライメントマーク2を撮像する順番にとくに制限はない。   Referring to FIG. 5 again, when the average value of the alignment mark positions is calculated, the control unit 5 next determines whether all the alignment marks 2 on the substrate 1 have been imaged (step 107). If the imaging of all the alignment marks 2 has not been completed (NO in step 107), the control unit 5 returns to step 101 and moves the imaging unit 50 to a position above the alignment mark 2 to be imaged next. . Then, the control part 5 performs the process of step 102-step 107 similarly to the previous time. There is no particular limitation on the order of imaging the alignment mark 2.

このような処理により、基板1上に設けられた全てのアライメントマーク2についてのアライメントマーク位置の平均値が算出される。本実施形態では、アライメントマーク2の数が2つとされているため、取得されるアライメントマーク位置の平均値の数は、2つとされる。   By such processing, the average value of the alignment mark positions for all the alignment marks 2 provided on the substrate 1 is calculated. In the present embodiment, since the number of alignment marks 2 is two, the average number of alignment mark positions to be acquired is two.

全てのアライメントマーク2の撮像を終えた場合(ステップ107のYES)、制御部5は、取得されたアライメントマーク位置の平均値に基づいて、基板1の位置を認識する(ステップ108)。このとき、例えば、制御部5は、取得された2つの平均値のうち一方の平均値に基づいて、電子部品3の実装位置データのXY方向のずれ量を補正したり、2つの平均値の角度に基づいてθ方向の角度を補正したりする。また、制御部5は、2つの平均値の距離に基づいて実装位置データの倍率を補正したりする。   When all the alignment marks 2 have been imaged (YES in step 107), the controller 5 recognizes the position of the substrate 1 based on the average value of the acquired alignment mark positions (step 108). At this time, for example, the control unit 5 corrects the amount of deviation in the XY direction of the mounting position data of the electronic component 3 based on one average value of the two acquired average values, The angle in the θ direction is corrected based on the angle. Further, the control unit 5 corrects the magnification of the mounting position data based on the distance between the two average values.

本実施形態に係る実装装置100では、アライメントマーク2を複数回撮像することによって取得されるアライメントマーク位置の平均値が基板1の位置認識に用いられるため、振動が発生した場合でも、基板1の正確な位置を認識することができる。   In the mounting apparatus 100 according to the present embodiment, since the average value of the alignment mark positions acquired by imaging the alignment mark 2 a plurality of times is used for position recognition of the substrate 1, even when vibration occurs, the substrate 1 Accurate position can be recognized.

基板1の位置を認識すると、次に、制御部5は、実装ヘッド30を供給部20上に移動させ、複数の吸着ノズル31に電子部品3を吸着させる。その後、制御部5は、基板1上に実装ヘッド30を移動させ、吸着ノズル31に吸着された電子部品3を基板1上に実装する。本実施形態では、振動が生じた場合でも、基板1の位置を正確に認識することができるので、振動が生じた場合でも、基板1上の正確な位置に電子部品3を実装することができる。   If the position of the board | substrate 1 is recognized, the control part 5 will move the mounting head 30 on the supply part 20 next, and will adsorb | suck the electronic component 3 to the some suction nozzle 31. FIG. Thereafter, the control unit 5 moves the mounting head 30 onto the substrate 1 to mount the electronic component 3 sucked by the suction nozzle 31 on the substrate 1. In the present embodiment, the position of the substrate 1 can be accurately recognized even when vibration occurs, so that the electronic component 3 can be mounted at an accurate position on the substrate 1 even when vibration occurs. .

<第2実施形態>
次に、本技術の第2実施形態について説明する。第2実施形態以降の説明では、上述の第1実施形態と同様の構成及び機能を有する部材については、同一符号を付し、説明を省略又は簡略化する。
Second Embodiment
Next, a second embodiment of the present technology will be described. In the description after the second embodiment, members having the same configurations and functions as those of the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and the description thereof is omitted or simplified.

上述の第1実施形態では、アライメントマーク2が撮像部50により一定の周期(50ms程度)で撮像される場合について説明した。一方、第2実施形態では、アライメントマーク2が撮像部50によりランダムな周期で撮像される点で上述の第1実施形態と異なっている。従って、その点を中心に説明する。   In the first embodiment described above, the case where the alignment mark 2 is imaged by the imaging unit 50 at a constant period (about 50 ms) has been described. On the other hand, the second embodiment is different from the first embodiment described above in that the alignment mark 2 is imaged at a random cycle by the imaging unit 50. Therefore, this point will be mainly described.

図10は、第2実施形態に係る実装装置100の処理を示すフローチャートである。図10に示すフローチャートは、ステップ209及びステップ210が加えられている点を除いて、図5に示すフローチャートと同じである。   FIG. 10 is a flowchart showing processing of the mounting apparatus 100 according to the second embodiment. The flowchart shown in FIG. 10 is the same as the flowchart shown in FIG. 5 except that steps 209 and 210 are added.

実装装置100の制御部5は、アライメントマーク2の撮像回数を記憶部6から取得し(ステップ202)、撮像部50によりアライメントマーク2を撮像する(ステップ203)。次に、制御部5は、画像内におけるアライメントマーク位置を判定し(ステップ204)、現在の撮像回数がステップ202で取得した撮像回数に到達したか否かを判定する(ステップ205)   The control unit 5 of the mounting apparatus 100 acquires the number of times the alignment mark 2 is imaged from the storage unit 6 (step 202), and the imaging unit 50 images the alignment mark 2 (step 203). Next, the control unit 5 determines the alignment mark position in the image (step 204), and determines whether or not the current number of times of imaging has reached the number of times of imaging acquired in step 202 (step 205).

到達していない場合(ステップ205のNO)、制御部5は、撮像間隔にディレイを加えるかどうかを判定する(ステップ209)。ディレイが加えられるタイミングは、定期的なタイミングであってもよいし、ランダムなタイミングであってもよい。例えば、全部で6回の撮像が行なわれる場合、2回目、4回目、6回目の撮像の前にディレイが加えられてもよいし(定期的なタイミング)、3回目、4回目の撮像の前にディレイが加えられてもよい(ランダムなタイミング)。   If not reached (NO in step 205), the control unit 5 determines whether or not to add a delay to the imaging interval (step 209). The timing at which the delay is added may be a regular timing or a random timing. For example, when a total of six times of imaging are performed, a delay may be added before the second, fourth, and sixth imaging (periodic timing), before the third, and fourth imaging Delay may be added to (random timing).

ディレイが加えられるタイミングは、入力部8を介してオペレータによって予め設定されていてもよい。あるいは、ディレイが加えられるタイミングがランダムなタイミングである場合には、制御部5が自動でランダムにそのタイミングを選択するように設計することもできる。   The timing at which the delay is added may be preset by the operator via the input unit 8. Alternatively, when the timing at which the delay is added is a random timing, the control unit 5 can be designed to automatically select the timing at random.

ディレイが加えられると判定された場合(ステップ209のYES)、制御部5は、撮像間隔のディレイを実行する(ステップ210)。1回の撮像に掛かる時間が50msとした場合、ディレイの時間は、典型的には、5ms〜20ms程度とされる。ディレイの時間は、規定の時間であってもよいし、ランダムな時間であってもよい。   When it is determined that a delay is added (YES in step 209), the control unit 5 executes a delay of the imaging interval (step 210). When the time taken for one imaging is 50 ms, the delay time is typically about 5 ms to 20 ms. The delay time may be a specified time or a random time.

ディレイを実行すると、制御部5は、再び203へ戻って撮像部50によりアライメントマーク2を撮像する。ディレイが加えられるタイミングではない場合(ステップ209のNO)、制御部5は、ディレイを加える処理を実行せずに、ステップ203へ戻る。   When the delay is executed, the control unit 5 returns to 203 again and images the alignment mark 2 by the imaging unit 50. If it is not time to add a delay (NO in step 209), the control unit 5 returns to step 203 without executing the process of adding a delay.

このような処理により、アライメントマーク2の撮像周期がランダムになり、ランダムサンプリングのランダム性がさらに向上し、アライメントマーク2の平均値をさらに正確な値として算出することができる。
<第3実施形態>
By such processing, the imaging cycle of the alignment mark 2 becomes random, the randomness of random sampling is further improved, and the average value of the alignment mark 2 can be calculated as a more accurate value.
<Third Embodiment>

次に、本技術の第3実施形態について説明する。図11は、第3実施形態に係る実装装置100の処理を示すフローチャートである。第3実施形態では、アライメントマーク位置の平均値を算出するために集められた複数のアライメントマーク位置のデータを振動検出に応用している。   Next, a third embodiment of the present technology will be described. FIG. 11 is a flowchart showing processing of the mounting apparatus 100 according to the third embodiment. In the third embodiment, data of a plurality of alignment mark positions collected for calculating the average value of the alignment mark positions is applied to vibration detection.

まず、実装装置100の制御部5は、アライメントマーク位置の平均値を算出するために集められた複数のアライメントマーク位置を記憶部6から取得する(ステップ301)。例えば、図9の最上段に示す例において、−0.009921、−0.009335、0.020895、−0.015229、−0.002993mmの5つのアライメントマーク位置が取得される。   First, the control unit 5 of the mounting apparatus 100 acquires a plurality of alignment mark positions collected for calculating the average value of the alignment mark positions from the storage unit 6 (step 301). For example, in the example shown in the uppermost stage of FIG. 9, five alignment mark positions of −0.009921, −0.009335, 0.020895, −0.015229, and −0.002993 mm are acquired.

ステップ301の処理は、アライメントマーク位置の平均値を算出するための複数のアライメントマーク位置が集められた後(図5のステップ105のYESの後、図10のステップ205のYESの後)に実行される。

The process of step 301 is executed after a plurality of alignment mark positions for calculating the average value of the alignment mark positions are collected (after YES in step 105 in FIG. 5 and after YES in step 205 in FIG. 10). Is done.

複数のアライメントマーク位置を取得すると、次に、制御部5は、この複数のアライメントマーク位置に基づいて、アライメントマーク位置のばらつきの度合いを判定する(ステップ302)。ばらつきの度合いは、例えば、アライメントマーク位置の標準偏差を求めることで判定することができる。   When the plurality of alignment mark positions are acquired, the control unit 5 next determines the degree of variation in the alignment mark positions based on the plurality of alignment mark positions (step 302). The degree of variation can be determined, for example, by obtaining the standard deviation of the alignment mark position.

ここで、基板1及び撮像部50の相対的な振動(振幅)と、複数回撮像におけるアライメントマーク位置のばらつきの度合いとの間には、相関関係がある。つまり、振動(振幅)が大きい場合にはアライメントマーク位置のばらつきの度合いが大きくなり、振動(振幅)が小さい場合にはアライメントマーク位置のばらつきの度合いが小さくなる。第3実施形態に係る実装装置100では、この関係を利用している。   Here, there is a correlation between the relative vibration (amplitude) of the substrate 1 and the imaging unit 50 and the degree of variation in the alignment mark position in multiple imaging. That is, when the vibration (amplitude) is large, the degree of variation in the alignment mark position is large, and when the vibration (amplitude) is small, the degree of variation in the alignment mark position is small. The mounting apparatus 100 according to the third embodiment uses this relationship.

アライメントマーク位置のばらつきの度合いを判定すると、次に、制御部5は、ばらつきの度合いに応じて、アライメントマーク2の撮像回数(図5のステップ102、図10のステップ202参照)を可変に制御する。この場合、制御部5は、ばらつきの度合いが大きいほどアライメントマーク2の撮像回数が多くなるように、アライメントマーク2の撮像回数を制御する。逆に言えば、制御部5は、ばらつきの度合いが小さいほどアライメントマーク2の撮像回数が少なくなるように、アライメントマーク2の撮像回数を制御する。アライメントマーク2の撮像回数は、最小で3回、最大で10回程度とされる。   When the degree of variation in the alignment mark position is determined, the control unit 5 next variably controls the number of times the alignment mark 2 is imaged (see step 102 in FIG. 5 and step 202 in FIG. 10) according to the degree of variation. To do. In this case, the control unit 5 controls the number of imaging of the alignment mark 2 so that the number of imaging of the alignment mark 2 increases as the degree of variation increases. In other words, the control unit 5 controls the number of imaging of the alignment mark 2 so that the number of imaging of the alignment mark 2 decreases as the degree of variation decreases. The number of times the alignment mark 2 is imaged is at least 3 times and at most about 10 times.

アライメントマーク2の撮像回数が変更されると、次の基板1のアライメントマーク2が撮像されるとき、その変更された撮像回数でアライメントマーク2が撮像される。   When the number of imaging of the alignment mark 2 is changed, when the alignment mark 2 of the next substrate 1 is imaged, the alignment mark 2 is imaged with the changed number of imaging.

アライメントマーク2の撮像回数が同じであると仮定した場合、振動が大きくなるほど、アライメントマーク位置の平均値が、振動が生じていないときのアライメントマーク位置に対して不正確な値を取り易い。一方、この実装装置100では、アライメントマーク位置のばらつきの度合いが大きいほど(つまり、振動が大きいほど)、アライメントマーク2の撮像回数が多くなるため、振動が大きい状況下でも、アライメントマーク位置の平均値を正確な値として算出することができる。   Assuming that the number of times the alignment mark 2 has been imaged is the same, the greater the vibration, the more easily the average value of the alignment mark position takes an inaccurate value relative to the alignment mark position when no vibration has occurred. On the other hand, in this mounting apparatus 100, the greater the degree of variation in the alignment mark position (that is, the greater the vibration), the greater the number of times the alignment mark 2 is imaged. The value can be calculated as an accurate value.

また、アライメントマーク2の平均値が正確な値として算出されやすい振動が小さい状況下では、アライメントマーク2の撮像回数が少なくされる。これにより、実装装置100による基板1の位置認識速度を向上させることができ、結果として、基板1の生産効率を向上させることができる。このように、この実装装置100は、振動の大きさに応じて、適切にアライメントマーク2の撮像回数を変更することができる。   In addition, the number of times that the alignment mark 2 is imaged is reduced under a situation in which vibration that is easy to calculate as an average value of the alignment mark 2 is small. Thereby, the position recognition speed of the board | substrate 1 by the mounting apparatus 100 can be improved, As a result, the production efficiency of the board | substrate 1 can be improved. As described above, the mounting apparatus 100 can appropriately change the number of times the alignment mark 2 is imaged according to the magnitude of vibration.

<第4実施形態>
次に、本技術の第4実施形態について説明する。図12は、第4実施形態に係る実装装置100の処理を示すフローチャートである。
<Fourth embodiment>
Next, a fourth embodiment of the present technology will be described. FIG. 12 is a flowchart showing processing of the mounting apparatus 100 according to the fourth embodiment.

まず、実装装置100の制御部5は、アライメントマーク位置の平均値を算出するために集められた複数のアライメントマーク位置を記憶部6から取得する(ステップ401)。例えば、図9の最上段に示す例において、−0.00921、−0.009335、0.020895、−0.015229、−0.002993mmの5つのアライメントマーク位置が取得される。   First, the control unit 5 of the mounting apparatus 100 acquires a plurality of alignment mark positions collected for calculating an average value of alignment mark positions from the storage unit 6 (step 401). For example, in the example shown at the top of FIG. 9, five alignment mark positions of -0.00921, -0.009335, 0.020895, -0.015229, and -0.002993 mm are acquired.

次に、制御部5は、この複数のアライメントマーク位置に基づいて、アライメントマーク位置のばらつきの度合いを判定する(ステップ402)。次に、制御部5は、複数のアライメントマーク2の画像が撮像されたときの時刻と、アライメントマーク位置のばらつきの度合いとを関連づけて記憶部6に記憶する(ステップ403)。   Next, the control unit 5 determines the degree of variation in alignment mark positions based on the plurality of alignment mark positions (step 402). Next, the control unit 5 associates the time when the images of the plurality of alignment marks 2 are taken with the degree of variation in the alignment mark position, and stores them in the storage unit 6 (step 403).

次に、制御部5は、この処理が開始されてから1日が経過したかどうかを判定する(ステップ404)。1日が経過していない場合(ステップ404のNO)、制御部5は、ステップ401へ戻って、複数のアライメントマーク位置を記憶部6から取得する。このような処理により、時刻と、ばらつきの度合い(振動)と関係性を示す1日分のデータが記憶部6に記憶される。一般的には、昼間の方が夜よりも振動が大きいと考えられ、このような時刻及び振動の関係性を示すデータが記憶部6に記憶されることになる。   Next, the control unit 5 determines whether one day has elapsed since the start of this process (step 404). When one day has not elapsed (NO in step 404), the control unit 5 returns to step 401 and acquires a plurality of alignment mark positions from the storage unit 6. Through such processing, data for one day indicating the time and the degree of variation (vibration) and the relationship are stored in the storage unit 6. In general, it is considered that the vibration in the daytime is larger than that in the night, and data indicating the relationship between the time and the vibration is stored in the storage unit 6.

1日が経過した場合(ステップ404のYES)、制御部5は、時刻と、ばらつきの度合い(振動)との1日分のデータに基づいて、ばらつきの度合い(振動)が大きい時間帯を判定する(ステップ405)。そして、制御部5は、ばらつきの度合い(振動)の大きい時間帯ほど、アライメントマーク2の撮像回数が多くなるように、撮像回数(図5ステップ102、図10ステップ202参照)を可変に制御する(ステップ406)。   When one day has elapsed (YES in step 404), the control unit 5 determines a time zone in which the degree of variation (vibration) is large, based on data for one day of time and the degree of variation (vibration). (Step 405). Then, the control unit 5 variably controls the number of times of imaging (see step 102 in FIG. 5 and step 202 in FIG. 10) so that the number of times of imaging of the alignment mark 2 increases in the time zone where the degree of variation (vibration) is large. (Step 406).

これにより、1日のうちで振動が大きい時間帯でアライメントマーク2の撮像回数が多くされ、振動が小さい時間帯でアライメントマーク2の撮像回数が少なくされる。これにより、振動の大きさに応じて、適切にアライメントマーク2の撮像回数を変更することができる。   Thereby, the imaging | photography frequency of the alignment mark 2 is increased in the time slot | zone with a large vibration within one day, and the imaging | photography frequency of the alignment mark 2 is decreased in the time slot | zone with a small vibration. Thereby, according to the magnitude | size of a vibration, the imaging frequency of the alignment mark 2 can be changed appropriately.

ここでの説明では、時刻及びばらつきの度合い(振動)の1日分のデータに基づいて、時間帯に応じた撮像回数が設定されるとして説明した。一方、時刻及びばらつきの度合い(振動)のデータは、1週間や1ヶ月単位で収集されてもよい。   In the description here, the number of times of imaging corresponding to the time zone is set based on the data for one day of the time and the degree of variation (vibration). On the other hand, data of time and degree of variation (vibration) may be collected in units of one week or one month.

制御部5は、時刻と、ばらつきの度合い(振動)との関係性を示す1日分(あるいはそれ以上)のデータを表示部7の画面上に表示させてもよい。オペレータは、このデータを視認することで、どの時間帯に振動が生じているのかを認識することができる。また、実装装置100が時間帯に関係なく定常的に振動している場合に、オペレータは、画面上に表示されるデータを見ることでこの定常的な振動を認識することができる。この場合、オペレータは、実装装置100に防振対策が必要であると認識することができ、オペレータは、このような認識のもと、実装装置100に防振対策を施すことができる。
<各種変形例>
The control unit 5 may display data for one day (or more) indicating the relationship between the time and the degree of variation (vibration) on the screen of the display unit 7. The operator can recognize in which time zone the vibration is occurring by visually recognizing this data. In addition, when the mounting apparatus 100 is constantly oscillating regardless of the time zone, the operator can recognize the stationary vibration by looking at data displayed on the screen. In this case, the operator can recognize that the mounting apparatus 100 needs anti-vibration measures, and the operator can take anti-vibration measures on the mounting apparatus 100 based on such recognition.
<Various modifications>

以上の説明では、本技術に係る認識装置の一例として実装装置100を例に挙げて説明した。しかし、認識装置は、実装装置100に限られない。例えば、認識装置は、クリーム半田印刷装置、印刷検査装置、基板検査装置などの他の装置であってもよい。典型的には、アライメントマーク2が用いられる位置認識が実行される装置であれば、認識装置は、どのような装置であっても構わない。   In the above description, the mounting apparatus 100 has been described as an example of the recognition apparatus according to the present technology. However, the recognition device is not limited to the mounting device 100. For example, the recognition device may be another device such as a cream solder printing device, a print inspection device, or a substrate inspection device. Typically, the recognition device may be any device as long as it is a device that performs position recognition using the alignment mark 2.

以上の説明では、認識対象物の一例として基板1を例に挙げて説明したが、認識対象物は、基板1に限られない。典型的には、認識対象物は、アライメントマーク2を備えている物体であれば、どのような物体でも構わない。例えば、実装装置100において、供給部20の供給位置を認識するために、供給部20(認識対象物)にアライメントマーク2が設けられる場合がある。また、クリーム半田印刷装置のスクリーンの位置を認識するために、スクリーン(認識対象物)にアライメントマーク2が設けられる場合もある。   In the above description, the substrate 1 is described as an example of the recognition object, but the recognition object is not limited to the substrate 1. Typically, the recognition target object may be any object as long as the object has the alignment mark 2. For example, in the mounting apparatus 100, the alignment mark 2 may be provided on the supply unit 20 (recognition target object) in order to recognize the supply position of the supply unit 20. Moreover, in order to recognize the position of the screen of a cream solder printing apparatus, the alignment mark 2 may be provided in a screen (recognition target object).

本技術は、以下の構成をとることもできる。
(1) 認識対象物に設けられたアライメントマークを撮像する撮像部と、
前記撮像部により前記アライメントマークを複数回撮像し、撮像された複数の画像内でのアライメントマーク位置を判定し、判定された前記アライメントマーク位置の平均値を算出し、算出された前記平均値に応じて前記認識対象物の位置を認識する制御部と
を具備する認識装置。
(2) 上記(1)に記載の認識装置であって、
前記制御部は、前記複数の画像内でのアライメントマーク位置に基づいて、前記アライメントマーク位置のばらつきの度合いを判定し、前記ばらつきの度合い応じて、前記アライメントマークの撮像回数を可変に制御する
認識装置。
(3) 上記(2)に記載の認識装置であって、
前記制御部は、前記ばらつきの度合いが大きいほど前記アライメントマークの撮像回数が多くなるように、前記アライメントマークの撮像回数を制御する
認識装置。
(4) 上記(3)に記載の認識装置であって、
記憶部をさらに具備し、
前記制御部は、前記複数の画像が撮像されたときの時刻と、前記ばらつきの度合いとを関連付けて前記記憶部に記憶し、前記時刻及び前記ばらつきの度合いのデータに基づいて前記ばらつきの度合いが大きい時間帯を判定し、前記ばらつきの度合いが大きい時間帯ほど前記アライメントマークの撮像回数が多くなるように、前記アライメントマークの撮像回数を制御する
認識装置。
(5) 上記(1)〜(4)のうちいずれか1つに記載の認識装置であって、
前記制御部は、前記撮像部により一定の周期で前記アライメントマークを複数回撮像する
認識装置。
(6) 上記(1)〜(4)のうちいずれか1つに記載の認識装置であって、
前記制御部は、前記撮像部によりランダムな周期で前記アライメントマークを複数回撮像する
認識装置。
(7) 上記(6)に記載の認識装置であって、
前記制御部は、一定の周期にランダムなディレイを加えることで、ランダムな周期で前記アライメントマークを複数回撮像する
認識装置。
(8) 認識対象物に設けられたアライメントマークを複数回撮像し、
撮像された複数の画像内でのアライメントマーク位置を判定し、
判定された前記アライメントマーク位置の平均値を算出し、
算出された前記平均値に応じて前記認識対象物の位置を認識する
認識方法。
(9) 認識装置に、
認識対象物に設けられたアライメントマークを複数回撮像するステップと、
撮像された複数の画像内でのアライメントマーク位置を判定するステップと、
判定された前記アライメントマーク位置の平均値を算出するステップと、
算出された前記平均値に応じて前記認識対象物の位置を認識するステップと
を実行させるプログラム。
(10) 基板に設けられたアライメントマークを複数回撮像し、
撮像された複数の画像内でのアライメントマーク位置を判定し、
判定された前記アライメントマーク位置の平均値を算出し、
算出された前記平均値に応じて前記基板の位置を認識し、
認識した前記基板の位置に応じて、前記基板上に電子部品を実装する
基板の製造方法。
This technique can also take the following composition.
(1) an imaging unit that images an alignment mark provided on the recognition object;
The imaging unit images the alignment mark a plurality of times, determines alignment mark positions in the plurality of captured images, calculates an average value of the determined alignment mark positions, and calculates the calculated average value. And a control unit for recognizing the position of the recognition target object.
(2) The recognition device according to (1) above,
The control unit determines a degree of variation in the alignment mark position based on alignment mark positions in the plurality of images, and variably controls the number of times the alignment mark is imaged according to the degree of variation. apparatus.
(3) The recognition device according to (2) above,
The control unit controls the number of imaging of the alignment mark so that the number of imaging of the alignment mark increases as the degree of variation increases.
(4) The recognition device according to (3) above,
A storage unit;
The control unit associates and stores the time when the plurality of images are captured and the degree of variation in the storage unit, and the degree of variation is based on the time and the degree of variation data. A recognition apparatus that determines a large time zone and controls the number of imaging of the alignment mark so that the number of imaging times of the alignment mark increases in a time zone with a larger degree of variation.
(5) The recognition device according to any one of (1) to (4) above,
The said control part is a recognition apparatus which images the said alignment mark in multiple times with a fixed period by the said imaging part.
(6) The recognition device according to any one of (1) to (4) above,
The said control part is a recognition apparatus which images the said alignment mark in multiple times with a random period by the said imaging part.
(7) The recognition device according to (6) above,
The control unit is configured to add a random delay to a certain period to image the alignment mark a plurality of times at a random period.
(8) Image the alignment mark provided on the recognition object multiple times,
Determine the alignment mark position in the captured multiple images,
Calculate the average value of the determined alignment mark positions,
A recognition method for recognizing the position of the recognition object according to the calculated average value.
(9) In the recognition device,
Imaging the alignment mark provided on the recognition target object a plurality of times;
Determining alignment mark positions in a plurality of captured images;
Calculating an average value of the determined alignment mark positions;
Recognizing the position of the recognition object according to the calculated average value.
(10) Image the alignment mark provided on the substrate multiple times,
Determine the alignment mark position in the captured multiple images,
Calculate the average value of the determined alignment mark positions,
Recognizing the position of the substrate according to the calculated average value,
A method for manufacturing a substrate, wherein electronic components are mounted on the substrate in accordance with the recognized position of the substrate.

1…基板
2…アライメントマーク
3…電子部品
5…制御部
6…記憶部
15…搬送部
20…供給部
30…実装ヘッド
50…撮像部
100…実装装置
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Board | substrate 2 ... Alignment mark 3 ... Electronic component 5 ... Control part 6 ... Memory | storage part 15 ... Conveyance part 20 ... Supply part 30 ... Mounting head 50 ... Imaging part 100 ... Mounting apparatus

Claims (10)

認識対象物に設けられたアライメントマークを撮像する撮像部と、
前記撮像部により前記アライメントマークを複数回撮像し、撮像された複数の画像内でのアライメントマーク位置を判定し、判定された前記アライメントマーク位置の平均値を算出し、算出された前記平均値に応じて前記認識対象物の位置を認識する制御部とを具備し、
前記制御部は、判定された前記複数の画像内でのアライメントマーク位置に基づいて、認識装置に発生する振動に起因する、前記アライメントマーク位置のばらつきの度合いを判定し、前記ばらつきの度合い応じて、前記アライメントマークの撮像回数を可変に制御する
認識装置。
An imaging unit for imaging the alignment mark provided on the recognition object;
The imaging unit images the alignment mark a plurality of times, determines alignment mark positions in the plurality of captured images, calculates an average value of the determined alignment mark positions, and calculates the calculated average value. accordance with the position of the recognition object; and a recognizing control unit,
The control unit determines a degree of variation in the alignment mark position caused by vibration generated in the recognition device based on the determined alignment mark positions in the plurality of images, and according to the degree of variation. A recognition device that variably controls the number of times the alignment mark is imaged .
請求項に記載の認識装置であって、
前記制御部は、前記ばらつきの度合いが大きいほど前記アライメントマークの撮像回数が多くなるように、前記アライメントマークの撮像回数を制御する
認識装置。
The recognition device according to claim 1 ,
The control unit controls the number of imaging of the alignment mark so that the number of imaging of the alignment mark increases as the degree of variation increases.
請求項に記載の認識装置であって、
記憶部をさらに具備し、
前記制御部は、前記複数の画像が撮像されたときの時刻と、前記ばらつきの度合いとを関連付けて前記記憶部に記憶し、前記時刻及び前記ばらつきの度合いのデータに基づいて前記ばらつきの度合いが大きい時間帯を判定し、前記ばらつきの度合いが大きい時間帯ほど前記アライメントマークの撮像回数が多くなるように、前記アライメントマークの撮像回数を制御する
認識装置。
The recognition device according to claim 2 ,
A storage unit;
The control unit associates and stores the time when the plurality of images are captured and the degree of variation in the storage unit, and the degree of variation is based on the time and the degree of variation data. A recognition apparatus that determines a large time zone and controls the number of imaging of the alignment mark so that the number of imaging times of the alignment mark increases in a time zone with a larger degree of variation.
請求項1に記載の認識装置であって、
前記制御部は、前記撮像部により一定の周期で前記アライメントマークを複数回撮像する
認識装置。
The recognition device according to claim 1,
The said control part is a recognition apparatus which images the said alignment mark in multiple times with a fixed period by the said imaging part.
請求項1に記載の認識装置であって、
前記制御部は、前記撮像部によりランダムな周期で前記アライメントマークを複数回撮像する
認識装置。
The recognition device according to claim 1,
The said control part is a recognition apparatus which images the said alignment mark in multiple times with a random period by the said imaging part.
請求項に記載の認識装置であって、
前記制御部は、一定の周期にランダムなディレイを加えることで、ランダムな周期で前記アライメントマークを複数回撮像する
認識装置。
The recognition device according to claim 5 ,
The control unit is configured to add a random delay to a certain period to image the alignment mark a plurality of times at a random period.
記憶部と、
認識対象物に設けられたアライメントマークを撮像する撮像部と、
前記撮像部により前記アライメントマークを複数回撮像し、撮像された複数の画像内でのアライメントマーク位置を判定し、判定された前記アライメントマーク位置の平均値を算出し、算出された前記平均値に応じて前記認識対象物の位置を認識する制御部とを具備し、
前記制御部は、前記複数の画像内でのアライメントマーク位置に基づいて、前記アライメントマーク位置のばらつきの度合いを判定し、前記ばらつきの度合いが大きいほど前記アライメントマークの撮像回数が多くなるように、前記アライメントマークの撮像回数を制御するものであり、前記複数の画像が撮像されたときの時刻と、前記ばらつきの度合いとを関連付けて前記記憶部に記憶し、前記時刻及び前記ばらつきの度合いのデータに基づいて前記ばらつきの度合いが大きい時間帯を判定し、前記ばらつきの度合いが大きい時間帯ほど前記アライメントマークの撮像回数が多くなるように、前記アライメントマークの撮像回数を制御する
認識装置。
A storage unit;
An imaging unit for imaging the alignment mark provided on the recognition object;
The imaging unit images the alignment mark a plurality of times, determines alignment mark positions in the plurality of captured images, calculates an average value of the determined alignment mark positions, and calculates the calculated average value. accordance with the position of the recognition object; and a recognizing control unit,
The controller determines the degree of variation of the alignment mark position based on the alignment mark position in the plurality of images, and the greater the degree of variation, the greater the number of times the alignment mark is imaged. The number of times the alignment mark is imaged is controlled, the time when the plurality of images are captured and the degree of variation are stored in the storage unit in association with each other, and the time and the degree of variation data A recognition apparatus that determines a time period in which the degree of variation is large based on the control and controls the number of times the alignment mark is imaged so that the number of times the alignment mark is imaged increases in a time period in which the degree of variation is large .
認識対象物に設けられたアライメントマークを複数回撮像し、
撮像された複数の画像内でのアライメントマーク位置を判定し、
判定された前記アライメントマーク位置の平均値を算出し、
算出された前記平均値に応じて前記認識対象物の位置を認識する、認識装置による認識方法であって、
判定された前記複数の画像内でのアライメントマーク位置に基づいて、前記認識装置に発生する振動に起因する、前記アライメントマーク位置のばらつきの度合いを判定し、前記ばらつきの度合い応じて、前記アライメントマークの撮像回数を可変に制御する
認識方法。
Image the alignment mark provided on the recognition object multiple times,
Determine the alignment mark position in the captured multiple images,
Calculate the average value of the determined alignment mark positions,
A recognition method by a recognition device for recognizing the position of the recognition object according to the calculated average value ,
Based on the determined alignment mark positions in the plurality of images, the degree of variation of the alignment mark position due to vibration generated in the recognition device is determined, and the alignment mark is determined according to the degree of variation. Recognition method for variably controlling the number of times of imaging .
認識装置に、
認識対象物に設けられたアライメントマークを複数回撮像するステップと、
撮像された複数の画像内でのアライメントマーク位置を判定するステップと、
判定された前記アライメントマーク位置の平均値を算出するステップと、
算出された前記平均値に応じて前記認識対象物の位置を認識するステップとを実行させるプログラムであって、
判定された前記複数の画像内でのアライメントマーク位置に基づいて、前記認識装置に発生する振動に起因する、前記アライメントマーク位置のばらつきの度合いを判定し、前記ばらつきの度合い応じて、前記アライメントマークの撮像回数を可変に制御するステップを、認識装置に実行させる
プログラム。
In the recognition device,
Imaging the alignment mark provided on the recognition target object a plurality of times;
Determining alignment mark positions in a plurality of captured images;
Calculating an average value of the determined alignment mark positions;
Recognizing the position of the recognition object according to the calculated average value ,
Based on the determined alignment mark positions in the plurality of images, the degree of variation of the alignment mark position due to vibration generated in the recognition device is determined, and the alignment mark is determined according to the degree of variation. A program for causing the recognition apparatus to execute a step of variably controlling the number of times of imaging .
基板に設けられたアライメントマークを複数回撮像し、
撮像された複数の画像内でのアライメントマーク位置を判定し、
判定された前記アライメントマーク位置の平均値を算出し、
算出された前記平均値に応じて前記基板の位置を認識し、
認識した前記基板の位置に応じて、前記基板上に電子部品を実装する、実装装置による基板の製造方法であって、
判定された前記複数の画像内でのアライメントマーク位置に基づいて、前記実装装置に発生する振動に起因する、前記アライメントマーク位置のばらつきの度合いを判定し、前記ばらつきの度合い応じて、前記アライメントマークの撮像回数を可変に制御する
基板の製造方法。
Image the alignment mark provided on the substrate multiple times,
Determine the alignment mark position in the captured multiple images,
Calculate the average value of the determined alignment mark positions,
Recognizing the position of the substrate according to the calculated average value,
According to the recognized position of the substrate, an electronic component is mounted on the substrate, and a substrate manufacturing method using a mounting apparatus,
Based on the determined alignment mark positions in the plurality of images, a degree of variation in the alignment mark position caused by vibration generated in the mounting apparatus is determined, and the alignment mark is determined according to the degree of variation. Manufacturing method for variably controlling the number of times of imaging .
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